JPH06279327A - 四塩化炭素を用いたエチレンのオキシ塩素化による１，２−ジクロロエタンの合成法 - Google Patents
四塩化炭素を用いたエチレンのオキシ塩素化による１，２−ジクロロエタンの合成法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/15—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens with oxygen as auxiliary reagent, e.g. oxychlorination
- C07C17/152—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens with oxygen as auxiliary reagent, e.g. oxychlorination of hydrocarbons
- C07C17/156—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens with oxygen as auxiliary reagent, e.g. oxychlorination of hydrocarbons of unsaturated hydrocarbons
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 四塩化炭素を用いたエチレンのオキシ塩素化
による１，２−ジクロロエタンの合成法。 【構成】 四塩化炭素と、エチレンと、酸素とを１，２
−ジクロロエタンを合成するのに十分な温度でオキシ塩
素化触媒と接触させた後、１，２−ジクロロエタンを反
応生成物から分離する。
による１，２−ジクロロエタンの合成法。 【構成】 四塩化炭素と、エチレンと、酸素とを１，２
−ジクロロエタンを合成するのに十分な温度でオキシ塩
素化触媒と接触させた後、１，２−ジクロロエタンを反
応生成物から分離する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は四塩化炭素を用いたエチ
レンのオキシ塩素化による１，２−ジクロロエタンの合
成方法に関するものである。
レンのオキシ塩素化による１，２−ジクロロエタンの合
成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】エチレンを塩素化すると１，２−ジクロ
ロエタン（Ｄ12）が得られ、これを単純に熱分解すると
塩化ビニル（ＶＣＭ）と塩酸（ＨCl）になる。このＨCl
は再循環されて下記オキシ塩素化反応でＤ12が合成され
る： ２Ｃ2Ｈ4 ＋Ｏ2 ＋４ＨCl → ２Ｃ2Ｈ4Cl2 ＋２Ｈ2Ｏ (1) このオキシ塩素化反応を用いることによって塩酸の形に
なっている塩素が有効に利用できる。このプロセスはウ
ルマンの化学工業辞典(ULMANN'S ENCYCLOPEDIAOF CHEMI
CALINDUSTRY)の第５版、第Ａ６巻、 263〜270 頁および
283〜291 頁に記載されている。
ロエタン（Ｄ12）が得られ、これを単純に熱分解すると
塩化ビニル（ＶＣＭ）と塩酸（ＨCl）になる。このＨCl
は再循環されて下記オキシ塩素化反応でＤ12が合成され
る： ２Ｃ2Ｈ4 ＋Ｏ2 ＋４ＨCl → ２Ｃ2Ｈ4Cl2 ＋２Ｈ2Ｏ (1) このオキシ塩素化反応を用いることによって塩酸の形に
なっている塩素が有効に利用できる。このプロセスはウ
ルマンの化学工業辞典(ULMANN'S ENCYCLOPEDIAOF CHEMI
CALINDUSTRY)の第５版、第Ａ６巻、 263〜270 頁および
283〜291 頁に記載されている。
【０００３】フランス国特許第 2,260,551号には重質塩
素化残留物のオキシ塩素化、すなわち、重質塩素化残留
物とエチレンと酸素とを反応させてテトラクロロエチレ
ン、トリクロロエタン、テトラクロロエタンおよびＤ12
を合成する方法が記載されている。1972年３月27日に公
告された南アフリカ特許出願第 71-5781号にはエチレン
をオキシ塩素化してテトラクロロエチレンとトリクロロ
エチレンとの混合物を合成する方法が記載されている。
これら従来法では、多孔質担体に塩化銅を担持させたも
のをベースとした触媒の流動床にエチレン、酸素および
塩素を温度 410〜440 ℃で通過させる。この反応は、流
動床から出た生成物の再循環物中に含まれる四塩化炭素
の存在下で行われる。実際には流動床から出た生成物を
冷却し、テトラクロロエチレン、トリクロロエチレンお
よび四塩化炭素を凝縮し、後者（CCl4）を供給ガス (C2
