JPH0625319A - 1.5−ヘキサジエンシクロポリマーの製造法およびこの方法によって得られる生成物 - Google Patents
1.5−ヘキサジエンシクロポリマーの製造法およびこの方法によって得られる生成物Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 結晶性の高い高融点の1,5−ヘキサジエン
シクロポリマーの製造法。 【構成】 (C5R5)2MX1X2 (I) [式中、MはZrまたはHfであり、R基は同じである
かまたは異なるものであり、C1〜C7の炭化水素基で
あり、X1およびX2は同じであるかまたは異なるもの
であり、H、ハロゲン、C1〜C20の炭化水素基、−O
R、−OH、−SRまたは−SH基である]、または Q(C5R4)2MX1X2 (I′) [式中、M、R、X1およびX2は化合物(I) について
定義したのと同じ。Qは2価の基C2R′4またはSi
2R4である]を有するメタロセン化合物と、 (式中、R′はC2〜C20のアルキルまたはアルキレン
基またはC7〜C20のアルカリール基であり、nは1〜
20の数である)を有する1種類以上のアルモキサン化
合物とから成る触媒の存在下にてモノマーの重合を行
う。
シクロポリマーの製造法。 【構成】 (C5R5)2MX1X2 (I) [式中、MはZrまたはHfであり、R基は同じである
かまたは異なるものであり、C1〜C7の炭化水素基で
あり、X1およびX2は同じであるかまたは異なるもの
であり、H、ハロゲン、C1〜C20の炭化水素基、−O
R、−OH、−SRまたは−SH基である]、または Q(C5R4)2MX1X2 (I′) [式中、M、R、X1およびX2は化合物(I) について
定義したのと同じ。Qは2価の基C2R′4またはSi
2R4である]を有するメタロセン化合物と、 (式中、R′はC2〜C20のアルキルまたはアルキレン
基またはC7〜C20のアルカリール基であり、nは1〜
20の数である)を有する1種類以上のアルモキサン化
合物とから成る触媒の存在下にてモノマーの重合を行
う。
Description
【0001】本発明は、結晶性の高い高融点の1,5−
ヘキサジエンシクロポリマーの製造法およびこの方法に
よって得られる生成物に関する。
ヘキサジエンシクロポリマーの製造法およびこの方法に
よって得られる生成物に関する。
【0002】J. Am. Chem. Soc. 1958, 80, 1740に記載
されているように、チーグラー・ナッタ触媒を用いる
1,5−ヘキサジエンシクロポリマーの製造法であっ
て、用いられる触媒が各種の比率のTiCl4/Al
(C4H9)3混合物であるものが知られている。
されているように、チーグラー・ナッタ触媒を用いる
1,5−ヘキサジエンシクロポリマーの製造法であっ
て、用いられる触媒が各種の比率のTiCl4/Al
(C4H9)3混合物であるものが知られている。
【0003】しかしながら、前記の文献に記載されてい
るデーターは、この方法によって得られる1,5−ヘキ
サジエンシクロポリマーについては、閉環重合は完全で
はなく(鎖に含まれるモノマー単位の5〜8%が二重結
合を保持する)、融点は低い(85〜90℃)ことを示して
いる。更に、高モノマー転化率を得るには、長時間の重
合(50〜70時間)が必要である。
るデーターは、この方法によって得られる1,5−ヘキ
サジエンシクロポリマーについては、閉環重合は完全で
はなく(鎖に含まれるモノマー単位の5〜8%が二重結
合を保持する)、融点は低い(85〜90℃)ことを示して
いる。更に、高モノマー転化率を得るには、長時間の重
合(50〜70時間)が必要である。
【0004】J. Polym. Sci. part A 1964, 2, 1549 に
は、TiCl4/Al(C2H5)3、TiCl3・0.
22AlCl3/Al(C2H5)3およびTiCl2・
0.5AlCl3/Al(C2H5)3触媒系を用いる
1,5−ヘキサジエンの重合が記載されている。このよ
うにして得られるポリマーの融点は、119 〜146 ℃であ
る。
は、TiCl4/Al(C2H5)3、TiCl3・0.
