JPH062700U - 半導体ウエハ用バスケット - Google Patents

半導体ウエハ用バスケット

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JPH062700U
JPH062700U JP4440492U JP4440492U JPH062700U JP H062700 U JPH062700 U JP H062700U JP 4440492 U JP4440492 U JP 4440492U JP 4440492 U JP4440492 U JP 4440492U JP H062700 U JPH062700 U JP H062700U
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JP
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wafer
side walls
ribs
pedestal portion
basket
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武美 柿崎
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株式会社柿崎製作所
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 強度と処理液の流動性を向上させ、特に大径
で重量および厚みのある半導体ウエハにも対応し得る半
導体ウエハ用バスケツトである。 【構成】 内面にウエハWの挿入溝41,42を形成す
る多数のリブ39,40を設けた両側壁31,32と、
両側壁31,32間を連結する各支持板33,34と、
両側壁31,32の下方に位置する脚台部37,38と
で上下が開口する箱形に形成され、両側壁31,32は
下部側が内側へ傾斜状に延在されて各リブ39,40が
終端する下端部にはウエハWの下方縁部を担持する第1
の受台部35A,36Aが形成され、その斜め下方の延
長線上には傾斜状をした第2の受台部35B,36Bが
脚台部37,38の上面に形成され、第2の受台部35
B,36Bには担持したウエハWを隔置させる間隔保持
部材47,48がリブ39,40と整合するピッチで突
設され、第1の受台部35A,36Aと第2の受台部3
5B,36B間には幅広な開放窓孔45,46が穿設さ
れている。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、多数の半導体ウエハを所定ピッチ毎に並列状に整列して収納させ、 洗浄やエッチングおよび乾燥等の処理を行う半導体ウエハ用バスケツトに関し、 特に大径の半導体ウエハに適する半導体ウエハ用バスケツトに関する。
【0002】
【従来の技術】
この種の半導体ウエハ用バスケツトとしては、例えば本件出願人が先に提案し た実公平2−25233号に開示されているものがある。 このバスケツトAは、図5乃至図7で示すように全体が弗素樹脂材で一体成型 され、長手方向に沿って平行する両側壁1,3の両端部間を短手方向に沿う支持 板13,14で各々連結すると共に、当該両側壁1,3の下方にはウエハWを担 持する台部5,6が内側へ対向状に各々突設され、上下が開口された箱形に形成 されている。 上記両側壁1,3の内面には、ウエハWが挿入される縦方向へ延在する多数の リブ2,4が当該両側壁1,3の長手方向へ所定ピッチ毎に並列状に設けられ、 これらリブ2,4の間には両側壁1,3の内外を連通させる縦長のスリット7, 8が穿設されている。 また、上記台部5,6の傾斜上面5a,6aにも上記リブ2,4に連続して内 向き傾斜状に延在するリブ9,10が突設され、これらリブ9,10の間にも両 側壁1,3の内外を連通させる縦長のスリット11,12が各々穿設され、上記 スリット7とスリット11またスリット8とスリット12はウエハWの挿入方向 に沿って各々上下に整合状態で配設されている。
【0003】 上記のバスケツトAにウエハWを収納する際には、ウエハWをリブ2,4の間 に挿入させると、落下しながらこれに連続するリブ9,10の間に達した当該ウ エハWの下方縁部が上記台部5,6の傾斜上面5a,6aに担持される。 このようにしてバスケツトA内へ収納された多数のウエハWは、上記リブ2, 4およびリブ9,10によって間隔が保持され、整列状態で隔置されると共に、 上記スリット7,8およびスリット11,12によって処理液の流通や液切れが 良くなって均一で良好な処理を行うことができる。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