H4、Cl2および空気）と混合して流動床に再循環させ
る。流動床からの塩素化生成物の少なくとも50モル％は
テトラクロロエチレンとトリクロロエチレンである。CC
l4の量は一定で増加しない。CCl4の濃度は流動床に導入
される有機化合物に対して10モル％以下であり、これは
導入される全ガス量の２〜３％に相当する。 Cl2の形を
した塩素の量は流動床に入る塩素含有反応物の40〜75％
であり、約２〜８％は塩化水素の形で存在し、残りが塩
素含有有機化合物（CCl4を含む）である。流動床に入る
時点での炭素に対する酸素元素の比率は0.85〜２の間に
ある。従って、この反応ではエチレンと塩素（Cl2)と酸
素が消費されてテトラクロロエチレンとトリクロロエチ
レンが生成する。
素化残留物のオキシ塩素化、すなわち、重質塩素化残留
物とエチレンと酸素とを反応させてテトラクロロエチレ
ン、トリクロロエタン、テトラクロロエタンおよびＤ12
を合成する方法が記載されている。1972年３月27日に公
告された南アフリカ特許出願第 71-5781号にはエチレン
をオキシ塩素化してテトラクロロエチレンとトリクロロ
エチレンとの混合物を合成する方法が記載されている。
これら従来法では、多孔質担体に塩化銅を担持させたも
のをベースとした触媒の流動床にエチレン、酸素および
塩素を温度 410〜440 ℃で通過させる。この反応は、流
動床から出た生成物の再循環物中に含まれる四塩化炭素
の存在下で行われる。実際には流動床から出た生成物を
冷却し、テトラクロロエチレン、トリクロロエチレンお
よび四塩化炭素を凝縮し、後者（CCl4）を供給ガス (C2
H4、Cl2および空気）と混合して流動床に再循環させ
る。流動床からの塩素化生成物の少なくとも50モル％は
テトラクロロエチレンとトリクロロエチレンである。CC
l4の量は一定で増加しない。CCl4の濃度は流動床に導入
される有機化合物に対して10モル％以下であり、これは
導入される全ガス量の２〜３％に相当する。 Cl2の形を
した塩素の量は流動床に入る塩素含有反応物の40〜75％
であり、約２〜８％は塩化水素の形で存在し、残りが塩
素含有有機化合物（CCl4を含む）である。流動床に入る
時点での炭素に対する酸素元素の比率は0.85〜２の間に
ある。従って、この反応ではエチレンと塩素（Cl2)と酸
素が消費されてテトラクロロエチレンとトリクロロエチ
レンが生成する。
【０００４】一方、クロロメタンの合成時には多量の四
塩化炭素が生成することは避けられない。本出願人はこ
の四塩化炭素をエチレンのオキシ塩素化反応での塩素源
として使用することができるということを見出した。す
なわち、ＣCl4 とＣ2 Ｈ4 とＯ2(または空気）との混合
物をオキシ塩素化触媒に通すとＤ12が得られ、その高級
同族体、例えばトリクロロエタン、テトラクロロエタン
は少量しか生じないということを見出した。すなわち、
本発明は下記反応を行わせるものである： CCl4＋２Ｃ2Ｈ4＋Ｏ2 → ２Ｃ2Ｈ4Cl2＋ＣＯ2 (2)
塩化炭素が生成することは避けられない。本出願人はこ
の四塩化炭素をエチレンのオキシ塩素化反応での塩素源
として使用することができるということを見出した。す
なわち、ＣCl4 とＣ2 Ｈ4 とＯ2(または空気）との混合
物をオキシ塩素化触媒に通すとＤ12が得られ、その高級
同族体、例えばトリクロロエタン、テトラクロロエタン
は少量しか生じないということを見出した。すなわち、
本発明は下記反応を行わせるものである： CCl4＋２Ｃ2Ｈ4＋Ｏ2 → ２Ｃ2Ｈ4Cl2＋ＣＯ2 (2)
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、前記公知方法とは違って、四塩化炭素の形になって
いる塩素を有効に利用してエチレンとCCl4と酸素とを消
費してＤ12を生成させ、その高級同族体の生成量を少な
くする方法を提供することにある。
は、前記公知方法とは違って、四塩化炭素の形になって
いる塩素を有効に利用してエチレンとCCl4と酸素とを消
費してＤ12を生成させ、その高級同族体の生成量を少な
くする方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は１, ２−ジクロ
ロエチレンを合成するのに十分な温度で四塩化炭素と、
エチレンと、酸素とをオキシ塩素化触媒と接触させた
後、１, ２−ジクロロエチレンを反応生成物から分離す
ることを特徴とする１, ２−ジクロロエチレンの合成方
法を提供する。
ロエチレンを合成するのに十分な温度で四塩化炭素と、