22AlCl3/Al(C2H5)3およびTiCl2・
0.5AlCl3/Al(C2H5)3触媒系を用いる
1,5−ヘキサジエンの重合が記載されている。このよ
うにして得られるポリマーの融点は、119 〜146 ℃であ
る。
【0005】この種のシクロポリマー(TiCl3/A
l(C2H5)2Cl触媒系を用いる1,5−ヘキサジ
エンの重合によって得られる)の詳細な構造上の検討
は、J.Appl. Polymer. Sci. 1988, 35, 825に記載され
ており、NMR分析は、ポリマー鎖に生じる単位が主と
して、構造
l(C2H5)2Cl触媒系を用いる1,5−ヘキサジ
エンの重合によって得られる)の詳細な構造上の検討
は、J.Appl. Polymer. Sci. 1988, 35, 825に記載され
ており、NMR分析は、ポリマー鎖に生じる単位が主と
して、構造
【化1】 (但し、シクロペンタン環同士はシス−またはトランス
−配置を採ることができる)を有する基であることを示
している。前記の文献に記載されているデーターは、前
記の触媒系を用いて得たポリマーは、シス−およびトラ
ンス−配置のシクロペンタン環を約1/1の比率で含む
ことを示していた。
−配置を採ることができる)を有する基であることを示
している。前記の文献に記載されているデーターは、前
記の触媒系を用いて得たポリマーは、シス−およびトラ
ンス−配置のシクロペンタン環を約1/1の比率で含む
ことを示していた。
【0006】J. Am. Chem. Soc. 1990, 112, 4953 に
は、1,5−ヘキサジエンの閉環重合においてジルコノ
センおよびメチルアルモキサンの混合物を用いることに
よってポリマーのシクロペンタン環の配置を制御する方
法が記載されている。特に、Cp2ZrCl2(Cp=
シクロペンタジエニル)を用いることによって、主とし
てトランス−配置のシクロポリマーが得られるが、Cp
* 2ZrCl2(Cp*=ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)を用いると、主としてシス−配置のシクロポリ
マーが得られる。しかしながら、前記の文献によれば、
特に主としてシス−配置のシクロポリマーを得ることが
所望である場合には、操作は極めて低温で行わなければ
ならない。最良の結果(シス−配置を有する環86%)
は、−25℃で重合を行うことによって得られる。
は、1,5−ヘキサジエンの閉環重合においてジルコノ
センおよびメチルアルモキサンの混合物を用いることに
よってポリマーのシクロペンタン環の配置を制御する方
法が記載されている。特に、Cp2ZrCl2(Cp=
シクロペンタジエニル)を用いることによって、主とし
てトランス−配置のシクロポリマーが得られるが、Cp
* 2ZrCl2(Cp*=ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)を用いると、主としてシス−配置のシクロポリ
マーが得られる。しかしながら、前記の文献によれば、
特に主としてシス−配置のシクロポリマーを得ることが
所望である場合には、操作は極めて低温で行わなければ
ならない。最良の結果(シス−配置を有する環86%)
は、−25℃で重合を行うことによって得られる。
【0007】本発明者は1,5−ヘキサジエンシクロポ
リマーにおける結晶化度は、添付の図1および2を比較
することによって示されるように、ポリマー鎖の高含量
のシス−配置の環に対して特に高いことを見出だした。
リマーにおける結晶化度は、添付の図1および2を比較
することによって示されるように、ポリマー鎖の高含量
のシス−配置の環に対して特に高いことを見出だした。
【0008】実際に、図1は、(下記の例1にしたがっ
て得られる)シス−配置のシクロペンタン87.9%を含む
ポリ(1,5−ヘキサジエン)の試料のX線回折スペク
トル(CuKα)を示している。この図では、結晶相に
典型的な単一の非拡散ピークが見られる。一方、図2に
は、シス−配置のシクロペンタン環約40%を含むポリ
(1,5−ヘキサジエン)の試料のX線回折スペクトル
が示され、拡散し且つ強度が小さい、主として非晶質相
に典型的なピークが見られる。
て得られる)シス−配置のシクロペンタン87.9%を含む
ポリ(1,5−ヘキサジエン)の試料のX線回折スペク
トル(CuKα)を示している。この図では、結晶相に
典型的な単一の非拡散ピークが見られる。一方、図2に
は、シス−配置のシクロペンタン環約40%を含むポリ
(1,5−ヘキサジエン)の試料のX線回折スペクトル
が示され、拡散し且つ強度が小さい、主として非晶質相
に典型的なピークが見られる。
【0009】また、融点も、本発明の例によって例示さ
れるように、高含量のシス−配置の環に関しては特に高
い。
れるように、高含量のシス−配置の環に関しては特に高
い。
【0010】それ故、1,5−ヘキサジエンの結晶性が
