JPH06256036A - 原料供給装置 - Google Patents
原料供給装置Info
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- JPH06256036A JPH06256036A JP4242793A JP4242793A JPH06256036A JP H06256036 A JPH06256036 A JP H06256036A JP 4242793 A JP4242793 A JP 4242793A JP 4242793 A JP4242793 A JP 4242793A JP H06256036 A JPH06256036 A JP H06256036A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
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- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/87—Controlling the temperature
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、光ファイバ用母材等を安定に製造
するために用いられるガラスの原料供給装置に関する。 【構成】 パイプ６ｃを通して圧送されるガラスの原料
液を収容し、外周に加熱用ヒータ２ａ，２ｂ，２ｃが設
けられた原料タンク１と、原料タンク内で気化した原料
ガスを反応容器まで導くパイプ６ｄとを備え、原料タン
ク１の内壁面に凹凸３が設けられ、また、側壁に設けら
れたヒータ２ａ，２ｂは別々に加熱制御される。
するために用いられるガラスの原料供給装置に関する。 【構成】 パイプ６ｃを通して圧送されるガラスの原料
液を収容し、外周に加熱用ヒータ２ａ，２ｂ，２ｃが設
けられた原料タンク１と、原料タンク内で気化した原料
ガスを反応容器まで導くパイプ６ｄとを備え、原料タン
ク１の内壁面に凹凸３が設けられ、また、側壁に設けら
れたヒータ２ａ，２ｂは別々に加熱制御される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバ用母材等を
安定に製造するために用いられるガラスの原料供給装置
に関する。
安定に製造するために用いられるガラスの原料供給装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバを製造するにはＶＡＤ法、Ｏ
ＶＤ法あるいは内付け法等によって、多孔質ガラス母材
を形成し、これを脱水・透明化して線引きする方法がと
られている。近年、光ファイバの長尺化あるいは効率的
に製造するための必要性から大量のガラス原料を連続的
に供給する方法が開発された（特開昭５９−９２９３３
号公報）。このような原料供給装置は図２に示すよう
に、供給ラインから送られた原料液は一旦サービスタン
ク５に貯えられる。サービスタンク５には加圧用ライン
からパイプ６ｂを通って加圧ガスが導入され、このガス
圧によって原料液はパイプ６ｃを通って原料タンク１に
圧送される。原料液はヒータ２によって沸点以上に加熱
され、気化された原料ガスはパイプ６ｄ，流量制御装置
４を通って連続的に反応容器へ送られる。
ＶＤ法あるいは内付け法等によって、多孔質ガラス母材
を形成し、これを脱水・透明化して線引きする方法がと
られている。近年、光ファイバの長尺化あるいは効率的
に製造するための必要性から大量のガラス原料を連続的
に供給する方法が開発された（特開昭５９−９２９３３
号公報）。このような原料供給装置は図２に示すよう
に、供給ラインから送られた原料液は一旦サービスタン
ク５に貯えられる。サービスタンク５には加圧用ライン
からパイプ６ｂを通って加圧ガスが導入され、このガス
圧によって原料液はパイプ６ｃを通って原料タンク１に
圧送される。原料液はヒータ２によって沸点以上に加熱
され、気化された原料ガスはパイプ６ｄ，流量制御装置
４を通って連続的に反応容器へ送られる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような原料供給装
置を用いてより多くの原料ガスを安定に供給するには、
原料液により多くの熱を与えて気化速度を上げる方法が
とられる。しかし、ヒータの熱量を増大していくと原料
タンクの内壁面から発生する気泡の発生周期が短かくな
り、かつ発生する気泡の径が大きくなり気泡同士の干渉
が生じる。従って、ヒータの熱量を大きくしすぎると内
壁面に気泡膜が形成される。その結果、ヒータから供給
される熱は気泡膜によってさえぎられて原料液へ伝わり
にくくなり、原料ガスの発生量に限界ができるため安定
に供給することができない場合があった。そこで本発明
は、かかる問題点を解決した原料供給装置を提供するこ
とを目的とする。
置を用いてより多くの原料ガスを安定に供給するには、
原料液により多くの熱を与えて気化速度を上げる方法が
とられる。しかし、ヒータの熱量を増大していくと原料
タンクの内壁面から発生する気泡の発生周期が短かくな
り、かつ発生する気泡の径が大きくなり気泡同士の干渉
が生じる。従って、ヒータの熱量を大きくしすぎると内
壁面に気泡膜が形成される。その結果、ヒータから供給
される熱は気泡膜によってさえぎられて原料液へ伝わり
にくくなり、原料ガスの発生量に限界ができるため安定
に供給することができない場合があった。そこで本発明
は、かかる問題点を解決した原料供給装置を提供するこ
とを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、パイプを通し
て圧送されるガラスの原料液を収容し、外周に加熱用ヒ
ータが設けられた原料タンクと、原料タンク内で気化し
た原料ガスを反応容器まで導くパイプとを備えた原料供
給装置であって、前記原料タンクの内壁面に凹凸が設け
られた原料供給装置である。また本発明は、前記ヒータ
の内、側面のヒータが上下方向に分割して設けられ、該
ヒータは別々に加熱制御される原料供給装置である。