エチレンと、酸素とをオキシ塩素化触媒と接触させた
後、１, ２−ジクロロエチレンを反応生成物から分離す
ることを特徴とする１, ２−ジクロロエチレンの合成方
法を提供する。
【０００７】
【作用】本発明反応はアルミナ、シリカ、マグネシア、
アタパルジャイト(atapulgite)をベースとし且つ銅を含
む任意の触媒の固定床または流動床で通常のオキシ塩素
化反応条件で実施することができる。なお、上記触媒に
通常の添加物、リン、マグネシウム、稀土類元素等をさ
らに添加することもできる。本発明反応に適した触媒は
フランス国特許第 1,555,518号、第 2,260,551号、第
2,063,365号、第 2,213,259号および第 2,141,452号、
ヨーロッパ特許第255,156 号第 257,561号および第 17
6,432号に記載されている。これらの触媒は一般に、比
表面積が50〜450 m2/gで、粒径が20〜200 ミクロンであ
るアルミナに担持させた塩化銅で構成される。銅に換算
した塩化銅の量は触媒全量の３〜12％である。この触媒
と不活性物質、例えば砂との混合物より成る触媒を使用
することもできる。この触媒はフランス国特許第 2,24
2,143号とヨーロッパ特許第 377,364号に記載されてい
る。これら触媒は全て流動床で使用されるが、固定床を
使用してもよい。
アタパルジャイト(atapulgite)をベースとし且つ銅を含
む任意の触媒の固定床または流動床で通常のオキシ塩素
化反応条件で実施することができる。なお、上記触媒に
通常の添加物、リン、マグネシウム、稀土類元素等をさ
らに添加することもできる。本発明反応に適した触媒は
フランス国特許第 1,555,518号、第 2,260,551号、第
2,063,365号、第 2,213,259号および第 2,141,452号、
ヨーロッパ特許第255,156 号第 257,561号および第 17
6,432号に記載されている。これらの触媒は一般に、比
表面積が50〜450 m2/gで、粒径が20〜200 ミクロンであ
るアルミナに担持させた塩化銅で構成される。銅に換算
した塩化銅の量は触媒全量の３〜12％である。この触媒
と不活性物質、例えば砂との混合物より成る触媒を使用
することもできる。この触媒はフランス国特許第 2,24
2,143号とヨーロッパ特許第 377,364号に記載されてい
る。これら触媒は全て流動床で使用されるが、固定床を
使用してもよい。
【０００８】反応温度は 220〜450 ℃であるが、CCl4の
変換がオキシ塩素化誘導体の段階で停止しないような温
度にする必要がある。圧力は大気圧からこの種の方法で
の通常の限界値、すなわち10バール以下までにする。本
発明反応は酸素、通常は空気の存在下に行う。本発明反
応に塩酸を添加することもできる。四塩化炭素と塩酸と
の比率は任意である。換言すれば、上記の２つの反応式
(1)と(2) を含むものは本発明反応に含まれる。空気
（酸素）およびエチレンの供給量は、出口の所でエチレ
ンが完全に変換し且つＨClが完全に無くなるように調節
する。このような調節方法はオキシ塩素化の当業者に公
知である。四塩化炭素とエチレンの比率はCCl4／C2H4の
モル比が 0.4〜1.6 となるようにするが好ましい。本発
明反応をＨClの存在下で行う場合には、モル比CCl4／C2
H4中の"CCl4"は、CCl4のモル数とＨClのモル数の４分の
１との合計値を表す。酸素とエチレンの比率は、Ｏ2 を
空気として表した場合のＯ2/C2H4のモル比が３〜10とな
るようにするのが好ましい。すなわち、モル比５とはエ
チレン１モルに対して酸素１モルであることを意味す
る。
変換がオキシ塩素化誘導体の段階で停止しないような温
度にする必要がある。圧力は大気圧からこの種の方法で
の通常の限界値、すなわち10バール以下までにする。本
発明反応は酸素、通常は空気の存在下に行う。本発明反
応に塩酸を添加することもできる。四塩化炭素と塩酸と
の比率は任意である。換言すれば、上記の２つの反応式
(1)と(2) を含むものは本発明反応に含まれる。空気
（酸素）およびエチレンの供給量は、出口の所でエチレ
ンが完全に変換し且つＨClが完全に無くなるように調節
する。このような調節方法はオキシ塩素化の当業者に公
知である。四塩化炭素とエチレンの比率はCCl4／C2H4の
モル比が 0.4〜1.6 となるようにするが好ましい。本発
明反応をＨClの存在下で行う場合には、モル比CCl4／C2
H4中の"CCl4"は、CCl4のモル数とＨClのモル数の４分の
１との合計値を表す。酸素とエチレンの比率は、Ｏ2 を
