JPH06271486A - ジアルキルナフタレンの異性化方法 - Google Patents
ジアルキルナフタレンの異性化方法Info
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- C07C5/27—Rearrangement of carbon atoms in the hydrocarbon skeleton
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- C07C5/2708—Catalytic processes not covered by C07C5/2732 - C07C5/31; Catalytic processes covered by both C07C5/2732 and C07C5/277 simultaneously with crystalline alumino-silicates, e.g. molecular sieves
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 ジアルキルナフタレン異性体の一種以上を、
表−1の面間隔dにX線回折ピークを与えるゼオライト
系触媒の存在下で加熱処理するジアルキルナフタレンの
異性化方法。 【効果】 不均化や族間異性化等の副反応を最小限に抑
制し、ジアルキルナフタレンの族内での異性化が主とし
て起り、所望の異性体を効率よく得られる。
表−1の面間隔dにX線回折ピークを与えるゼオライト
系触媒の存在下で加熱処理するジアルキルナフタレンの
異性化方法。 【効果】 不均化や族間異性化等の副反応を最小限に抑
制し、ジアルキルナフタレンの族内での異性化が主とし
て起り、所望の異性体を効率よく得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ジアルキルナフタレン
の異性化方法に関するものである。詳しくは、2,6−
ジアルキルナフタレン、特に2,6−ジメチルナフタレ
ンを工業的に有利に製造するために好適なジアルキルナ
フタレンの異性化方法に関するものである。
の異性化方法に関するものである。詳しくは、2,6−
ジアルキルナフタレン、特に2,6−ジメチルナフタレ
ンを工業的に有利に製造するために好適なジアルキルナ
フタレンの異性化方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ジアルキルナフタレンには多数の異性体
が存在する。例えば、ジメチルナフタレンには10種類
の異性体が存在するが、これらの異性体は、次の
(1)、(2)、(3)および(4)の4つの族に分類
することができ、一般に各族内で行われる族内異性化反
応は比較的容易であるのに対して、他の族への族間異性
化反応は生起し難いことが知られている。(例えば、触
媒Vol.33 No.8 1991 559〜565
頁) (1)1,5−、1,6−及び2,6−ジメチルナフタ
レンのグループ(以下2,6族と略記) (2)1,7−、1,8−及び2,7−ジメチルナフタ
レンのグループ(以下2,7族と略記) (3)1,3−、1,4−及び2,3−ジメチルナフタ
レンのグループ(以下2,3族と略記) (4)1,2−ジメチルナフタレンのグループ(以下
1,2族と略記)
が存在する。例えば、ジメチルナフタレンには10種類
の異性体が存在するが、これらの異性体は、次の
(1)、(2)、(3)および(4)の4つの族に分類
することができ、一般に各族内で行われる族内異性化反
応は比較的容易であるのに対して、他の族への族間異性
化反応は生起し難いことが知られている。(例えば、触
媒Vol.33 No.8 1991 559〜565
頁) (1)1,5−、1,6−及び2,6−ジメチルナフタ
レンのグループ(以下2,6族と略記) (2)1,7−、1,8−及び2,7−ジメチルナフタ
レンのグループ(以下2,7族と略記) (3)1,3−、1,4−及び2,3−ジメチルナフタ
レンのグループ(以下2,3族と略記) (4)1,2−ジメチルナフタレンのグループ(以下
1,2族と略記)
【0003】ところで、ジメチルナフタレンの主要な用
途の一つはナフタレンジカルボン酸の製造であり、原料
物質として特に2,6−ジメチルナフタレンが好んで用
いられる。2,6−ジメチルナフタレンを得る場合、一
般にジメチルナフタレン異性体混合物を主成分として含
む原料油から2,6−ジメチルナフタレンを分離する
が、2,6−ジメチルナフタレン分離後のラフィネート
の活用を図るためには、他の族から2,6族への異性化
が必要であった。
途の一つはナフタレンジカルボン酸の製造であり、原料
物質として特に2,6−ジメチルナフタレンが好んで用
いられる。2,6−ジメチルナフタレンを得る場合、一
般にジメチルナフタレン異性体混合物を主成分として含
む原料油から2,6−ジメチルナフタレンを分離する
が、2,6−ジメチルナフタレン分離後のラフィネート
の活用を図るためには、他の族から2,6族への異性化
が必要であった。
【0004】このような異性化反応には、各種のゼオラ
イト系触媒を使用する方法が提案されている(特開昭5
9−88433号公報など)。しかし、これらの方法で
は、2,6−異性体の全異性体中に占める熱力学的平衡
濃度が14%程度に過ぎないため、2,6−異性体を得
る方法としては必ずしも効率的ではない。一方、近年、
ジアルキルナフタレン、特にジメチルナフタレンをアル
キルベンゼンから製造する方法が提案されている(特表
平3−500052号公報など)。即ち、アルキルベン
ゼンをブテン類、ブタジエン、プロピレン、エチレン等
と反応させて直鎖部分の炭素数が2〜6程度のアルキル
鎖を形成させ、環化、脱水素を経てナフタレン環を形成
させる方法であり、その方法によっては、同族内だけで
異性化する方法が併用される。この族内異性化を実施で
きれば、例えば、2,6−ジメチルナフタレン濃度を
2,6族内での熱力学的濃度まで高めることができる。
従って、この異性体混合物を原料として2,6族内だけ
の異性化を実施すれば、2,6−ジメチルナフタレンの
2,6族内での熱力学的濃度は約50%という高濃度に
なるので工業的実施上極めて有利である。
イト系触媒を使用する方法が提案されている(特開昭5
9−88433号公報など)。しかし、これらの方法で
は、2,6−異性体の全異性体中に占める熱力学的平衡
濃度が14%程度に過ぎないため、2,6−異性体を得
る方法としては必ずしも効率的ではない。一方、近年、
ジアルキルナフタレン、特にジメチルナフタレンをアル
キルベンゼンから製造する方法が提案されている(特表
平3−500052号公報など)。即ち、アルキルベン
