JPH06265309A - 不連続構造体の計測装置 - Google Patents

不連続構造体の計測装置

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JPH06265309A
JPH06265309A JP5055658A JP5565893A JPH06265309A JP H06265309 A JPH06265309 A JP H06265309A JP 5055658 A JP5055658 A JP 5055658A JP 5565893 A JP5565893 A JP 5565893A JP H06265309 A JPH06265309 A JP H06265309A
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light
displacement
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進路 馬殿
Yasuhiko Matsunaga
泰彦 松永
Tamotsu Umetani
保 梅谷
Toshifumi Kimura
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 測定対象の不連続構造体の間隔や寸法が小さ
くなっても、その不連続構造体の変位,寸法,間隔など
の空間情報を正確に求めることができるようにすること
を目的とする。 【構成】 光量検出部2cで検出し2値化処理した光量
信号Icにより、各端子1a〜1fの弁別や位置認識を
行い、これを信号処理部4で処理して端子位置Pi,端
子幅Wi,端子間距離Diを算出する。そして、算出し
た各端子1a〜1fの端子位置Piに対応する変位信号
Hcの信号値を求めることにより、各端子1a〜1fの
変位量Hiを求める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、測定表面が不連続な
構造体を対象に、レーザ変位計の走査計測から各要素
幅、要素位置、要素変位、要素座標位置などを不連続面
に関する空間情報を求める不連続構造体の計測装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】LSIパッケージの端子高さが不均一で
あったり、実装するプリント基板のパッドの高さが不均
一であったりすると、はんだ付け不良が発生し、信頼性
の低いものとなってしまう。これらを検査するために
は、レーザ光を用いた計測技術が用いられている。測定
対象の不連続構造体の表面変位や表面形状の測定の計測
を行うこの計測技術には、レーザ光を非測定対象に照射
したときの反射光を利用するレーザ変位計測技術と、透
過光を利用するものとがある。例えば、LSIパッケー
ジの端子の端子浮きの検査や、このLSIパッケージを
実装するプリント基板のパッド部の高さ不均一の検査な
どに、照射したレーザ光の反射を利用するレーザ変位計
測計が用いられている。
【0003】図12は、この従来のレーザ変位計の基本
構成を示す構成図である。同図において、121はレー
ザを発振するレーザ発生手段、122は測定対象の測定
面、123は測定面122で反射したレーザ光を集光す
るレンズ、124はレンズ122で集光した反射光を検
出する検出器、125は検出器124が出力する信号を
処理して測定面122の変位を算出する位置算出手段で
ある。
【0004】レーザ発生手段121から出射されたスポ
ット光となっているレーザ光は、スポット径が最小とな
るように絞られた状態で測定面122に照射される。測
定面122で反射する光は、正反射方向を中心に散乱す
るので、その一部をレンズ123で受けて測定面122
上の反射点の明るい光点の像を検出器124の受光面上
に投影する。検出器124は、入射した光がその受光面
のどの位置に受光されているかを電気信号として位置算
出手段125に出力する。従って、測定面122が変位
するとレンズ123から見た測定面122上の反射点が
移動するように観測され、検出器124の出力信号が変
化し、位置算出手段手段125により測定面122の変
位に比例した信号出力が得られる。
【0005】このレーザ変位計を用いれば、例えば、L
SIパッケージの端子の変位,端子間隔,端子幅,端子
のピッチが測定できる。図13は、レーザ変位計を用い
てLSIパッケージの端子状態の計測状態を示す断面図
と、計測により得られる信号を示す波形図である。図1
3(a)において、131は直線走査するレーザ変位
計、132a〜132eはLSIパッケージの端子であ
り、端子132dは端子浮きしているものである。レー
ザ変位計131は端子132a〜132e上を直線走査
し、これにより図13(b)に示すような信号133が
得られる。
【0006】この信号133を、基準信号134を用い
たしきい値処理をすることなどにより、各端子132a
〜132eの変位,端子間隔,各端子132a〜132