高く高融点のシクロポリマーを経済的に(特に、極低温
で操作する必要なしに)得ることができる重合法を得る
ことができれば、この種のシクロポリマーは高い熱安定
性と良好な加工性を提供するので、極めて有利である。
高く高融点のシクロポリマーを経済的に(特に、極低温
で操作する必要なしに)得ることができる重合法を得る
ことができれば、この種のシクロポリマーは高い熱安定
性と良好な加工性を提供するので、極めて有利である。
【0011】したがって、本発明は、実質的に、 A) 式 (C5R5)2MX1X2 (I) [式中、MはZrまたはHf、好ましくはZrであり、
R基は同じであるかまたは異なるものであり、炭化水素
基であり、特にC1〜C7アルキルであり、X1および
X2は同じであるかまたは異なるものであり、H、ハロ
ゲン、C1〜C20の炭化水素基、特にC1〜C20アルキ
ル、またはC7〜C20アリールアルキル若しくはアルカ
リール基、または−OR、−OH、−SRまたは−SH
基(但し、Rは前記に定義した意味を有する)であ
る]、または式 Q(C5R4)2MX1X2 (I') [式中、M、R、X1およびX2は化合物(I) について
定義したのと同じ意味を有し、Qは2価の基C2R′4
またはSi2R4(但し、R′基は同じであるかまたは
異なるものであり、水素またはRと同じもの)である]
を有するメタロセン化合物と、 B) 式 (式中、R′はC2〜C20のアルキルまたはアルキレン
基またはC7〜C20のアルカリール基であり、nは1〜
20の数である)を有する1種類以上のアルモキサン化
合物とから成る触媒の存在下におけるモノマーの重合を
含んで成る、1,5−ヘキサジエンシクロポリマーの製
造法を提供する。
R基は同じであるかまたは異なるものであり、炭化水素
基であり、特にC1〜C7アルキルであり、X1および
X2は同じであるかまたは異なるものであり、H、ハロ
ゲン、C1〜C20の炭化水素基、特にC1〜C20アルキ
ル、またはC7〜C20アリールアルキル若しくはアルカ
リール基、または−OR、−OH、−SRまたは−SH
基(但し、Rは前記に定義した意味を有する)であ
る]、または式 Q(C5R4)2MX1X2 (I') [式中、M、R、X1およびX2は化合物(I) について
定義したのと同じ意味を有し、Qは2価の基C2R′4
またはSi2R4(但し、R′基は同じであるかまたは
異なるものであり、水素またはRと同じもの)である]
を有するメタロセン化合物と、 B) 式 (式中、R′はC2〜C20のアルキルまたはアルキレン
基またはC7〜C20のアルカリール基であり、nは1〜
20の数である)を有する1種類以上のアルモキサン化
合物とから成る触媒の存在下におけるモノマーの重合を
含んで成る、1,5−ヘキサジエンシクロポリマーの製
造法を提供する。
【0012】特に好ましいものは、R基がメチルおよび
/またはエチルである式(I) の化合物、およびR′基が
イソブチルである式(II)の化合物である。
/またはエチルである式(I) の化合物、およびR′基が
イソブチルである式(II)の化合物である。
【0013】式(I) のメタロセン化合物の代表的な例
は、(C5Me5)2ZrCl2、(C5Me5)2Z
rMe2、(C5Me5)2ZrClMe、(C5Me
5)2ZrCliBu、(C5Me5)2ZrCl(C
H2C6H5)、(C5Me5)2ZrClCH2Si
Me3、(C5Me4Et)2ZrCl2、(C5Me
5)2HfCl2、(C5Me5)2HfMe2、(C
5Me5)2HfCliBuおよび(C5Me5)2H
fCl(CH2C6H5)(但し、Me=メチル、Et
=エチル、Bu=ブチル)である。
は、(C5Me5)2ZrCl2、(C5Me5)2Z
rMe2、(C5Me5)2ZrClMe、(C5Me
5)2ZrCliBu、(C5Me5)2ZrCl(C
H2C6H5)、(C5Me5)2ZrClCH2Si
Me3、(C5Me4Et)2ZrCl2、(C5Me
5)2HfCl2、(C5Me5)2HfMe2、(C
5Me5)2HfCliBuおよび(C5Me5)2H
fCl(CH2C6H5)(但し、Me=メチル、Et
=エチル、Bu=ブチル)である。
【0014】式(II)のアルモキサン化合物の代表的な例
は、Et2AlOAlEt2、iBu2AlOAliB
u2、iEs2AlOAliEs2およびiBu2Al
OAl(iBu)OAliBu2(但し、Es=ヘキシ
ル)である。
は、Et2AlOAlEt2、iBu2AlOAliB
u2、iEs2AlOAliEs2およびiBu2Al
OAl(iBu)OAliBu2(但し、Es=ヘキシ
ル)である。
【0015】これらアルモキサン化合物は、単独で或い
はヘキサン、ヘプタン、ベンゼンおよびトルエンの様な
炭化水素の溶液で用いることができる。
はヘキサン、ヘプタン、ベンゼンおよびトルエンの様な
炭化水素の溶液で用いることができる。