ゼンをブテン類、ブタジエン、プロピレン、エチレン等
と反応させて直鎖部分の炭素数が2〜6程度のアルキル
鎖を形成させ、環化、脱水素を経てナフタレン環を形成
させる方法であり、その方法によっては、同族内だけで
異性化する方法が併用される。この族内異性化を実施で
きれば、例えば、2,6−ジメチルナフタレン濃度を
2,6族内での熱力学的濃度まで高めることができる。
従って、この異性体混合物を原料として2,6族内だけ
の異性化を実施すれば、2,6−ジメチルナフタレンの
2,6族内での熱力学的濃度は約50%という高濃度に
なるので工業的実施上極めて有利である。
【0005】2,6族内だけで異性化を制御する試みと
しては、触媒として水素型モルデナイトと酸性白土の混
合物を用いる方法(特公昭55−47020号公報)
や、アルミノボロシリケートを用いる方法(特表平1−
503389号公報)等が提案され、一般的には族内異
性化反応が優先するものの、族間の異性化や他の不均
化、トランスアルキル化等の副反応を制御することは非
常に困難であった。
しては、触媒として水素型モルデナイトと酸性白土の混
合物を用いる方法(特公昭55−47020号公報)
や、アルミノボロシリケートを用いる方法(特表平1−
503389号公報)等が提案され、一般的には族内異
性化反応が優先するものの、族間の異性化や他の不均
化、トランスアルキル化等の副反応を制御することは非
常に困難であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ジアルキル
ナフタレンの異性化を容易な操作で実施しうると共に、
同族内の異性化反応が優先的に進行し、族間の異性化や
他の不均化、トランスアルキル化等の副反応を極力抑制
することのできる異性化反応を提供することを目的とす
る。
ナフタレンの異性化を容易な操作で実施しうると共に、
同族内の異性化反応が優先的に進行し、族間の異性化や
他の不均化、トランスアルキル化等の副反応を極力抑制
することのできる異性化反応を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題について鋭意検討を行なったところ、特定のX線回折
ピークを与えるゼオライトが族内異性化触媒として特に
優れていることを見いだし、本発明に到達した。即ち、
本発明の要旨は、ジアルキルナフタレン異性体の少なく
とも一種を、下記の表−1の面間隔dにX線回折ピーク
を与えるゼオライト系触媒の存在下において、加熱処理
することを特徴とするジアルキルナフタレンの異性化方
法に存する。
題について鋭意検討を行なったところ、特定のX線回折
ピークを与えるゼオライトが族内異性化触媒として特に
優れていることを見いだし、本発明に到達した。即ち、
本発明の要旨は、ジアルキルナフタレン異性体の少なく
とも一種を、下記の表−1の面間隔dにX線回折ピーク
を与えるゼオライト系触媒の存在下において、加熱処理
することを特徴とするジアルキルナフタレンの異性化方
法に存する。
【0008】
【表2】
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
異性化原料であるジアルキルナフタレンとは、1,5−
ジアルキルナフタレン、1,6−ジアルキルナフタレン
及び2,6−ジアルキルナフタレンより成る族(2,6
族)から選ばれた1種または2種以上のジアルキルナフ
タレン、もしくは、1,8−ジアルキルナフタレン、
1,7−ジアルキルナフタレン及び2,7−ジアルキル
ナフタレンより成る族(2,7族)から選ばれた1種ま
たは2種以上のジアルキルナフタレン、もしくは、1,
4−ジアルキルナフタレン、1,3−ジアルキルナフタ
レン及び2,3−ジアルキルナフタレンより成る族
(2,3族)から選ばれた1種または2種以上のジアル
キルナフタレンを、通常50%以上、好ましくは80%
以上含むものである。族内の異性体の割合としては、3
つの異性体間の熱力学的平衡値に該当する比率に近接す
るもの以外は特に限定されないが、例えば2,6族で
は、工業的には2,6−異性体の需要が大きいので、
2,6−異性体を特に得たい場合は、1,5−異性体ま
たは1,6−異性体の濃度の高いものを原料とすること
が好ましい。
異性化原料であるジアルキルナフタレンとは、1,5−
ジアルキルナフタレン、1,6−ジアルキルナフタレン
及び2,6−ジアルキルナフタレンより成る族(2,6
族)から選ばれた1種または2種以上のジアルキルナフ
タレン、もしくは、1,8−ジアルキルナフタレン、
1,7−ジアルキルナフタレン及び2,7−ジアルキル
ナフタレンより成る族(2,7族)から選ばれた1種ま
たは2種以上のジアルキルナフタレン、もしくは、1,
4−ジアルキルナフタレン、1,3−ジアルキルナフタ
レン及び2,3−ジアルキルナフタレンより成る族
(2,3族)から選ばれた1種または2種以上のジアル
キルナフタレンを、通常50%以上、好ましくは80%
以上含むものである。族内の異性体の割合としては、3
つの異性体間の熱力学的平衡値に該当する比率に近接す
るもの以外は特に限定されないが、例えば2,6族で
は、工業的には2,6−異性体の需要が大きいので、
2,6−異性体を特に得たい場合は、1,5−異性体ま
たは1,6−異性体の濃度の高いものを原料とすること
が好ましい。
【0010】なお、本発明者等は、2,6族内に於ける
2,6−、1,6−及び1,5−各異性体分布の温度依
存性は、実測値をもとに最小2乗法によって求めた次の
(1)、(2)及び(3)の推算式で表されることを見
いだしている。また、2,6族以外の2,7族、2,3
族についても、類似の推算式が得られることも見い出し
ている。
2,6−、1,6−及び1,5−各異性体分布の温度依
存性は、実測値をもとに最小2乗法によって求めた次の
(1)、(2)及び(3)の推算式で表されることを見
いだしている。また、2,6族以外の2,7族、2,3
族についても、類似の推算式が得られることも見い出し
ている。
【0011】
【表3】 2,6−異性体:C2.6 =56.9775−0.02835T…(1) 1,6−異性体:C1.6 =39.1240+0.01781T…(2) 1,5−異性体:C1.5 = 3.8085+0.01076T…(3) (式(1)、(2)及び(3)において、C2.6 、C
1.6 、C1.5 は各異性体の族内モル%を示し、Tは温度
(℃)を示す。)ジアルキルナフタレンのアルキル基と
しては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等が例示
されるが、好ましくはメチル基である。更に、該ジアル
キルナフタレンは原料の由来については特に限定はな
