JPH06280068A - 真空アーク処理装置 - Google Patents
真空アーク処理装置Info
- Publication number
- JPH06280068A JPH06280068A JP5065187A JP6518793A JPH06280068A JP H06280068 A JPH06280068 A JP H06280068A JP 5065187 A JP5065187 A JP 5065187A JP 6518793 A JP6518793 A JP 6518793A JP H06280068 A JPH06280068 A JP H06280068A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- vacuum arc
- processed
- arc
- conductor roll
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空アークの陰極点の移動を防止してコンダ
クタロールを保護する。 【構成】 連続して移動する被処理材料からなる陰極
と、陽極を設置してなる真空アーク処理装置において、
該被処理材料とアーク電源の負極とを電気的に接続する
コンダクタロールを設置するにあたり、該コンダクタロ
ールと陽極の間に非導電性材料からなる遮へいロールを
設けたことを特徴とする真空アーク処理装置。
クタロールを保護する。 【構成】 連続して移動する被処理材料からなる陰極
と、陽極を設置してなる真空アーク処理装置において、
該被処理材料とアーク電源の負極とを電気的に接続する
コンダクタロールを設置するにあたり、該コンダクタロ
ールと陽極の間に非導電性材料からなる遮へいロールを
設けたことを特徴とする真空アーク処理装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空中で陽極と陰極の
間に直流アーク放電を生起させて、真空アークデスケー
ル等の処理を行う真空アーク処理装置に関する。
間に直流アーク放電を生起させて、真空アークデスケー
ル等の処理を行う真空アーク処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空アーク技術は、電気回路部品である
真空遮断機に広く用いられている技術であるが、近年、
真空アークを材料プロセスに応用する試みが行われてい
る。応用例としては、蒸着、イオンプレーティング、お
よび酸化被膜の除去（デスケール）等がある。材料プロ
セスでは、生産性の向上のため材料を連続的に供給し処
理することが望まれるため、真空アークプロセスにおい
ては、例えば被処理物を陰極として用い、この被処理物
を連続して移動させる。出願人は先に、被処理物をアー
ク電源の負極として電気的に接続するためのコンダクタ
ロールが設置されるが、このコンダクタロールと電極と
の間のアーク放電を防ぐために、電極とコンダクタロー
ル間に遮へい板を設けることを提案している。
真空遮断機に広く用いられている技術であるが、近年、
真空アークを材料プロセスに応用する試みが行われてい
る。応用例としては、蒸着、イオンプレーティング、お
よび酸化被膜の除去（デスケール）等がある。材料プロ
セスでは、生産性の向上のため材料を連続的に供給し処
理することが望まれるため、真空アークプロセスにおい
ては、例えば被処理物を陰極として用い、この被処理物
を連続して移動させる。出願人は先に、被処理物をアー
ク電源の負極として電気的に接続するためのコンダクタ
ロールが設置されるが、このコンダクタロールと電極と
の間のアーク放電を防ぐために、電極とコンダクタロー
ル間に遮へい板を設けることを提案している。
【０００３】一方、被処理物の移動に伴い、被処理物上
の真空アークの陰極点も被処理物とともに移動し、被処
理物の移動速度が速くなると、陰極点が遮へい板と被処
理物のすきまを通り、コンダクタロールに達する。これ
を防ぐには被処理物と遮へい板とのすきまを小さくする
ことが必要であるが接触防止のため最小限のすきまが必
要となる。このため陰極点がコンダクタロールに達しな
いよう、遮へい板とコンダクタロールとの間を離して設
置する必要があった。
の真空アークの陰極点も被処理物とともに移動し、被処
理物の移動速度が速くなると、陰極点が遮へい板と被処
理物のすきまを通り、コンダクタロールに達する。これ
を防ぐには被処理物と遮へい板とのすきまを小さくする
ことが必要であるが接触防止のため最小限のすきまが必
要となる。このため陰極点がコンダクタロールに達しな
いよう、遮へい板とコンダクタロールとの間を離して設
置する必要があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は真空アークの
陰極点からコンダクタロールを遮へいした真空アーク処
理装置を提供するものである。
陰極点からコンダクタロールを遮へいした真空アーク処
理装置を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は連続して移動す
る被処理材料からなる陰極と、陽極を設置してなる真空
アーク処理装置において、該被処理材料とアーク電源の
負極とを電気的に接続するコンダクタロールを設置する
にあたり、該コンダクタロールと陽極の間に非導電性材
料からなる遮へいロールを設けたことを特徴とする真空
アーク処理装置である。更に本発明は遮へいロールを中
空構造とし、中空部に冷媒を供給するものである。
る被処理材料からなる陰極と、陽極を設置してなる真空
アーク処理装置において、該被処理材料とアーク電源の
負極とを電気的に接続するコンダクタロールを設置する
にあたり、該コンダクタロールと陽極の間に非導電性材
料からなる遮へいロールを設けたことを特徴とする真空
アーク処理装置である。更に本発明は遮へいロールを中
空構造とし、中空部に冷媒を供給するものである。
【０００６】
【実施例】図１に、本発明の一実施例の連続式真空アー
