JPH06259959A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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Publication number
JPH06259959A
JPH06259959A JP5044106A JP4410693A JPH06259959A JP H06259959 A JPH06259959 A JP H06259959A JP 5044106 A JP5044106 A JP 5044106A JP 4410693 A JP4410693 A JP 4410693A JP H06259959 A JPH06259959 A JP H06259959A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
refresh
cycle
battery backup
memory device
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5044106A
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English (en)
Inventor
Masaki Shimoda
正喜 下田
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH06259959A publication Critical patent/JPH06259959A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 バッテリバックアップ動作終了後自動的に通
常周期と実質的に同一周期でリフレッシュ動作を行なう
ことにより、外部信号によるセルフリフレッシュ動作を
なくし、システム設計を容易にする。 【構成】 セルフリフレッシュ回路30の中にバッテリ
バックアップ動作終了判定回路15を設け、バッテリバ
ックアップ動作終了後にバッテリバックアップ時におけ
る長い周期の第1の周期信号REFS1を、短い周期の
第2のリフレッシュ周期信号REFS2に切換えて、自
動的に全メモリセル分のリフレッシュを引続いて行な
い、m段のカウンタ17により全メモリセル分のリフレ
ッシュを完了したことを検知する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、セルフリフレッシュ
機能を有する半導体記憶装置に関し、特に半導体記憶装
置内で発生する内部周期を用いてセルフリフレッシュ動
作を行なう半導体記憶装置の内部周期信号発生回路の改
良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ダイナミックランダムアクセスメモリ
(以下、「DRAM」という)は、1つのメモリセル
が、1個のスイッチングトランジスタと、1個のデータ
記憶キャパシタとによって構成されるため、半導体基板
における高集積化に適した半導体メモリとして広く普及
している。DRAMでは、データ信号がキャパシタによ
って保持されるため、周期的にキャパシタにストアされ
たデータ信号を増幅するという「リフレッシュ動作」が
必要である。近年のDRAMのほとんどは、内部的にま
たは外部からのリフレッシュ制御を必要とすることなく
リフレッシュ動作を行なうことができる機能(一般に
「セルフリフレッシュ機能」と呼ばれる)を有してい
る。
【0003】図18は、従来の半導体記憶装置を示すブ
ロック図である。図18を参照して、このDRAM21
は、行および列に配設された4,718,592個のメ
モリセルを備えたメモリセルアレイ22と、メモリセル
アレイ22内のワード線を選択するための行デコーダ2
4と、アクセスされるべきメモリセルの列を選択するた
めの行デコーダ25と、アクセスされるべきメモリセル
の列を選択するための行デコーダ25と、外部から時分
割態様で与えられるアドレス信号を受けるアドレスバッ
ファ23と、メモリセルアレイ22内のビット線と入力
バッファ27および出力バッファ28との間を選択的に
接続するためのセンスリフレッシュアンプ入出力制御回
路26とを含む。図16において、ライン21は、半導
体基板をも示している。
【0004】クロック発生回路29は、内部クロックを
発生する回路であり、セルフリフレッシュ回路30は、
行アドレスストローブ信号/RASおよび列アドレスス
トローブ信号/CASに応じて動作し、セルフリフレッ
シュ動作を制御する回路である。
【0005】動作において、DRAM21に外部から入
力されたアドレス信号A0 〜A10は、行および列アドレ
スバッファ23を通って行または列デコーダ24,25
に入力される。行または列デコーダ24,25でデコー
ドされたアドレス信号A0 〜A10に対応するメモリセル
アレイ22のメモリセルが選択され、センスリフレッシ
ュアンプ入出力制御26および入出力バッファ27,2
8を通って入出力データD,Qの書込および読出が行な
われる。これらの動作タイミングは列アドレスストロー
ブ信号/CAS,行アドレスストローブ信号/RASお
よび書込信号Wなどにより制御される。
【0006】次に、セルフリフレッシュ動作について説
明する。セルフリフレッシュ回路30は、/CAS bef
ore /RASサイクルからセルフリフレッシュ動作に入
るが、図19は、この動作を行なうときの行アドレスス
トローブ信号/RAS、列アドレスストローブ信号/C
ASおよび制御信号BBUのタイミング波形図である。
【0007】図18に示すように行アドレスストローブ
信号/RASが“L”に立下がる前に列アドレスストロ
ーブ信号/CASを“L”に立下げておき、行アドレス
ストローブ信号/RASを“L”に立下げてから100
μs以上の間列アドレスストローブ信号/CASと行ア
ドレスストローブ信号/RASを“L”に保持すること