く、芳香族炭化水素原料油より分離したものでもよい
し、ナフタレン等より合成して得たものでもよい。
1.6 、C1.5 は各異性体の族内モル%を示し、Tは温度
(℃)を示す。)ジアルキルナフタレンのアルキル基と
しては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等が例示
されるが、好ましくはメチル基である。更に、該ジアル
キルナフタレンは原料の由来については特に限定はな
く、芳香族炭化水素原料油より分離したものでもよい
し、ナフタレン等より合成して得たものでもよい。
【0012】次に、本発明では上述のジアルキルナフタ
レン原料を異性化するために使用する固体酸触媒として
前記の表−1に示す粉末X線回折ピークを示すゼオライ
トを用いることを特徴とする。このX線回折は、X線源
としてはCu−Kα線を使用したものである。また、表
−1において、相対強度とは面間隔d=4.3±0.1
の最強ピークの強度を100としたときに、60〜10
0を「非常に強い」、40〜60を「強い」、20〜4
0を「中位」、2〜20を「弱い」として示したもので
ある。表−1に示されたピーク以外にも通常はいくつか
のピークが認められるが、表−1のピークパターンを有
する限りは本発明のゼオライト触媒として使用すること
が可能である。
レン原料を異性化するために使用する固体酸触媒として
前記の表−1に示す粉末X線回折ピークを示すゼオライ
トを用いることを特徴とする。このX線回折は、X線源
としてはCu−Kα線を使用したものである。また、表
−1において、相対強度とは面間隔d=4.3±0.1
の最強ピークの強度を100としたときに、60〜10
0を「非常に強い」、40〜60を「強い」、20〜4
0を「中位」、2〜20を「弱い」として示したもので
ある。表−1に示されたピーク以外にも通常はいくつか
のピークが認められるが、表−1のピークパターンを有
する限りは本発明のゼオライト触媒として使用すること
が可能である。
【0013】かかるX線回折ピークを与えるゼオライト
としては、具体的にはEU−1型ゼオライト、NU−8
5型ゼオライト等が知られている(EP42226、E
P462745)。この種類のゼオライトを触媒として
応用した例としては、ナフタレンやビフェニルなどの多
環芳香族炭化水素をオレフィン、アルキルハライド、キ
シレンなどのアルキル芳香族炭化水素等のアルキル化剤
でアルキル化誘導体を得る方法(特開昭61−2675
30、GB8510196)、形状選択性の指標として
提案されたSI(Spaciousness Inde
x)と活性相関を1−メチルナフタレンの異性化および
2−メチルナフタレンのメタノールによるアルキル化で
調べた文献(TOCAT 1990,Jens Wei
tkampら、p291−301、講談社)等の反応で
あって、ジアルキルナフタレンの異性化反応、とりわけ
ジアルキルナフタレンの族内異性化反応への具体的な応
用例は知られていない。いわゆるゼオライトの種々の反
応への触媒活性は、当業者ならば容易に想到しうるもの
であるが、本発明に用いるゼオライトがジアルキルナフ
タレンの族内異性化反応のような特定の反応活性のみが
顕著であることは大きな特徴である。
としては、具体的にはEU−1型ゼオライト、NU−8
5型ゼオライト等が知られている(EP42226、E
P462745)。この種類のゼオライトを触媒として
応用した例としては、ナフタレンやビフェニルなどの多
環芳香族炭化水素をオレフィン、アルキルハライド、キ
シレンなどのアルキル芳香族炭化水素等のアルキル化剤
でアルキル化誘導体を得る方法(特開昭61−2675
30、GB8510196)、形状選択性の指標として
提案されたSI(Spaciousness Inde
x)と活性相関を1−メチルナフタレンの異性化および
2−メチルナフタレンのメタノールによるアルキル化で
調べた文献(TOCAT 1990,Jens Wei
tkampら、p291−301、講談社)等の反応で
あって、ジアルキルナフタレンの異性化反応、とりわけ
ジアルキルナフタレンの族内異性化反応への具体的な応
用例は知られていない。いわゆるゼオライトの種々の反
応への触媒活性は、当業者ならば容易に想到しうるもの
であるが、本発明に用いるゼオライトがジアルキルナフ
タレンの族内異性化反応のような特定の反応活性のみが
顕著であることは大きな特徴である。
【0014】本発明で使用するゼオライトは、シリカ
源、アルミナ源、メタル源、アルカリ源及び有機塩基を
含有する水性媒体を公知の方法に従い、密閉容器中で加
熱して合成する。シリカ源としては、シリカゲル、シリ
カゾル、水ガラス、珪酸ナトリウム、沈降シリカ、アイ
ロジル、粘土類、その他のケイ酸含有鉱物類等が使用で
きるが、特に好適には高比表面積で反応性の高いシリカ
ゲルであり、かつ、微粒子である方が好ましい。アルミ
ナ源としては、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、
硝酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウム、水和アルミ
ナ等の各種のアルミニウム含有化合物等が用いられる。
また、メタル源としてはガリウム、ホウ素、鉄、チタ
ン、リン、亜鉛、コバルト、ニッケル等の化合物が用い
られる。アルカリ金属源としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等の水酸化アルカリ、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等、炭酸アルカリ塩類等が挙げられる。更
に、有機塩基としては、通常、次式に示すヘキサメトニ
ウムブロミド(以下HMBと略記) 〔(CH3 )3 N(CH2 )6 N(CH3 )3 〕Br2 またはそのヒドロキサイド溶液が用いられ、該有機塩基
に更に、結晶化に悪影響を与えない範囲においてその他
の有機塩基類や低級アルコール等を添加してもよい。
源、アルミナ源、メタル源、アルカリ源及び有機塩基を
含有する水性媒体を公知の方法に従い、密閉容器中で加
熱して合成する。シリカ源としては、シリカゲル、シリ
カゾル、水ガラス、珪酸ナトリウム、沈降シリカ、アイ
ロジル、粘土類、その他のケイ酸含有鉱物類等が使用で
きるが、特に好適には高比表面積で反応性の高いシリカ
ゲルであり、かつ、微粒子である方が好ましい。アルミ
ナ源としては、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、
硝酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウム、水和アルミ
