JPH06279992A - 蒸着用高純度Ａｇ - Google Patents
蒸着用高純度ＡｇInfo
- Publication number
- JPH06279992A JPH06279992A JP9070193A JP9070193A JPH06279992A JP H06279992 A JPH06279992 A JP H06279992A JP 9070193 A JP9070193 A JP 9070193A JP 9070193 A JP9070193 A JP 9070193A JP H06279992 A JPH06279992 A JP H06279992A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- film
- purity
- high purity
- ppm
- Prior art date
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 成膜時被膜の発生することがない蒸着用高純
度Ａｇの提供にある。 【構成】 Ａｇ中に許容できる不純物元素及びその含有
量としてＣｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｂ、Ｂｉ、
Ｓｉ、Ｐｄ、Ｐｂ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｓ
ｎのうち１種または２種以上合計で１〜100ppm、残Ａｇ
及び不可避金属とすることを特徴とするものである。
度Ａｇの提供にある。 【構成】 Ａｇ中に許容できる不純物元素及びその含有
量としてＣｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｂ、Ｂｉ、
Ｓｉ、Ｐｄ、Ｐｂ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｓ
ｎのうち１種または２種以上合計で１〜100ppm、残Ａｇ
及び不可避金属とすることを特徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＡｇの蒸着源として用い
られる高純度Ａｇに関するものである。
られる高純度Ａｇに関するものである。
【０００２】
【従来技術と課題】従来、Ａｇを溶かしながら蒸着源と
して使用し、Ａｇを成膜する方法があった。しかし成膜
時蒸着源のＡｇに白濁系の被膜が発生しこの為ベーパー
スピードが変化し、成膜スピードが不安定となったり、
蒸着ボートへの濡れ性が変わって成膜条件設定が難しく
なる等の課題があった。この原因を種々検討した結果、
含有不純物元素と含有量とに関連があることがわかっ
た。
して使用し、Ａｇを成膜する方法があった。しかし成膜
時蒸着源のＡｇに白濁系の被膜が発生しこの為ベーパー
スピードが変化し、成膜スピードが不安定となったり、
蒸着ボートへの濡れ性が変わって成膜条件設定が難しく
なる等の課題があった。この原因を種々検討した結果、
含有不純物元素と含有量とに関連があることがわかっ
た。
【０００３】
【発明の目的】本発明の目的は、成膜時被膜の発生する
ことのない蒸着用高純度Ａｇの提供にある。
ことのない蒸着用高純度Ａｇの提供にある。
【０００４】
【発明の構成】本発明の蒸着用高純度Ａｇは、Ａｇ中に
許容できる不純物元素及びその含有量としてＣｕ、Ｚ
ｎ、Ｃｄ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｉ、Ｐｄ、Ｐ
ｂ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｓｎのうち１種ま
たは２種以上合計で１〜100ppm、残Ａｇ及び不可避金属
とすることを特徴とするものである。
許容できる不純物元素及びその含有量としてＣｕ、Ｚ
ｎ、Ｃｄ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｉ、Ｐｄ、Ｐ
ｂ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｓｎのうち１種ま
たは２種以上合計で１〜100ppm、残Ａｇ及び不可避金属
とすることを特徴とするものである。
【０００５】
【作用】上記のように構成された本発明の蒸着用高純度
Ａｇによれば、不純物元素及び含有量が規定されること
により、酸化膜や遊離不純物による白濁系の被膜が発生
することがない。なお上記不純物含有量が１種又は２種
以上合計で１ppm にすることは製造上工程管理等極めて
困難で、また100ppmを超えると白濁系の被膜が発生する
こととなる。
Ａｇによれば、不純物元素及び含有量が規定されること
により、酸化膜や遊離不純物による白濁系の被膜が発生
することがない。なお上記不純物含有量が１種又は２種
以上合計で１ppm にすることは製造上工程管理等極めて
困難で、また100ppmを超えると白濁系の被膜が発生する
こととなる。
【０００６】
【実施例】以下に実施例と従来例について述べる。まず
実施例として溶解、鋳造、押出し、伸線加工、温度 400
℃、時間１時間による熱処理、伸線加工にて外径２mmと
し、それを長さ５mmに切断して蒸着用高純度Ａｇとし
た。
実施例として溶解、鋳造、押出し、伸線加工、温度 400
℃、時間１時間による熱処理、伸線加工にて外径２mmと
し、それを長さ５mmに切断して蒸着用高純度Ａｇとし
た。
【０００７】一方、従来例も実施例と同様の工程にして
長さ５mmに切断して蒸着用高純度Ａｇとした。実施例、
従来例について不純物について分析した結果を表１にま
とめた。
長さ５mmに切断して蒸着用高純度Ａｇとした。実施例、
従来例について不純物について分析した結果を表１にま
とめた。
【０００８】
【表１】
【０００９】然して蒸着源として使用して成膜（抵抗加
熱方式）してみた結果、従来例においては白濁系の被膜
が発生したのに対し、実施例においては白濁することな
く良好な成膜が出来た。
熱方式）してみた結果、従来例においては白濁系の被膜
が発生したのに対し、実施例においては白濁することな
く良好な成膜が出来た。
【００１０】
【発明の効果】以上のように本発明の蒸着用高純度Ａｇ
によれば、不純物元素及び含有量が規定されることによ
り、酸化膜や遊離不純物による白濁系の被膜が発生する
ことなく、従って条件設定の容易で安定した成膜スピー
ドの成膜が可能となるという優れた効果を有するもので
ある。
によれば、不純物元素及び含有量が規定されることによ
り、酸化膜や遊離不純物による白濁系の被膜が発生する
ことなく、従って条件設定の容易で安定した成膜スピー
ドの成膜が可能となるという優れた効果を有するもので
ある。
Claims (1)
- 【請求項１】 Ａｇ中に許容できる不純物元素及びその
含有量として、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｂ、