ところが、この種の半導体ウエハは近年の著しい技術革新によって大径のもの の製造が可能になり、また出来るだけ大径の半導体ウエハを造ってこれからチッ プを切り出すようにしたほうが生産効率が高く経済的である等の理由から次第に 大径化し、最近では直径8インチのものも規格化されている。 この大径化に伴って半導体ウエハは重量が増し、割れや変形を防止するために 厚みも増してくるので、これに適合するようにバスケツトの形状も大きくしなけ ればならないことは勿論であるが、それだけに止どまらずバスケツトは今迄以上 に均一で良好な処理が可能なものを要求されるので、上記した従来構造のバスケ ツトを単に形状だけ大きくしただけでは十分に対応できなくなる。
【0005】 例えば、大径ウエハを上記した従来構造のバスケットAに収納した場合に、ウ エハWの下方縁部を担持する台部5,6の傾斜上面5a,6aはウエハ重量の増 加によって今迄以上に大きな落下時の衝撃と荷重を受ける。ところが、この傾斜 上面5a,6aはスリット11,12により中間部が切り欠かれているので受圧 面積が少なく、このために単位面積当たり大きな荷重を受けると共に、特にスリ ット11,12の口縁部はウエハWの縁部によって大きな落下衝撃を受ける。 このために、ウエハWの出し入れを頻繁に繰り返すうちにこれを担持する傾斜 上面5a,6aが凹んだり、スリット11,12の口縁部が損傷したり、ウエハ Wが刺さり込んだりしてウエハWの出し入れが不能となる恐れがあると共に、削 り取られた微細な破片が処理液中に混入してウエハWに付着したり処理液を汚染 させて当該ウエハWの性能を著しく低下させて使用不能にさせる。
【0006】 また従来構造のバスケットAでは、上記スリット7とスリット11またスリッ ト8とスリット12が、各々ウエハWの挿入方向に沿って各々整合状態で上下に 配設されているので、厚いウエハWを隣接する各リブ2,2間と各リブ9,9間 および各リブ4,4間と各リブ10,10間に各々挿入されると、当該ウエハW で全ての各スリット7,8,11,12の一部が今迄以上に内側から閉塞され、 処理液の流動が悪くなってしまうことになる。特に厚みを増加した大径ウエハの 場合には、液切れを良くするため最も重要な下部側の各スリット11,12がそ の厚み増加分だけ塞がれるので、ここに処理液が滞留し易くなって均一で良好な 処理を行う上できわめて好ましくなかった。 しかし、これを防ぐために各リブ間のピッチを大きくして間隔を広げると、ウ エハWの収納枚数が少なくなって処理能力が低下すると共に、各リブ間でウエハ Wが揺動する遊び空間が大きくなって隣接するウエハWが相互に接触して損傷す る恐れもあるので、むやみにピッチを大きくすることはできない。
【0007】 更に、上記した各スリット7,8,11,12のうちで特に台部5,6に穿設 された傾斜状のスリット11,12は、上下方向へ連通されて最後の液切れを行 う極めて重要な個所であり、このスリット11,12が上記のようにウエハWで 閉塞されたり、落下したウエハWの衝撃等でスリット11,12の口縁部が損傷 して滑面が毛羽立つた状態になると、この部分で処理液の澱みを生じて均一な処 理ができなくなる。 そこで本考案では、これらの課題を解決して大径で重量や厚みの増加したウエ ハに適合し得る半導体ウエハ用バスケットの提供を目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記した課題を解決するために本考案の半導体ウエハ用バスケットでは、内面 にウエハの挿入溝を形成する縦方向に延在した多数のリブが長手方向へ所定ピッ チ毎に並列状に設けられた両側壁と、この両側壁の両端部間を各々連結する左右 の支持板と、両側壁の下方に位置して当該両側壁の内側へ対向状に各々突設され た脚台部とで上下が開口する箱形に形成され、上記の各リブを含む両側壁は上部 側がほぼ垂直状で下部側は内側へ傾斜状に延在されると共に、当該各リブが終端 する両側壁の下端部には挿入されたウエハの下方縁部を担持する第1の受台部が 形成され、この第1の受台部の斜め下方には当該受台部の傾斜面の延長線上に沿 った傾斜状をした第2の受台部が上記脚台部の上面に形成され、この第2の受台 部には担持したウエハを隔置させる間隔保持部材が上記リブと整合する所定ピッ チ毎に並列状に突設され、上記した第1の受台部と第2の受台部との間には幅広 な開放窓孔が穿設されている。