ナ等の各種のアルミニウム含有化合物等が用いられる。
また、メタル源としてはガリウム、ホウ素、鉄、チタ
ン、リン、亜鉛、コバルト、ニッケル等の化合物が用い
られる。アルカリ金属源としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等の水酸化アルカリ、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等、炭酸アルカリ塩類等が挙げられる。更
に、有機塩基としては、通常、次式に示すヘキサメトニ
ウムブロミド(以下HMBと略記) 〔(CH3 )3 N(CH2 )6 N(CH3 )3 〕Br2 またはそのヒドロキサイド溶液が用いられ、該有機塩基
に更に、結晶化に悪影響を与えない範囲においてその他
の有機塩基類や低級アルコール等を添加してもよい。
【0015】以上の原料を混合物として常法により反応
させてゼオライトを得る。ゼオライトとして結晶性アル
ミノシリケートを得る場合には、通常、以下のモル比の
混合物として反応させる。
させてゼオライトを得る。ゼオライトとして結晶性アル
ミノシリケートを得る場合には、通常、以下のモル比の
混合物として反応させる。
【0016】
【表4】SiO2 /Al2 O3 =10〜500 OH- /SiO2 =0.05〜1 HMB/Al2 O3 =0.5〜20 H2 O/SiO2 =10〜100
【0017】結晶化の反応温度は通常80〜250℃、
好ましくは130〜230℃である。該温度以下では結
晶化に長時間を要し、また該温度以上では、有機塩基の
分解が進行し、系内に褐色異物を形成してくるので好ま
しくない。生成した結晶は濾過、洗浄した後、乾燥して
粉体として回収される。反応に使用するには、通常、予
め常法によりH型(プロトン型)にイオン交換し、更
に、乾燥、焼成等を行なって触媒として使用する。
好ましくは130〜230℃である。該温度以下では結
晶化に長時間を要し、また該温度以上では、有機塩基の
分解が進行し、系内に褐色異物を形成してくるので好ま
しくない。生成した結晶は濾過、洗浄した後、乾燥して
粉体として回収される。反応に使用するには、通常、予
め常法によりH型(プロトン型)にイオン交換し、更
に、乾燥、焼成等を行なって触媒として使用する。
【0018】ゼオライト触媒は粉末状でもよいが、ベー
マイト、アルミナ、カオリンシリカ等の結合剤を、ゼオ
ライトに対して、通常5〜50重量%、好ましくは10
〜30重量%程度混合し、粒径0.1〜5mm程度の粒
状、ペレット状、球状等に成型して使用することもでき
る。長時間反応して活性の低下した触媒は、酸素含有ガ
スによる酸化処理、あるいは水素含有ガスによる水素化
処理によって再生することができる。
マイト、アルミナ、カオリンシリカ等の結合剤を、ゼオ
ライトに対して、通常5〜50重量%、好ましくは10
〜30重量%程度混合し、粒径0.1〜5mm程度の粒
状、ペレット状、球状等に成型して使用することもでき
る。長時間反応して活性の低下した触媒は、酸素含有ガ
スによる酸化処理、あるいは水素含有ガスによる水素化
処理によって再生することができる。
【0019】ジアルキルナフタレン類の異性化反応は気
相または液相、通常、80〜500℃、好ましくは15
0〜450℃での温度範囲に加熱処理して行なう。気相
反応の場合、触媒を上記のような成型体に加工して反応
器に充填し、好ましくは水素気流下に反応原料を導入し
て行ない、反応温度は、特に300〜450℃が好まし
い。一方、液相反応で異性化を行なう場合、反応原料と
ゼオライト触媒とを混合した液相中で行い、反応温度は
150〜350℃、特に200〜280℃が好ましい。
なお、液相で異性化を反応原料の沸点以上の温度で実施
する場合、液相を保つために系内を加圧にしなければな
らない。また、触媒の懸濁状態を良くするために、撹拌
下で反応を行なうことが好ましい。反応後の生成物は、
通常、濾過して分離するが、これは回分操作であっても
連続操作であってもよい。
相または液相、通常、80〜500℃、好ましくは15
0〜450℃での温度範囲に加熱処理して行なう。気相
反応の場合、触媒を上記のような成型体に加工して反応
器に充填し、好ましくは水素気流下に反応原料を導入し
て行ない、反応温度は、特に300〜450℃が好まし
い。一方、液相反応で異性化を行なう場合、反応原料と
ゼオライト触媒とを混合した液相中で行い、反応温度は
150〜350℃、特に200〜280℃が好ましい。
なお、液相で異性化を反応原料の沸点以上の温度で実施
する場合、液相を保つために系内を加圧にしなければな
らない。また、触媒の懸濁状態を良くするために、撹拌
下で反応を行なうことが好ましい。反応後の生成物は、
通常、濾過して分離するが、これは回分操作であっても
連続操作であってもよい。
【0020】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り下記の実施例に
限定されるものではない。 ゼオライト製造例 アルミン酸ナトリウム(Al/NaOHモル比=0.5
4)1.99g、水酸化ナトリウム5.88gを300
ml容器に入れ、脱塩水180.0を加えて撹拌しなが
ら溶解し、水溶液とした。次に、ヘキサメトニウムブロ
ミド15.01gを上記水溶液に添加後、撹拌し溶解し
た(溶液A)。微粉末シリカ(徳山ソーダ(株)商品名
トクシルU粉末)20.40gに溶液Aを添加したの
ち、該混合物をホモジナイザーで7000rpmで10
分間処理した。得られた内容物をテフロン製内筒を具備
したオートクレーブに移し、196℃で43時間撹拌下
に反応させて結晶化を行なった。
るが、本発明はその要旨を越えない限り下記の実施例に
限定されるものではない。 ゼオライト製造例 アルミン酸ナトリウム(Al/NaOHモル比=0.5
4)1.99g、水酸化ナトリウム5.88gを300
ml容器に入れ、脱塩水180.0を加えて撹拌しなが
ら溶解し、水溶液とした。次に、ヘキサメトニウムブロ
ミド15.01gを上記水溶液に添加後、撹拌し溶解し
た(溶液A)。微粉末シリカ(徳山ソーダ(株)商品名
トクシルU粉末)20.40gに溶液Aを添加したの
ち、該混合物をホモジナイザーで7000rpmで10
分間処理した。得られた内容物をテフロン製内筒を具備
したオートクレーブに移し、196℃で43時間撹拌下
に反応させて結晶化を行なった。
【0021】このときの反応原料の仕込みモル比は、S
iO2 /Al2 O3 =39.6、OH- /SiO2 =
0.45、H2 O/SiO2 =73.6、Na/SiO
2 =0.50、N+ /SiO2 =0.122である。反
応後、反応液を濾過し、結晶を水洗し、乾燥して11.