空気として表した場合のＯ2/C2H4のモル比が３〜10とな
るようにするのが好ましい。すなわち、モル比５とはエ
チレン１モルに対して酸素１モルであることを意味す
る。
【０００９】本発明の好ましい実施態様では、反応混合
物を触媒ベッドに導入する際に水蒸気を添加する。すな
わち、反応混合物をＣ2 Ｈ4 と、Ｏ2 （空気）と、 CCl
4(必要に応じてＨClをさらに用いる）と、水とで構成す
る。水の量は任意であるが、触媒床の入口でCCl4１モル
に対して水を 2.5モル以下にすることができる。触媒床
の出口ではオキシ塩素化の当業者に公知の方法で生成物
を回収する。すなわち、揮発性の低い生成物を冷却によ
って凝縮させて未反応のガスから分離した後、蒸留を一
回以上行う。本出願人は、水の作用は以下の説明ででき
ると考えている：先ず、下記の反応によって四塩化炭素
が加水分解される： CCl4＋２Ｈ2Ｏ → ４ＨCl＋ＣＯ2 (3) 次いで、生成したＨClが前記の反応 (1)に従って反応す
る： ２Ｃ2Ｈ4＋Ｏ2＋４ＨCl → ２Ｃ2Ｈ4Cl2＋ＣＯ2 (1)
物を触媒ベッドに導入する際に水蒸気を添加する。すな
わち、反応混合物をＣ2 Ｈ4 と、Ｏ2 （空気）と、 CCl
4(必要に応じてＨClをさらに用いる）と、水とで構成す
る。水の量は任意であるが、触媒床の入口でCCl4１モル
に対して水を 2.5モル以下にすることができる。触媒床
の出口ではオキシ塩素化の当業者に公知の方法で生成物
を回収する。すなわち、揮発性の低い生成物を冷却によ
って凝縮させて未反応のガスから分離した後、蒸留を一
回以上行う。本出願人は、水の作用は以下の説明ででき
ると考えている：先ず、下記の反応によって四塩化炭素
が加水分解される： CCl4＋２Ｈ2Ｏ → ４ＨCl＋ＣＯ2 (3) 次いで、生成したＨClが前記の反応 (1)に従って反応す
る： ２Ｃ2Ｈ4＋Ｏ2＋４ＨCl → ２Ｃ2Ｈ4Cl2＋ＣＯ2 (1)
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。実施例に
おいて、滞留時間は、通常のオキシ塩素化反応で採用さ
れているように、反応器の温度での触媒床の入口での反
応物の供給量に対する触媒容積（流動床でオキシ塩素化
を行う場合には膨張体積）の比で定義される。
おいて、滞留時間は、通常のオキシ塩素化反応で採用さ
れているように、反応器の温度での触媒床の入口での反
応物の供給量に対する触媒容積（流動床でオキシ塩素化
を行う場合には膨張体積）の比で定義される。
【００１１】実施例１ 直径が24mm、表面積が 4.2412 cm2(温度カバーを差引い
たもの) 、高さが１メートルのガラス製反応器の上に膨
張容器を取付ける。この反応器中に 160ｇのシリカマグ
ネシア触媒（比表面積が80ｍ2/g)を入れる。このシリカ
マグネシア触媒は銅が3.5 ％含浸され、カリが原子比Ｋ
／Cuが 0.6となるように添加され且つ稀土類元素が 2.1
％添加されている。この触媒はフランス国特許第 2,12
5,748号に記載されており、その内容は本発明の一部を
成す。すなわち、シリカのヒドロゲルの微粒子に塩化マ
グネシウム溶液を含浸させた、それを高温で焼成し、得
られた粉末に塩化銅を含浸させて作られる。この触媒床
を調節系を用いて 340℃に維持して以下を導入する： 空気 1303.1 ミリモル／時 水 307.0 ミリモル／時 四塩化炭素 194.3 ミリモル／時 エチレン 152.0 ミリモル／時 流動床は高さ77cmに流動させ、滞留時間は12秒程度とす
る。反応器を出たガスを18℃に冷却して、下記重量組成
の 22.9 ｇの有機物液体を得る： ジクロロエチレン 0.17 ＣＨCl3 0.08 CCl4 30.68 Ｃ2 Ｈ4 Cl2 （Ｄ12） 18.58 トリクロロエチレン（Tri ） 0.74 Ｃ2 Ｈ3 Cl3 (非対称) 29.33 テトラクロロエチレン（Per ） 0.93 テトラクロロエタン (非対称) 0.17 テトラクロロエタン (対称) 15.82 ペンタクロロエタン 3.4 ヘキサクロロエタン 0.1 凝縮後の31.27 Ｎリットルガス中には 9.2容積％のＣＯ
2 と、12容積％の酸素とが含まれる。このガスはエチレ
ンを含まず、18℃で溶媒で飽和している。四塩化炭素の
変換率は50％で、エチレンの変換率は99.8％である。
たもの) 、高さが１メートルのガラス製反応器の上に膨
張容器を取付ける。この反応器中に 160ｇのシリカマグ
ネシア触媒（比表面積が80ｍ2/g)を入れる。このシリカ
マグネシア触媒は銅が3.5 ％含浸され、カリが原子比Ｋ
