JPH06247730A - 板ガラスの徐冷法 - Google Patents
板ガラスの徐冷法Info
- Publication number
- JPH06247730A JPH06247730A JP5515093A JP5515093A JPH06247730A JP H06247730 A JPH06247730 A JP H06247730A JP 5515093 A JP5515093 A JP 5515093A JP 5515093 A JP5515093 A JP 5515093A JP H06247730 A JPH06247730 A JP H06247730A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate glass
- glass
- cooling
- plate
- flatness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】熱的寸法の安定性と高精度平坦度を有する板ガ
ラスを得るための徐冷法。 【構成】板ガラス4と板ガラス4の間に紙3を挟んで該
板ガラス4を窒素雰囲気中で徐冷する。
ラスを得るための徐冷法。 【構成】板ガラス4と板ガラス4の間に紙3を挟んで該
板ガラス4を窒素雰囲気中で徐冷する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は板ガラスの徐冷法、特に
熱的寸法の安定性および平坦度の高い高品質の板ガラス
を得るための徐冷法に関するものである。
熱的寸法の安定性および平坦度の高い高品質の板ガラス
を得るための徐冷法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来よりフォトマスク、ハードディス
ク、光ディスク、液晶ディスプレイ等の素子に、板ガラ
スを精密加工および表面研磨を施し、要求される寸法と
平坦度の精度を満足させ、ガラス基板として使用に供し
ていた。これら素子の技術分野では、ガラス基板は熱的
寸法の安定性とともに平坦度が高精度で高品質であるこ
とが建築用板ガラス等に較べて一層要求されており、厳
しい規格を定めている。
ク、光ディスク、液晶ディスプレイ等の素子に、板ガラ
スを精密加工および表面研磨を施し、要求される寸法と
平坦度の精度を満足させ、ガラス基板として使用に供し
ていた。これら素子の技術分野では、ガラス基板は熱的
寸法の安定性とともに平坦度が高精度で高品質であるこ
とが建築用板ガラス等に較べて一層要求されており、厳
しい規格を定めている。
【0003】通常、ダウンドロー法、フロート法などの
製法で得られた板ガラス素板を所定の寸法に加工後、表
面研磨して厳しい規格の寸法精度と平坦度を満足するガ
ラス基板を得ていた。これらガラス基板は前記素子化の
工程で性能付加のため各種の熱処理が施されるが、熱処
理後に寸法の収縮および平坦度の悪化が起こり、規格を
外れてしまうという問題を生じていた。
製法で得られた板ガラス素板を所定の寸法に加工後、表
面研磨して厳しい規格の寸法精度と平坦度を満足するガ
ラス基板を得ていた。これらガラス基板は前記素子化の
工程で性能付加のため各種の熱処理が施されるが、熱処
理後に寸法の収縮および平坦度の悪化が起こり、規格を
外れてしまうという問題を生じていた。
【0004】これら熱収縮の発生と平坦度の悪化は板ガ
ラスの歪に起因する。すなわち板ガラスの歪は製造工程
で溶融状態から板ガラスに成形した後、徐冷・冷却して
いく冷却工程で生じるガラス表面と内部との冷却速度差
によってガラスの密度分布が生じることが主な原因とい
われている。
ラスの歪に起因する。すなわち板ガラスの歪は製造工程
で溶融状態から板ガラスに成形した後、徐冷・冷却して
いく冷却工程で生じるガラス表面と内部との冷却速度差
によってガラスの密度分布が生じることが主な原因とい
われている。
【0005】この問題を解決するため前記素子化の工程
に先立って加熱炉中で所要時間熱処理して応力分布を均
一化させた後、室温迄冷却するなどの方法により徐冷を
行っていたが、徐冷による熱的変形などにより平坦度が
劣化したり、ガラス表面に肌荒れ状凹凸が発生するの
で、徐冷後に表面研磨の研磨量として最低80〜100
μm(片面)が必要となった。これはガラス基板のコス
トを下げる阻害因子となっていた。
に先立って加熱炉中で所要時間熱処理して応力分布を均
一化させた後、室温迄冷却するなどの方法により徐冷を
行っていたが、徐冷による熱的変形などにより平坦度が
劣化したり、ガラス表面に肌荒れ状凹凸が発生するの
で、徐冷後に表面研磨の研磨量として最低80〜100
μm(片面)が必要となった。これはガラス基板のコス
トを下げる阻害因子となっていた。
【0006】また、ディスク基板に供する場合、一般に
円形加工等を行う際に加工機のテーブルに真空吸着する
必要があるが、その際板ガラス表面の肌荒れがあると、
