JPH0624780U - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 装置全体の大型化を回避しながら、搬送基板
上への水滴の落下を良好に防止し、処理品質を向上す
る。 【構成】 処理室１内に、基板Ｗを水平方向に搬送する
基板搬送装置２を設けるとともに、その基板搬送装置２
で搬送される基板Ｗに処理流体を供給するノズル３…を
設け、基板搬送装置２の上方を覆うカバー部材６の下向
き面を、基板Ｗの搬送方向に直交する水平方向での中央
部箇所が最上部になるとともにその最上部から両端側に
向かって下方に傾斜させ、かつ、最上部Ｗを基板の搬送
方向に傾斜させて構成する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、例えば、液晶表示装置用のガラス基板や半導体ウエハなどの基板に 対し、洗浄やエッチングなどの処理を施すために、処理室内に、基板を水平方向 に搬送する基板搬送装置を設けるとともに、基板搬送装置で搬送される基板に処 理流体を供給するノズルを設けた基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

上述のような基板処理装置では、洗浄液やエッチング液や蒸気などの処理流体 を基板に供給するに伴い、蒸気そのものや処理流体が揮発した蒸気成分が処理室 の天井面とか、基板搬送装置の上方を蓋体で覆ったものでは、その蓋体の下向き 内周面といったように、基板搬送装置の上方を覆うカバー部材の下向き面に蒸気 や蒸気成分が付着するとともに凝結して水滴になり、その水滴が被処理中の基板 上に落下し、基板や処理流体を汚染して品質が低下する問題があった。

【０００３】 そのため、従来では、上述のような問題発生を防止するものとして次のような ものがあった。

【０００４】 Ａ．第１従来例（特開平３−２８４３８６号公報） 図３の断面図に示すように、処理槽０１内に、基板Ｗを水平方向に搬送する基 板搬送装置０２と、基板Ｗに処理液を噴出供給するシャワーノズル０３…が設け られている。処理槽０１の上面が開口されるとともに、その開口縁部の一側部が 低くなるように傾斜され、更に、開口縁に沿い、全周にわたって凹溝０１ａが形 成されるとともに、この凹溝０１ａに、蓋体０４の外周縁に折り曲げ形成された フランジ０４ａが嵌合されるようになっている。蓋体０４は平板で形成されてい て、フランジ０４ａを凹溝０１ａ内に嵌合した状態で、その下向き面が基板Ｗの 表面に対して傾斜され、蓋体０４の下向き面に付着した水滴が傾斜に沿って下方 側へ流下し、蓋体０４の最下部側に設けられた液切板０４ｂにより基板搬送装置 ０２の外側方に落下され、基板Ｗ上に水滴が落下するのを防止するように構成さ れている。

【０００５】 Ｂ．第２従来例（実公昭５７−４３８９２号公報） 図４の断面図に示すように、基板Ｗを水平方向に搬送する基板搬送装置０１１ の上方を覆う窓板０１２が円弧状に形成され、その窓板０１２を閉じた状態で基 板搬送装置０１１の上方における窓板０１２の内面が下方に傾斜する円形になり 、窓板０１２の内面に付着した水滴を傾斜に沿って下方側へ流下できるようにな っている。０１３…は、腐食液を供給するノズルを示している。

【０００６】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記従来例のいずれにおいても、次のような欠点があった。

【０００７】 ａ．第１従来例の欠点 蓋体０４の下向き面に付着した水滴を傾斜に沿って流下させるために、水平面 に対してある程度の傾斜が必要であり、また、流下を良好にしようとするために は大きな傾斜にすることが望ましいが、基板の搬送方向に直交する水平方向の一 端側で、処理槽０１の一側壁が高くならざるを得ず、処理槽０１全体として大型 化してしまう欠点があった。

【０００８】 ｂ．第２従来例の欠点 装置を小型化できるものの、基板Ｗの搬送方向に直交する水平方向の中央部の 最も高い内面部分では、水平に近い面になり、その中央部に付着した水滴が基板 Ｗの搬送方向に直交する水平方向に流れずに落下し、水滴の落下を十分に防止で きない欠点があった。