て圧送されるガラスの原料液を収容し、外周に加熱用ヒ
ータが設けられた原料タンクと、原料タンク内で気化し
た原料ガスを反応容器まで導くパイプとを備えた原料供
給装置であって、前記原料タンクの内壁面に凹凸が設け
られた原料供給装置である。また本発明は、前記ヒータ
の内、側面のヒータが上下方向に分割して設けられ、該
ヒータは別々に加熱制御される原料供給装置である。
【０００５】
【作用】上記の構成によれば、原料タンクはその内壁面
に凹凸が設けられているので、壁面と原料液との接触面
が増大して熱効率が向上する。また、原料タンクの側面
ヒータは上下方向に分割して設けられ、別々の温度を加
えることによって気泡同士の干渉が生じにくくなること
を実験的に確認した。その結果、タンク内壁面と原料液
との間の熱伝達効率が向上し、従来より多くの原料ガス
を安定に反応容器へ供給することができる。
に凹凸が設けられているので、壁面と原料液との接触面
が増大して熱効率が向上する。また、原料タンクの側面
ヒータは上下方向に分割して設けられ、別々の温度を加
えることによって気泡同士の干渉が生じにくくなること
を実験的に確認した。その結果、タンク内壁面と原料液
との間の熱伝達効率が向上し、従来より多くの原料ガス
を安定に反応容器へ供給することができる。
【０００６】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明の実施例を
説明する。図１は光ファイバ用母材を製造する場合のガ
ラス原料供給装置の概略図であり、供給ラインから送ら
れた原料液は一旦サービスタンク５に貯えられる。サー
ビスタンク５には加圧用ラインからパイプ６ｂを通って
Ａｒ，Ｎ2等の不活性ガスが導入され、このガス圧によ
って原料液はパイプ６ｃを通って原料タンク１に圧送さ
れる。原料液は、底面ヒータ２ｃ及び側面ヒータ２ａ，
２ｂによって沸点以上に加熱され、気化された原料ガス
はパイプ６ｄ、流量制御装置４を通ってＳｉＣｌ4ある
いはＧｅＣｌ4等のガラス微粒子を生成する反応容器へ
送られる。
説明する。図１は光ファイバ用母材を製造する場合のガ
ラス原料供給装置の概略図であり、供給ラインから送ら
れた原料液は一旦サービスタンク５に貯えられる。サー
ビスタンク５には加圧用ラインからパイプ６ｂを通って
Ａｒ，Ｎ2等の不活性ガスが導入され、このガス圧によ
って原料液はパイプ６ｃを通って原料タンク１に圧送さ
れる。原料液は、底面ヒータ２ｃ及び側面ヒータ２ａ，
２ｂによって沸点以上に加熱され、気化された原料ガス
はパイプ６ｄ、流量制御装置４を通ってＳｉＣｌ4ある
いはＧｅＣｌ4等のガラス微粒子を生成する反応容器へ
送られる。
【０００７】上記の原料タンク１はその内壁面に凹凸が
設けられ、熱源と原料液の接触面を増大して熱伝達効率
を改善している。また、原料タンク１の外周に設けられ
たヒータは底面ヒータ２ｃ、側面ヒータ２ａ、２ｂが独
立して取付けられ、別々に加熱される。特に上側のヒー
タ２ａを下側のヒータ２ｂに対して熱量を低く加熱制御
することによって気泡同士の干渉が生じにくくなり、熱
伝達効率を向上することができる。ステンレススチール
製の原料タンク１の内壁面にピッチ１２ｍｍ、深さ６ｍ
ｍの凹凸を設けた。外周のヒータは底面ヒータ２ｃ及び
側面ヒータ２ａ，２ｂはそれぞれ６５０ｗとし、分割し
て設けた。この原料タンクの中にＳｉＣｌ4の原料液を
入れ、ヒータによって加熱しながら熱量に対する原料ガ
スの発生量を測定した。測定結果は図３に示すように、
（１）側面ヒータ２ａは他のヒータより低い熱量を加え
た場合及び、（２）全てのヒータに同じ熱量を加えた場
合は、（３）従来の方法（内壁面が平らであり、全ての
ヒータに同じ熱量を加えた場合）に比べて原料ガスの発
生量が増加したことがわかる。
設けられ、熱源と原料液の接触面を増大して熱伝達効率
を改善している。また、原料タンク１の外周に設けられ
たヒータは底面ヒータ２ｃ、側面ヒータ２ａ、２ｂが独
立して取付けられ、別々に加熱される。特に上側のヒー
タ２ａを下側のヒータ２ｂに対して熱量を低く加熱制御
することによって気泡同士の干渉が生じにくくなり、熱
伝達効率を向上することができる。ステンレススチール
製の原料タンク１の内壁面にピッチ１２ｍｍ、深さ６ｍ
ｍの凹凸を設けた。外周のヒータは底面ヒータ２ｃ及び
側面ヒータ２ａ，２ｂはそれぞれ６５０ｗとし、分割し
て設けた。この原料タンクの中にＳｉＣｌ4の原料液を
入れ、ヒータによって加熱しながら熱量に対する原料ガ
スの発生量を測定した。測定結果は図３に示すように、
（１）側面ヒータ２ａは他のヒータより低い熱量を加え
た場合及び、（２）全てのヒータに同じ熱量を加えた場
合は、（３）従来の方法（内壁面が平らであり、全ての
ヒータに同じ熱量を加えた場合）に比べて原料ガスの発
生量が増加したことがわかる。
【０００８】
【発明の効果】以上説明したように本発明の原料タンク
はその内壁面に凹凸が設けられているので、壁面と原料
液との接触面が増大して熱効率が向上する。また、原料
タンクの側面ヒータは上下方向に分割して設けられ、別
々の温度を加えることによって内壁面から発生する気泡
同士の干渉が生じにくくなることを確認した。その結
果、タンク内壁面と原料液との間の熱伝達効率が向上
し、従来より多くの原料ガスを安定に反応容器へ供給す
ることができる。
はその内壁面に凹凸が設けられているので、壁面と原料
液との接触面が増大して熱効率が向上する。また、原料
タンクの側面ヒータは上下方向に分割して設けられ、別
々の温度を加えることによって内壁面から発生する気泡
同士の干渉が生じにくくなることを確認した。その結
果、タンク内壁面と原料液との間の熱伝達効率が向上
し、従来より多くの原料ガスを安定に反応容器へ供給す
ることができる。
【図１】本発明に係る実施例の構成を示す概略図であ
る。
る。
【図２】従来の構成を示す概略図である。
【図３】ヒータの熱量に対する原料ガスの発生量を示す
図である。
図である。