加工機テーブルへの吸着力が弱くなり、加工歩留低下の
原因となる。
円形加工等を行う際に加工機のテーブルに真空吸着する
必要があるが、その際板ガラス表面の肌荒れがあると、
加工機テーブルへの吸着力が弱くなり、加工歩留低下の
原因となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の精密加工・研磨
用板ガラスには熱的寸法の安定性および平坦度に関して
以下のような問題がある。 (1) 板ガラスの熱的寸法の安定性を良くするため、板ガ
ラスの徐冷点付近での熱処理を行うと、板ガラスの熱的
寸法の安定性は良くなるが平坦度は2〜4倍悪化する
(ガラスをタテ置きしてアニールする場合)。 (2) 板ガラスの平坦度が悪いと研磨量が増加し、研磨コ
ストが高くなる。 (3) 板ガラスの平坦度を良くするためにガラスを水平に
重ねて置き、徐冷点付近で熱処理するとかえって平坦度
が劣化し、熱処理温度をガラスの徐冷点以上にするとガ
ラス同志の融着現象が起こる。 (4) 従来技術の特願平4−163981号では徐冷温度
を徐冷点以上軟化点未満とし板ガラスと板ガラスの間に
グラファイト板を挟むが、この方法によると上記の融着
現象は抑えられるが、板ガラス表面の肌荒れが起こる。 本発明は上記の問題を解決しようとするものである。
用板ガラスには熱的寸法の安定性および平坦度に関して
以下のような問題がある。 (1) 板ガラスの熱的寸法の安定性を良くするため、板ガ
ラスの徐冷点付近での熱処理を行うと、板ガラスの熱的
寸法の安定性は良くなるが平坦度は2〜4倍悪化する
(ガラスをタテ置きしてアニールする場合)。 (2) 板ガラスの平坦度が悪いと研磨量が増加し、研磨コ
ストが高くなる。 (3) 板ガラスの平坦度を良くするためにガラスを水平に
重ねて置き、徐冷点付近で熱処理するとかえって平坦度
が劣化し、熱処理温度をガラスの徐冷点以上にするとガ
ラス同志の融着現象が起こる。 (4) 従来技術の特願平4−163981号では徐冷温度
を徐冷点以上軟化点未満とし板ガラスと板ガラスの間に
グラファイト板を挟むが、この方法によると上記の融着
現象は抑えられるが、板ガラス表面の肌荒れが起こる。 本発明は上記の問題を解決しようとするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の問題を解
決すべくなされたものであり、板ガラスと板ガラスの間
に紙を挟んで該板ガラスを窒素雰囲気中で徐冷する板ガ
ラスの徐冷法を提供するものである。
決すべくなされたものであり、板ガラスと板ガラスの間
に紙を挟んで該板ガラスを窒素雰囲気中で徐冷する板ガ
ラスの徐冷法を提供するものである。
【0009】また本発明は、断熱材の上に高平坦度を有
する高熱伝導体を載置し、該高熱伝導体の上に紙と板ガ
ラスを交互に複数枚積層し、その上に高熱伝導体を載置
し、さらにその上に断熱材を載置した後、最上部に金属
製ブロックの重しを載置してなる集合体を窒素雰囲気中
で板ガラスの徐冷点付近の温度まで昇温し、該温度で所
定時間保持した後徐冷することを特徴とする板ガラスの
徐冷法を提供するものである。
する高熱伝導体を載置し、該高熱伝導体の上に紙と板ガ
ラスを交互に複数枚積層し、その上に高熱伝導体を載置
し、さらにその上に断熱材を載置した後、最上部に金属
製ブロックの重しを載置してなる集合体を窒素雰囲気中
で板ガラスの徐冷点付近の温度まで昇温し、該温度で所
定時間保持した後徐冷することを特徴とする板ガラスの
徐冷法を提供するものである。
【0010】上記断熱材としては、例えば粘土質煉瓦を
用いることができるが、その場合厚さが10mm以上の
ものが好ましい。また上記高熱伝導体としては、例えば
SiC板あるいはグラファイト板を用いることができ
る。また、上記板ガラスの徐冷点付近の温度として、徐
冷点より10℃程度低い温度を選ぶことができる。
用いることができるが、その場合厚さが10mm以上の
ものが好ましい。また上記高熱伝導体としては、例えば
SiC板あるいはグラファイト板を用いることができ
る。また、上記板ガラスの徐冷点付近の温度として、徐
冷点より10℃程度低い温度を選ぶことができる。
【0011】上記の紙としては、和紙、洋紙のなかから
本願発明の目的にかなったものを選ぶことができる。例
えば板ガラス業界で2枚以上の板ガラスを重ねる場合に
板ガラスの間に通常挟んで使用される合紙と呼ばれる紙
が好適に用いられる。
本願発明の目的にかなったものを選ぶことができる。例
えば板ガラス業界で2枚以上の板ガラスを重ねる場合に
板ガラスの間に通常挟んで使用される合紙と呼ばれる紙
が好適に用いられる。
【0012】本発明において紙として上記の合紙を板ガ
ラスの間に挟み上記集合体全体を窒素雰囲気中で徐冷す
る方法を採用することにより、熱的寸法の安定性および
平坦度の良いガラス基板を生産性良く得られることが確
認できた。本発明の徐冷法により徐冷された板ガラスは
表面の肌荒れが少ない。したがって該板ガラスを研磨し