【０００９】 本考案は、このような事情に鑑みてなされたものであって、請求項１に係る考 案の基板処理装置は、装置全体の大型化を回避しながら、搬送基板上への水滴の 落下を良好に防止できるようにすることを目的とし、また、請求項４に係る考案 の基板処理装置は、搬送基板上への水滴の落下をより良好に防止できるようにす ることを目的とし、また、請求項５に係る考案の基板処理装置は、カバー部材の 下端から落下する水滴が飛散することを防止して基板の汚染をより良好に防止で きるようにすることを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】

請求項１に係る考案は、上述のような目的を達成するために、処理室内に、基 板を水平方向に搬送する基板搬送装置を設けるとともに、その基板搬送装置で搬 送される基板に処理流体を供給するノズルを設けた基板処理装置において、基板 搬送装置の上方を覆うカバー部材の下向き面を、基板の搬送方向に直交する水平 方向での中央部箇所が最上部になるとともにその最上部から両端側に向かって下 方に傾斜させ、かつ、最上部を基板の搬送方向に傾斜させて構成する。

【００１１】 カバー部材の下向き面の基板の搬送方向に直交する水平方向での水平面に対す る傾斜角としては、20〜60°に設定される。20°未満では、水滴の落下を防止す る効果が無く、一方、60°を越えると、装置全体が大型化するからである（請求 項２）。

【００１２】 また、カバー部材の下向き面の基板の搬送方向での水平面に対する傾斜角とし ては、10〜30°に設定される。10°未満では、水滴の落下を防止する効果が無く 、一方、30°を越えると、装置全体が大型化するからである（請求項３）。

【００１３】 また、請求項４に係る考案の基板処理装置は、前述のような目的を達成するた めに、カバー部材の下向き面を親水性材料で形成する。 親水性材料としては、ポリアミド系、アクリル系などの親水性樹脂や親水性ガ ラス、あるいは、基材に貼り付け可能な、アセチルセルロースなどを材料とする 曇止め用フィルムなどが適用できる。

【００１４】 また、請求項５に係る考案の基板処理装置は、前述のような目的を達成するた めに、カバー部材の下向き面の基板の搬送方向に直交する水平方向での両端それ ぞれの下部に、下向き面をつたって流下する液体を受け止めて流下する樋を設け て構成する。

【００１５】

【作用】

請求項１に係る考案の基板処理装置の構成によれば、カバー部材の下向き面に 蒸気や蒸気成分が付着し、それらが凝結して水滴になっても、最上部から基板搬 送方向に直交する水平方向の両端側に向かって下方に傾斜した面に沿って流下し 、また、最上部の水滴は、基板搬送方向に向かって傾斜した面に沿って傾斜方向 下方側へ流下させながら、その流下途中において、基板搬送方向に直交する水平 方向の両端側に向かって下方に傾斜した面に沿って流下させ、基板の上方から外 れた位置に水滴を流下させることができる。

【００１６】 また、請求項４に係る考案の基板処理装置の構成によれば、カバー部材の下向 き面に蒸気や蒸気成分が付着するに伴い、その面方向に拡散させて水滴になりに くくすることができる。

【００１７】 また、請求項５に係る考案の基板処理装置の構成によれば、カバー部材の下向 き面の基板の搬送方向に直交する水平方向での両端それぞれに向かって流下した 水滴を樋で回収し、基板の両側に落下させて跳ね返った水滴が基板の下面などに 飛散して付着することを回避できる。

【００１８】

【実施例】

次に、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。

【００１９】 図１は、本考案に係る基板処理装置の実施例を示す全体横断面図、図２はその 全体縦断面図であり、処理室１内に、基板Ｗを水平方向に搬送する基板搬送装置 ２が設けられるとともに、基板搬送装置２の上下それぞれに、処理流体としての 洗浄液を供給するノズル３…が設けられ、基板搬送装置２で搬送される基板Ｗの 上下両面を洗浄するように構成されている。

【００２０】 前記基板搬送装置２は、長手方向の両端側それぞれに基板Ｗの幅方向両端を載 置支持する鍔体４を備えたローラ５を、所定間隔を隔てて駆動回転可能に並設し て構成され、そして、下側のノズル３…は、隣合うローラ５，５間のほぼ中央に 位置するように設けられている。