【0009】
【実施例】
以下に、本考案を図1乃至図4で図示の実施例に基づいて詳細に説明する。 このバスケツト30は、長手方向に沿って平行する両側壁31,32と、この 両側壁31,32の両端部間を各々連結する左右の支持板33,34と、両側壁 31,32の下方に位置して当該両側壁31,32の内側へ対向状に設けられた 脚台部37,38とで上下が開口する箱形に形成され、全体が弗素樹脂材で一体 成型されている。このバスケツト30には、収納されされたウエハWの下方縁部 を担持するために傾斜状をした受台部が設けられているが、この受台部は上記し た両側壁31,32の下端部に形成された第1の受台部35A,36Aと、上記 した脚台部37,38の上面に形成された第2の受台部35B,36Bとで構成 されている。
【0010】 上記両側壁31,32の内面には、隣接相互間にウエハWの挿入溝41,42 を形成する縦方向へ延在した多数のリブ39,40が当該両側壁31,32の長 手方向へ所定ピッチ毎に並列状に設けられ、この挿入溝41,42の背部にはバ スケツト30の内外を連通させる縦長のスリット41a,42aが穿設されてい る。また、上記両側壁31,32と各リブ39,40は上部側がほぼ垂直状で下 部側は内側へ傾斜状に延在されていると共に、各リブ39,40は互いに対向状 に突設されている。またこれらの各リブ39,40は、中間部において隣接する 相互間が補強リブ43,44によって連結され、当該各リブ39,40は上記し た第1の受台部35A,36Aに終端部分が連結されている。
【0011】 次に、上記した第1の受台部35A,36Aと第2の受台部35B,36Bと の間にはバスケツト30の内外を連通させる幅広な開放窓孔45,46が穿設さ れ、一部は適宜数の補強リブ45a,46aによって連結されている。また、第 2の受台部35B,36Bには担持したウエハWの下方縁部を係止して隔置させ る間隔保持部材としての位置決め突起47,48が設けられている。この位置決 め突起47,48は、上記各リブ39,40の延長線上に整合する態様で所定ピ ッチ毎に並列状に配設されており、当該位置決め突起47,48は円錐台形状で 隣接する位置決め突起の基部側相互間に形成される間隔が、上記各リブ39,4 0の隣接相互間の間隔よりも僅かに狭くなるようにしている。尚、上記した第1 の受台部35A,36Aと第2の受台部35B,36BはウエハWの外周面に適 合する円弧状面に形成されている。
【0012】 上記のバスケツト30にウエハWを収納する際に、ウエハWをリブ39,40 の隣接相互間に形成された挿入溝41,42に挿入させると、ウエハWは上記リ ブ39,40および位置決め突起47,48によって隣接相互間の間隔が保持さ れた整列状態で隔置され、その下方縁部は第1の受台部35A,36Aおよび第 2の受台部35B,36Bの傾斜状をした内面によってそれぞれ担持される。 このように第1の受台部35A,36Aと第2の受台部35B,36Bとによ ってウエハWの下方縁部を2点で担持すると、ウエハWの挿入時に落下衝撃が側 壁31,32側と脚台部37,38側とに分散されるので、大径で重量があるウ エハWであっても落下衝撃による当該ウエハWの破損や損傷およびバスケツト3 0の損傷や変形を軽減させることができる。 また、挿入されたウエハWの下方縁部は点接触状態で2点支持されると共に、 その中間部にはバスケツト30の内外を連通させる幅広な開放窓孔45,46が 穿設されているので、大径で厚みのあるウエハWであっても洗浄液その他の処理 液に対する液切れを良くすることができる。 更に、バスケツト30内の各ウエハWは上部側はリブ39,40により下部側 は位置決め突起47,48によってそれぞれ所定間隔に隔置されるようにしたの で、従来構造のバスケツトに比べてウエハWの挿入が容易で且つ間隔保持を確実 にすることができる。すなわち、リブ39,40と位置決め突起47,48との 隣接相互間が形成する挿通幅は、従来構造の一連のリブの場合のように一定では なく異なった所望幅に設定させることができるので、例えば上記実施例のように リブ39,40側ではウエハWの挿入が容易で且つ挿入されたウエハWによるス リット41,42の閉塞を少なくするために上部側が揺動可能なように挿通幅を 広くし、位置決め突起47,48側では揺動した隣接するウエハW相互が接触し ないように挿通幅を狭くして間隔保持を計ることができる。