／Cuが 0.6となるように添加され且つ稀土類元素が 2.1
％添加されている。この触媒はフランス国特許第 2,12
5,748号に記載されており、その内容は本発明の一部を
成す。すなわち、シリカのヒドロゲルの微粒子に塩化マ
グネシウム溶液を含浸させた、それを高温で焼成し、得
られた粉末に塩化銅を含浸させて作られる。この触媒床
を調節系を用いて 340℃に維持して以下を導入する： 空気 1303.1 ミリモル／時 水 307.0 ミリモル／時 四塩化炭素 194.3 ミリモル／時 エチレン 152.0 ミリモル／時 流動床は高さ77cmに流動させ、滞留時間は12秒程度とす
る。反応器を出たガスを18℃に冷却して、下記重量組成
の 22.9 ｇの有機物液体を得る： ジクロロエチレン 0.17 ＣＨCl3 0.08 CCl4 30.68 Ｃ2 Ｈ4 Cl2 （Ｄ12） 18.58 トリクロロエチレン（Tri ） 0.74 Ｃ2 Ｈ3 Cl3 (非対称) 29.33 テトラクロロエチレン（Per ） 0.93 テトラクロロエタン (非対称) 0.17 テトラクロロエタン (対称) 15.82 ペンタクロロエタン 3.4 ヘキサクロロエタン 0.1 凝縮後の31.27 Ｎリットルガス中には 9.2容積％のＣＯ
2 と、12容積％の酸素とが含まれる。このガスはエチレ
ンを含まず、18℃で溶媒で飽和している。四塩化炭素の
変換率は50％で、エチレンの変換率は99.8％である。
【００１２】実施例２ 実施１と同じ反応器を用いるが、オキシ塩素化反応器か
ら排出されるガスの流路上に一般に工業的に用いられる
測定機器を取付ける。実施例１と同じの触媒に反応物、
すなわち空気、塩酸、エチレンおよび四塩化炭素を導入
する。操作条件、温度、滞留時間、反応物の導入量、過
剰反応物および生成物の量は添付の表１、表２の実施例
２の欄に記載してある。四塩化炭素の転換率は47％で、
エチレンの転換率は99.8％で、酸素の転換率は79.7％で
ある。
ら排出されるガスの流路上に一般に工業的に用いられる
測定機器を取付ける。実施例１と同じの触媒に反応物、
すなわち空気、塩酸、エチレンおよび四塩化炭素を導入
する。操作条件、温度、滞留時間、反応物の導入量、過
剰反応物および生成物の量は添付の表１、表２の実施例
２の欄に記載してある。四塩化炭素の転換率は47％で、
エチレンの転換率は99.8％で、酸素の転換率は79.7％で
ある。
【００１３】実施例３、４ 実施例１に記載の装置に実施例２に記載の測定装置を取
付けて、別の２つの実験を行う。操作条件、反応物の導
入量、過剰反応物と生成物の量は表１、表２の実施例３
および４の欄に記載してある。本発明には含まれない比
較例として、実施例１と同じ触媒に 340℃で滞留時間11
秒で下記を通した： 空気 1303 ミリモル／時 CCl4 182 ミリモル／時 Ｈ2 Ｏ 394 ミリモル／時 四塩化炭素の変換率は39％である。
付けて、別の２つの実験を行う。操作条件、反応物の導
入量、過剰反応物と生成物の量は表１、表２の実施例３
および４の欄に記載してある。本発明には含まれない比
較例として、実施例１と同じ触媒に 340℃で滞留時間11
秒で下記を通した： 空気 1303 ミリモル／時 CCl4 182 ミリモル／時 Ｈ2 Ｏ 394 ミリモル／時 四塩化炭素の変換率は39％である。
【００１４】
【表１】
【００１５】
【表２】
【手続補正書】
【提出日】平成４年４月１３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は１，２−ジクロ
ロエタンを合成するのに十分な温度で四塩化炭素と、エ
チレンと、酸素とをオキシ塩素化触媒と接触させた後、
１，２−ジクロロエタンを反応生成物から分離すること
を特徴とする１，２−ジクロロエタンの合成方法を提供
する。
ロエタンを合成するのに十分な温度で四塩化炭素と、エ
チレンと、酸素とをオキシ塩素化触媒と接触させた後、
１，２−ジクロロエタンを反応生成物から分離すること
を特徴とする１，２−ジクロロエタンの合成方法を提供
する。
Claims (7)
- 【請求項１】 四塩化炭素と、エチレンと、酸素とを
１，２−ジクロロエチレンを合成するのに十分な温度で
オキシ塩素化触媒と接触させた後、１，２−ジクロロエ
チレンを反応生成物から分離することを特徴とする１，
２−ジクロロエチレンの合成方法。 - 【請求項２】 オキシ塩素化触媒が流動床である請求項
１に記載の方法。 - 【請求項３】 反応物に塩酸を加える請求項１または２
に記載の方法。 - 【請求項４】 反応温度が 220〜450 ℃である請求項１