【００２１】 基板搬送装置２の上方を覆って山形のカバー部材６が、その上側部分が基板Ｗ の搬送方向上手側程低くなるように設けられ、カバー部材６の下向き面が、基板 Ｗの搬送方向に直交する水平方向での中央部箇所が最上部になるとともにその最 上部から両端側に向かって下方に傾斜され、かつ、最上部が基板Ｗの搬送方向の 一方側、本実施例では図２における左側程低くなるように傾斜されている。

【００２２】 カバー部材６は、基材の下向き面に親水性材料としての曇止め用フィルムを貼 り付けて構成され、下向き面に付着した水分が面方向に拡散し、水滴が生じにく いようになっている。この下向き面に親水性を付与する構成としては、カバー部 材６自体を、親水性樹脂や親水性のガラスで構成するものでも良い。

【００２３】 カバー部材６の下向き面の基板Ｗの搬送方向に直交する水平方向での両端それ ぞれの下部に樋７が傾斜状態で設けられ、下向き面をつたって流下する水分を受 け止め、基板Ｗに影響を及ぼさない所定箇所に流下できるように構成されている 。

【００２４】 上記実施例ては、専用のカバー部材６を設けて、その下向き面を傾斜させてい るが、例えば、カバー部材６を設けずに処理室１の天井面を傾斜させても良く、 専用のカバー部材６および処理室の天井形成部材などをしてカバー部材と総称す る。

【００２５】 本考案としては、上述実施例のような洗浄処理を行う基板処理装置に限らず、 エッチング処理する基板処理装置にも適用でき、洗浄液やエッチング液、更には フッ酸蒸気などをして処理流体と総称する。

【００２６】

【考案の効果】

以上説明したように、請求項１に係る考案の基板処理装置によれば、カバー部 材の下向き面に付着し、凝結により発生した水滴を、カバー部材の下向き面に沿 い、基板の搬送方向に直交する水平方向の中央部から両端側に向かって下方に流 下させるのみならず、最上部の水滴は基板搬送方向側にも流下させ、基板の上方 から外れた位置に水滴を流下させるから、基板の搬送方向に直交する水平方向の 一方側にのみ傾斜させた従来例のように装置全体を大型化することなく、搬送基 板上への水滴の落下を良好に防止でき、水滴による基板や処理流体の汚染を回避 して処理品質を向上できるようになった。

【００２７】 また、請求項４に係る考案の基板処理装置によれば、カバー部材の下向き面に 発生する水滴の量そのものを少なくするから、搬送基板上への水滴の落下をより 良好に防止し、処理品質を一層向上できるようになった。

【００２８】 また、請求項５に係る考案の基板処理装置によれば、カバー部材の下向き面に 沿って流下した水滴を樋で回収するから、落下水滴の跳ね返りに起因する基板の 汚染をも回避でき、処理品質を一層向上できるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る基板処理装置の実施例を示す全体
横断面図である。

【図２】全体縦断面図である。

【図３】第１従来例を示す断面図である。

【図４】第２従来例を示す断面図である。

【符号の説明】

１…処理室 ２…基板搬送装置 ３…ノズル ６…カバー部材 ７…樋 Ｗ…基板

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/26 7511−4Ｅ

Claims (5)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理室内に、基板を水平方向に搬送する
   基板搬送装置を設けるとともに、前記基板搬送装置で搬
   送される基板に処理流体を供給するノズルを設けた基板
   処理装置において、 前記基板搬送装置の上方を覆うカバー部材の下向き面
   を、前記基板の搬送方向に直交する水平方向での中央部
   箇所が最上部になるとともにその最上部から両端側に向
   かって下方に傾斜させ、かつ、前記最上部を前記基板の
   搬送方向に傾斜させてあることを特徴とする基板処理装
   置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のカバー部材の下向き面
   の基板の搬送方向に直交する水平方向での水平面に対す
   る傾斜角が20〜60°である基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載のカバー部材の
   下向き面の基板の搬送方向での水平面に対する傾斜角が
   10〜30°である基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載のカ
   バー部材の下向き面が親水性材料で形成されたものであ
   る基板処理装置。
5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載のカ
   バー部材の下向き面の基板の搬送方向に直交する水平方
   向での両端それぞれの下部に、前記下向き面をつたって
   流下する液体を受け止めて流下する樋を設けてある基板
   処理装置。