て基板ガラスを得ようとする場合、研磨加工前の板ガラ
スの表面の肌荒れが少ないので、これまで無理とされて
いた片面40μm前後の研磨量で充分な品質が得られる
ことを確認した。
ラスの間に挟み上記集合体全体を窒素雰囲気中で徐冷す
る方法を採用することにより、熱的寸法の安定性および
平坦度の良いガラス基板を生産性良く得られることが確
認できた。本発明の徐冷法により徐冷された板ガラスは
表面の肌荒れが少ない。したがって該板ガラスを研磨し
て基板ガラスを得ようとする場合、研磨加工前の板ガラ
スの表面の肌荒れが少ないので、これまで無理とされて
いた片面40μm前後の研磨量で充分な品質が得られる
ことを確認した。
【0013】以下、本発明を実施例にしたがって説明す
る。図1に示すように、上下方向の断熱を目的とした厚
さ65mm、寸法115mm×115mmの粘土質煉瓦
1の上に熱伝導率40kcal/m・h・℃以上で高平
坦度(10μm以下)を有す厚さ5mm、寸法115m
m×115mmのSiC板2を1枚載置し、その上に厚
さ0.05mm、寸法115mm×115mmに切断し
た合紙3を置き、あらかじめ合紙と同じ寸法に切断され
た板ガラス4とを順次交互に20枚積層する。積層され
た合紙の上に前記同様SiC板2を載置し、その上に粘
土質煉瓦を置き、最上部に5kgのステンレス製の重し
5を載せ、集合体6を構成する。この集合体を熱処理炉
の大きさに合わせ、図2にあるステンレス製のボックス
7内に所要数の集合体を仕込む。ステンレス製ボックス
内は合紙の炭化防止として窒素ガスをパイプ8により
0.5Nm3 /hr程度封入し、ボックス内の酸素濃度
を0.3%以下、好ましくは0.1%以下に保ちながら
熱処理を行う。使用に供した熱処理炉は温度パターンの
制御できる電気炉を用いることとし、バッチ式あるいは
連続式の電気炉により熱処理を行う。熱処理は図3に示
すような温度パターンで、昇温、温度保持、徐冷、冷却
を行うものである。
る。図1に示すように、上下方向の断熱を目的とした厚
さ65mm、寸法115mm×115mmの粘土質煉瓦
1の上に熱伝導率40kcal/m・h・℃以上で高平
坦度(10μm以下)を有す厚さ5mm、寸法115m
m×115mmのSiC板2を1枚載置し、その上に厚
さ0.05mm、寸法115mm×115mmに切断し
た合紙3を置き、あらかじめ合紙と同じ寸法に切断され
た板ガラス4とを順次交互に20枚積層する。積層され
た合紙の上に前記同様SiC板2を載置し、その上に粘
土質煉瓦を置き、最上部に5kgのステンレス製の重し
5を載せ、集合体6を構成する。この集合体を熱処理炉
の大きさに合わせ、図2にあるステンレス製のボックス
7内に所要数の集合体を仕込む。ステンレス製ボックス
内は合紙の炭化防止として窒素ガスをパイプ8により
0.5Nm3 /hr程度封入し、ボックス内の酸素濃度
を0.3%以下、好ましくは0.1%以下に保ちながら
熱処理を行う。使用に供した熱処理炉は温度パターンの
制御できる電気炉を用いることとし、バッチ式あるいは
連続式の電気炉により熱処理を行う。熱処理は図3に示
すような温度パターンで、昇温、温度保持、徐冷、冷却
を行うものである。
【0014】
【作用】本発明において上下に粘土質煉瓦を用いること
と、板ガラスと板ガラスの間に合紙を挟み、板ガラスの
徐冷点付近の温度まで昇温し徐冷することにより、以下
のような作用がある。
と、板ガラスと板ガラスの間に合紙を挟み、板ガラスの
徐冷点付近の温度まで昇温し徐冷することにより、以下
のような作用がある。
【0015】(1) 断熱性の高い粘土質煉瓦と熱伝導性の
高いSiCなどの板を上下に載置することで、積層され
た板ガラスの歪点付近での上面および下面の温度差を
0.02℃以下に抑えられ、上面および下面の温度差に
よる反りを0.4μm以下にすることができる。 (2) 板ガラスと板ガラスの間に合紙を挟み、窒素雰囲気
中で徐冷することにより合紙は炭化し、板ガラスと板ガ
ラスの間に炭化した合紙が創出されるため、もともと平
坦度が悪いか、昇温過程で反りが生じた板ガラスは自由
に滑り、重しの効果との相乗作用により、反りが矯正さ
れ板ガラスの平坦度を100mm径当り10μm以下に
することができる。 (3) 加熱温度を板ガラスの徐冷点付近までしか昇温しな
いため、板ガラスのミクロな表面は徐冷前とほとんど変
わらない表面状態を維持できる。 (4) この方法により徐冷された板ガラスを加工および表
面研磨を行った後、性能付加のための熱処理を行った結
果、熱処理の前後で板ガラスの熱収縮率は100ppm
で従来品175ppmに較べて小さくなった。また、熱
処理前後での平坦度の変化もほどんど見られないことが
確認できた。
高いSiCなどの板を上下に載置することで、積層され
た板ガラスの歪点付近での上面および下面の温度差を
0.02℃以下に抑えられ、上面および下面の温度差に
よる反りを0.4μm以下にすることができる。 (2) 板ガラスと板ガラスの間に合紙を挟み、窒素雰囲気