eの幅,端子のピッチが測定できる。ここで、これらの
計測値を精度良く求めるには、端子132a〜132e
の幅が用いるレーザ光のビーム径より大きく、かつ、平
坦で光学的な反射率が均一であることが望ましい。
【0007】一方、レーザ光を照射したときの透過光を
利用してLSIのパッケージの端子の幅などを測定する
場合、図14に示すような計測装置を用いる。図14
(a)は、レーザ光を照射したときの透過光を利用する
端子幅測定の一例を示す断面構成図である。同図におい
て、141は測定対象のパッケージの端子、142は照
射するレーザ光、143は入射する光量(透過光強度)
を検出する光量検出部である。照射するレーザ光142
を直線走査することにより、端子141がそのレーザ光
141を遮ることにより、光量検出部143が検出する
透過光強度は、図14(b)に示すように変化する。こ
の透過光強度の変化点により、端子141の幅などが測
定できる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来は、以上のように
構成されていたので、以下に示すような問題があった。
まず、反射を利用するレーザ変位計の場合、測定対象の
不連続構造体、例えばLSIパッケージの端子が、より
細くなりよりピッチが小さくなってきているので、照射
するレーザ光のスポット径を小さくしなくてはならな
い。このため、レーザ変位計と測定対象物との距離の誤
差が大きいと、測定ができない状態となってくる。
【0009】すなわち、測定対象のパッケージの設置状
態によっては、レーザ変位計との距離がパッケージ毎に
変わったり、パッケージが傾いた状態となる。距離が変
われば得られる信号の平均レベルが変化して基準レベル
が一定せず、パッケージの端子それぞれを識別するのが
困難になる。また、測定対象のパッケージが傾いた状態
で計測すると、得られる信号の基準ラインも傾き、簡単
なしきい値処理では変位量やピッチなどのデータを算出
することができない。
【0010】レーザ変位計では、照射するレーザ光の焦
点位置、すなわちレーザ光のスポット径が最小の位置か
ら前後に、ある範囲内が測定可能な領域として存在す
る。図15(a)に示すように、測定対象の端子151
が、レーザ光152のこの測定可能な領域を外れた場
合、測定対象のパッケージが傾いたりせず各端子が横一
列に均一に並んでいる場合でも、図16(a)に示すよ
うに、得られる変位信号Hcは不規則なものとなる。得
られる変位信号Hcが図16(b)に示すような状態な
ら、所定のしきい値により2値化信号として処理するこ
とができる。また、パッケージの端子が小さくなり各ピ
ッチが小さくなると、図15(b)に示すように、端子
浮きしている端子151などからの散乱光152が検出
器に入りやすく、ノイズの原因となっていた。
【0011】一方、透過光を利用する場合、照射するレ
ーザ光の空間的な広がりが有限であるため、検出する信
号強度の立ち上がりに傾きが存在していた。この傾き
は、測定対象の各端子の位置の検出を不明瞭にし、端子
の幅,端子間距離が微細化するにつれこの現象はより顕
著になっていく。
【0012】この発明は、以上のような問題点を解消す
るためになされたものであり、測定対象の不連続構造体
の間隔や寸法が小さくなっても、その不連続構造体の変
位,寸法,間隔などの空間情報を正確に求めることがで
きるようにすることを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】この発明の不連続構造体
の計測装置は、測定対象の被測定体にスポット状とした
レーザ光を出射するレーザ発生手段と、被測定体に照射
されたレーザ光の反射光を受光し、その受光位置に対応
した信号を出力する位置有感検出手段と、被測定体に照
射されたレーザ光の反射光を受光し、その光量に応じた
光量信号を出力する光量検出手段と、位置有感検出手段
の出力する信号により被測定体の変位に比例した変位信
号を出力する変位算出手段とから構成される変位計測部
と、変位計測部を直線的に移動させ変位計測部の位置に
対応した座標信号を出力する移動手段と、変位信号と座
標信号と光量信号とにより被測定体の変位,幅,位置,
間隔を算出する信号処理手段とを有することをを特徴と
する。
【0014】また、この発明の不連続構造体の計測装置
は、測定対象の被測定体に照射されたレーザ光の透過光
を検出することにより被測定体の空間情報を得る不連続
構造体の計測装置において、測定対象の被測定体にスポ
ット状としたレーザ光を出射するレーザ発生手段と、被
測定体に照射されたレーザ光の透過光の高次光を受光し
てその光量に応じた光量信号を出力する光検出手段と、
被測定体に照射されたレーザ光の透過光の0次光を受光
して被測定体のエッジ位置に対応したピークを有するエ
ッジ信号を出力するエッジ検出手段とを有することを特
徴とする。
【0015】
【作用】得られる光量信号により、被測定体の幅,位