【0013】 尚、本考案は上記した実施例に限定されるものではなく、要旨の範囲内におい て各種の変形を採り得るものである。 例えば、上記した位置決め突起47,48の代わりに、リブ39,40とは分 離された短尺のリブを間隔保持部材とするようにしても良い。また、上記した開 放窓孔45,46間の補強リブ45a,46aは省略することができる。更に、 上記した挿入溝41,42の背部にスリット41a,42aを穿設しないで全面 を側壁にして有底の挿入溝によるバスケツト構造とすることもできる。
【0014】
【考案の効果】
上記した実施例でも明らかなように、本考案による半導体ウエハ用バスケット では次のような効果を奏する。 このバスケツトでは、収納されるウエハの下方縁部を第1の受台部と第2の受 台部の傾斜状をした内面によってそれぞれ担持して挿入時の落下衝撃を側壁側と 脚台部側とに分散されるようにしたので、大径で重量のあるウエハであっても落 下衝撃によるウエハの破損や損傷およびバスケツトの損傷や変形を軽減させるこ とができる。 また、挿入されたウエハの下方縁部は点接触状態で2点支持されると共に、そ の中間部にはバスケツトの内外を連通させる幅広な開放窓孔が穿設されているの で、大径で厚みのあるウエハであっても洗浄液などの処理液が滞留が防止されて 液切れを良くすることができる。 更に、収納されたウエハは上部側が側壁のリブで下部側は当該リブとは分離形 成された脚台部側の間隔保持部材によってそれぞれ間隔保持された整列状態で隔 置されるので、従来構造の一連のリブの場合のようにウエハの挿入される挿通幅 が一定に規制されずに、ウエハの挿入並びに当該ウエハに対する処理液の流動に 適した所望の挿通幅に個別に設定させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の実施例による半導体ウエハ用バスケッ
トの一部を破断して示す要部斜視図。
【図2】同バスケットの全体を示す平面図。
【図3】同バスケットの全体を示す正面図。
【図4】図2のB−C線に沿った縦断面図。
【図5】従来例による半導体ウエハ用バスケットの全体
斜視図。
【図6】同バスケットの正面図。
【図7】図6のB−B線に沿った縦断面図。
【符号の説明】
30 バスケツト 31,32 側壁 33,34 支持板 35A,36A
第1の受台部 35B,36B 第2の受台部 37,38 脚台
部 39,40 リブ 41,42 挿入
溝 43,44 補強リブ 45,46 開放
窓孔 47,48 位置決め突起 W ウエハ

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内面にウエハの挿入溝を形成する縦方向
    に延在した多数のリブが長手方向へ所定ピッチ毎に並列
    状に設けられた両側壁と、この両側壁の両端部間を各々
    連結する左右の支持板と、両側壁の下方に位置して当該
    両側壁の内側へ対向状に各々突設された脚台部とで上下
    が開口する箱形に形成され、上記の各リブを含む両側壁
    は上部側がほぼ垂直状で下部側は内側へ傾斜状に延在さ
    れると共に、当該各リブが終端する両側壁の下端部には
    挿入されたウエハの下方縁部を担持する第1の受台部が
    形成され、この第1の受台部の斜め下方には当該受台部
    の傾斜面の延長線上に沿った傾斜状をした第2の受台部
    が上記脚台部の上面に形成され、この第2の受台部には
    担持したウエハを隔置させる間隔保持部材が上記リブと
    整合する所定ピッチ毎に並列状に突設され、上記した第
    1の受台部と第2の受台部との間には幅広な開放窓孔が
    穿設されていることを特徴とした半導体ウエハ用バスケ
    ット。
JP1992044404U 1992-06-04 1992-06-04 半導体ウエハ用バスケット Expired - Lifetime JP2585005Y2 (ja)

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