中で徐冷することにより合紙は炭化し、板ガラスと板ガ
ラスの間に炭化した合紙が創出されるため、もともと平
坦度が悪いか、昇温過程で反りが生じた板ガラスは自由
に滑り、重しの効果との相乗作用により、反りが矯正さ
れ板ガラスの平坦度を100mm径当り10μm以下に
することができる。 (3) 加熱温度を板ガラスの徐冷点付近までしか昇温しな
いため、板ガラスのミクロな表面は徐冷前とほとんど変
わらない表面状態を維持できる。 (4) この方法により徐冷された板ガラスを加工および表
面研磨を行った後、性能付加のための熱処理を行った結
果、熱処理の前後で板ガラスの熱収縮率は100ppm
で従来品175ppmに較べて小さくなった。また、熱
処理前後での平坦度の変化もほどんど見られないことが
確認できた。
【0016】これらの作用により熱的寸法の安定性を良
くするのと同時に板ガラスの平坦度も良好で、表面の肌
荒れもなく、片面研磨が可能となり、高平坦度ガラス基
板を低コストで作製することができた。
くするのと同時に板ガラスの平坦度も良好で、表面の肌
荒れもなく、片面研磨が可能となり、高平坦度ガラス基
板を低コストで作製することができた。
【0017】
【実施例】厚さ0.72mmまたは0.53mm、寸法
115mm×115mmのアルミノシリケートガラス
(徐冷点571℃)を図1に示すように、板ガラスと板
ガラスの間に合紙を挟み20層からなる集合体を形成し
ステンレス製ボックス内にセットした後、バッチ式電気
炉を用い、窒素雰囲気中で図3に示す温度パターンで徐
冷を行った結果、表1に示す通り徐冷後の平坦度は10
0mm径当り10μm以下が95%以上で、470℃×
8hrの熱処理を更に行っても熱収縮率は100ppm
で従来品に比べ小さく、熱処理後の平坦度の悪化はほと
んど見られない。また、研磨量についても徐冷後の板ガ
ラス表面が良好なため、片面40μm研磨が達成でき
た。このようなガラス基板はハードディスク用ガラス基
板として好適なガラス基板である。
115mm×115mmのアルミノシリケートガラス
(徐冷点571℃)を図1に示すように、板ガラスと板
ガラスの間に合紙を挟み20層からなる集合体を形成し
ステンレス製ボックス内にセットした後、バッチ式電気
炉を用い、窒素雰囲気中で図3に示す温度パターンで徐
冷を行った結果、表1に示す通り徐冷後の平坦度は10
0mm径当り10μm以下が95%以上で、470℃×
8hrの熱処理を更に行っても熱収縮率は100ppm
で従来品に比べ小さく、熱処理後の平坦度の悪化はほと
んど見られない。また、研磨量についても徐冷後の板ガ
ラス表面が良好なため、片面40μm研磨が達成でき
た。このようなガラス基板はハードディスク用ガラス基
板として好適なガラス基板である。
【0018】
【表1】
【0019】
【発明の効果】本発明の徐冷法により徐冷された板ガラ
スは以下に示す特徴を有する。 (1) 熱処理を施したときその前後での寸法変化が極めて
小さい。 (2) 平坦度10μm以下を95%以上にできる。 (3) 高平坦度であるため研磨量を減少させ研磨コストを
下げることができる。 (4) 表面状態が良好のため、研磨量を更に減少させるこ
とができ、研磨コストの低減に効果があり、すなわち片
面研磨が可能等の効果が顕著である。 (5) ガラス表面に形成される炭素被膜は容易に洗浄・除
去できるが、この被膜がガラスのヤケ防止、汚れの付着
防止に役立つ。 (6) グラファイトセッターを使用しないため1バッチの
投入枚数が増やせるし、セッターのコストもかからず、
コストダウンが可能である。 したがって、本発明の徐冷法により徐冷された板ガラス
は、前記フォトマスク、ハードディスク等のガラス基板
として好適に使用できる。
スは以下に示す特徴を有する。 (1) 熱処理を施したときその前後での寸法変化が極めて
小さい。 (2) 平坦度10μm以下を95%以上にできる。 (3) 高平坦度であるため研磨量を減少させ研磨コストを
下げることができる。 (4) 表面状態が良好のため、研磨量を更に減少させるこ
とができ、研磨コストの低減に効果があり、すなわち片
面研磨が可能等の効果が顕著である。 (5) ガラス表面に形成される炭素被膜は容易に洗浄・除
去できるが、この被膜がガラスのヤケ防止、汚れの付着
防止に役立つ。 (6) グラファイトセッターを使用しないため1バッチの
投入枚数が増やせるし、セッターのコストもかからず、
コストダウンが可能である。 したがって、本発明の徐冷法により徐冷された板ガラス
は、前記フォトマスク、ハードディスク等のガラス基板
として好適に使用できる。
【図1】本発明の実施例における積層集合体の斜視図
【図2】本発明の実施例における積層集合体を装入した
ボックスの斜視図
ボックスの斜視図
【図3】本発明の実施例における徐冷温度パターンのグ
ラフ
ラフ
1:粘土質煉瓦 2:SiC板 3:合紙 4:板ガラス 5:重し 6:積層集合体
Claims (4)