【0016】更に、アルモキサン化合物は、様々な量の
トリアルキルアルミニウム、例えばAlEt3またはA
liBu3を含むことができる。前記のトリアルキルア
ルミニウムは、アルモキサン化合物を製造するのに用い
たのと同じものであることができる。このトリアルキル
アルミニウムの量は触媒の活性に影響を与え、NMR分
析から測定することができる値によれば、総Al含量に
対して、好ましくは50モル%未満、更に好ましくは20モ
ル%未満である。
トリアルキルアルミニウム、例えばAlEt3またはA
liBu3を含むことができる。前記のトリアルキルア
ルミニウムは、アルモキサン化合物を製造するのに用い
たのと同じものであることができる。このトリアルキル
アルミニウムの量は触媒の活性に影響を与え、NMR分
析から測定することができる値によれば、総Al含量に
対して、好ましくは50モル%未満、更に好ましくは20モ
ル%未満である。
【0017】重合は、モノマー単独で行うことができ、
またはヘキサン、ヘプタンおよびトルエンの様な炭化水
素と混合して行うこともできる。
またはヘキサン、ヘプタンおよびトルエンの様な炭化水
素と混合して行うこともできる。
【0018】触媒成分(A) と(B) のモル比は、好ましく
は20〜5000であり、更に好ましくは500 〜2000である。
は20〜5000であり、更に好ましくは500 〜2000である。
【0019】成分(A) および(B) は、重合を行うモノマ
ーまたはモノマー同士に直接加えることができ、または
炭化水素溶液中で予め混合することができる。
ーまたはモノマー同士に直接加えることができ、または
炭化水素溶液中で予め混合することができる。
【0020】重合温度は、好ましくは−20℃〜20℃であ
る。
る。
【0021】実施例により示される本発明のもう一つの
利点は、成分(B) としてメチルアルモキサンを用いる当
該技術分野において知られている方法と比較して、本発
明の方法では高分子量を有する1,5−ヘキサジエンシ
クロポリマーを得ることができるということである。
利点は、成分(B) としてメチルアルモキサンを用いる当
該技術分野において知られている方法と比較して、本発
明の方法では高分子量を有する1,5−ヘキサジエンシ
クロポリマーを得ることができるということである。
【0022】更に、本発明の方法によれば、1,5−ヘ
キサジエンの重合は、エチレンまたは高級α−オレフィ
ン、特にC3〜C8のもののような他のモノマーの存在
下にて行うことができ、用いられるコモノマーの量およ
び種類によって特性が変化するコポリマーを得ることが
できる。
キサジエンの重合は、エチレンまたは高級α−オレフィ
ン、特にC3〜C8のもののような他のモノマーの存在
下にて行うことができ、用いられるコモノマーの量およ
び種類によって特性が変化するコポリマーを得ることが
できる。
【0023】それ故、本発明による1,5−ヘキサジエ
ンシクロポリマーの定義は、好ましいものである1,5
−ヘキサジエンホモポリマー、および1種類以上のエチ
レン等のα−オレフィンとの1,5−ヘキサジエンコポ
リマーを含んで成る。
ンシクロポリマーの定義は、好ましいものである1,5
−ヘキサジエンホモポリマー、および1種類以上のエチ
レン等のα−オレフィンとの1,5−ヘキサジエンコポ
リマーを含んで成る。
【0024】本発明の方法によって得られる好ましい
1,5−ヘキサジエンシクロポリマーは、シス−配置の
シクロペンタン環の比率が87を上回り、例えば87〜
95であり、X線回折法で測定した結晶化度が50%以上
であり、融点が175 ℃以上、通常は175 〜185 ℃であ
る。更に、135 ℃でテトラヒドロナフタレン中で測定し
た前記のポリマーの極限粘度は、0.5 以上であるのが好
ましい。
1,5−ヘキサジエンシクロポリマーは、シス−配置の
シクロペンタン環の比率が87を上回り、例えば87〜
95であり、X線回折法で測定した結晶化度が50%以上
であり、融点が175 ℃以上、通常は175 〜185 ℃であ
る。更に、135 ℃でテトラヒドロナフタレン中で測定し
た前記のポリマーの極限粘度は、0.5 以上であるのが好
ましい。
【0025】下記の例は、本発明を例示するためのもの
であり、本発明を限定するためのものではない。
であり、本発明を限定するためのものではない。
【0026】例において、シス−配置のシクロペンタン
環の比率は、13CNMRによって測定した。13CNMR
スペクトルは、ブルーカー(Bruker)200MHz装置に
よって、C2D2Cl4を溶媒として用い、100 ℃で測
定した。融点は、パーキン・エルマー(Perkin Elmer)D
SC7装置を用いて、10℃/分の走査速度で測定した。
これらの値は、第二の融解中のピークにおける最高点に
関するものである。極限粘度は、テトラヒドロナフタレ
ン中で135 ℃で測定した。
環の比率は、13CNMRによって測定した。13CNMR