クデスケール装置の構成概要を示す。本装置は、帯状の
被処理物（材料）１をアンコイラー２から巻解き、アー
ク電極４の下面を通過させる時に真空アークでデスケー
ルを行い、その後、コイラー３に巻取る装置である。
クデスケール装置の構成概要を示す。本装置は、帯状の
被処理物（材料）１をアンコイラー２から巻解き、アー
ク電極４の下面を通過させる時に真空アークでデスケー
ルを行い、その後、コイラー３に巻取る装置である。
【０００７】図において、コンダクタロール（本実施例
では４ユニット設定）５は陰極とする被処理物１に電気
を供給するために設けられる。これにより、被処理材料
から電気を取り出す位置までの距離が短くなり、ジュー
ル発熱は低減する。即ちコンダクタロール５の設置によ
り、その電流回路は、アーク電源（直流電源）７の正極
→アーク電極４→アーク→被処理物１→コンダクタロー
ル５→アーク電源（直流電源）７の負極となるからであ
る。
では４ユニット設定）５は陰極とする被処理物１に電気
を供給するために設けられる。これにより、被処理材料
から電気を取り出す位置までの距離が短くなり、ジュー
ル発熱は低減する。即ちコンダクタロール５の設置によ
り、その電流回路は、アーク電源（直流電源）７の正極
→アーク電極４→アーク→被処理物１→コンダクタロー
ル５→アーク電源（直流電源）７の負極となるからであ
る。
【０００８】本発明においてはコンダクタロール５と陽
極４との間で陽極の下流側に遮へいロール９を設ける。
遮へいロール９は図２に示すように被処理物と遮へいロ
ールを接触させるための圧下機構１０を有している。又
遮へいロール９の表面材質は非導電性材料とし、例えば
セラミックスのスリーブロール、セラミックス溶射ロー
ルが用いられる。即ちアーク放電により被処理材が高温
となるため、耐熱材料が好ましい。
極４との間で陽極の下流側に遮へいロール９を設ける。
遮へいロール９は図２に示すように被処理物と遮へいロ
ールを接触させるための圧下機構１０を有している。又
遮へいロール９の表面材質は非導電性材料とし、例えば
セラミックスのスリーブロール、セラミックス溶射ロー
ルが用いられる。即ちアーク放電により被処理材が高温
となるため、耐熱材料が好ましい。
【０００９】本発明においてはアーク電流は電極４→被
処理物１→コンダクタロール５と流れるが、被処理物上
には陰極点が発生し、被処理物上を動きまわると共に、
被処理物１の移動と共に下流側に移動する。一方、電極
の下流側には非導電性の遮へいロール９が被処理物表面
に密着して置かれているため、陰極点の下流側への移動
はこのロール位置で止められ、コンダクタロールが真空
アークから保護される。必要により電極の上流に遮へい
板８を設ける。
処理物１→コンダクタロール５と流れるが、被処理物上
には陰極点が発生し、被処理物上を動きまわると共に、
被処理物１の移動と共に下流側に移動する。一方、電極
の下流側には非導電性の遮へいロール９が被処理物表面
に密着して置かれているため、陰極点の下流側への移動
はこのロール位置で止められ、コンダクタロールが真空
アークから保護される。必要により電極の上流に遮へい
板８を設ける。
【００１０】又、図３に示すように２組のコンダクタロ
ール間に複数組の電極を設け、処理を行うプロセスにお
いて、各電極間に非導電性遮へいロールを設置すること
で、複数電極の干渉が防止できる。更に本発明において
は遮へいロールを中空構造として、遮へいロールの内部
に冷媒を供給する。
ール間に複数組の電極を設け、処理を行うプロセスにお
いて、各電極間に非導電性遮へいロールを設置すること
で、複数電極の干渉が防止できる。更に本発明において
は遮へいロールを中空構造として、遮へいロールの内部
に冷媒を供給する。
【００１１】図３において冷媒は、ロータリージョイン
トを通して給水され、遮へいロール９内部に供給され、
遮へいロール９中空部を通り反対側のロータリージョイ
ントから外部に排水される。これにより遮へいロール９
はその内部から冷却される。なお、符号２１はロール軸
受、２０は真空チャンバーである。即ち冷却された遮へ
いロールを設置することで、被処理材の温度上昇を確実
に防止できる。
トを通して給水され、遮へいロール９内部に供給され、
遮へいロール９中空部を通り反対側のロータリージョイ
ントから外部に排水される。これにより遮へいロール９
はその内部から冷却される。なお、符号２１はロール軸
受、２０は真空チャンバーである。即ち冷却された遮へ
いロールを設置することで、被処理材の温度上昇を確実
に防止できる。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、コンダクタロールが真
空アークから保護され、かつ、コンダクタロールとアー
ク電極間の距離を短縮し得るので、被処理物における電
流の損失が低減される。更に、装置全体を小型化するこ
とができる。又冷却された遮へいロールを設置すること
で被処理材の温度上昇は防止できる。
空アークから保護され、かつ、コンダクタロールとアー
ク電極間の距離を短縮し得るので、被処理物における電
流の損失が低減される。更に、装置全体を小型化するこ
とができる。又冷却された遮へいロールを設置すること
で被処理材の温度上昇は防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の概要側面図である。
【図２】本発明の部分正面図である。
【図３】本発明の他の例の部分側面図である。
【図４】本発明の遮へいロールの部分断面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｈ０１Ｈ 33/66 Ｗ 8121−5Ｇ
Claims (2)
- 【請求項１】 連続して移動する被処理材料からなる陰
極と、陽極を設置してなる真空アーク処理装置におい
て、該被処理材料とアーク電源の負極とを電気的に接続
するコンダクタロールを設置するにあたり、該コンダク
タロールと陽極の間に非導電性材料からなる遮へいロー