- 【請求項1】板ガラスと板ガラスの間に紙を挟んで該板
ガラスを窒素雰囲気中で徐冷する板ガラスの徐冷法。 - 【請求項2】断熱材の上に高平坦度を有する高熱伝導体
を載置し、該高熱伝導体の上に紙と板ガラスを交互に複
数枚積層し、その上に高熱伝導体を載置し、さらにその
上に断熱材を載置した後、最上部に金属製ブロックの重
しを載置してなる集合体を窒素雰囲気中で板ガラスの徐
冷点付近の温度まで昇温し、該温度で所定時間保持した
後徐冷することを特徴とする板ガラスの徐冷法。 - 【請求項3】上記断熱材が粘土質煉瓦であることを特徴
とする請求項2記載の板ガラスの徐冷法。 - 【請求項4】上記高熱伝導体が、SiCまたはグラファ
イトからなることを特徴とする請求項2記載の板ガラス
の徐冷法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5515093A JPH06247730A (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | 板ガラスの徐冷法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5515093A JPH06247730A (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | 板ガラスの徐冷法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06247730A true JPH06247730A (ja) | 1994-09-06 |
Family
ID=12990734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5515093A Pending JPH06247730A (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | 板ガラスの徐冷法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06247730A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001139005A (ja) * | 1999-11-12 | 2001-05-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 薄板の平坦度維持方法、並びにそれを用いた積層体 |
| JP2005305692A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Tama Tlo Kk | 繊維強化プラスチック予備成形品、繊維強化プラスチック材料、ロール |
| US8281618B2 (en) | 2005-12-16 | 2012-10-09 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass substrate and process for producing the same |
| JP2015214482A (ja) * | 2010-08-30 | 2015-12-03 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス基板を熱処理する装置および方法 |
| JP2016011231A (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-21 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
| JP2016124758A (ja) * | 2015-01-05 | 2016-07-11 | 日本電気硝子株式会社 | 支持ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2019524618A (ja) * | 2016-06-30 | 2019-09-05 | コーニング インコーポレイテッド | 操作された応力分布を有するガラス系物品及びその作製方法 |
-
1993
- 1993-02-19 JP JP5515093A patent/JPH06247730A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001139005A (ja) * | 1999-11-12 | 2001-05-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 薄板の平坦度維持方法、並びにそれを用いた積層体 |
| JP2005305692A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Tama Tlo Kk | 繊維強化プラスチック予備成形品、繊維強化プラスチック材料、ロール |