7gの乾燥粉体を得た。X線回折の結果を表−2に示
す。該粉体は表−1の回折ピークを有する結晶性アルミ
ノシリケートであることは明らかである。次に、この乾
燥粉体を540℃で4時間空気流通下に焼成し、有機塩
基の燃焼分解を行なった。焼成後の粉体を1.5Nの硝
酸アンモニウム水溶液600mlに導入し、撹拌しなが
ら加熱還流を行なった。還流して2時間後、濾過し、熱
脱塩水で洗浄後、上記加熱還流操作を更に2回繰り返し
た。濾過・洗浄後、これを120℃にて1昼夜、乾燥し
た。この乾燥粉体を窒素気流下、540℃にて3時間焼
成して触媒粉体を得た。得られたプロトン型の触媒粉体
を蛍光X線分析でSiO2 /Al2 O3 モル比を測定し
たところ、27という値が得られた。また、窒素吸着法
によるBET表面積は363m2 /gであった。
iO2 /Al2 O3 =39.6、OH- /SiO2 =
0.45、H2 O/SiO2 =73.6、Na/SiO
2 =0.50、N+ /SiO2 =0.122である。反
応後、反応液を濾過し、結晶を水洗し、乾燥して11.
7gの乾燥粉体を得た。X線回折の結果を表−2に示
す。該粉体は表−1の回折ピークを有する結晶性アルミ
ノシリケートであることは明らかである。次に、この乾
燥粉体を540℃で4時間空気流通下に焼成し、有機塩
基の燃焼分解を行なった。焼成後の粉体を1.5Nの硝
酸アンモニウム水溶液600mlに導入し、撹拌しなが
ら加熱還流を行なった。還流して2時間後、濾過し、熱
脱塩水で洗浄後、上記加熱還流操作を更に2回繰り返し
た。濾過・洗浄後、これを120℃にて1昼夜、乾燥し
た。この乾燥粉体を窒素気流下、540℃にて3時間焼
成して触媒粉体を得た。得られたプロトン型の触媒粉体
を蛍光X線分析でSiO2 /Al2 O3 モル比を測定し
たところ、27という値が得られた。また、窒素吸着法
によるBET表面積は363m2 /gであった。
【0022】
【表5】
【0023】実施例1 2,6−ジメチルナフタレン(純度99.9%)9.0
g及びゼオライト製造例で調製した触媒1.0gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み窒素雰囲気下2
50℃で5時間撹拌しながら反応を行なった。反応後、
室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエン)を
加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマトグラ
フにより分析した。その結果、2,6−DMNの平衡到
達転化率は102.3%、1,5−DMNの平衡到達率
は105.4%、2,6族以外へのロス率は0.4%、
不均化率は0.3%であった。
g及びゼオライト製造例で調製した触媒1.0gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み窒素雰囲気下2
50℃で5時間撹拌しながら反応を行なった。反応後、
室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエン)を
加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマトグラ
フにより分析した。その結果、2,6−DMNの平衡到
達転化率は102.3%、1,5−DMNの平衡到達率
は105.4%、2,6族以外へのロス率は0.4%、
不均化率は0.3%であった。
【0024】なお、反応成績を評価するための指標とし
て以下の項目を定義して算出した。 2,6−DMNの平衡到達転化率(%)=〔1−(C
ap−Cae)/(Caf−Cae)〕×100 1,5−DMNの平衡濃度到達率(%)=(Cbp/
Cbe)×100 「2,6族外へのロス率」とは、反応物中の全ジメチ
ルナフタレンに対する2,6族以外の異性体の割合を示
す。 「不均化率」とは、反応物中のナフタレン、メチルナ
フタレン、トリメチルナフタレンの総量の割合を示す。 上記のCap,Cae,Caf,Cbp,Cbeは以下
を意味する。
て以下の項目を定義して算出した。 2,6−DMNの平衡到達転化率(%)=〔1−(C
ap−Cae)/(Caf−Cae)〕×100 1,5−DMNの平衡濃度到達率(%)=(Cbp/
Cbe)×100 「2,6族外へのロス率」とは、反応物中の全ジメチ
ルナフタレンに対する2,6族以外の異性体の割合を示
す。 「不均化率」とは、反応物中のナフタレン、メチルナ
フタレン、トリメチルナフタレンの総量の割合を示す。 上記のCap,Cae,Caf,Cbp,Cbeは以下
を意味する。
【0025】
【表6】Cap:反応物中の2,6−DMNの2,6族
内での割合(%) Cae:2,6族内での2,6−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) Caf:反応原料中の2,6−DMNの割合(%) Cbp:反応物中の1,5−DMNの2,6族内での割
合(%) Cbe:2,6族内での1,5−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) ここでは、2,6族内の250℃における熱力学的平衡
組成の値としては、2,6−DMN:1,6−DMN:
1,5−DMN=49.9:43.5:6.6として計
算した。
内での割合(%) Cae:2,6族内での2,6−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) Caf:反応原料中の2,6−DMNの割合(%) Cbp:反応物中の1,5−DMNの2,6族内での割
合(%) Cbe:2,6族内での1,5−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) ここでは、2,6族内の250℃における熱力学的平衡
組成の値としては、2,6−DMN:1,6−DMN:
1,5−DMN=49.9:43.5:6.6として計
算した。
【0026】実施例2 1,5−ジメチルナフタレン(純度99.9%)9.0
g及びゼオライト製造例で調製した触媒1.0gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下
250℃で5時間撹拌しながら反応を行なった。反応
後、室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエ
ン)を加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマ
トグラフにより分析した。その結果、1,5−DMNの
平衡到達転化率は98.1%、2,6−DMNの平衡到
達率は95.9%、2,6族以外へのロス率は0.4
%、不均化率は0.2%であった。
g及びゼオライト製造例で調製した触媒1.0gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下
250℃で5時間撹拌しながら反応を行なった。反応
後、室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエ
ン)を加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマ
トグラフにより分析した。その結果、1,5−DMNの
平衡到達転化率は98.1%、2,6−DMNの平衡到
達率は95.9%、2,6族以外へのロス率は0.4
%、不均化率は0.2%であった。
【0027】なお、反応成績を評価するための指標とし
て以下の項目を定義して算出した。 1,5−DMNの平衡到達転化率(%)=〔1−(C
ap−Cae)/(Caf−Cae)〕×100 2,6−DMNの平衡濃度到達率(%)=(Cbp/
Cbe)×100 「2,6族外へのロス率」とは、反応物中の全ジメチ
ルナフタレンに対する2,6族以外の異性体の割合を示
す。 「不均化率」とは、反応物中のナフタレン、メチルナ
フタレン、トリメチルナフタレンの総量の割合を示す。 上記のCap,Cae,Caf,Cbp,Cbeは以下
を意味する。
て以下の項目を定義して算出した。 1,5−DMNの平衡到達転化率(%)=〔1−(C
ap−Cae)/(Caf−Cae)〕×100 2,6−DMNの平衡濃度到達率(%)=(Cbp/
Cbe)×100 「2,6族外へのロス率」とは、反応物中の全ジメチ
ルナフタレンに対する2,6族以外の異性体の割合を示
す。 「不均化率」とは、反応物中のナフタレン、メチルナ
フタレン、トリメチルナフタレンの総量の割合を示す。 上記のCap,Cae,Caf,Cbp,Cbeは以下
を意味する。
【0028】
【表7】Cap:反応物中の1,5−DMNの2,6族
内での割合(%) Cae:2,6族内での1,5−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) Caf:反応原料中の1,5−DMNの割合(%) Cbp:反応物中の2,6−DMNの2,6族内での割
合(%) Cbe:2,6族内での2,6−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) ここでは、2,6族内の250℃における熱力学的平衡
組成の値としては、2,6−DMN:1,6−DMN:
1,5−DMN=49.9:43.5:6.6、として
計算した。
内での割合(%) Cae:2,6族内での1,5−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) Caf:反応原料中の1,5−DMNの割合(%) Cbp:反応物中の2,6−DMNの2,6族内での割
合(%) Cbe:2,6族内での2,6−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) ここでは、2,6族内の250℃における熱力学的平衡
組成の値としては、2,6−DMN:1,6−DMN:
1,5−DMN=49.9:43.5:6.6、として
計算した。
【0029】実施例3 2,7−ジメチルナフタレン(純度99.9%)9.0
g及びゼオライト製造例で調製した触媒1.0gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下
250℃で1時間撹拌しながら反応を行なった。反応
後、室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエ
ン)を加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマ
トグラフにより分析した。その結果、2,7−DMNの
平衡到達転化率は100.1%、1,7−DMNの平衡
到達率は100.1%、2,7族以外へのロス率は0.
3%、不均化率は0.04%であった。
g及びゼオライト製造例で調製した触媒1.0gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下
250℃で1時間撹拌しながら反応を行なった。反応
後、室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエ
ン)を加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマ
トグラフにより分析した。その結果、2,7−DMNの
平衡到達転化率は100.1%、1,7−DMNの平衡
到達率は100.1%、2,7族以外へのロス率は0.
3%、不均化率は0.04%であった。
【0030】なお、反応成績を評価するための指標とし
て以下の項目を定義して算出した。 2,7−DMNの平衡到達転化率(%)=〔1−(C
ap−Cae)/(Caf−Cae)〕×100 1,7−DMNの平衡濃度到達率(%)=(Cbp/
Cbe)×100 「2,7族外へのロス率」とは、反応物中の全ジメチ
ルナフタレンに対する2,7族以外の異性体の割合を示
す。 「不均化率」とは、反応物中のナフタレン、メチルナ
フタレン、トリメチルナフタレンの総量の割合を示す。 上記のCap,Cae,Caf,Cbp,Cbeは以下
を意味する。
て以下の項目を定義して算出した。 2,7−DMNの平衡到達転化率(%)=〔1−(C
ap−Cae)/(Caf−Cae)〕×100 1,7−DMNの平衡濃度到達率(%)=(Cbp/
Cbe)×100 「2,7族外へのロス率」とは、反応物中の全ジメチ
ルナフタレンに対する2,7族以外の異性体の割合を示
す。 「不均化率」とは、反応物中のナフタレン、メチルナ
フタレン、トリメチルナフタレンの総量の割合を示す。 上記のCap,Cae,Caf,Cbp,Cbeは以下
を意味する。
【0031】
【表8】Cap:反応物中の2,7−DMNの2,7族
内での割合(%) Cae:2,7族内での2,7−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) Caf:反応原料中の2,7−DMNの割合(%) Cbp:反応物中の1,7−DMNの2,7族内での割
合(%) Cbe:2,7族内での1,7−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) ここでは、2,7族内の250℃における熱力学的平衡
組成の値は、2,7−DMN:1,7−DMN:1,8
−DMN=56.5:43.4:0.1、として計算し
た。
内での割合(%) Cae:2,7族内での2,7−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) Caf:反応原料中の2,7−DMNの割合(%) Cbp:反応物中の1,7−DMNの2,7族内での割
合(%) Cbe:2,7族内での1,7−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) ここでは、2,7族内の250℃における熱力学的平衡
組成の値は、2,7−DMN:1,7−DMN:1,8
−DMN=56.5:43.4:0.1、として計算し
た。
【0032】実施例4 2,3−ジメチルナフタレン(純度99.0%)9.0
g及びゼオライト製造例で調製した触媒1.0gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下
250℃で5時間撹拌しながら反応を行なった。反応
後、室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエ
ン)を加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマ
トグラフにより分析した。その結果、2,3−DMNの
平衡到達転化率は96.9%、1,4−DMNの平衡到
達率は93.3%、2,3族以外へのロス率は0.5
%、不均化率は0.4%であった。
g及びゼオライト製造例で調製した触媒1.0gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下
250℃で5時間撹拌しながら反応を行なった。反応
後、室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエ
ン)を加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマ
トグラフにより分析した。その結果、2,3−DMNの
平衡到達転化率は96.9%、1,4−DMNの平衡到
達率は93.3%、2,3族以外へのロス率は0.5
%、不均化率は0.4%であった。
【0033】なお、反応成績を評価するための指標とし
て以下の項目を定義して算出した。 2,3−DMNの平衡到達転化率(%)=〔1−(C
ap−Cae)/(Caf−Cae)〕×100 1,4−DMNの平衡濃度到達率(%)=(Cbp/
Cbe)×100 「2,3族外へのロス率」とは、反応物中の全ジメチ
ルナフタレンに対する2,3族以外の異性体の割合を示
す。 「不均化率」とは、反応物中のナフタレン、メチルナ
フタレン、トリメチルナフタレンの総量の割合を示す。 上記のCap,Cae,Caf,Cbp,Cbeは以下
を意味する。
て以下の項目を定義して算出した。 2,3−DMNの平衡到達転化率(%)=〔1−(C
ap−Cae)/(Caf−Cae)〕×100 1,4−DMNの平衡濃度到達率(%)=(Cbp/
Cbe)×100 「2,3族外へのロス率」とは、反応物中の全ジメチ
ルナフタレンに対する2,3族以外の異性体の割合を示
す。 「不均化率」とは、反応物中のナフタレン、メチルナ
フタレン、トリメチルナフタレンの総量の割合を示す。 上記のCap,Cae,Caf,Cbp,Cbeは以下
を意味する。
【0034】
【表9】Cap:反応物中の2,3−DMNの2,3族
内での割合(%) Cae:2,3族内での2,3−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) Caf:反応原料中の2,3−DMNの割合(%) Cbp:反応物中の1,4−DMNの2,3族内での割
合(%) Cbe:2,3族内での1,4−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) ここでは、2,3族内の250℃における熱力学的平衡
組成の値は、2,3−DMN:1,4−DMN:1,8
−DMN=26.3:10.3:63.4、として計算
した。
内での割合(%) Cae:2,3族内での2,3−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) Caf:反応原料中の2,3−DMNの割合(%) Cbp:反応物中の1,4−DMNの2,3族内での割
合(%) Cbe:2,3族内での1,4−DMNの250℃での
熱力学的平衡値(%) ここでは、2,3族内の250℃における熱力学的平衡
組成の値は、2,3−DMN:1,4−DMN:1,8
−DMN=26.3:10.3:63.4、として計算
した。
【0035】実施例5 2,6−ジメチルナフタレン(純度99.9%)9.0
g及びゼオライト製造例で調製した触媒3.9gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下
170℃で8時間撹拌しながら反応を行なった。反応
後、室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエ
ン)を加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマ
トグラフにより分析した。その結果、2,6−DMNの
平衡到達転化率は68.3%、1,5−DMNの平衡到
達率は12.5%、2,6族以外へのロス率は0.2
%、不均化率は0%であった。
g及びゼオライト製造例で調製した触媒3.9gを内容
積約50mlのガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下
170℃で8時間撹拌しながら反応を行なった。反応
後、室温に戻したのち、溶媒(4−t−ブチルトルエ
ン)を加えて反応物を溶解、触媒を濾過してガスクロマ
トグラフにより分析した。その結果、2,6−DMNの
平衡到達転化率は68.3%、1,5−DMNの平衡到
達率は12.5%、2,6族以外へのロス率は0.2
%、不均化率は0%であった。
【0036】なお、反応成績を評価するための指標とし
てと、実施例1と同様のものを用いた。ここでは、2,
6族内の170℃における熱力学的平衡組成の値は、
2,6−DMN:1,6−DMN:1,5−DMN=5
2.2:42.2:5.6として計算した。
てと、実施例1と同様のものを用いた。ここでは、2,
6族内の170℃における熱力学的平衡組成の値は、
2,6−DMN:1,6−DMN:1,5−DMN=5
2.2:42.2:5.6として計算した。
【0037】実施例6 DMN異性体混合物でDMNを90.5重量%、エチル
ナフタレン(ENと略記)を7.1重量%、メチルナフ
タレン(MNと略記)を0.5重量%含有し、そのDM
N中の異性体組成が表−3に示すような2,6−DMN
濃度を低めたDMN異性体混合物液体を9.0g及びゼ
オライト製造例で調製した触媒1gを内容積約50ml
のガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下250℃で3
時間撹拌しながら反応を行なった。反応後、室温に戻し
たのち、溶媒(4−t−ブチルトルエン)を加えて反応
物を溶解、触媒を濾過してガスクロマトグラフにより分
析した。その結果、目的物である2,6−DMNの平衡
到達率は95.7%、DMNのロス率は1.0%、EN
の分解率は10.2%であった。
ナフタレン(ENと略記)を7.1重量%、メチルナフ
タレン(MNと略記)を0.5重量%含有し、そのDM
N中の異性体組成が表−3に示すような2,6−DMN
濃度を低めたDMN異性体混合物液体を9.0g及びゼ
オライト製造例で調製した触媒1gを内容積約50ml
のガラス製反応器に仕込み、窒素雰囲気下250℃で3
時間撹拌しながら反応を行なった。反応後、室温に戻し
たのち、溶媒(4−t−ブチルトルエン)を加えて反応
物を溶解、触媒を濾過してガスクロマトグラフにより分
析した。その結果、目的物である2,6−DMNの平衡
到達率は95.7%、DMNのロス率は1.0%、EN
の分解率は10.2%であった。
【0038】なお、反応成績を評価するための指標とし
てと、実施例1と同様のものを用い、ENの分解率は原
料中のENが、脱エチル等で分解した量の割合として求
めた。ここでは、2,6族内の250℃における熱力学
的平衡組成の値は、2,6−DMN:1,6−DMN:
1,5−DMN=49.9:43.5:6.6、として
計算した。
てと、実施例1と同様のものを用い、ENの分解率は原