置,間隔を求め、これを基に変位信号を用いて被測定体
の変位を算出する。
【0016】
【実施例】以下この発明の1実施例を図を参照して説明
する。 実施例1.図1(a)は、この発明の1実施例である不
連続構造体の計測装置の構成を示す構成図である。同図
において、1a〜1fは測定対象であるLSIパッケー
ジの端子、2はレーザ変位計測部、3はレーザ変位計測
部2を搭載して直線移動させる移動テーブル、4はレー
ザ変位継続部2が出力する変位信号Hc,光量信号Ic
および移動テーブル3が出力する座標信号Xcを得て、
これらを処理して端子幅Wi,端子位置Pi,端子変位
量Hi,端子間距離Diを算出する信号処理部である。
【0017】レーザ変位計測部2は、レーザ発生部2
a、位置有感検出部2b,光量検出部2c,信号処理部
2dから構成され、レーザ発生部2aから照射されたレ
ーザ光は端子1a〜1fで反射して、一部が光量検出部
2cに取り込まれて光量信号Icとして出力される。端
子1a〜1fを反射した光の他の一部は位置有感検出部
2bに取り込まれ、取り込まれた光が位置有感検出部2
bの受光面の何処で受光したかに対応した信号が出力さ
れる。この信号は、信号処理部2dで処理されて変位信
号Hcとして出力される。
【0018】信号処理部4は、予め設定されているしき
い値Vにより入力した光量信号Icを、図17に示すよ
うに2値化する2値化処理部4aと、この2値化信号を
位置認識信号(端子位置Pi)として用い、変位信号H
cより端子変位量Hiを抽出して各端子1a〜1fの変
位量を時系列の信号として出力する変位算出部4bと、
2値化信号を位置認識信号として用いて座標信号Xcよ
り端子幅Wi,端子間距離Diを算出して各端子1a〜
1fの幅や、それらの間の距離を時系列の信号として出
力する距離算出部4cとから構成されている。
【0019】図1(b)は、この実施例1の不連続構造
体の計測装置で得られる各信号の状態を示す波形図であ
る。端子1a〜1fを反射した光の光量は等しいので、
得られる光量信号Icは高さの揃った信号となり、2値
化処理が容易である。図1(b)に示すように、この2
値化処理した光量信号Icにより、各端子1a〜1fの
弁別や位置認識を行い、これにより端子位置Pi,端子
幅Wi,端子間距離Diが算出できる。そして、算出し
た各端子1a〜1fの端子位置Pi(座標位置)に対応
する変位信号Hcの信号値を求めることにより、図16
(a)に示すような状態の変位信号Hcでも、各端子1
a〜1fの変位量Hiが求められる。
【0020】実施例2.図2は、この発明の第2の実施
例である不連続構造体の計測装置の構成を示す構成図で
ある。同図において、5は移動テーブル3からの座標信
号Xcを受けて、単位座標毎にトリガ信号Tをレーザ変
位計側部2に出力するトリガ発振部であり、他は図1と
同様である。移動テーブル3の移動特性は厳密には一定
でなく変動しているので、レーザ変位計側部2が等周期
で検出してそのまま出力した変位信号Hc,光量信号I
cの有する座標値は等間隔ではない。しかし、この実施
例では、レーザ変位計側部2が、移動テーブル2が移動
したときの単位座標毎に出力されるトリガ信号により検
出する周期を制御するので、出力する変位信号Hc,光
量信号Icは歪の少ないものとなる。
【0021】実施例3.図3は、この発明の第3の実施
例である不連続構造体の計測装置の構成を示す構成図で
ある。同図において、34はこの実施例2の不連続構造
体の計測装置における信号処理部であり、図1に示す信
号処理部4とは異なり、距離算出部4cの出力信号を補
正する補正部34dを有し、他は図1と同様である。補
正部34dは、距離算出部4cの出力する各端子1a〜
1fの幅やそれらの間の距離の時系列の信号を、予め設
定されている参照テーブルを用い、加えて変位信号Hc
を参照して補正する。
【0022】ここで、前述したように、端子位置や端子
幅を定量化するのに、光量信号Icは好適である。図4
は、LSIパッケージの端子について、得られる変位信
号Hcと光量信号Icとを重ね合わせたものであるが、
端子幅Wiに関しては光量信号Icの方が変位信号Hc
より実寸値に近い値を示している。変位信号Hcが端子
幅計測には不適であるのは、この変位信号Hcを求める
ための変位量算出式に起因している。しかし、光量信号
Icを用いて端子幅Wiや端子間距離Diを求めるよう
にしても、以下に示すように、計測のより高精度化に対
しては阻害要素がある。
【0023】照射するレーザ光の焦点位置、すなわちス
ポット径が最小の位置より測定対象の端子がずれている
場合、計測される端子幅Wiは異なったものとなる。図
5に示すように、計測距離がレーザ光51の焦点位置に
ある端子52aの計測結果と、計測距離が焦点位置より
手前にある端子52bや先にある端子52cの測定結果
とは異なるものとなる。図6に示すように、計測される
端子幅Wiは、端子位置が照射するレーザ光の焦点位置
にある場合に最小値となり、そこからずれると、実際の
