JPH06254301A - 連続蒸留再生システム - Google Patents
連続蒸留再生システムInfo
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Abstract
らなり、しかも溶剤バランスを崩すことなく再生できる
多成分系洗浄剤用連続蒸留再生システムを提供する。 【構成】 多成分系洗浄剤を有する、洗浄槽と蒸留再生
装置と、これらを接続する配管とからなる。これら洗浄
槽と蒸留再生装置との間で配管を介して洗浄剤が連続的
に循環される。配管に逆流防止弁が設置されていると共
に、蒸留再生装置は、その液槽部に有する洗浄剤の液面
を一定に保持する液面調整装置を備えている。この液面
調整装置は、液槽部の洗浄剤の減少量に応じて、洗浄槽
から洗浄剤を供給することにより液槽部の液面を一定に
保持する。
Description
留再生システムに関し、特にプリント配線基板等電子機
器用の洗浄装置として用いられる混合溶剤の連続蒸留再
生システムに関する。
等の汚染に対する洗浄は、フロンやトリクロルエタンな
どの単一溶剤を用いて行われてきた。その代表的な洗浄
方法は、3ヵ所の槽に上記溶剤を満たし、被洗浄物を第
1槽から第3槽に順次に浸漬した後、この溶剤の加熱蒸
気を満した第4槽に入れ、いわゆる蒸気洗浄を実施した
後、取り出して送風乾燥するものである。洗浄液は、第
4槽から順次第3、2、1次槽へと送られるが、洗浄液
は次第に汚染されるため、第1槽と第4槽との間には、
蒸留再生装置が付設され、汚染された溶剤を加熱蒸発さ
せた後冷却凝縮させて再生処理し、第4槽の洗浄槽へ循
環供給するようになっている。このような蒸気洗浄法で
は、蒸留される溶剤が従来は単一成分であったため、蒸
留再生にはその組成バランスまでを考慮する必要がな
く、簡単な蒸留再生装置で十分であった。
題から、上記の物質は使用制限されるようになり、その
代替洗浄剤が求められた。そこで、より安全で火気の危
険性の少ないアルコール類と水とを混合した2成分系溶
剤が使用されるようになった。使用されるアルコール類
は、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール等が代表的であるが、一般には人体への影
響を配慮してエチルアルコールが望ましいとされる。
引火し易く火気による危険性が高いため、エチルアルコ
ールの含有量が60重量%以下の水溶液として用いるこ
とが考慮され、これについては、安全で消防法上の危険
物に該当しないものとされている。したがって、エチル
アルコール60重量%、水40重量%の混合溶剤が一般
に洗浄液として使用されるため、この溶剤バランスを崩
すことなく再生できる方法ならびに装置が要望されるよ
うになった。
ル60重量%、水40重量%の混合溶剤からなる2成分
系洗浄剤の連続蒸留再生システムとしては、多段式の蒸
留装置を用いて、夫々の段階で回収された溶剤を混合し
て、もとの混合比率の溶剤組成として供給するものが一
般的である。しかし、このようなシステムは、その設備
が大規模でコストもかかるという問題があり、コンパク
トで簡単、かつコストの安いシステムの実現が望まれて
いた。本発明は、かかる要請に応じるべく、コンパクト
で簡単、かつコストが安い装置からなり、しかも溶剤バ
ランスを崩すことなく再生できる多成分系洗浄剤の連続
蒸留再生システムを提供することを目的とする。
成するため鋭意研究の結果、完成されたものである。本
発明にかかる連続蒸留再生システムの特徴構成は、多成
分系洗浄剤を有する、洗浄槽と蒸留再生装置と、これら
を接続する配管とからなり、これら洗浄槽と蒸留再生装
置との間で前記配管を介して前記洗浄剤が連続的に循環
されるようになっていて、前記配管に逆流防止弁が設置
されていると共に、前記蒸留再生装置は、その液槽部に
有する洗浄剤の液面を一定に保持する液面調整装置を備
えていて、この液面調整装置は、前記液槽部の洗浄剤の
減少量に応じて、前記洗浄槽から洗浄剤を供給すること
により前記液槽部の液面を一定に保持するようになって
いる点にある。
装置に前記洗浄剤を供給する第1次槽と、前記蒸留再生
装置から蒸留再生した洗浄剤を供給する第2次槽とから
なり、前記第1次槽から前記蒸留再生装置へ前記洗浄剤