Ｂｉ、Ｓｉ、Ｐｄ、Ｐｂ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｃ
ｒ、Ｓｎのうち１種または２種以上合計で１〜100ppm、
残Ａｇ及び不可避金属としたことを特徴とする蒸着用高
純度Ａｇ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9070193A JPH06279992A (ja) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | 蒸着用高純度Ａｇ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9070193A JPH06279992A (ja) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | 蒸着用高純度Ａｇ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06279992A true JPH06279992A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=14005836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9070193A Pending JPH06279992A (ja) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | 蒸着用高純度Ａｇ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06279992A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6231637B1 (en) | 1996-06-21 | 2001-05-15 | Dowa Mining Co., Ltd. | Process for producing high-purity silver materials |
| US6627149B1 (en) | 1996-06-21 | 2003-09-30 | Dowa Mining Co., Ltd. | High-purity silver wires for use in recording, acoustic or image transmission applications |
| JP2004149861A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Hitachi Metals Ltd | Ａｇ合金膜、平面表示装置およびＡｇ合金膜形成用スパッタリングターゲット材 |
| CN101633174B (zh) | 2009-08-03 | 2011-03-30 | 清华大学 | 冗余机器人布线防缠绕和挤压装置 |
| WO2020116557A1 (ja) * | 2018-12-05 | 2020-06-11 | 三菱マテリアル株式会社 | 金属膜、及び、スパッタリングターゲット |
| WO2021020223A1 (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-04 | 松田産業株式会社 | 蒸着材料及びその製造方法 |
| JP2021091922A (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-17 | 松田産業株式会社 | 蒸着材料及びその製造方法 |
| JP2024129306A (ja) * | 2023-03-13 | 2024-09-27 | 松田産業株式会社 | 貴金属蒸着材料 |
-
1993
- 1993-03-25 JP JP9070193A patent/JPH06279992A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6231637B1 (en) | 1996-06-21 | 2001-05-15 | Dowa Mining Co., Ltd. | Process for producing high-purity silver materials |
| US6444164B2 (en) | 1996-06-21 | 2002-09-03 | Dowa Mining Co., Ltd. | Apparatus for producing high-purity silver materials |
| US6627149B1 (en) | 1996-06-21 | 2003-09-30 | Dowa Mining Co., Ltd. | High-purity silver wires for use in recording, acoustic or image transmission applications |
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| WO2020116557A1 (ja) * | 2018-12-05 | 2020-06-11 | 三菱マテリアル株式会社 | 金属膜、及び、スパッタリングターゲット |
| CN113166923A (zh) * | 2018-12-05 | 2021-07-23 | 三菱综合材料株式会社 | 金属膜、以及溅射靶 |
| WO2021020223A1 (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-04 | 松田産業株式会社 | 蒸着材料及びその製造方法 |
| JP2021091922A (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-17 | 松田産業株式会社 | 蒸着材料及びその製造方法 |
| JP2024129306A (ja) * | 2023-03-13 | 2024-09-27 | 松田産業株式会社 | 貴金属蒸着材料 |
| US12509763B2 (en) | 2023-03-13 | 2025-12-30 | Matsuda Sangyo Company Limited | Noble metal vapor deposition material |
| US12612696B2 (en) | 2023-03-13 | 2026-04-28 | Matsuda Sangyo Company Limited | Noble metal vapor deposition material |
| US12612695B2 (en) | 2023-03-13 | 2026-04-28 | Matsuda Sangyo Company Limited | Noble metal vapor deposition material |
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