により、セルフリフレッシュ動作を開始する。このと
き、セルフリフレッシュ動作を要求する制御信号BBU
が“H”になる。そして、行アドレスストローブ信号/
RAS、列アドレスストローブ信号/CASを“H”に
立上げるまでセルフリフレッシュ動作を続ける。
【0008】セルフリフレッシュ動作は、内部で発生す
る内部周期信号REFSでリフレッシュアドレスを、た
とえばインクリメントしていくことにより行なう。この
セルフリフレッシュ機能により、内部に書込まれたデー
タを低消費電流にて保持することが可能であり、今後の
半導体メモリでは不可欠な機能となっている。
【0009】次に、図20を用いて、/CAS before
/RASのサイクルにおけるセルフリフレッシュ回路で
の制御信号BBUの発生について説明する。
【0010】図20は、セルフリフレッシュ回路30を
動作面から見たときの概略を示すブロック図である。
【0011】図20を参照して、このセルフリフレッシ
ュ回路30は、/CAS before /RASのタイミング
およびセルフリフレッシュのタイミングを判定する/C
ASbefore/RAS判定回路12(以下、CBR判定回
路12と称する)と、CBR判定回路12の判定結果に
応答して内部周期信号を出力するリングオシレータ回路
13と、リングオシレータ回路13の周期信号をカウン
トしてその整数倍の周期で信号を出力するカウンタ14
とを含む。
【0012】動作において、/CAS before /RAS
のタイミングにてロウアドレスストローブ信号/RAS
が立下がった時点でCBR判定回路12からリングオシ
レータ回路13およびカウンタ14に信号が伝達され、
外部周期信号REFSの発振とそのカウントが始まる。
そして、カウンタ14でn個の内部周期がカウントされ
たときカウンタにより制御信号BBUが出力される。し
たがって、制御信号BBUは、内部周期信号REFSの
n倍の周期で出力されることとなる。
【0013】制御信号BBUは、基板電位発生回路31
に与えられる。基板電位発生回路31は、制御信号BB
Uが“H”レベルのとき、すなわちセルフリフレッシュ
時に非活性化され、基板電位VBBの発生を停止する。
【0014】このことを図21の基板電位発生回路31
のブロック図により説明する。図21を参照して、基板
電位発生回路31は、NANDゲート31a、インバー
タ31b、リングオシレータ回路31c、チャージポン
プ回路31dを含む。NANDゲート31aは2つの入
力端子を含み、一方の入力端子にはインバータ31eを
通してクロック信号発生回路29(図18)からの内部
/RAS信号が入力され、他方の入力端子には、インバ
ータ31fを通して制御信号PBUが入力される。
【0015】動作において、制御信号BBUが“H”で
あるときは、NANDゲート31aの出力が“H”レベ
ルとなり、リングオシレータ31cが非活性状態とな
る。これにより、バッテリバックアップ動作時には基板
電位VBBの発生を停止することができるので、低消費
電力化することができる。しかし、セルフリフレッシュ
動作の終了後に内部/RAS信号が再度“L”レベルに
なるまでNANDゲート31aの出力が低レベルとなら
ないので、この間基板電位を発生することができないと
いう問題がある。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】ところで、バッテリバ
ックアップ動作の終了から通常周期のリフレッシュ動作
(通常動作モード)に移行する前に、すべてのメモリセ
ルを一度リフレッシュしておく必要がある。
【0017】しかしながら、従来の半導体記憶装置は上
記のように構成されているので、バッテリバックアップ
動作の終了から通常周期のリフレッシュ動作に移行する
前にユーザが外部的に信号を与えて通常動作モードへの
移行操作を行なっていた。この外部的な信号は、たとえ
ば/RASオンリーリフレッシュを1024回入力して
すべてのメモリセルをリフレッシュする命令信号であ
る。このような外部的な操作が必要なため、システムを
設計する上で制約となってしまうという問題があった。
【0018】また、前述したようにセルフリフレッシュ
動作の終了後に内部/RAS信号が再度“H”レベルに
なるまで基板電位VBBを発生することができないとい
う問題があった。
【0019】この発明の1つの目的は、セルフリフレッ
シュ機能を有する半導体記憶装置において、バッテリバ
ックアップ動作の終了から通常動作モードへの移行を自
動的に行なうことによりシステム設計の制約をなくすこ
とである。
【0020】また、この発明のもう1つの目的は、セル
フリフレッシュ機能を有する半導体記憶装置において、
低消費電力化するとともにバッテリバックアップ動作の
終了後直ちに基板電位を発生することである。
【0021】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る半
導体記憶装置は、セルフリフレッシュ機能を備えた半導
体記憶装置であって、検出手段、第1の周期信号発生手
段、第2の周期信号発生手段、およびセルフリフレッシ
ュ動作停止手段を含む。検出手段は、半導体記憶装置の
記憶状態を制御するための状態制御信号の論理状態に基
づいてバッテリバックアップ動作の開始命令およびバッ
テリバックアップ動作の停止命令を検出する。第1の周
期信号発生手段は、前記検出されたバッテリバックアッ
プ動作の開始命令に応答してメモリセルのデータを保持
するための第1の周期信号を発生す。第2の周期信号発
生手段は、前記検出されたバッテリバックアップ動作の
停止命令に応答として前記第1の周期信号よりも短い周
期の第2の周期信号を発生する。セルフリフレッシュ動
作停止手段は前記発生された第2の周期信号の周期をカ
ウントし、第2の周期信号の周期がすべてのメモリセル
をリフレッシュする回数に達したときセルフリフレッシ
ュ動作を停止する。
【0022】請求項4の発明に係る半導体記憶装置は、
前記請求項1の半導体記憶装置と同様に、検出手段、第