１：原料タンク ２，２ａ，２ｂ，２ｃ：ヒータ ３：凹凸 ４：流量制御装置 ５：サービスタンク ６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ：パイプ ７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ：開閉弁
Claims (2)
- 【請求項１】 パイプを通して圧送されるガラスの原料
液を収容し、外周に加熱用ヒータが設けられた原料タン
クと、原料タンク内で気化した原料ガスを反応容器まで
導くパイプとを備えた原料供給装置であって、前記原料
タンクの内壁面に凹凸が設けられたことを特徴とする原
料供給装置。 - 【請求項２】 側面のヒータが上下方向に分割して設け
られ、該ヒータは別々に加熱制御されることを特徴とす
る請求項１記載の原料供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4242793A JP3013645B2 (ja) | 1993-03-03 | 1993-03-03 | 原料供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4242793A JP3013645B2 (ja) | 1993-03-03 | 1993-03-03 | 原料供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06256036A true JPH06256036A (ja) | 1994-09-13 |
| JP3013645B2 JP3013645B2 (ja) | 2000-02-28 |
Family
ID=12635769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4242793A Expired - Fee Related JP3013645B2 (ja) | 1993-03-03 | 1993-03-03 | 原料供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3013645B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08326995A (ja) * | 1995-03-28 | 1996-12-10 | Nikon Corp | 逆拡散を防止した液体材料供給システム |
| US6604493B1 (en) | 2002-06-03 | 2003-08-12 | Aera Japan Ltd. | Liquid material vaporizing and feeding apparatus |
| WO2004002909A1 (en) * | 2002-06-28 | 2004-01-08 | Pirelli & C. S.P.A. | Method and device for vaporizing a liquid reactant in manufacturing a glass preform |
| JP2011124457A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Mitsubishi Electric Corp | はんだ接合装置 |
| CN102485952A (zh) * | 2010-12-06 | 2012-06-06 | 理想能源设备有限公司 | 汽化装置以及汽化方法 |
| CN111169826A (zh) * | 2018-11-13 | 2020-05-19 | 长鑫存储技术有限公司 | 原料存储罐及半导体设备 |
-
1993
- 1993-03-03 JP JP4242793A patent/JP3013645B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08326995A (ja) * | 1995-03-28 | 1996-12-10 | Nikon Corp | 逆拡散を防止した液体材料供給システム |
| US6604493B1 (en) | 2002-06-03 | 2003-08-12 | Aera Japan Ltd. | Liquid material vaporizing and feeding apparatus |
| WO2004002909A1 (en) * | 2002-06-28 | 2004-01-08 | Pirelli & C. S.P.A. | Method and device for vaporizing a liquid reactant in manufacturing a glass preform |
| US7730747B2 (en) | 2002-06-28 | 2010-06-08 | Prysmian Cavi E Sistemi Energia S.R.L. | Method for vaporizing a liquid reactant in manufacturing a glass preform |
| JP2011124457A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Mitsubishi Electric Corp | はんだ接合装置 |
| CN102485952A (zh) * | 2010-12-06 | 2012-06-06 | 理想能源设备有限公司 | 汽化装置以及汽化方法 |
| CN102485952B (zh) * | 2010-12-06 | 2015-09-23 | 理想能源设备有限公司 | 汽化装置以及汽化方法 |
| CN111169826A (zh) * | 2018-11-13 | 2020-05-19 | 长鑫存储技术有限公司 | 原料存储罐及半导体设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3013645B2 (ja) | 2000-02-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |