JPH062810B2 - 光硬化性組成物 - Google Patents

光硬化性組成物

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JPH062810B2
JPH062810B2 JP3746185A JP3746185A JPH062810B2 JP H062810 B2 JPH062810 B2 JP H062810B2 JP 3746185 A JP3746185 A JP 3746185A JP 3746185 A JP3746185 A JP 3746185A JP H062810 B2 JPH062810 B2 JP H062810B2
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修二 早瀬
脩一 鈴木
守叶 和田
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は光硬化性組成物に関し、更に詳しくは、光硬化
性が良好で、かつ流れ性、平滑性、塗膜の均一性などの
塗工特性が優れた光硬化性組成物に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 近年、省エネルギー及び作業性の観点から、光を照射し
て樹脂を硬化させるプロセスに関心が寄せられている。
その中でも、エポキシ樹脂を光硬化させるプロセスは応
用範囲が広く、重要である。
ところで、現在、エポキシ樹脂を光硬化するプロセスに
は、大別して2種類ある。
その1つは、エポキシ樹脂を、光重合性を有するアクリ
ル基などのビニル基を含有する化合物で変性し、このビ
ニル基のみを介して光重合させる方法である。しかしな
がら、この方法においては、アクリル基のようなビニル
基ですべてのエポキシ基を変性したエポキシ樹脂は、エ
ポキシ樹脂それ自体よりも接着性、耐熱性がかなり低下
してしまうという問題がある。
他の1つは、エポキシ樹脂それ自体を光分解型の触媒を
用いて硬化する方法がある。このときに用いる触媒とし
ては、次式: Y- Ar−+−Ar (式中、Arはフェニル基を表わし;Xは、ヨウ素原
子、イオウ原子、ジアゾ基等を表わし;Yは、BF4
PF6、AsP6、SbF6等を表わす。) で示される化合物を挙げることができる。
しかしながら、これらの触媒を用いて得られた樹脂硬化
物は、良好な機械的特性、耐熱性を有する反面、触媒成
分が強酸であってイオン性不純物となるため、加熱した
り時間が経過したりすると硬化物の特性劣化が起るとと
もに腐食現象を惹起する。また、取扱いや作業性の点で
も大きな問題があり、かつ、急速硬化させた場合には接
着力が皆無になるという難点を有している。
[発明の目的] 本発明の目的は上記した欠点の解消にあり、光硬化性が
良好で、かつ流れ性、平滑性、塗膜の均一性などの塗工
特性が優れた光硬化性組成物を提供することにある。
[発明の概要] 本発明の光硬化性組成物は、 (a)同一分子内にエポキシ基及び光硬化性不飽和二重結
合を、それぞれ、少なくとも1個有する化合物; (b)有機金属化合物; (c)光照射によってシラノール基を生じるケイ素化合
物; (d)界面活性剤;及び (e)ナフテン酸金属塩及び有機溶媒からなる群より選ば
れる少なくとも1種の化合物 からなることを特徴とするものである。
本発明の組成物に使用される化合物(a)は、同一分子内
にエポキシ基及び光硬化性不飽和二重結合を、それぞ
れ、少なくとも1個有するものであればいかなるもので
あってもよい。
この化合物におけるエポキシ基としては、例えば で示されるものが挙げられる。他方、この化合物に同時
に存在する光硬化性不飽和二重結合としては、例えば、 が挙げられる。
なお、上記した構造式において、炭素原子に結合してい
る水素原子が、塩素、フッ素のようなハロゲン原子、炭
素数1〜6のアルキル基、フェニル基などで置換されて
いてもよい。
この化合物は、目的に応じた分子設計によって任意に合
成して構成することができ、一般に使用されるエポキシ
樹脂に、アクリル酸、メタクリル酸、ケイ皮酸、マレイ
ン酸などを反応させて、容易に合成することもできる。
この方法で使用するエポキシ樹脂としては、例えば、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂;ビスフェノールF型エ
ポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂;脂
環式エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアネートやヒ
ダントインエポキシのような含窒素エポキシ樹脂;水添
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、プロピレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグ
リシジルエーテルなどの脂肪族系エポキシ樹脂;芳香
族、脂肪族もしくは脂環式のカルボン酸とエピクロルヒ
ドリンとの反応によって得られるエポキシ樹脂;スピロ
環含有エポキシ樹脂;o−アリルフェノールノボラック
化合物とエピクロルヒドリンとの反応生成物であるグリ
シジルエーテル型エポキシ樹脂;ビスフェノールAのそ
れぞれの水酸基のオルト位にアリル基を有するジアリル
ビスフェノール化合物とエピクロルヒドリンとの反応生
成物であるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂などが挙
げられ、これらからなる群より選ばれる少なくとも1種
のものが使用される。
本発明の組成物に使用される有機金属化合物(b)は、光
硬化を促進するものであればいなるものであってもよ
く、例えば、各種の金属錯体、金属酸化物、含金属ハロ
ゲン化物、錯塩等が挙げられる。これらの中でも、チタ
ン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニ
ッケル、銅、亜鉛、アルミニウム、ジルコニウムなどの
金属原子に、アルコキシ基、フェノキシ基、アシルオキ
シ基、β−ジケトナト基、o−カルボニルフェノキシ基
等が結合している化合物であることが好ましい。前記し
た金属原子のうちアルミニウムは、その有機金属化合物
が、光硬化速度を高めるのに有用であるため、特に好ま
しい。このような有機アルミニウム化合物としては、例
えば、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミ
ニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリスパラ
メチルフェノキシアルミニウム、イソプロポキシジエト
キシアルミニウム、トリブトキシアルミニウム、トリア
セトキシアルミニウム、トリステアラトアルミニウム、
トリブチラトアルミニウム、トリプロピオナトアルミニ
ウム、トリイソプロピオナトアルミニウム、トリスアセ
チルアセトナトアルミニウム、トリストリフルオロアセ
チルアセトナトアルミニウム、トリスヘキサフルオロア
セチルアセトナトアルミニウム、トリスエチルアセトア
セタトアルミニウム、トリスサリチルアルデヒダトアル
ミニウム、トリスジエチルマロラトアルミニウムなどが
挙げられる。
これらの有機金属化合物は、単独もしくは2種以上を適
宜に組合せて用いることができる。その配合量は、(a)
成分と(b)の合計量に対し、重量で0.01〜10%、
好ましくは0.1〜5%の範囲である。この配合量が
0.001%未満の場合には充分な硬化特性が得られ
ず、10%を超えるとコスト高や密着性の低下を招く。
本発明の組成物に使用されるケイ素化合物(c)は、光照
射によってシラノール基を生ずるものであればいかなる
ものであってもよく、例えば、有機ケイ素化合物、無機
ケイ素化合物、含ケイ素ポリマー(シリコーン)、シリ
コーンオイル等が挙げられる。これらの中でも、ペルオ
キシシリル基、o−ニトロベンジルオキシ基、α−ケト
シリル基のいずれかを有するケイ素化合物であることが
好ましい。
これらのケイ素化合物のうち、ベルオキシシリル基を有
するものは、次式: (R1n−Si(O−O−R24-n (式中、R1及びR2は同一であっても異なっていてもよ
く、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5
のアルキル基もしくはアリール基を表わし、nは0〜3
の整数である。)で示される化合物である。
上記式中、炭素数1〜5のアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピ
ル基、n−ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基、n
−ペンチル基、メトキシ、エトキシ基、クロルメチル基
が挙げられ;アリール基としては、例えば、フェニル
基、ナフチル基、アントラニル基、ベンジル基が挙げら
れ;また炭素数1〜5のアルキル基及びアリール基は、
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキシ基等の置
換基を有していてもよい。
このようなケイ素化合物の具体例としては、次式: などの化合物が挙げられる。
これらのケイ素化合物と添加配合量は、(a)成分と(b)成
分の合計量に対し、通常、0.1〜20重量%、好まし
くは1〜10重量%である。
配合量が0.1重量%未満の場合には、充分な硬化特性
が得られず、20重量%を超えて用いることは可能であ
るが、コスト高や触媒成分の分解生成物が問題になる場
合があるので好ましくない。
本発明の組成物に使用される界面活性剤(d)は、塗膜の
レベリング性、塗工性を改善するためのものであればい
かなるものであってもよく、この(d)成分の具体例とし
ては、C9F19COOH、 C7H15COOH、C5F11COOH、C3F7COOH、C2F5COOH、 CF3COOH等のペルフルオルカルボン酸; H(CF2)3COOK、H(CF2)3COONa、H(CF2)10COOK、 H(CF2)10COONa、H(CF2)12COOK、H(CF2)12COONa、 C8F17SO3N(C2H5)(CH2)2OH、 C8F17SO3N(C2H5)SO4Na、H(CF2)8PO(CH)2、 CF3(CF2)6(CH2)5COONa、 CF3(CF2)6CH=CH(CH2)3COONa、 C7F15CONHC3H6N+(CH3)2C2H4COO-、 C7H15CONHC3H6N(CH3)3I等の含フッ素化合物;ラウリン
酸エステル、ステアリン酸エステル、オレイン酸エステ
ル、ラウリルアルコール、オレイルアルコール、アルキ
ルフェノール、オクチルフェノール、ミリスチン酸エス
テル等の非イオン界面活性剤等有機系界面活性剤;テト
ラメチルジシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリ
メチルヒドロシロキサン、ポリ(メチルヒドロ)(ジメ
チル)シロキサン、ポリエチルヒドロシロキサン、α,
ω−ジビニルポリ(ジメチル)(ジフェニル)シロキサ
ン、ポリ(ジメチル)(メチルビニル)シロキサン、
α,ω−ビス(メチルジビニルシリル)ポリジメチルシ
ロキサン、α,ω−ジビニルポリメチルフェネチルシロ
キサン、ビス(ビニルジメチルシリル)ベンゼン、ポリ
ビニルメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、
ポリ(ジメチル)(ジフェニル)シロキサン、ビス(ヒ
ドロキシジメチルシリル)ベンゼン、ポリテトラメチル
−p−シリルフェニレンシロキサン、α,ω−ビス(ヒ
ドロキシメチル)ポリジメチルシロキサン、α,ω−ビ
ス(ヒドロキシプロピル)ポリジメチルシロキサン、ポ
リ(ジメチル)(ヒドロキシアルキレンオキシドメチ
ル)シロキサン、ビス(アミノプロピルジメチル)ジシ
ロキサン、ビス(アミノプロピルジメチルシリル)ベン
ゼン、1,3−ビス(クロロメチル)テトラメチルジシ
ロキサン、1,3−ビス(クロロプロピル)テトラメチ
ルジシロキサン、ポリ(ジメチル)(クロロプロピルメ
チル)シロキサン、テトラメチルジクロロジシロキサ
ン、1,5−ジクロロヘキサメチルトリシロキサン、ポ
リ(ジメチル)(メタクリロキシプロピルメチル)シロ
キサン、ポリメチル(メルカプトプロピル)シロキサ
ン、ポリメチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)
シロキサン、ポリメチル(1,1,2,2−テトラヒド
ロペルフルオロオクチル)シロキサン、ポリメチルエチ
ルシロキサン、ポリメチルオクチルシロキサン、ポリメ
チルオクタデシルシロキサン、テトラフェニルジメチル
ジシロキサン、テトラフェニルテトラメチルトリシロキ
サン、ペンタフェニルトリメチルトリシロキサン、ポリ
フェニルシルセスキオキサン、ポリ−ボロン−ジフェニ
ルシロキサン、(N−トリメトキシシリルプロピル)−
O−ポリエチレンオキシドウレタン、トリエトキシシリ
ルポリ(1,2−ブタジエン)、テトラ−n−ブトキシ
シラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラキス
(2−エチルブトキシ)シラン、テトラキス(2−エチ
ルヘキシルオキシ)シラン、ヘキサキス(2−エチルブ
トキシ)ジシロキサン、メチルトリス(トリ−sec−ブ
トキシシロキサニル)シラン等の含ケイ素化合物が挙げ
られる。
これらのうちで特に含フッ素系化合物はレベリング性が
良好であるため、また、含ケイ素系化合物は塗工性が良
好であるため、好ましい。
この(d)成分の使用量は、(a)成分、(b)成分及び(c)成分
の合計量に対し、通常、0.05〜5重量%で、好まし
くは0.1〜1.0重量%である。使用量が0.05重
量%未満の場合には、そのレベリング性や塗れ等のいわ
ゆる塗工性に問題を生じ、5重量%を超える場合には、
硬化性や表面のタッキネスに悪い影響を与える。
本発明の組成物に用いられる化合物(e)は、塗工性の向
上に寄与するものである。この化合物(e)の具体例とし
ては、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸鉄、ナフテン酸
マンガン、ナフテン酸ニッケル、ナフテン酸銅、ナフテ
ン酸鉛、ナフテン酸カドミウム、ナフテン酸モリブデ
ン、ナフテン酸テルビウム、ナフテン酸タンタル、ナフ
テン酸スズ、ナフテン酸クロム、ナフテン酸ガリウム、
ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ゲルマニウム等のナフテン
酸金属塩;トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、
酢酸エチル、石油ベンジン、メタノール、エタノール、
n−ヘキサン、シクロヘキサン、アセトン等の有機溶媒
が挙げられ、これらから成る群より選ばれる少なくとも
1種のものが使用される。
この(e)成分の使用量は、(e)成分がナフテン酸金属塩の
場合、(a)〜(d)成分の合計に対し、溶剤中にナフテン酸
金属塩を20%含む溶液の量として、通常、0.01〜
5.0重量%であり、好ましくは0.05〜1.0重量
%である。この使用量が0.01重量%未満では、塗工
性が改良されず、5.0重量%を越える場合には、著し
く塗工性が低下する。また、(e)成分が有機溶媒の場
合、(a)〜(d)成分の合計に対し、通常、2.0%以下で
あり、好ましくは0.05〜1重量%である。この使用
量が2.0重量%を超える場合には、特に硬化性を低下
させる。
なお、ナフテン酸金属塩を使用する場合の溶剤として
は、例えば、キシレン、トルエン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
本発明の組成物には、必要に応じて、光増感剤を配合し
てもよい。この光増感剤としては、前記した各成分を光
増感できるものであればいかなるものであってもよく、
例えば、芳香族炭化水素、ベンゾフェノン及びその誘導
体、o−ベンゾイル安息香酸エステル、アセトフェノン
及びその誘導体、ベンゾイン並びにベンゾインエーテル
及びその誘導体、キサントン及びその誘導体、チオキサ
ントン及びその誘導体、ジスルフィド化合物、キノン系
化合物、ハロゲン化炭化水素及びアミン類等が挙げられ
る。
アセトフェノン及びその誘導体としては、例えば、アセ
トフェノン、4−メチルアセトフェノン、3−メチルア
セトフェノン及び3−メトキシアセトフェノン等が挙げ
られる。ベンゾイン並びにベンゾインエーテル及びその
誘導体としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾイルメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−
n−ブチルエーテル、ベンゾイントリフェニルシリルエ
ーテル、 などがあげられる。これらの光増感剤はそれぞれ単独
で、又は2種以上を適宜に組合せて使用することができ
る。その配合量は、(a)成分と(b)成分の合計量に
対し、0.001〜10重量%であることが好ましく、
更に好ましくは0.01〜3重量%である。
本発明の組成物には、更に必要に応じて、通常用いられ
る着色剤、無機充填剤、又はその他の各種添加剤を配合
することもできる。
本発明の光硬化性組成物は、常温光硬化、加熱光硬化、
光硬化後に更にアフターキュアを施すなどの方法によっ
て、目的と用途に応じて硬化させて、実用に供すること
ができる。
光硬化の際に、組成物に照射する光の波長は、その組成
物の種類によって様々に変えられるが、通常は180〜
700mnである。とりわけ、紫外線照射は有効である。
光照射時間は、組成物の組成、触媒の種類、光源の種類
などによって異なるが、通常は数秒〜180分、好まし
くは1秒〜10分である。
加熱光硬化の場合の加熱温度は、通常20〜200℃、
好ましくは60〜150℃である。そのときの光源とし
ては、通常の光硬化に用いられるものであれば何であっ
てもよいが、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ラン
プ、カーボンアークランプ、メタルハロゲンランプ、キ
セノン−水銀ランプ、キセノンランプ、水素放電管、タ
ングステンランプ、ハロゲンランプ、ナトリウム放電
管、ネオン放電管、アルゴン放電管、ヘリウム−ネオン
レーザ、アルゴンイオンレーザ、窒素ガスレーザ、カド
ミウムイオンレーザ、ヘリウム−カドミウムレーザ、色
素レーザ及び各種の電子線、X線等の放射線の1種又は
2種以上のものが挙げられる。
光硬化後に必要に応じて施す加熱によるアフターキュア
の温度は、組成物の組成、触媒の種類等によってその態
様が異なってくるが、通常50〜200℃、好ましくは
100〜180℃で、通常10分〜10時間、好ましく
は20分〜5時間行なう。
以下において、実施例及び比較例を掲げ、本発明を更に
詳しく説明する。
[発明の実施例] 実施例1〜4;比較例1〜8 温度計、還流器、窒素ガス導入口、撹拌器を備えた四ツ
口フアスコ内に、ERL−4206(商品名;UCC社
製、ビニルシクロヘキセンジエポキシド、エポキシ当量
70)280g(2.0モル)にアクリル酸(和光純薬
製)72g(1.0モル)、トルエン1、p−メトキ
シフェノール0.01g及び触媒としてテトラブチルア
ンモニウムクロリド1.20gを投入し、徐々に撹拌、
昇温を行ない、トルエンの還流温度下で反応を行なっ
た。
反応の進行状況は、アクリル酸の消費量を0.1Nの標
準KOHアルコール溶液による酸価測定で追跡し、酸価
がほとんどゼロになった時点で反応を終了した。反応終
了後、反応溶液を1のイオン交換水と混合、3回洗浄
後、分液ロートでトルエン層を分離し、減圧下でトルエ
ンを留去した。合成された化合物の粘度は25ポイズ
(25℃)で、エポキシ当量480のアクリル化エポキ
シ樹脂(以下、VHEAと略記する)を得た。
得られたVHEAの他、界面活性剤としてFC−430
又はモダフロー(住友スリーエム社製、フッ素系界面活
性剤)を使用し、光増感剤としてダロキュアD−117
3(アセトフェノン系増感剤、メルク社製)及びベンゾ
フェノン(関東化学社製)を使用し、光開始剤であるア
ルミニウム/シラノール系化合物としてトリアルキルア
ルミニウム(Al−TRと略記する)及びトリフェニル
シリル−t−ブチルペルオキシド(3φP1と略記す
る)を使用し、ナフテン酸金属塩としてナフテン酸コバ
ルトの20%トルエン溶液を使用し、その他の添加剤と
してエポキシ化合物(E−102S;クレゾールノボラ
ックエポキシ樹脂、日本化薬社製)を使用した。以上の
化合物を配合して、以下の表1に示した組成(重量部で
表示した)に配合して、本発明の組成物を調製した。な
お、比較例1〜4として実施例1〜4の組成からそれぞ
れ界面活性剤を除いたもの、比較例5〜8としてビスフ
ェノールAタイプのエポキシアクリレートであるB−5
40(大阪有機化学社製)、希釈剤トリメチロールプロ
パントリアクリレート(TMPTA)をベース樹脂とし
て配合した組成物を調製した。
これらの組成物を熱硬化性樹脂から成るアンダーコート
層を有するブリキ板の上に、それぞれ常法により塗布し
た。ついでこれらを、80W/cmの空冷水銀ランプがコン
ベア面から6cmの高さに配設された光硬化ボックス内に
導入して1〜5秒照射し、照射終了後、表面状態を目視
することによりレベリング性を、またグロスメーターに
より光沢性を測定した。その結果を下記の表2に示す。
以上の結果より、界面活性剤FC−430及びモダフロ
ーは、塗膜に優れたレベリング性を与えることが示され
た。
実施例5、6;比較例9、10 前述のようにして得られたVHEAを用い、表3に示す
配合により、実施例1〜4と同様にして、本発明の組成
物(実施例5、6)及び比較のための組成物(比較例
9、10)を調製した。
上記組成物を実施例1〜4と同様に光硬化して、表4に
示す結果を得た。なお、乾燥性は光照射後の指触によ
り、少しべとつく(U)、乾いている(T)、よく乾い
ている(TF)の表示によって示す。
以上のように、ナフテン酸金属塩又は有機溶媒を添加す
ることにより、均質性に優れた塗膜が短時間に得られる
ことが判明した。
[発明の効果] 以上に詳述したとおり、本発明の光硬化性組成物は、光
硬化性が良好で、かつ流れ性、平滑性、塗膜の均一性な
どの塗工特性が優れたものである。したがって、塗料、
インキ、光学部品接着剤、電子部品封止剤などの用途に
用いられることが期待でき、その工業的価値は極めて大
きい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 和田 守叶 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝総合研究所内 (72)発明者 御子神 ▲ゆき▼公 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝総合研究所内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)同一分子内にエポキシ基及び光硬化性
    不飽和二重結合を、それぞれ、少なくとも1個有する化
    合物; (b)有機金属化合物; (c)光照射によってシラノール基を生じるケイ素化合
    物; (d)界面活性剤;及び (e)ナフテン酸金属塩及び有機溶媒からなる群より選ば
    れる少なくとも1種の化合物 からなることを特徴とする光硬化性組成物。
  2. 【請求項2】有機金属化合物が、アルミニウム化合物で
    ある特許請求の範囲第1項記載の組成物。
  3. 【請求項3】ケイ素化合物が、ペルオキシシリル基及び
    o−ニトロベンジルオキシ基からなる群より選ばれる少
    なくとも1種の基を含む化合物である特許請求の範囲第
    1項記載の組成物。
  4. 【請求項4】界面活性剤が、フッ素系の化合物である特
    許請求の範囲第1項記載の組成物。
  5. 【請求項5】界面活性剤が、含ケイ素系化合物である特
    許請求の範囲第1項記載の組成物。
  6. 【請求項6】界面活性剤が、長鎖脂肪酸アルキルエステ
    ルである特許請求の範囲第1項記載の組成物。
  7. 【請求項7】さらに、増感剤を含むものである特許請求
    の範囲第1項記載の組成物。
JP3746185A 1984-06-26 1985-02-28 光硬化性組成物 Expired - Lifetime JPH062810B2 (ja)

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