1の周期信号発生手段、および第2の周期信号発生手段
を含み、さらにセルフリフレッシュ動作停止手段および
出力手段を含む。セルフリフレッシュ動作停止手段は、
第2の周期信号発生手段により発生された第2の周期信
号の周期をカウントし、第2の周期信号の周期がすべて
のメモリセルをリフレッシュする回数に達したとき、セ
ルフリフレッシュ動作を停止し、かつセルフリフレッシ
ュ終了信号を発生する。出力手段は前記発生されたセル
フリフレッシュ終了信号の論理状態とメモリセルから出
力されるデータの論理状態とに基づいてセルフリフレッ
シュ動作の完了を検出して半導体記憶装置の外部に出力
する。
【0023】請求項5の発明に係る半導体記憶装置は、
前記請求項1または請求項4記載の発明にさらに活性状
態制御手段を含む。活性状態制御手段は、前記検出手段
により検出されたバッテリバックアップの開始命令に応
答してバッテリバックアップに関与しない回路を非活性
化して前記検出手段により検出されたバッテリバックア
ップ動作の停止命令に応答して前記非活性化した回路を
活性状態にする。
【0024】
【作用】請求項1の発明に係る半導体記憶装置では、検
出手段によりバッテリバックアップ動作の停止命令を検
出し、検出手段に応答して第2の周期信号発生手段が第
1の周期信号より短い周期の第2の周期信号を自動的に
発生する。そして、セルフリフレッシュ動作停止手段に
より第2の周期信号をカウントし第2の周期信号の周期
がすべてのメモリセルをリフレッシュする回数に達した
とき、セルフリフレッシュ動作を停止する。それによ
り、通常動作モードに移行する際の外部信号の入力とい
う操作をなくし、システム設計における制約をなくすこ
とができる。
【0025】請求項4の発明に係る半導体記憶装置で
は、出力手段により第2の周期でのリフレッシュ動作が
すべてのメモリセルに対して行なわれた後、その完了を
検出して半導体記憶装置の外部へ出力することができ
る。それにより、外部のシステムは、第2の周期でのリ
フレッシュ動作の完了情報をレディ・ビジィ信号として
利用することができる。
【0026】請求項5の発明に係る半導体記憶装置で
は、バッテリバックアップ動作時には、基板発生回路、
メモリセルのデータ保持上問題とならない回路などのバ
ッテリバックアップに関与しない回路を非活性化し、低
消費電流化を図ることができる。また、バッテリバッテ
リバックアップ動作の終了後直ちに通常動作状態となる
ようにバッテリバックアップ動作時に非活性化していた
回路を活性状態にする。それにより、通常動作モードへ
の移行を円滑に行なうことができる。
【0027】
【実施例】
実施例1 図1は、この発明に係る半導体記憶装置の一実施例を示
すブロック図である。図2は、図1に示した半導体記憶
装置のセルフリフレッシュ回路のブロック図である。図
3は、図2に示したセルフリフレッシュ回路のタイミン
グチャートである。
【0028】図1に示す半導体記憶装置100が図18
に示す半導体記憶装置21と異なるところは、第1の周
期信号発生回路30aと、第2の周期信号発生回路30
bとを含むセルフリフレッシュ回路30が設けられてい
ることである。
【0029】第1の周期信号発生回路30aは、行アド
レスストローブ/RASおよび列アドレスストローブ信
号/CASを受けるように接続され、/RAS before
/CASとなり、行アドレスストローブ信号RASが1
00μsec以上“L”レベルを維持したとき、バッテ
リバックアップ制御を行なうための制御信号BBU1を
発生するとともに、リフレッシュ周期信号REFS1を
発生する。
【0030】第2の周期信号発生回路30bは、制御信
号BBU1および行アドレスストローブ信号/RASを
受けるように接続され、制御信号BBU1が立下がりか
つ行アドレスストローブ信号/RASが立上がったとき
に制御信号BBU2およびリフレッシュ周期信号REF
S2を発生する。
【0031】リフレッシュ周期信号REFS1の循環周
期は、メモリセルに保持されたデータ信号が消失されな
い範囲でできるだけ長い時間長さ(たとえば128μs
ec)に設定されたフレッシュ周期信号REFS2の循
環周期は、通常動作モードと実質的に同じ周期(たとえ
ば200nsec)に設定される。
【0032】図2を参照して、第1の周期信号発生回路
30aは、CBR発生回路12、リングオシレータ回路
13およびn段のカウンタ14を含む。第2の周期信号
発生回路30bは、バッテリバックアップ動作終了判定
回路15、リングオシレータ回路16およびm段のカウ
ンタ17を含む。
【0033】次に、図3を参照して図1および図2に示
したセルフリフレッシュ回路30の動作を説明する。ま
ず、CBR判定回路12は、/CAS before /RAS
およびロウアドレスストローブ信号/RASが100μ
sec以上“L”レベルであることを検出して、CBR
信号を発生し、これをリングオシレータ回路13に与え
る。リングオシレータ回路13は、CBR信号に応答し
て、内部信号φS1を発生し、カウンタ14に与える。
この内部信号φS1は、バッテリバックアップ動作にお
けるセルフリフレッシュ周期信号REFS1の周期に対
応する。カウンタ14は、内部信号φS1の周期を整数
回nカウントし、バッテリバックアップ動作を行なうた
めの制御信号BBU1を発生するとともに、リングオシ
レータ回路13により発生される内部信号φS1をリフ
レッシュ周期信号REFS1としてクロック信号発生回
路29に与える。このようにして、長い周期信号による
バッテリバックアップのためのリフレッシュ動作を行な
うことができる。
【0034】次に、行アドレスストローブ信号/RAS
および列アドレスストローブ/CASを立上げることに
より、バッテリバックアップ動作の停止命令が外部から
与えられ、この行アドレスストローブ信号を/RASお
よび列アドレスストローブ信号/CASの状態変化に応
答して、CBR判定回路12は、CBR信号を“L”レ
ベルにし、カウンタ14のカウント動作を停止される。
応答して、カウンタ14は、制御信号BBU1を“L”
レベルにし、リフレッシュ周期信号REFS1の出力を
停止する。前記制御信号BBU1は、バッテリバックア
ップ動作終了判定回路15にも与えられる。バッテリバ
ックアップ動作終了判定回路15は、制御信号BBU1
が“L”レベルになるのに応答して、制御信号BBUE
を発生し、これをリングオシレータ回路16に与える。
リングオシレータ回路16は、制御信号BBUEに応答
して通常動作モードと同じサイクルでリフレッシュする
ためのリフレッシュ周期信号REFS2を発生する。カ
ウンタ17は、リングオシレータ回路16により発生さ
れたリフレッシュ周期信号REFS2の周期をカウント
し、すべてのメモリセルをリフレッシュした回数(m)
に達したとき、制御信号BBU2の出力を停止する(B
BU2を“L”レベルにする)。これにより、セルフリ
フレッシュが完了し、その後は通常の任意の動作を実行
することができる。制御信号BBU2が図3に示すよう
に、“L”→“H”→“L”となる期間、つまりリフレ
ッシュ周期信号REFS1およびREFS2による内部
でのリフレッシュ周期は、外部からの動作を受付けず、
この期間に何ら動作を要求しなくても半導体記憶装置
は、自動的に通常動作モードのリフレッシュ周期と実質
的に同じリフレッシュ周期でリフレッシュを行なうこと
ができる。
【0035】図4は、図1に示したCBR判定回路12
の一例を示す回路図であり、図5はCBR判定回路12
の動作を示すタイミングチャートである。図4を参照し
て、CBR判定回路12は、インバータ12a、12b
および12cと、ラッチ回路を構成するNANDゲート
12dおよび12eとを含む。
【0036】図5を参照して、CBR判定回路12の動
作を説明する。インバータ12aは、列アドレスストロ
ーブ信号/CASを反転させてNANDゲート12dの
一方の入力端子に与え、インバータ12bは、行アドレ
スストローブ信号/RASを反転させてNANDゲート
12eの一方の入力端子にあたえる。図5(1)に示す
ように、行アドレスストローブ信号/RASよりも列ア
ドレスストローブ信号/CASが先に立下がる場合に
は、NANDゲート12dの出力信号Bは“L”レベル
となり、NANDゲート12eの出力信号が“H”レベ
ルとなる。したがって、、CBR判定回路12の出力信
号CBR信号は“H”レベルとなる。その後行アドレス
ストローブ信号/RASが立下がっても列アドレススト
ローブ信号/CASが“L”レベルである限りCBR信
号は“H”レベルを維持する。
【0037】一方、図5の(2)に示すように、行アド
レスストローブ信号/RASが先に立下がる場合には、
NANDゲート12eの出力信号Aが“L”レベルとな
りNANDゲート12dの出力信号Bは“H”レベルと
なる。そして、その後/CASが立下がってもCBR信
号は“L”レベルに維持される。このようにして、CB
R判定回路12は、/CAS before /RASを判定す
ることができる。
【0038】図6は、図1に示したリングオシレータ回
路13の一例を示す回路図である。図7は、リングオシ
レータ回路13の動作を示すタイミングチャートであ
る。図6および図7を参照してリングオシレータ回路1
3は、複数段のインバータ13aと、NANDゲート1
3bとを含む。NANDゲート13bは、その入力端子
がCBR信号を受けるように接続され、その他方の入力
端子が最終段のインバータ13aの出力信号S7を受け
るように接続される。NANDゲート13bの出力端子
は、周期カウンタ14の入力および初段のインバータ1
3aの入力に接続される。NANDゲート13bの出力
端子と入力端子との間に複数のインバータ13aをカス
ケード接続することにより、リフレッシュ周期信号RE
FS1の周期を所定の周期にすることができる。また、
NANDゲート13bは、CBR信号に応答して発振動
作を開始することができる。
【0039】n段のカウンタ14は、リングオシレータ
回路13の出力信号S1の周期の2 n-1 倍まで検知する
ことができる。たとえば、リングオシレータ回路13の
出力信号S1の1周期を8μsとすると、カウンタ14
を5段にすることにより、リフレッシュ周期信号REF
S1を128μsごとに発生することができ、内部リフ
レッシュ周期128μsが満たされる。
【0040】図8は、図1に示したn段のカウンタ回路
14のうちの1段分の一例を示す回路図である。図9
は、図8に示したカウンタ回路の1段分のタイミングチ
ャートである。図8を参照して、このカウンタ回路は、
NMOSトランジスタ14a〜14eと、インバータ1
4n、14mおよび14pとを含む。
【0041】図9を参照して、CBR,/CBRは、C
BR判定回路12の出力信号であり、S1および/S1
はリングオシレータ回路13の出力信号である。IT
N,TNは、カウンタ回路14の初段の出力である。
【0042】動作において、CBR信号,/CBR信号
がそれぞれ“H”,“L”レベルとなった場合には、N
MOSトランジスタ14a、14gおよび14hのゲー
ト電極には“H”レベルの信号が与えられる。一方、N
MOSトランジスタ14b、14f、14eのゲート電
極には“L”レベルの信号が与えられる。そして、ノー
ドと信号S1とがともに“H”レベルのとき、ノード
はNMOSトランジスタ14k、14iおよび14g
により接地ノードに接続され、“L”レベルに引抜かれ
る。一方、ノードと信号/S1がともに“H”レベル
のとき、ノードはNMOSトランジスタ14l、14
jおよび14kにより接地ノードに接続され、“L”レ
ベルに引抜かれる。この“H”レベルを“L”レベルに
引抜く力は図8中のインバータ14mおよび14nによ
り構成されるラッチ回路よりも強く設計されているの
で、ノードが“L”レベルになるとき、ノードも
“H”レベルに、ノードが“L”レベルになるとき、
ノードを“H”レベルにする。初段のカウンタはノー
ドおよびが“L”レベルのときには、リングオシレ
ータの出力/S1が“H”となってもラッチした信号を
反転させないので、カウンタの出力TNおよびITN
は、入力信号S1,/S1の2倍の周期となる。
【0043】このカウンタの出力TN,ITNを次段の
カウンタの入力とすることにより、その出力はさらに2
倍,4倍,8倍というふうにカウントすることができ
る。
【0044】このようにして、任意の周期にて制御信号
BBU1を一度出力し(“H”レベルとする)、それ以
後セルフリフレッシュモードから抜けるまで制御信号B
BU1を“H”レベルのままとし、リフレッシュ周期信
号REFS1により一定周期のリフレッシュを行なうこ
とができる。
【0045】なお、図1に示したm段のカウンタ7も図
8および図9に示したカウンタと同様の構成である。但
し、段数が異なる。
【0046】図10は、図2に示したバッテリバックア
ップ動作終了判定回路15の回路図であり、図11は、
バッテリバックアップ動作終了判定回路15の動作を示
すタイミングチャートである。図10を参照して、この
判定回路15は、インバータ15aおよび15dと、N
ANDゲート15bおよび15cとを含む。
【0047】動作において、カウンタ14の出力信号B
BU1が“H”レベルの状態(バッテリバックアップ動
作中)では、NANDゲート15cは、“L”を出力す
る。したがって、制御信号BBUEは、行アドレススト
ローブ信号/RASの状態にかかわらず“L”レベルで
ある。制御信号BBU1が“L”レベルになると、NA
NDゲート15cの出力は“H”レベルとなり、NAN
Dゲート15bの出力は“L”レベルとなるので、制御
信号BBUEは高レベルとなる。この制御信号BBUE
をバッテリバックアップ動作終了信号とする。
【0048】なお、図1に示した半導体記憶装置では、
外部/RASにより内部リフレッシュ周期を切換えてい
るが、他の手段(たとえば、外部/CAS)によって切
換えてもよく、同様の効果が得られる。
【0049】実施例2 図12は、この発明に係る半導体記憶装置のもう1つの
実施例を示すブロック図である。図2に示すセルフリフ
レッシュ回路と図1に示すセルフリフレッシュ回路とが
異なるところが、リングオシレータ回路16を削除し、
リングオシレータ回路13を第1のリングオシレータ1
31と第2のリングオシレータ132とに分割している
ことである。すなわち、リングオシレータ回路13の一
部から取出した信号φS2をカウンタ17によりカウン
トさせるようにしている。
【0050】動作において、バッテリバックアップ動作
終了判定回路15は、制御信号BBU1に応答して、第
1のリングオシレータ131の出力信号φS2をm段の
カウンタ17に与える。カウンタ17は、CBR判定回
路15を通して入力される信号φS2の周期をカウント
し、この周期がすべてのメモリセルをリフレッシュする
回数(m回)カウントした後、通常動作モードに移行さ
せるための制御信号BBU2を出力する。
【0051】実施例3 図13は、この発明に係る半導体記憶装置のもう1つの
実施例を示すブロック図である。図14は、図13に示
される出力バッファ28′の一例を示す回路図である。
図13に示す半導体記憶装置が図1に示す半導体記憶装
置と異なるところは、制御信号BBU2に応答して短い
周期のリフレッシュ周期信号REFS2によりリフレッ
シュ動作が終了したことを示す情報を出力するための出
力バッファ28′が設けられていることである。
【0052】図14を参照して、出力バッファ28′
は、ORゲート41、NMOSトランジスタ42および
43を含む。ORゲート41は、一方の入力端子がセン
スリフレッシュアンプ入出力制御回路26からのデータ
出力信号Dを受けるように接続され、他方の入力端子が
制御信号BBU2を受けるように接続され、その出力端
子がNMOSトランジスタ42のゲート電極に接続され
る。NMOSトランジスタ42は、そのソース電極が電
源端子Vccに接続され、ドレイン電極がNMOSトラ
ンジスタ43のドレイン電極とともに出力端子Qに接続
される。NMOSトランジスタ43は、そのゲート電極
がデータ出力信号/Dを受けるように接続され、そのソ
ース電極が接地端子GNDに接続される。
【0053】次に動作を説明する。セルフリフレッシュ
動作を行なう場合には、データ出力信号D,/Dはとも
に“L”レベルにされる。したがって、制御信号BBU
2が“L”レベルの場合には、NMOSトランジスタ4
2および43はともにオフし、出力端子Qは、ハイイン
ピーダンス状態となる。制御信号BBU2が“L”→
“H”となった時点からNMOSトランジスタ42がオ
ンするので、出力端子Qに現われる信号は“H”レベル
となり、前記信号BBU2が“H”→“L”レベルに変
わるまで、“H”レベルに保持される。この結果、全メ
モリセル分リフレッシュを行なったか否かを、出力端子
Qの出力信号をモニタすることにより可能となる。すな
わち、出力端子Qに現われる信号が“H”レベルからハ
イインピーダンスとなる時点でセルフリフレッシュ動作
が完了したことがわかる。また、制御信号BBU2が
“L”レベルであれば、データを読出したとき、データ
出力信号Dが“H”、その反転信号/Dが“L”の場
合、出力端子Qの信号は“H”となる。制御信号BBU
2が“L”レベルであれば、データ出力信号Dが
“L”、その反転信号/Dが“H”の場合、出力端子Q
に現われる信号は、“L”となる。また、書込サイクル
のように出力禁止のときは、データ出力信号Dとその反
転信号/Dをともに“L”レベルとして出力端子Qをハ
イインピーダンス状態にしている。
【0054】実施例4 図15は、図13に示した出力バッファ28′のもう1
つの例を示す回路図である。図15に示す出力バッファ
28′と図14に示す出力バッファとが異なるところ
は、ORゲート41の出力端子をNMOSトランジスタ
43のゲート電極に接続していることである。
【0055】すなわち、図4に示した出力バッファ2
8′は、出力端子Qのレベルが“H”からハイインピー
ダンスとなることでリフレッシュ周期信号REFS2に
よるリフレッシュ動作の終了を知るようにしているが、
図15に示す出力バッファ28′は、出力端子Qのレベ
ルが“L”レベルがハイインピーダンスとなることによ
りリフレッシュ周期信号REFS2によるリフレッシュ
動作の終了を知ることができる。
【0056】なお、図14および図15の実施例では、
データ出力端子Qを用いているが、セルフリフレッシュ
動作時に使用されていない入出力端子を使用することも
可能である。この入出力端子の例としては、アドレス信
号入力端子A0〜A10、書込制御信号入力端子/W、
出力制御信号入力端子/OEなどがある。
【0057】実施例5 図16は、この発明に係る半導体記憶装置のもう1つの
実施例を示すブロック図である。図17は、図16に示
す論理回路32の回路図である。
【0058】図16に示される半導体記憶装置と図18
に示される従来の半導体記憶装置とが異なるところは基
板電位発生回路31を制御信号BBU1およびBBU2
により制御するための論理回路32が設けられているこ
とである。
【0059】図17を参照して、論理回路32は、内部
行アドレスストローブ信号/RASを反転させるインバ
ータ321、制御信号BBU2を反転させるインバータ
322、およびORゲート323を含む。ORゲート3
23は、その一方の入力端子がインバータ321の出力
に接続され、その他方の入力端子が制御信号BBU1を
受けるように接続され、その出力端子が基板電位発生回
路31に接続される。インバータ322は、その出力端
子が基板電位発生回路31に接続される。
【0060】次に、論理回路32の動作を説明する。バ
ッテリバックアップ時には、制御信号BBU1が“H”
レベルとなり、ORゲート323は、“L”レベルを出
力して基板電位発生回路31を非活性化する。それによ
り、電力消費量を少なくすることができる。
【0061】次に、バッテリバックアップ動作が終了し
て制御信号BBU1が“L”レベルになるのと同時に制
御信号BBU2が“H”レベルとなり、基板電位発生回
路31を活性化する。この結果、バッテリバックアップ
動作終了から通常動作モードへの移行を円滑に行なうこ
とができる。
【0062】なお、従来の半導体記憶装置では、バッテ
リバックアップ時におけるセルフリフレッシュ動作終了
後に行アドレスストローブ信号/RASが再び“L”レ
ベルになるまで、基板電位発生回路31を活性化するこ
とができなかった。
【0063】次に、バッテリバックアップ時に基板電位
発生回路31を非活性化しても問題とならない理由を説
明する。基板電位発生回路31は、次の目的のために基
板電位を発生する。
【0064】入力波形のアンダーシュートによる入力
端子から基板への電子の注入によって起こるメモリセル
データの破壊などの防止基板と内部回路の各能動化に
形成されるPN接合容量の低減による回路の高速化ト
ランジスタのしきい値電圧Vthの基板効果の低減によ
る動作回路の高速化と安定化 セルフリフレッシュ時には、DRAMは非動作にして低
電流消費状態であるので、入力は変化しないので上記
のアンダーシュートの問題は発生しない。また、特に高
速化に関しては内部で長いサイクルによりリフレッシュ
を行なうので上記およびについても特に問題とはな
らない。その他、特にアクセスの高速化に関する回路に
ついては、バッテリバックアップ動作に関与しないの
で、これらの回路を非活性化して低消費電力化を行なう
ようにしても問題とはならない。
【0065】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、バッテリバッ
クアップ動作時には第1の周期信号を発生し、バッテリ
バックアップ動作終了から通常動作モードへの移行の際
には第1の周期信号よりも短い周期の第2の周期信号を
自動的に発生するようにしているので、従来例のごとく
通常動作モードの移行前に/RASオンリーリフレッシ
ュなどの外部信号を与える必要がなくなる。この結果、
システム設計上の制約をなくすことができる。
【0066】請求項4の発明によれば、半導体記憶装置
の外部へセルフリフレッシュ動作の完了情報を出力する
ことができるので、外部装置は、この情報をレディ・ビ
ジィ信号として利用することができる。
【0067】請求項5の発明によれば、バッテリバック
アップ動作時には、バッテリバックアップ動作に関与し
ない回路を非活性化することにより、消費電力を少なく
することができる。また、バッテリバックアップの終了
後直ちに通常動作状態になるようにバッテリバックアッ
プ動作時に非活性化した回路を直ちに活性状態にする。
それにより、通常動作モードへの移行を円滑に行なうこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示すブロック図である。
【図2】図1に示した半導体記憶装置のセルフリフレッ
シュ回路のブロック図である。
【図3】図2に示したセルフリフレッシュ回路のタイミ
ングチャートである。
【図4】図2に示したCBR判定回路12の一例を示す
回路図である。
【図5】図4に示したCBR判定回路の動作を示すタイ
ミングチャートである。
【図6】図2に示したリングオシレータ回路の一例を示
す回路図である。
【図7】図6に示したリングオシレータ回路の動作を示
すタイミングチャートである。
【図8】図2に示したn段およびm段のカウンタ回路の
うちの1段分の回路図である。
【図9】図8に示したカウンタ回路の1段分のタイミン
グチャートである。
【図10】図2に示したバッテリバックアップ動作終了
判定回路の一例を示す回路図である。
【図11】図10に示したバッテリバックアップ動作終
了判定回路の動作を示すタイミングチャートである。
【図12】この発明に係る半導体記憶装置のもう1つの
実施例を示すブロック図である。
【図13】この発明に係る半導体記憶装置のさらにもう
1つの実施例を示すブロック図である。
【図14】図13に示した出力バッファの一例を示す回