〜３のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項５】 オキシ塩素化触媒と接触させる前に、反
応物に水蒸気を添加する請求項１〜４のいずれか一項に
記載の方法。 - 【請求項６】 エチレンに対する四塩化炭素および必要
に応じ添加される塩化水素 (CCl4に換算) の比が 0.4〜
1.6 である請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項７】 Ｏ2 ／Ｃ2 Ｈ4 のモル比（Ｏ2 は空気の
量に換算）が３〜10である請求項１〜６のいずれか一項
に記載の方法。
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|---|---|---|---|
| FR9101824 | 1991-02-15 | ||
| FR9101824A FR2672887B1 (fr) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | Procede de synthese du 1,2-dichloroethane par oxychloration de l'ethylene au moyen du tetrachlorure de carbone. |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06279327A true JPH06279327A (ja) | 1994-10-04 |
| JPH0720892B2 JPH0720892B2 (ja) | 1995-03-08 |
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ID=9409762
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4059618A Expired - Fee Related JPH0720892B2 (ja) | 1991-02-15 | 1992-02-14 | 四塩化炭素を用いたエチレンのオキシ塩素化による１，２−ジクロロエタンの合成法 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0499512B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0720892B2 (ja) |
| KR (1) | KR100203840B1 (ja) |
| CN (1) | CN1034166C (ja) |
| AT (1) | ATE101589T1 (ja) |
| CA (1) | CA2061100C (ja) |
| DE (1) | DE69200046T2 (ja) |
| DK (1) | DK0499512T3 (ja) |
| ES (1) | ES2062869T3 (ja) |
| FI (1) | FI101147B (ja) |
| FR (1) | FR2672887B1 (ja) |
| IE (1) | IE64742B1 (ja) |
| NO (1) | NO176910C (ja) |
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| US6933417B1 (en) | 1999-11-22 | 2005-08-23 | Dow Global Technologies Inc. | Process for vinyl chloride manufacture from ethane and ethylene with partial CHl recovery from reactor effluent |
| US6797845B1 (en) | 1999-11-22 | 2004-09-28 | Dow Global Technologies Inc. | Process for vinyl chloride manufacture from ethane and ethylene with immediate HCl recovery from reactor effluent |
| US6680415B1 (en) | 1999-11-22 | 2004-01-20 | Dow Global Technologies Inc. | Oxyhalogenation process using catalyst having porous rare earth halide support |