ルを設けたことを特徴とする真空アーク処理装置。 - 【請求項２】 遮へいロールを中空構造とし、中空部に
冷媒を供給することを特徴とする請求項１記載の真空ア
ーク処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5065187A JPH06280068A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | 真空アーク処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5065187A JPH06280068A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | 真空アーク処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06280068A true JPH06280068A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=13279673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5065187A Withdrawn JPH06280068A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | 真空アーク処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06280068A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008520442A (ja) * | 2005-03-17 | 2008-06-19 | エス・エム・エス・デマーク・アクチエンゲゼルシャフト | ストリップのデスケールをするための方法及び装置 |
| CN116673338A (zh) * | 2023-05-23 | 2023-09-01 | 威科德金属有限公司 | 一种复合金属片轧制设备 |
-
1993
- 1993-03-24 JP JP5065187A patent/JPH06280068A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008520442A (ja) * | 2005-03-17 | 2008-06-19 | エス・エム・エス・デマーク・アクチエンゲゼルシャフト | ストリップのデスケールをするための方法及び装置 |
| KR101158334B1 (ko) * | 2005-03-17 | 2012-06-22 | 에스엠에스 지마크 악티엔게젤샤프트 | 금속 스트립의 디스케일링 방법 및 그 장치 |
| CN116673338A (zh) * | 2023-05-23 | 2023-09-01 | 威科德金属有限公司 | 一种复合金属片轧制设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1390964B1 (en) | Dipole ion source | |
| JPH06280068A (ja) | 真空アーク処理装置 | |
| US20040135485A1 (en) | Dipole ion source | |
| KR20010015522A (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
| CA2184281A1 (en) | Apparatus for treating metal surfaces with a magnetically impelled arc | |
| JP2825931B2 (ja) | ステンレススチールストリップの連続エッチングおよびアルミニウム鍍金法およびその装置 | |
| US20120024817A1 (en) | Apparatus and method for plasma surface treatment | |
| US5948294A (en) | Device for cathodic cleaning of wire | |
| JPH05131270A (ja) | 真空アーク処理装置 | |
| RU2754539C1 (ru) | Система катодной защиты для прокатки металла | |
| JPH05105941A (ja) | 真空アーク処理材料の冷却方法 | |
| JP2833487B2 (ja) | 直接通電加熱方法 | |
| JP3349815B2 (ja) | 真空アークデスケール方法 | |
| JP3340017B2 (ja) | 真空アークデスケーリング局所処理装置 | |
| JP4370948B2 (ja) | 厚鋼板の熱処理装置 | |
| JPH09248618A (ja) | 真空アークデスケーリング装置 | |
| RU2096493C1 (ru) | Способ обработки детали | |
| JPH05309409A (ja) | 板材表面清浄化装置 | |
| JPH06302398A (ja) | プラズマトーチの電極構造 | |
| JPS62297456A (ja) | 帯板の前処理装置 | |
| JPH06220616A (ja) | 真空アーク処理装置及び真空アーク処理方法 | |
| CN101346795B (zh) | 金属带材的磁控溅射真空抛光的方法和设备 | |
| KR960004754B1 (ko) | 점용접기를 이용한 용접방법 | |
| JPH06264276A (ja) | 真空アークデスケール装置 | |
| JPH07132312A (ja) | 金属帯板の冷間圧延方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000530 |