JPH06281570A - 赤外線水分計を備えた脱水装置 - Google Patents
赤外線水分計を備えた脱水装置Info
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- JPH06281570A JPH06281570A JP30647193A JP30647193A JPH06281570A JP H06281570 A JPH06281570 A JP H06281570A JP 30647193 A JP30647193 A JP 30647193A JP 30647193 A JP30647193 A JP 30647193A JP H06281570 A JPH06281570 A JP H06281570A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】汚泥を固液分離するベルトプレス型脱水機から
排出される脱水ケーキの含水率を、誤差を低減して即座
に測定する。 【構成】ベルトプレス型脱水機1の脱水ケーキ出口近傍
に赤外線水分計2を配設する。脱水ケーキ出口で第2濾
布12から排出される脱水ケーキSの含水率を赤外線水
分計2で測定する。赤外線水分計を移動機構3で保持す
る。移動機構3により赤外線水分計2を第2濾布12の
走行方向に対して直角な方向に往復移動する。赤外線水
分計2の移動速度を第2濾布12の走行速度に同調させ
る。赤外線水分計2による測定値を第2濾布12の幅方
向と走行方向について平均する。
排出される脱水ケーキの含水率を、誤差を低減して即座
に測定する。 【構成】ベルトプレス型脱水機1の脱水ケーキ出口近傍
に赤外線水分計2を配設する。脱水ケーキ出口で第2濾
布12から排出される脱水ケーキSの含水率を赤外線水
分計2で測定する。赤外線水分計を移動機構3で保持す
る。移動機構3により赤外線水分計2を第2濾布12の
走行方向に対して直角な方向に往復移動する。赤外線水
分計2の移動速度を第2濾布12の走行速度に同調させ
る。赤外線水分計2による測定値を第2濾布12の幅方
向と走行方向について平均する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、下水または産業排水処
理施設などから発生する汚泥を固液分離するベルトプレ
ス型脱水機に係わり、このベルトプレス型脱水機で脱水
された脱水ケーキの水分を赤外線を用いて測定し、脱水
工程の制御や脱水ケーキの後処理などの維持管理を行う
のに適した赤外線水分計を備えた脱水装置に関する。
理施設などから発生する汚泥を固液分離するベルトプレ
ス型脱水機に係わり、このベルトプレス型脱水機で脱水
された脱水ケーキの水分を赤外線を用いて測定し、脱水
工程の制御や脱水ケーキの後処理などの維持管理を行う
のに適した赤外線水分計を備えた脱水装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ベルトプレス型脱水機で汚泥を固
液分離する場合、汚泥に高分子凝集剤を適量添加して凝
集反応を行った後、凝集汚泥を水平またはほぼ水平に走
行する濾布上に供給して重力脱水を行い、濾布に挟んだ
汚泥を複数のロール間で挟持走行して濾布の緊張圧力に
よる圧搾力を加えて圧搾脱水を行い、ときには最終工程
で汚泥を挟んだ濾布の上部から加圧ベルトの張力による
高い圧搾力を加えて圧搾脱水を行い、これらの脱水工程
を経て、脱水ケーキが排出される。
液分離する場合、汚泥に高分子凝集剤を適量添加して凝
集反応を行った後、凝集汚泥を水平またはほぼ水平に走
行する濾布上に供給して重力脱水を行い、濾布に挟んだ
汚泥を複数のロール間で挟持走行して濾布の緊張圧力に
よる圧搾力を加えて圧搾脱水を行い、ときには最終工程
で汚泥を挟んだ濾布の上部から加圧ベルトの張力による
高い圧搾力を加えて圧搾脱水を行い、これらの脱水工程
を経て、脱水ケーキが排出される。
【0003】ところで、このような脱水ケーキ中に含ま
れる水分量すなわち脱水ケーキの含水率は、脱水ケーキ
の焼却処分または埋立処分などの次工程に重要な影響を
及ぼしている。すなわち、焼却処分においては、燃料の
使用量、埋立処分では運搬費および処分地の容積に影響
するので、脱水ケーキはできる限り低い含水率あるいは
焼却炉の維持管理面からの要求で、所定の含水率で排出
されることが望まれていた。
れる水分量すなわち脱水ケーキの含水率は、脱水ケーキ
の焼却処分または埋立処分などの次工程に重要な影響を
及ぼしている。すなわち、焼却処分においては、燃料の
使用量、埋立処分では運搬費および処分地の容積に影響
するので、脱水ケーキはできる限り低い含水率あるいは
焼却炉の維持管理面からの要求で、所定の含水率で排出
されることが望まれていた。
【0004】そこで、脱水ケーキの含水率を測定する手
段が提案されている。一つの例は、脱水ケーキを少量採
取し、一定温度に調整した乾燥機で恒量になるまで乾燥
させて乾燥前後の重量差を測定して含水率を演算する方
法がある。この方法は乾燥時間に数時間以上の時間を要
するため、脱水工程の制御に対して迅速な対応がとれな
い欠点がある。
段が提案されている。一つの例は、脱水ケーキを少量採
取し、一定温度に調整した乾燥機で恒量になるまで乾燥
させて乾燥前後の重量差を測定して含水率を演算する方
法がある。この方法は乾燥時間に数時間以上の時間を要
するため、脱水工程の制御に対して迅速な対応がとれな
い欠点がある。
【0005】また、他の例では、脱水ケーキを焼却炉も
しくは埋立処分地へ搬送するベルトコンベア上に赤外線
水分計を設置して非接触で水分値を測定する方法があ
る。赤外線水分計は、近赤外領域で水分に対して高い吸
収特性を示す波長の測定光を被測定物に照射し、被測定
物からの反射光量を予め求めてある検量線に基づいて水
分値に換算することにより、非接触で被測定物中の水分
量を測定するものである。
しくは埋立処分地へ搬送するベルトコンベア上に赤外線
水分計を設置して非接触で水分値を測定する方法があ
る。赤外線水分計は、近赤外領域で水分に対して高い吸
収特性を示す波長の測定光を被測定物に照射し、被測定
物からの反射光量を予め求めてある検量線に基づいて水
分値に換算することにより、非接触で被測定物中の水分
量を測定するものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、赤外線水分計
で水分値を測定する方法は、脱水ケーキの含水率を即刻
測定できる利点はあるものの、コンベア上に落下された
脱水ケーキの形状が不揃いであるため、赤外線の入射
光、反射光が散乱し、赤外線水分計が正しい値を示さな
くなるので、ベルトコンベア上の脱水ケーキの形状を整
える均し機構を必要としていた。このような均し機構を
設けて脱水ケーキの形状を整えたとしても、被測定物の
性状によって測定誤差を生ずるという問題があった。
で水分値を測定する方法は、脱水ケーキの含水率を即刻
測定できる利点はあるものの、コンベア上に落下された
脱水ケーキの形状が不揃いであるため、赤外線の入射
光、反射光が散乱し、赤外線水分計が正しい値を示さな
くなるので、ベルトコンベア上の脱水ケーキの形状を整
える均し機構を必要としていた。このような均し機構を
設けて脱水ケーキの形状を整えたとしても、被測定物の
性状によって測定誤差を生ずるという問題があった。
【0007】本発明の目的は、ベルトプレス型脱水機か
ら排出される脱水ケーキの後処理の管理あるいは脱水工
程の制御を容易にするにあたり、ベルトプレス型脱水機
における脱水ケーキの含水率を簡単な構成で誤差を低減
し、即座に測定できる赤外線水分計を備えた脱水装置を
提供することにある。
ら排出される脱水ケーキの後処理の管理あるいは脱水工
程の制御を容易にするにあたり、ベルトプレス型脱水機
における脱水ケーキの含水率を簡単な構成で誤差を低減
し、即座に測定できる赤外線水分計を備えた脱水装置を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の赤外線水分計を
備えた脱水装置は、汚泥を固液分離するベルトプレス型
脱水機と該ベルトプレス型脱水機で脱水された脱水ケー
キの含水率を測定する赤外線水分計とを具備し、前記赤
外線水分計が、前記ベルトプレス型脱水機の脱水ケーキ
出口に対向するように配設されていることを特徴とす
る。
備えた脱水装置は、汚泥を固液分離するベルトプレス型
脱水機と該ベルトプレス型脱水機で脱水された脱水ケー
キの含水率を測定する赤外線水分計とを具備し、前記赤
外線水分計が、前記ベルトプレス型脱水機の脱水ケーキ
出口に対向するように配設されていることを特徴とす
る。
【0009】前記赤外線水分計は、被測定物の含水量に
より赤外線吸収量が変化する水分測定用赤外線と被測定
物の性状により赤外線吸収量が変化する性状測定用赤外
線とを被測定物に照射すると共にこの被測定物からのこ
れら赤外線の反射光を受光する光学系と、 前記光学系
で受光した前記性状測定用赤外線の反射光量に基づいて
性状判断因子を算出し、この性状判断因子に対応する水
分測定の検量線を選択する検量線選択手段と、 前記光
学系で受光した前記水分測定用赤外線の反射光量と前記
選択された検量線の情報とに基づいて水分値を演算する
水分値演算手段とを備えたことを特徴とする。
より赤外線吸収量が変化する水分測定用赤外線と被測定
物の性状により赤外線吸収量が変化する性状測定用赤外
線とを被測定物に照射すると共にこの被測定物からのこ
れら赤外線の反射光を受光する光学系と、 前記光学系
で受光した前記性状測定用赤外線の反射光量に基づいて
性状判断因子を算出し、この性状判断因子に対応する水
分測定の検量線を選択する検量線選択手段と、 前記光
学系で受光した前記水分測定用赤外線の反射光量と前記
選択された検量線の情報とに基づいて水分値を演算する