スペクトルは、ブルーカー(Bruker)200MHz装置に
よって、C2D2Cl4を溶媒として用い、100 ℃で測
定した。融点は、パーキン・エルマー(Perkin Elmer)D
SC7装置を用いて、10℃/分の走査速度で測定した。
これらの値は、第二の融解中のピークにおける最高点に
関するものである。極限粘度は、テトラヒドロナフタレ
ン中で135 ℃で測定した。
【0027】テトライソブチルジアルモキサン(TIB
AO)の合成(方法1) マグネティックスターラーを備えた250mlの三つ口
フラスコに、窒素雰囲気中で無水トルエン120 mlと直前
に蒸留したAliBu316.64 g を入れ、溶液を0 ℃に
冷却する。反応フラスコに接続したガラス容器に、蒸溜
水0.755 mlを導入する。水を使い切るまでダイヤフラム
コンプレッサーによって系のガスをフラスコと水容器と
の間を循環させた後、その後更に10分間循環させる。
無職透明な溶液を、溶媒を減圧で蒸発させることによっ
て100 mlまで濃縮する。1HNMR分析は、未反応のA
liBu3含量が<5%であることを示している。
AO)の合成(方法1) マグネティックスターラーを備えた250mlの三つ口
フラスコに、窒素雰囲気中で無水トルエン120 mlと直前
に蒸留したAliBu316.64 g を入れ、溶液を0 ℃に
冷却する。反応フラスコに接続したガラス容器に、蒸溜
水0.755 mlを導入する。水を使い切るまでダイヤフラム
コンプレッサーによって系のガスをフラスコと水容器と
の間を循環させた後、その後更に10分間循環させる。
無職透明な溶液を、溶媒を減圧で蒸発させることによっ
て100 mlまで濃縮する。1HNMR分析は、未反応のA
liBu3含量が<5%であることを示している。
【0028】シェアリング(Shering) 市販製品からのテ
トライソブチルジアルモキサンの製造(方法2) 所定重量のテトライソブチルジアルモキサン(シェアリ
ング市販製品)中20%のヘプタン溶液250 mlから、0.2
トールの圧および50℃で溶媒を留去する。このようにし
て得られる油状生成物をトルエン30 ml に溶解し、真空
で50℃に加熱した後、溶媒を蒸発させる。この処理を4
回繰り返す。1HNMR分析は、AliBu3が8%
(総iBuモル数に対するAliBu3のiBuのモル
数の比率)であることを示しているが、出発物質におけ
る前記のモル数の量は30%であった。
トライソブチルジアルモキサンの製造(方法2) 所定重量のテトライソブチルジアルモキサン(シェアリ
ング市販製品)中20%のヘプタン溶液250 mlから、0.2
トールの圧および50℃で溶媒を留去する。このようにし
て得られる油状生成物をトルエン30 ml に溶解し、真空
で50℃に加熱した後、溶媒を蒸発させる。この処理を4
回繰り返す。1HNMR分析は、AliBu3が8%
(総iBuモル数に対するAliBu3のiBuのモル
数の比率)であることを示しているが、出発物質におけ
る前記のモル数の量は30%であった。
【0029】例1〜3および比較例1 1,5−ヘキサジエンを精溜カラム中で蒸溜し、CaH
2で脱水した。このようにして処理したモノマーの純度
は、99%を上回った。
2で脱水した。このようにして処理したモノマーの純度
は、99%を上回った。
【0030】重合 所望な量の1,5−ヘキサジエンを、窒素雰囲気中でア
ーム付きガラスシリンダーに入れる。もう一つのアーム
付きシリンダーに、アルミニウム化合物を所望な溶媒に
溶解したものを入れ、適当量のCp* 2ZrCl2をト
ルエンに溶解したものを加える。これらの成分を室温で
5分間反応させた後、このようにして得られる生成溶液
を、重合温度で温度調節した重合するモノマーに加え
る。重合をメタノールを添加することによって中断した
後、HClを加えて触媒残渣を溶解させ、内容物を濾過
した後、メタノールで洗浄する。重合条件および得られ
る生成物の特性を、表1に示す。例2および比較例1の
極限粘度を比較することによって、本発明により、極限
粘度が高く、それ故分子量が大きいシクロポリマーが得
られることが判る。
ーム付きガラスシリンダーに入れる。もう一つのアーム
付きシリンダーに、アルミニウム化合物を所望な溶媒に
溶解したものを入れ、適当量のCp* 2ZrCl2をト
ルエンに溶解したものを加える。これらの成分を室温で
5分間反応させた後、このようにして得られる生成溶液
を、重合温度で温度調節した重合するモノマーに加え
る。重合をメタノールを添加することによって中断した
後、HClを加えて触媒残渣を溶解させ、内容物を濾過
した後、メタノールで洗浄する。重合条件および得られ
る生成物の特性を、表1に示す。例2および比較例1の
極限粘度を比較することによって、本発明により、極限
粘度が高く、それ故分子量が大きいシクロポリマーが得
られることが判る。
【0031】例4: 1,5−ヘキサジエン/エチレン共重合 エチレン雰囲気中で、1,5−ヘキサジエン13.8 gとト
ルエン30 ml を含む250mlガラスオートクレーブ
に、モノマーの不在下にて5分間保持した、トルエン20
ml 、Cp* 2ZrMe21.96 mg および方法2にした
がって製造したTIBAO0.743 g の溶液を導入する。
エチレン圧を2気圧にして、一定圧および20℃で15分間
撹拌する。固形ポリマー4.15 gが得られる。DSCは、
唯一の融解ピークを示し、Tm=121 ℃である。
ルエン30 ml を含む250mlガラスオートクレーブ
に、モノマーの不在下にて5分間保持した、トルエン20
ml 、Cp* 2ZrMe21.96 mg および方法2にした
がって製造したTIBAO0.743 g の溶液を導入する。
エチレン圧を2気圧にして、一定圧および20℃で15分間
撹拌する。固形ポリマー4.15 gが得られる。DSCは、
唯一の融解ピークを示し、Tm=121 ℃である。
【表1】
【図1】例1にしたがって得られるシス−配置のシクロ
ペンタン87.9%を含むポリ(1,5−ヘキサジエン)の
試料のX線回折スペクトル(CuKα)。
ペンタン87.9%を含むポリ(1,5−ヘキサジエン)の
試料のX線回折スペクトル(CuKα)。
【図2】シス−配置のシクロペンタン環約40%を含むポ
リ(1,5−ヘキサジエン)の試料のX線回折スペクト
ル。
リ(1,5−ヘキサジエン)の試料のX線回折スペクト
ル。
Claims (3)
- 【請求項1】実質的に、 A) 式 (C5R5)2MX1X2 (I) [式中、MはZrまたはHfであり、R基は同じである
かまたは異なるものであり、C1〜C7の炭化水素基で
あり、X1およびX2は同じであるかまたは異なるもの
であり、H、ハロゲン、C1〜C20の炭化水素基、−O
R、−OH、−SRまたは−SH基(但し、Rは前記に
定義した意味を有する)である]、または式 Q(C5R4)2MX1X2 (I') [式中、M、R、X1およびX2は化合物(I) について
定義したのと同じ意味を有し、Qは2価の基C2R′4
またはSi2R4(但し、R′基は同じであるかまたは
異なるものであり、水素またはRと同じもの)である]
を有するメタロセン化合物と、 B) 式 (式中、R′はC2〜C20のアルキルまたはアルキレン
基またはC7〜C20のアルカリール基であり、nは1〜
20の数である)を有する1種類以上のアルモキサン化
合物とから成る触媒の存在下にてモノマーの重合を行う
ことを特徴とする、1,5−ヘキサジエンシクロポリマ
ーの製造法。 - 【請求項2】重合を−20〜20℃の温度で行う、請求項1
に記載の方法。 - 【請求項3】請求項1に記載の方法によって得られる
1,5−ヘキサジエンシクロポリマー。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ITMI911010A IT1246774B (it) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | Processo per la preparazione di ciclopolimeri dell'1,5-esadiene altamente cristallini ed aventi alto punto di fusione e prodotti cosi` ottenuti. |
| IT91A001010 | 1991-04-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625319A true JPH0625319A (ja) | 1994-02-01 |
Family
ID=11359561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4119623A Pending JPH0625319A (ja) | 1991-04-12 | 1992-04-13 | 1.5−ヘキサジエンシクロポリマーの製造法およびこの方法によって得られる生成物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5260389A (ja) |
| EP (1) | EP0508450B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0625319A (ja) |
| CA (1) | CA2065807A1 (ja) |
| DE (1) | DE69211597T2 (ja) |
| IT (1) | IT1246774B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6699955B1 (en) * | 1999-11-19 | 2004-03-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Copolymerization of ethylene and dienes |