幅より大きく計測される。これは、予め実験により求め
ることができるので、これを参照テーブルとして補正部
24d(図3)に設定しておき、距離算出部4cより得
られるデータを補正するようにすればよい。このことに
より、端子浮きなどが発生している場合など、測定対象
との距離が異なっても、正確な幅やピッチの測定が可能
となる。
【0024】実施例4.光量信号Icなどの信号は、元
々ベースラインが変動する性質がある。従って、このま
ま用いると、被測定対象の正確な座標位置が得られな
い。ここで、図7に示すように、初期位相の異なるが同
一の周期のパルスからなる基準信号RFcと光量信号I
cとにより、以下に示す式(1)を用いて、光量信号I
cの位相φOPT とピッチDOPT とを算出すれば、正確な
座標位置が得られる。
【0025】 M(φi,di)=∫{Ic(n)×RFc(n,φi,di)}δn ∴{M(φi,di)|MAX}・・・(1) ここで、diは基準信号RFcのパルスのピッチ(周
期),φiは基準信RFc号の初期位相値である。
【0026】図8は、この実施例4における不連続構造
体の計測装置の構成を示す構成図である。同図におい
て、81は基準信号RFcが設定されている参照テーブ
ル、82は参照テーブル81に設定されている基準信号
RFcと光量信号Icとにより測定対象の端子などの座
標位置を算出するテンプレートマッチング部である。テ
ンプレートマッチング部82は、基準信号RFcの極性
に応じて光量信号Icとの加減算とその結果を逐次積算
していく加減累積手段821〜82nと、加減累積手段
821〜82nが算出した結果の最大値を検出する最大
値検出手段82aとから構成されている。
【0027】参照テーブル81には、図7に示すような
基準信号RFcが設定されており、加減累積手段821
〜82nがこれらの基準信号RFcと光量信号Icとに
よりそれぞれ同時に処理を行い、その結果の最大値が最
大値検出手段82aにより検出され、これが光量信号I
cの位相φOPT の初期値となる。図9は、ピッチdiを
226〜280μmまで6μmステップで変化させたと
きの、参照信号RFcと光量信号Icとの相関強さと、
位相φOPT の初期値の関係を示す。同図より、DOPT
250μmのときφOPT =190μmとなることを示し
ている。なお、この処理は変位信号Hcに対して用いて
も良い。
【0028】実施例5.ところで、レーザ光を照射する
ことにより得られる被計測対象からの反射光による光強
度分布は、空間的にガウス型の左右対称なものであれ
ば、位置有感検出部2b(図1)が得られる反射光強度
は常に一定で、その時の分布の中の最大値を得ることが
できる。しかし、LSIパッケージの端子など、被計測
対象が不連続構造体であり、端子幅,端子間隔が微細化
してくると、一部の端子浮きなどにより多重散乱光が発
生し、位置有感検出部2bの受光強度分布が複雑とな
る。ここで、この位置有感検出部2bの代わりにCCD
イメージセンサを用いることにより、入射した反射光の
強度分布を認識してこの中の最大値を光量信号Ic出力
に用いれば、光量信号Icは常に一定なものとなる。
【0029】この実施例5の場合、図10に示すよう
に、光量信号Icを出力するためにCCDラインセンサ
102を用い、これを走査方向に対して直交する状態に
設置して用いる。なお、CCDラインセンサ102は走
査方向に対して直交方向に設置する必要はなく、レンズ
などを用いて反射光の光路を調節すれば、どのような配
置にしても良い。
【0030】実施例6.図11は、この発明の第6の実
施例である、被測定対象に照射したレーザ光の透過光を
用いて、LSIパッケージの端子幅や端子間隔などを測
定する不連続構造体の計測装置の構成を示す構成図であ
る。図11(a)において、111は測定対象の端子、
112は照射するレーザ光,113は透過してくるレー
ザ光112の高次光を検出する光検出部、114は光検
出部113上に配置され、光検出部113より小さいエ
ッジ検出部である。エッジ検出部114は、図11
(b)に示すように、端子111部分を透過してくるレ
ーザ光の0次光を検出してエッジ信号115を出力し、
光検出部113は透過してくるレーザ光112の内、高
次光を検出して透過光強度信号116を出力する。
【0031】従来では、図14に示すように、一つの光
検出部143により、透過光強度のみを測定していたの
で、レーザ光142の空間的な広がりが有限であるため
に、端子141の存在により得られる透過光強度144
の立ち上がりに傾きがあり、このため正確な計測ができ
なかった。しかし、この実施例6では、エッジ検出部1
14を追加したことにより、エッジ信号115と透過光
強度信号116とが得られ、これらにより端子111の
幅,間隔や位置などを正確に計測することが可能とな
る。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、測定対象の不連続構造体の間隔や寸法が小さくなっ