路図である。
【図15】図13に示した出力バッファのもう1つの例
を示す回路図である。
【図16】この発明に係る半導体記憶装置のさらにもう
1つの実施例を示すブロック図である。
【図17】図16に示した論理回路の一例を示す回路図
である。
【図18】セルフリフレッシュ機能を有する従来の半導
体記憶装置のブロック図である。
【図19】図18に示した半導体記憶装置のセルフリフ
レッシュ動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。
【図20】図18に示したセルフリフレッシュ回路を動
作面から見たブロック図である。
【図21】図18に示した基板電位発生回路31の一例
を示すブロック図である。
【符号の説明】
12 CBR判定回路 13 リングオシレータ回路 14 n段カウンタ 15 バッテリバックアップ動作終了判定回路 16 リングオシレータ回路 17 m段カウンタ 30 セルフリフレッシュ回路 30a 第1の周期信号発生回路 30b 第2の周期信号発生回路 28′ 出力バッファ 32 論理回路
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年5月18日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】図18は、従来の半導体記憶装置を示すブ
ロック図である。図18を参照して、このDRAM21
は、行および列に配設された4,194,304個のメ
モリセルを備えたメモリセルアレイ22と、メモリセル
アレイ22内のワード線を選択するための行デコーダ2
4と、アクセスされるべきメモリセルの列を選択するた
めのデコーダ25と、外部から時分割態様で与えられ
るアドレス信号を受けるアドレスバッファ23と、メモ
リセルアレイ22内のビット線と入力バッファ27およ
び出力バッファ28との間を選択的に接続するためのセ
ンスリフレッシュアンプ入出力制御回路26とを含む。
図16において、ライン21は、半導体基板をも示して
いる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0012
【補正方法】変更
【補正内容】
【0012】動作において、/CAS before /RAS
のタイミングにてロウアドレスストローブ信号/RAS
が立下がった時点でCBR判定回路12からリングオシ
レータ回路13およびカウンタ14に信号が伝達され、
部周期信号REFSの発振とそのカウントが始まる。
そして、カウンタ14でn個の内部周期がカウントされ
たときカウンタにより制御信号BBUが出力される。し
たがって、制御信号BBUは、リングオシレータ回路の
発振周期のn倍の周期で出力されることとなる。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0018
【補正方法】変更
【補正内容】
【0018】また、前述したようにセルフリフレッシュ
動作の終了後に内部/RAS信号が再度“”レベルに
なるまで基板電位VBBを発生することができないとい
う問題があった。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0029
【補正方法】変更
【補正内容】
【0029】第1の周期信号発生回路30aは、行アド
レスストローブ/RASおよび列アドレスストローブ信
号/CASを受けるように接続され、/AS before
ASとなり、行アドレスストローブ信号RASが1
00μsec以上“L”レベルを維持したとき、バッテ
リバックアップ制御を行なうための制御信号BBU1を
発生するとともに、リフレッシュ周期信号REFS1を
発生する。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】リフレッシュ周期信号REFS1の循環周
期は、メモリセルに保持されたデータ信号が消失されな
い範囲でできるだけ長い時間長さ(たとえば128μs
ec)に設定されフレッシュ周期信号REFS2の循
環周期は、通常動作モードと実質的に同じ周期(たとえ
ば200nsec)に設定される。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】次に、図3を参照して図1および図2に示
したセルフリフレッシュ回路30の動作を説明する。ま
ず、CBR判定回路12は、/CAS before /RAS
およびロウアドレスストローブ信号/RASが100μ
sec以上“L”レベルであることを検出して、CBR
信号を発生し、これをリングオシレータ回路13に与え
る。リングオシレータ回路13は、CBR信号に応答し
て、内部信号φS1を発生し、カウンタ14に与える。
この内部信号φS1は、バッテリバックアップ動作にお
けるセルフリフレッシュ周期信号REFS1の周期に対
応する。カウンタ14は、内部信号φS1の周期を整数
回nカウントし、バッテリバックアップ動作を行なうた
めの制御信号BBU1を発生するとともに、リングオシ
レータ回路13により発生される内部信号φS1のn倍
の周期をリフレッシュ周期信号REFS1としてクロッ
ク信号発生回路29に与える。このようにして、長い周
期信号によるバッテリバックアップのためのリフレッシ
ュ動作を行なうことができる。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0042
【補正方法】変更
【補正内容】
【0042】動作において、CBR信号,/CBR信号
がそれぞれ“H”,“L”レベルとなった場合には、N
MOSトランジスタ14a、14gおよび14hのゲー
ト電極には“H”レベルの信号が与えられる。一方、N
MOSトランジスタ14b、14f、14eのゲート電
極には“L”レベルの信号が与えられる。そして、ノー
ドと信号S1とがともに“H”レベルのとき、ノー
ドはNMOSトランジスタ14k、14iおよび14
gにより接地ノードに接続され、“L”レベルに引抜か