| US8281618B2 (en) | 2005-12-16 | 2012-10-09 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass substrate and process for producing the same |
| JP2015214482A (ja) * | 2010-08-30 | 2015-12-03 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス基板を熱処理する装置および方法 |
| JP2016011231A (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-21 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
| JP2016124758A (ja) * | 2015-01-05 | 2016-07-11 | 日本電気硝子株式会社 | 支持ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2019524618A (ja) * | 2016-06-30 | 2019-09-05 | コーニング インコーポレイテッド | 操作された応力分布を有するガラス系物品及びその作製方法 |
| US12040183B2 (en) | 2016-06-30 | 2024-07-16 | Corning Incorporated | Glass-based article with engineered stress distribution and method of making same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5996124B2 (ja) | 化学強化処理によりガラス板に発生する反りを低減する方法、化学強化用ガラス板の製造方法及び化学強化ガラス板の製造方法 | |
| JPH06247730A (ja) | 板ガラスの徐冷法 | |
| JP2001519315A (ja) | 平らなガラスを緻密化する方法 | |
| US5827342A (en) | Treatment of glass substrates to compensate for warpage and distortion | |
| JP4006747B2 (ja) | ディスプレイ基板の製造方法 | |
| KR101769670B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 | |
| JPH08151224A (ja) | 板ガラスの処理方法 | |
| JP2006008486A (ja) | 熱処理用セッター及びその製造方法、並びにガラス基板の熱処理方法 | |
| JP3972374B2 (ja) | シリカガラスのアニール方法 | |
| JP4423611B2 (ja) | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板 | |
| TWI679174B (zh) | 玻璃基板的熱處理方法以及玻璃基板的製造方法 | |
| JP2006256922A (ja) | ガラス基板のアニール装置及びアニール方法 | |
| JP2777320B2 (ja) | 方向性珪素鋼の焼鈍装置 | |
| JP2006016265A (ja) | ガラス定盤の歪み除去方法 | |
| TWI580650B (zh) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate | |
| JP2014051404A (ja) | ガラス板の製造方法 | |
| CN114644446B (zh) | 浮法玻璃制造装置、浮法玻璃制造方法以及浮法玻璃 | |
| JP3634088B2 (ja) | Sos基板の熱処理方法 | |
| JP2010028099A (ja) | 基板熱処理用セッター及びこれを用いたtft基板の熱処理方法 | |
| CN107235622B (zh) | 玻璃基板的热处理方法 | |
| JP2004189562A (ja) | 化学強化ガラスの製造方法 | |
| WO2016068069A1 (ja) | ガラス基板の熱処理方法およびガラス基板の製造方法 | |
| JP2000016824A (ja) | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法 | |
| JPH0388776A (ja) | セラミックス基板の製造方法 | |
| JP6403458B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050927 |