を供給する配管が、前記第1次槽の液面下から前記蒸留
再生装置の底面近くに接続されていると共に、その配管
途中に前記逆流防止弁が設置されており、前記蒸留再生
装置から前記第2次槽への配管途中に前記逆流防止弁が
設置されていると共に、前記蒸留再生装置の頂部に外部
からのみ空気を導入する別の逆流防止弁が配設されてい
て、前記第2次槽から前記第1次槽への配管途中に、さ
らに別の前記逆流防止弁が設置されていることが好まし
い。
−水、特にエタノール−水からなっていると、安全上、
作業環境上などの点で好ましい。
定組織の混合溶液を蒸留再生装置内の液槽部に貯留して
おき、その液量を一定となるように調整するものである
から、洗浄剤の組成も変わらず、溜出量と流入量及びそ
れらの組成が同一となって循環再生することが可能とな
る。ここに予め液槽部に入れる洗浄剤の組成は、多成分
系洗浄剤の気液平衡図から溜出(流入)組成に対応して
適宜求めておけばよい。
中に逆流防止弁が設置されているので、洗浄槽の液面が
低下したとしても蒸留再生装置から洗浄槽内へ、再生装
置内の濃縮された残留液が逆流するのを防止できる。こ
のように、蒸留再生装置内に液面が常に一定となるよう
に、液面調整装置を設置することにより、留出量と流入
量が一定となり内部圧力も変動せず、常圧下でバランス
のとれた蒸留再生が可能であると共に、蒸留再生装置へ
の供給管の位置や蒸留再生装置への導入及び溜出の配管
途中、またはその他所要の場所に逆流防止弁を配置する
ことにより、システム全体としてバランス良く機能して
多成分系洗浄剤の長期安定な蒸留再生ができることとな
る。
を供給する第1次槽と、蒸留再生装置から蒸留再生した
洗浄剤を供給する第2次槽とからなり、第1次槽から蒸
留再生装置へ洗浄剤を供給する配管が、第1次槽の液面
下から蒸留再生装置の底面近くに接続されていると、第
1次槽の液面が低下しても洗浄剤が蒸留再生装置へ流入
して空炊きになるのを防止できる。
蒸留再生装置から第2次槽への配管途中に逆流防止弁が
設置されていると共に、蒸留再生装置の頂部に外部から
のみ空気を導入する別の逆流防止弁が配設されていて、
さらに第2次槽から第1次槽への配管途中に別の前記逆
流防止弁が設置されていると、呼吸時に発生する第2次
槽からの蒸留再生装置への逆流を防止できる。ここに、
呼吸とは、液が大量に流入して蒸留液温が下がった時に
起こり、内部圧力が低下して、外部から液や空気が流入
する現象をいう。また、装置の頂部に外部からのみ空気
が流通する逆流防止弁により、呼吸時や装置停止時にお
いて、装置内部に混合液組成を崩す原因となる液流入を
防止する。
次槽へ流れる配管中に第1次槽へのみ流れる逆流防止弁
を設置したことにより、第1次槽へ被洗浄物を搬入した
場合、第1次槽の液面が第2次槽より高くなったとして
も、洗浄液が逆流することを防止する。
調整装置を設置して液量を一定にしたことにより、流入
量と留出量とが一定となり、内部圧力もほぼ一定で呼吸
現象も抑制され、配管途中または適当な部位に逆流防止
弁を設置することによって、望ましくない液体の逆流現
象を有効に防止し、多成分系からなる混合溶剤を比較的
小型のコンパクトで構造も簡単でコストも低い設備によ
って安定かつ有効に連続蒸留再生することができるに至
った。従って、このような連続蒸留再生システムを、例
えばエタノール−水混合溶剤などのプリント配線基板洗
浄用の多成分系洗浄剤を再生装置に組み込むことによ
り、好適な洗浄システムが提供できた。
説明する。図1は、この実施例にかかる連続蒸留再生シ
ステムの全体概略断面を示す。図1において、1は第1
次槽、2は第2次槽、3は蒸留再生装置、4はスチーム
用配管、5は冷却水用配管、7は受け棚、6、8、9、
13は夫々逆流防止弁、10は液面調整装置であり、こ
れはボールタップ10aとフロート10bとから構成さ
れていて、11はフロート、12は冷却器を示す。な
お、図1では、バルブやドレン配管等は簡略化のため省
略した。蒸留再生装置3の液槽部3aへは、第1次槽1
から逆流防止弁6を経て多成分系洗浄剤たる混合溶剤が
供給され、下部のスチーム用配管4により加熱、沸騰さ
れその蒸気が上部冷却水用配管5により凝縮されて受け
棚7に回収される。このスチーム用配管4は、これに代
えて加熱ヒータや誘導加熱のような方式としてもよい。