ても、その不連続構造体の変位,寸法,間隔などの空間
情報を正確に求めることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の1実施例である不連続構造体の計測
装置の構成を示す構成図と、得られる各信号の状態を示
す波形図である。
【図2】この発明の第2の実施例である不連続構造体の
計測装置の構成を示す構成図である。
【図3】この発明の第3の実施例である不連続構造体の
計測装置の構成を示す構成図である。
【図4】変位信号Hcと光量信号Icとを重ね合わせた
状態を示す波形図である。
【図5】レーザ光の焦点位置と端子の計測距離との位置
関係を示す断面構成図である。
【図6】計測距離と計測結果の相関を示す相関図であ
る。
【図7】初期位相の異なる基準信号とパルス幅が異なる
基準信号とを示す波形図である。
【図8】この発明の実施例4における不連続構造体の計
測装置の構成を示す構成図である。
【図9】ピッチdiを226〜280μmまで6μmス
テップで変化させたときの、参照信号RFcと光量信号
Icとの相関強さと、位相φOPT の初期値の関係を示す
波形図である。
【図10】この発明の実施例5における不連続構造体の
計測装置の構成を示す構成図である。
【図11】この発明の実施例6における不連続構造体の
計測装置の構成を示す構成図である。
【図12】従来のレーザ変位計の基本構成を示す構成図
である。
【図13】図12のレーザ変位計を用いてLSIパッケ
ージの端子状態の計測状態を示す断面図と、得られる信
号を示す波形図である。
【図14】レーザ光を照射したときの透過光を利用する
端子幅測定の一例を示す断面構成図である。
【図15】レーザ光と端子との位置関係を示す断面図で
ある。
【図16】従来のレーザ変位計により得られる信号の波
形を示す波形図である。
【図17】得られる光量信号の2値化の状態を示す波形
図である。
【符号の説明】
1a〜1f 端子 2 レーザ変位計測部 2a レーザ発生部 2b 位置有感検出部 2c 光量検出部 2d 信号処理部 3 移動テーブル 4 信号処理部 4a 2値化処理部 4b 変位算出部 4c 距離算出部 Di 端子間距離 Hc 変位信号 Hi 端子変位量H Ic 光量信号 Pi 端子位置 Wi 端子幅 Xc 座標信号
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年9月30日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】レーザ変位計では、照射するレーザ光の焦
点位置、すなわちレーザ光のスポット径が最小の位置か
ら前後に、ある範囲内が測定可能な領域として存在す
る。図15(a)に示すように、測定対象の端子151
が、レーザ光152のこの測定可能な領域を外れた場
合、測定対象のパッケージが傾いたりせず各端子が横一
列に均一に並んでいる場合でも、図16(a)に示すよ
うに、得られる変位信号Hcは不規則なものとなる。得
られる変位信号Hcが図16(b)に示すような状態な
ら、所定のしきい値により2値化信号として処理するこ
とができる。また、パッケージの端子が小さくなり各ピ
ッチが小さくなると、図15(b)に示すように、端子
浮きしている端子151などからの散乱光152
検出器に入りやすく、ノイズの原因となっていた。
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図14
【補正方法】変更
【補正内容】
【図14】
【手続補正4】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図15
【補正方法】変更
【補正内容】
【図15】 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年12月15日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】レーザ変位計では、照射するレーザ光の焦
点位置、すなわちレーザ光のスポット径が最小の位置か
ら前後に、ある範囲内が測定可能な領域として存在す
る。図15(a)に示すように、測定対象の端子151
が、レーザ光152のこの測定可能な領域内にあって
も、焦点位置から離れている場合、測定対象のパッケー
ジが傾いたりせず各端子が横一列に均一に並んだ状態
も、図16(a)に示すように、得られる変位信号Hc
は不規則なものとなる。得られる変位信号Hcが図16
(b)に示すような状態なら、所定のしきい値により2
値化信号として処理することができる。また、パッケー
ジの端子が小さくなり各ピッチが小さくなると、図15
(b)に示すように、端子浮きしている端子151aな
どからの散乱光152aが検出器に入りやすく、ノイズ
の原因となっていた。
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図4