れる。一方、ノードと信号/S1がともに“H”レベ
ルのとき、ノードはNMOSトランジスタ14l、1
4jおよび14kにより接地ノードに接続され、“L”
レベルに引抜かれる。この“H”レベルを“L”レベル
に引抜く力は図8中のインバータ14mおよび14nに
より構成されるラッチ回路よりも強く設計されているの
で、ノードが“L”レベルになるとき、ノードも
“H”レベルに、ノードが“L”レベルになるとき、
ノードを“H”レベルにする。初段のカウンタはノー
ドおよびが“L”レベルのときには、リングオシレ
ータの出力/S1が“H”となってもラッチした信号を
反転させないので、カウンタの出力TNおよびITN
は、入力信号S1,/S1の2倍の周期となる。
【手続補正8】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 揮発性のメモリセルをアレイ状に配置し
    たメモリセルアレイを含み、メモリセルに保持したデー
    タを内部で発生した周期信号によりリフレッシュするセ
    ルフリフレッシュ機能を備えた半導体記憶装置であっ
    て、 半導体記憶装置の記憶状態を制御するための状態制御信
    号の論理状態に基づいて、バッテリバックアップ動作の
    開始命令およびバッテリバックアップ動作の停止命令を
    検出する検出手段、 前記検出されたバッテリバックアップ動作の開始命令に
    応答して、前記メモリセルのデータを保持するための第
    1の周期信号を発生する第1の周期信号発生手段、 前記検出されたバックアップ動作の停止命令に応答し
    て、前記第1の周期信号よりも短い周期の第2の周期信
    号を発生する第2の周期信号発生手段、 前記発生された第2の周期信号の周期をカウントし、こ
    の第2の周期信号の周期がすべてのメモリセルをリフレ
    ッシュする回数に達したとき、セルフリフレッシュ動作
    を停止するセルフリフレッシュ動作停止手段を含むこと
    を特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記状態制御信号は、行アドレスストロ
    ーブ信号および列アドレスストローブ信号を含み、前記
    バッテリバックアップ動作の開始命令は、前記列アドレ
    スストローブ信号が前記行アドレスストローブ信号より
    も先に立下がる状態であり、前記バッテリバックアップ
    動作の停止命令は、一度立下がった行アドレスストロー
    ブ信号および列アドレスストローブ信号が立上がる状態
    である、前記請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記第2の周期信号の周期は、通常動作
    モードにおけるリフレッシュ周期と実質的に同じ周期で
    ある、前記請求項1記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 揮発性のメモリセルをアレイ状に配置し
    たメモリセルアレイを含み、メモリセルに保持したデー
    タを内部で発生した周期信号によりリフレッシュするセ
    ルフリフレッシュ機能を備えた半導体記憶装置であっ
    て、 半導体記憶装置の記憶状態を制御するための状態制御信
    号の論理状態に基づいてバッテリバックアップ動作の開
    始命令およびバッテリバックアップ動作の停止命令を検
    出する検出手段、 前記検出されたバッテリバックアップ動作の開始命令を
    通して、前記メモリセルのデータを保持するための第1
    の周期信号を発生する第1の周期信号発生手段、 前記検出されたバッテリバックアップ動作の停止命令に
    応答して、前記第1の周期信号よりも短い周期の第2の
    周期信号を発生する第2の周期信号発生手段、 前記発生された第2の周期信号の周期をカウントし、第
    2の周期信号の周期がすべてのメモリセルをリフレッシ
    ュする回数に達したとき、セルフリフレッシュ動作を停
    止しかつセルフリフレッシュ終了信号を発生するリフレ
    ッシュ動作停止手段、 前記発生されたセルフリフレッシュの終了信号の論理状
    態と前記メモリセルアレイから出力されるデータの論理
    状態に基づいてセルフリフレッシュ動作の完了を検出
    し、この検出した信号を前記半導体記憶装置の外部に出
    力する出力手段を含むことを特徴とする半導体記憶装
    置。
  5. 【請求項5】 前記請求項1または請求項4記載の半導
    体記憶装置において、前記検出手段による検出されたバ
    ッテリバックアップの開始命令に応答して、バッテリバ
    ックアップに関与しない回路を非活性化し、前記検出手
    段により検出されたバッテリバックアップ動作の停止命
    令に応答して前記非活性化した回路を活性状態にするた
    めの活性状態制御手段を含むことを特徴とする半導体記
    憶装置。
  6. 【請求項6】 前記バッテリバックアップに関与しない
    回路は、少なくとも基板電位発生回路を含む、前記請求
    項5記載の半導体記憶装置。
JP5044106A 1993-03-04 1993-03-04 半導体記憶装置 Withdrawn JPH06259959A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016122839A (ja) * 2013-03-25 2016-07-07 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016122839A (ja) * 2013-03-25 2016-07-07 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置

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