留出液はさらに冷却器12により冷却され、逆流防止弁
8を経て第2次槽2へ供給される。第2次槽からオーバ
ーフローした溶剤は、逆流防止弁13を経て第1次槽へ
還流される。蒸留再生装置3内に設けられている液面調
整装置10は、ボールタップ10aとフロート10bと
からなり、ボールタップ10aは、フロート10bと連
動して液槽部3aの内部液量を一定に保持調節する。液
槽部3aの内部液量を一定に保持調節する方式として、
ボールタップ10aとフロート10bとの連動により行
うこと以外に、液面センサーと導入弁とを連動させるよ
うにした装置であってもよい。
置によって、装置内の加熱部分及び冷却凝集部のわずか
な能力変動にも液量が一定に維持され、バランスよく蒸
留再生ができる。また、蒸留した分量だけ洗浄液が流入
してくるため、蒸留部分の温度変化が少なく、槽内の液
量が一定となり、バランスのとれた蒸留再生が可能とな
ると同時に装置内部の圧力もほぼ一定となり、呼吸現象
を容易に抑制できる。
l、第2次槽2の標準液量110l、蒸留再生装置の液
槽部20lとし、冷却配管5(銅製10φ×10000
(長)×3(本)(mm))に水道水を送給すると共
に、加熱配管4(銅製10φ×6000(長)×1
(本)(mm))にスチームを使用した。第1及び第2
次槽には、エタノール:水=60:40の混合液を規定
量投入した。蒸留再生装置の液槽部へは、図2に示すエ
タノール・水の気液平衡図から求めた気相中のエタノー
ル濃度60wt%に対応する液相のエタノール:水=1
7:83の混合液を規定量投入した。装置内の蒸留温度
を85℃(液槽部)に加熱すると加熱始動時より数分間
は、蒸留再生装置から白い水蒸気が発生したが、すぐに
安定して蒸留液が流出するようになった。始動からの3
0分後と8時間後に流出されたエタノール濃度を測定し
たところ、いずれもほぼ60%であった。第1次槽へ容
量15lの被洗浄物を入れたが、蒸留再生装置は呼吸す
ることもなく、安定して一定量の蒸留再生ができた。そ
の際、数分間だけ第1次槽の水位が第2次槽の水位より
も高くなったが、逆流防止弁のため溶剤は第2次槽へ流
れることはなかった。
を入れたが、蒸留再生装置は、呼吸することもなく、安
定して一定量の蒸留再生ができた。このとき、第2次槽
から第1次槽へ液が流れ、液面はほぼ同じレベルとなっ
て流出が停止した。蒸留再生装置へのスチーム供給を停
止し、同配管に冷却のための水を流した直後、蒸留再生
装置頂部からエアーが流入し、数分後すみやかに停止し
た。なお、蒸留再生装置の液面は、一般に第1次槽の底
面より低い方が空だき防止上望ましい。
入される汚染量、被洗浄物の洗浄程度などによって決定
すればよい。上記実施例では洗浄剤として2成分系のエ
タノール・水系を用いたが、これに限定されるものでは
ない。アルコール類−水の他、アセトン−水、メチルエ
チルケトン−水などにも応用することができ、その他3
成分系のものでもよい。また、上記実施例では、洗浄槽
が2槽のものをあげたが、さらに多くの槽を連結したも
のでもよく、たとえば4槽式の場合は第1と第4との間
に蒸留再生装置が設置される。洗浄槽には、循環装置や
超音波装置などを適宜組み込んでもよい。
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構造に限定されるものではない。
Claims (3)
- 【請求項1】 多成分系洗浄剤を有する、洗浄槽(1),
(2)と蒸留再生装置(3)と、これらを接続する配管
とからなり、これら洗浄槽(1),(2)と蒸留再生装置
(3)との間で前記配管を介して前記洗浄剤が連続的に
循環されるようになっている連続蒸留再生システムにお
いて、 前記配管に逆流防止弁(6),(8),(13)が設置され
ていると共に、前記蒸留再生装置(3)は、その液槽部
(3a)に有する洗浄剤の液面を一定に保持する液面調
整装置(10)を備えていて、この液面調整装置(1
0)は、前記液槽部(3a)の洗浄剤の減少量に応じ
て、前記洗浄槽(1),(2)から洗浄剤を供給すること
により前記液槽部(3a)の液面を一定に保持するよう
になっている連続蒸留再生システム。 - 【請求項2】 前記洗浄槽(1),(2)が、前記蒸留再