料中のENが、脱エチル等で分解した量の割合として求
めた。ここでは、2,6族内の250℃における熱力学
的平衡組成の値は、2,6−DMN:1,6−DMN:
1,5−DMN=49.9:43.5:6.6、として
計算した。
【0039】
【表10】
【0040】実施例7 DMN異性体混合物でDMNを90.6重量%、エチル
ナフタレン(ENと略記)を7.1重量%、メチルナフ
タレン(MNと略記)を0.5重量%含有し、そのDM
N中の異性体組成が表−4に示すような2,6−DMN
濃度を低めたDMN異性体混合物液体を0.82g/h
rの速度で水素ガスを0.7Nl/hr同伴させつつ、
ゼオライト製造例で調製した触媒1.90gを充填した
ガラス反応器に流し、300℃にて常圧下で異性化反応
を実施した。反応液は反応器出口にて採取し、ガスクロ
マトグラフにより分析した。その結果、目的物である
2,6−DMNの平衡到達率は99.5%、DMNのロ
ス率7.2%、ENの分解率は22.1%であった。
ナフタレン(ENと略記)を7.1重量%、メチルナフ
タレン(MNと略記)を0.5重量%含有し、そのDM
N中の異性体組成が表−4に示すような2,6−DMN
濃度を低めたDMN異性体混合物液体を0.82g/h
rの速度で水素ガスを0.7Nl/hr同伴させつつ、
ゼオライト製造例で調製した触媒1.90gを充填した
ガラス反応器に流し、300℃にて常圧下で異性化反応
を実施した。反応液は反応器出口にて採取し、ガスクロ
マトグラフにより分析した。その結果、目的物である
2,6−DMNの平衡到達率は99.5%、DMNのロ
ス率7.2%、ENの分解率は22.1%であった。
【0041】なお、反応成績を評価するための指標とし
てと、実施例1と同様のものを用い、ENの分解率は原
料中のENが、脱エチル等で分解した量の割合として求
めた。ここでは、2,6族内の302℃における熱力学
的平衡組成の値は、2,6−DMN:1,6−DMN:
1,5−DMN=48.5:44.5:7.0、として
計算した。
てと、実施例1と同様のものを用い、ENの分解率は原
料中のENが、脱エチル等で分解した量の割合として求
めた。ここでは、2,6族内の302℃における熱力学
的平衡組成の値は、2,6−DMN:1,6−DMN:
1,5−DMN=48.5:44.5:7.0、として
計算した。
【0042】
【表11】
【0043】比較例1 SiO2 /Al2 O3 モル比が25の市販品のベータ型
ゼオライトを触媒として用いた以外は、実施例1と同様
にして2,6−DMNの異性化を実施した。その結果、
2,6−DMNの平衡到達転化率は102%、1,5−
DMNの平衡到達率は104%、2,6族以外へのロス
率は3%、不均化率は17%であった。
ゼオライトを触媒として用いた以外は、実施例1と同様
にして2,6−DMNの異性化を実施した。その結果、
2,6−DMNの平衡到達転化率は102%、1,5−
DMNの平衡到達率は104%、2,6族以外へのロス
率は3%、不均化率は17%であった。
【0044】比較例2 SiO2 /Al2 O3 モル比が6.4の市販品のゼオラ
イトオメガ(MAZ)をH型にイオン交換して触媒とし
て用いた以外は、実施例1と同様にして2,6−DMN
の異性化を実施した。その結果、2,6−DMNの平衡
到達転化率は103%、1,5−DMNの平衡到達率は
106%、2,6族以外へのロス率は5%、不均化率は
15%であった。
イトオメガ(MAZ)をH型にイオン交換して触媒とし
て用いた以外は、実施例1と同様にして2,6−DMN
の異性化を実施した。その結果、2,6−DMNの平衡
到達転化率は103%、1,5−DMNの平衡到達率は
106%、2,6族以外へのロス率は5%、不均化率は
15%であった。
【0045】比較例3 SiO2 /Al2 O3 モル比が6.3の市販品のH−Y
型ゼオライト(FAU)を触媒として用いた以外は、実
施例1と同様にして2,6−DMNの異性化を実施し
た。その結果、2,6−DMNの平衡到達転化率は10
8%、1,5−DMNの平衡到達率は100%、2,6
族以外へのロス率は14%、不均化率は46%であっ
た。
型ゼオライト(FAU)を触媒として用いた以外は、実
施例1と同様にして2,6−DMNの異性化を実施し
た。その結果、2,6−DMNの平衡到達転化率は10
8%、1,5−DMNの平衡到達率は100%、2,6
族以外へのロス率は14%、不均化率は46%であっ
た。
【0046】
【発明の効果】本発明によれば、不均化や族間異性化等
の副反応を最小限に抑制し、ジアルキルナフタレンの族
内での異性化が主として起こることにより、所望の異性
体を効率よく得ることができる。
の副反応を最小限に抑制し、ジアルキルナフタレンの族
内での異性化が主として起こることにより、所望の異性
体を効率よく得ることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 ジアルキルナフタレン異性体の少なくと
も一種を、下記の表−1の面間隔dにX線回折ピークを
与えるゼオライト系触媒の存在下で加熱処理することを
特徴とするジアルキルナフタレンの異性化方法。 【表1】 - 【請求項2】 ジアルキルナフタレン異性体が、1,5
−ジアルキルナフタレン、1,6−ジアルキルナフタレ
ン及び2,6−ジアルキルナフタレンから選ばれた少な
くとも一種以上である請求項1記載の異性化方法。 - 【請求項3】 ジアルキルナフタレン異性体がジメチル
ナフタレン異性体であることを特徴とする請求項1記載
の異性化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5057366A JPH06271486A (ja) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | ジアルキルナフタレンの異性化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5057366A JPH06271486A (ja) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | ジアルキルナフタレンの異性化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06271486A true JPH06271486A (ja) | 1994-09-27 |
Family
ID=13053593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5057366A Pending JPH06271486A (ja) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | ジアルキルナフタレンの異性化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06271486A (ja) |
-
1993
- 1993-03-17 JP JP5057366A patent/JPH06271486A/ja active Pending
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