【補正方法】変更
【補正内容】
【図4】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 敏文 兵庫県尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三 菱電機株式会社生産技術研究所内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定対象の被測定体にスポット状とした
    レーザ光を出射するレーザ発生手段と、前記被測定体に
    照射されたレーザ光の反射光を受光し、その受光位置に
    対応した信号を出力する位置有感検出手段と、前記被測
    定体に照射されたレーザ光の反射光を受光し、その光量
    に応じた光量信号を出力する光量検出手段と、前記位置
    有感検出手段の出力する信号により前記被測定体の変位
    に比例した変位信号を出力する変位算出手段とから構成
    される変位計測部と、 前記変位計測部を直線的に移動させ前記変位計測部の位
    置に対応した座標信号を出力する移動手段と、 前記変位信号と座標信号と光量信号とにより前記被測定
    体の変位,幅,位置,間隔を算出する信号処理手段とを
    有することを特徴とする不連続構造体の計測装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の不連続構造体の計測装置に
    おいて、 前記光量検出手段が複数の光検出部を配列した光検出素
    子であることを特徴とする不連続構造体の計測装置。
  3. 【請求項3】 測定対象の被測定体に照射されたレーザ
    光の透過光を検出することにより前記被測定体の空間情
    報を得る不連続構造体の計測装置において、 測定対象の被測定体にスポット状としたレーザ光を出射
    するレーザ発生手段と、 前記被測定体に照射されたレーザ光の透過光の高次光を
    受光してその光量に応じた光量信号を出力する光検出手
    段と、 前記被測定体に照射されたレーザ光の透過光の0次光を
    受光して前記被測定体のエッジ位置に対応したピークを
    有するエッジ信号を出力するエッジ検出手段とを有する
    ことを特徴とする不連続構造体の計測装置。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の不連続構造体の計測装置
    において、 前記座標信号が前記変位計測部の単位座標を基にしてい
    ることを特徴とする不連続構造体の計測装置。
  5. 【請求項5】 請求項1記載の不連続構造体の計測装置
    において、 前記信号処理手段が、 前記光量信号を2値化して2値化光量信号を出力する2
    値化手段と、 前記2値化光量信号と前記変位信号とにより前記被測定
    体の変位を算出する変位算出手段とを有することを特徴
    とする不連続構造体の計測装置。
  6. 【請求項6】 請求項1記載の不連続構造体の計測装置
    において、 前記信号処理装置が、 前記光量信号を2値化して2値化光量信号を出力する2
    値化手段と、 前記2値化光量信号と前記座標信号とにより前記被測定
    体の幅,位置,間隔を算出する寸法算出手段とを有する
    ことを特徴とする不連続構造体の計測装置。
  7. 【請求項7】 請求項1記載の不連続構造体の計測装置
    において、 前記信号処理手段が、 前記光量信号を2値化して2値化光量信号を出力する2
    値化手段と、 前記2値化光量信号と前記座標信号とにより前記被測定
    体の幅,位置,間隔を算出する寸法算出手段と、 前記被測定体の計測位置と計測される幅,位置,間隔と
    の相関関係が設定され前記変位信号を参照して前記寸法
    算出手段が算出した値を補正する補正手段とを有するこ
    とを特徴とする不連続構造体の計測装置。
  8. 【請求項8】 請求項1記載の不連続構造体の計測装置
    において、 前記信号処理手段が、 初期位相の異なる複数の基準信号が設定されている参照
    テーブルと、 入力された信号との加減累算結果の最大値を与える前記
    基準信号を用いることによる前処理を行うテンプレート
    マッチング手段とを有することを特徴とする不連続構造
    体の計測装置。
  9. 【請求項9】 請求項1記載の不連続構造体の計測装置
    において、 前記信号処理手段が、 初期位相の異なる第1の基準信号と基準周期が異なる第
    2の基準信号とが複数設定されている参照テーブルと、 入力された信号との加減累算結果の最大値を与える前記
    第1,第2の基準信号を用いることによる前処理を行う
    テンプレートマッチング手段とを有することを特徴とす
    る不連続構造体の計測装置。
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