生装置(3)に前記洗浄剤を供給する第1次槽(1)
と、前記蒸留再生装置(3)から蒸留再生した洗浄剤を
供給する第2次槽(2)とからなり、前記第1次槽
(1)から前記蒸留再生装置(3)へ前記洗浄剤を供給
する配管が、前記第1次槽(1)の液面下から前記蒸留
再生装置(3)の底面近くに接続されていると共に、そ
の配管途中に前記逆流防止弁(6)が設置されており、
前記蒸留再生装置(3)から前記第2次槽(2)への配
管途中に前記逆流防止弁(8)が設置されていると共
に、前記蒸留再生装置(3)の頂部に外部からのみ空気
を導入する別の逆流防止弁(9)が配設されていて、前
記第2次槽(2)から前記第1次槽(1)への配管途中
に、さらに別の前記逆流防止弁(13)が設置されてい
る請求項1記載の連続蒸留再生システム。 - 【請求項3】 多成分系洗浄剤がアルコール類−水から
なる請求項1または2記載の連続蒸留再生システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5047591A JP2577857B2 (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 連続蒸留再生システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5047591A JP2577857B2 (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 連続蒸留再生システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06254301A true JPH06254301A (ja) | 1994-09-13 |
| JP2577857B2 JP2577857B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=12779501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5047591A Expired - Lifetime JP2577857B2 (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 連続蒸留再生システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2577857B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010188338A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-09-02 | Kaken Tec Kk | 洗浄液再生装置及び循環洗浄装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5477280A (en) * | 1975-05-12 | 1979-06-20 | Shirou Idokawa | Distillation regenerating apparatus |
-
1993
- 1993-03-09 JP JP5047591A patent/JP2577857B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5477280A (en) * | 1975-05-12 | 1979-06-20 | Shirou Idokawa | Distillation regenerating apparatus |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010188338A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-09-02 | Kaken Tec Kk | 洗浄液再生装置及び循環洗浄装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2577857B2 (ja) | 1997-02-05 |
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