| US6727321B1 (en) | 2000-06-27 | 2004-04-27 | University Of Akron | Allylation poly(vinyl chloride) and further functionalization of allyl groups |
| US6831133B2 (en) | 2000-06-27 | 2004-12-14 | The University Of Akron | Addition of unsaturated hydrocarbons to poly(vinyl chloride) and functionalization thereof |
| CN1319638C (zh) | 2001-06-13 | 2007-06-06 | 能源及环境国际有限公司 | 本体聚合反应器和聚合方法 |
| WO2004067589A1 (en) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Cornell Research Foundation, Inc. | Vinyl functional olefin polymers |
| CN101585850B (zh) * | 2009-07-01 | 2012-05-23 | 大连理工大学 | 一种含硅芳香氰酸酯单体及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3435020A (en) * | 1958-03-07 | 1969-03-25 | Hercules Inc | Crystalline polymers of alpha,omega-diolefins |
| IN172282B (ja) * | 1986-12-19 | 1993-05-29 | Exxon Chemical Patents Inc | |
| JP2538625B2 (ja) * | 1987-11-13 | 1996-09-25 | 三井石油化学工業株式会社 | 分枝α−オレフイン系ランダム共重合体およびその製法 |
| DE68911435T2 (de) * | 1988-09-05 | 1994-04-28 | Idemitsu Kosan Co | Verfahren zur Herstellung eines Polymers. |
| US5104956A (en) * | 1989-12-19 | 1992-04-14 | Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior Univ. | Stereoregular cyclopolymers and method |
-
1991
- 1991-04-12 IT ITMI911010A patent/IT1246774B/it active IP Right Grant
-
1992
- 1992-04-10 EP EP92106238A patent/EP0508450B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-04-10 CA CA002065807A patent/CA2065807A1/en not_active Abandoned
- 1992-04-10 US US07/866,927 patent/US5260389A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-04-10 DE DE69211597T patent/DE69211597T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-04-13 JP JP4119623A patent/JPH0625319A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ITMI911010A0 (it) | 1991-04-12 |
| EP0508450B1 (en) | 1996-06-19 |
| IT1246774B (it) | 1994-11-26 |
| EP0508450A1 (en) | 1992-10-14 |
| US5260389A (en) | 1993-11-09 |
| CA2065807A1 (en) | 1992-10-13 |
| DE69211597D1 (de) | 1996-07-25 |
| ITMI911010A1 (it) | 1992-10-12 |
| DE69211597T2 (de) | 1996-11-28 |
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