| US6909024B1 (en) * | 1999-11-22 | 2005-06-21 | The Dow Chemical Company | Process for the conversion of ethylene to vinyl chloride and novel catalyst compositions useful for such process |
| WO2002094750A1 (en) * | 2001-05-23 | 2002-11-28 | Dow Global Technologies Inc. | Oxidative halogenation and optional dehydrogenation of c3+ hydrocarbons |
| US20040152929A1 (en) * | 2002-05-08 | 2004-08-05 | Clarke William D | Process for vinyl chloride manufacture from ethane and ethylene with air feed and alternative hcl processing methods |
| KR100882312B1 (ko) * | 2005-11-17 | 2009-02-10 | 주식회사 엘지화학 | 1,2-디클로로에탄의 열분해에 의한 염화비닐의 제조장치 및이를 이용한 염화비닐의 제조방법 |
| DE102014223013B4 (de) | 2014-11-12 | 2024-10-10 | Volkswagen Aktiengesellschaft | Turbinenlaufrad, Turbine und Abgasturbolader |
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|---|---|---|---|---|
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| ZA715781B (en) * | 1970-09-28 | 1972-04-26 | Fmc Corp | Process for oxychlorination |
| DE3608043A1 (de) * | 1986-03-11 | 1987-09-17 | Wacker Chemie Gmbh | Verbessertes verfahren zur herstellung von 1,2-dichlorethan durch gasphasenchlorierung von ethylenhaltigen gasen |
| DE3700132A1 (de) * | 1987-01-03 | 1988-07-14 | Dow Chemical Gmbh | Verfahren zum herstellen von ethylendichlorid |
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- 1991-02-15 FR FR9101824A patent/FR2672887B1/fr not_active Expired - Fee Related
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- 1992-02-14 JP JP4059618A patent/JPH0720892B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-14 NO NO920590A patent/NO176910C/no unknown
- 1992-02-14 FI FI920655A patent/FI101147B/fi not_active IP Right Cessation
- 1992-02-15 KR KR1019920002278A patent/KR100203840B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-15 CN CN92100901A patent/CN1034166C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-18 US US07/835,868 patent/US5227549A/en not_active Expired - Lifetime
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