水分値演算手段とを備えたことを特徴とする。
【0010】
【作用】本発明の赤外線水分計を備えた脱水装置におい
て、ベルトプレス型脱水機の脱水ケーキ出口からは濾布
の圧搾力によって表面が平滑なシート状の脱水ケーキが
排出される。また、赤外線水分計は脱水ケーキ出口に対
向するように配設されており、この脱水ケーキ出口の脱
水ケーキの表面に照射した赤外線光の反射光に基づいて
脱水ケーキの含水率を測定する。
て、ベルトプレス型脱水機の脱水ケーキ出口からは濾布
の圧搾力によって表面が平滑なシート状の脱水ケーキが
排出される。また、赤外線水分計は脱水ケーキ出口に対
向するように配設されており、この脱水ケーキ出口の脱
水ケーキの表面に照射した赤外線光の反射光に基づいて
脱水ケーキの含水率を測定する。
【0011】また、前記赤外線水分計において、前記光
学系により、被測定物の含水量により赤外線吸収量が変
化する水分測定用赤外線と被測定物の性状により赤外線
吸収量が変化する性状測定用赤外線とが被測定物に照射
され、この被測定物からのこれら赤外線の反射光が受光
される。検量線選択手段は、光学系で受光した性状測定
用赤外線の反射光量に基づいて性状判断因子を算出し、
この性状判断因子に対応する水分測定の検量線を選択す
る。水分値演算手段は、光学系で受光した水分測定用赤
外線の反射光量と前記選択された検量線の情報とに基づ
いて水分値を演算する。赤外線光を反射する脱水ケーキ
の表面は平滑になっており、さらに性状判断因子を用い
て検量線を選択して測定しているので、測定された含水
率は正確な測定値となる。
学系により、被測定物の含水量により赤外線吸収量が変
化する水分測定用赤外線と被測定物の性状により赤外線
吸収量が変化する性状測定用赤外線とが被測定物に照射
され、この被測定物からのこれら赤外線の反射光が受光
される。検量線選択手段は、光学系で受光した性状測定
用赤外線の反射光量に基づいて性状判断因子を算出し、
この性状判断因子に対応する水分測定の検量線を選択す
る。水分値演算手段は、光学系で受光した水分測定用赤
外線の反射光量と前記選択された検量線の情報とに基づ
いて水分値を演算する。赤外線光を反射する脱水ケーキ
の表面は平滑になっており、さらに性状判断因子を用い
て検量線を選択して測定しているので、測定された含水
率は正確な測定値となる。
【0012】
【実施例】図1は本発明の一実施例の赤外線水分計を備
えた脱水装置の概略を示す図である。
えた脱水装置の概略を示す図である。
【0013】この実施例の脱水装置は、下水または産業
排水処理施設等で発生した汚泥を脱離液と脱水ケーキに
分離するベルトプレス型脱水機1と、このベルトプレス
型脱水機1から排出される脱水ケーキSの含水率を測定
する赤外線水分計2と、この赤外線水分計2を保持する
移動機構3を備えており、赤外線水分計2はベルトプレ
ス型脱水機1の脱水ケーキ出口に対向して、すなわち向
い合わせて配設されている。 そして、ベルトプレス型
脱水機1から排出される脱水ケーキSの含水率が赤外線
水分計2によって測定され、この測定値はベルトプレス
型脱水機1を制御するためのデータとして利用される。
排水処理施設等で発生した汚泥を脱離液と脱水ケーキに
分離するベルトプレス型脱水機1と、このベルトプレス
型脱水機1から排出される脱水ケーキSの含水率を測定
する赤外線水分計2と、この赤外線水分計2を保持する
移動機構3を備えており、赤外線水分計2はベルトプレ
ス型脱水機1の脱水ケーキ出口に対向して、すなわち向
い合わせて配設されている。 そして、ベルトプレス型
脱水機1から排出される脱水ケーキSの含水率が赤外線
水分計2によって測定され、この測定値はベルトプレス
型脱水機1を制御するためのデータとして利用される。
【0014】ベルトプレス型脱水機1は、通液性無端状
の第1濾布11と第2濾布12を備えており、この第1
濾布11および第2濾布12は多数のローラに掛け回さ
れて濾布緊張装置13a,13bによってそれぞれ緊張
された状態でループを成している。そして、第1濾布1
1および第2濾布12はぞれぞれ図の矢印の方向に走行
され、汚泥に対して次のように脱水処理を行う。
の第1濾布11と第2濾布12を備えており、この第1
濾布11および第2濾布12は多数のローラに掛け回さ
れて濾布緊張装置13a,13bによってそれぞれ緊張
された状態でループを成している。そして、第1濾布1
1および第2濾布12はぞれぞれ図の矢印の方向に走行
され、汚泥に対して次のように脱水処理を行う。
【0015】凝集混和槽14で汚泥と凝集剤を充分に混
合して反応させ、当該凝集汚泥10を自然脱水部の第1
濾布11上に供給して凝集汚泥中の比較的脱離し易い水
分を重力によって脱水し、脱離液を受けパン15aで受
けて外部に排出する。一方、第1濾布11を反転ロール
16aで反転して凝集汚泥10を自然脱水部の第2濾布
12上に落下させ、この第2濾布12でも比較的脱離し
易い水分を重力によって脱水し、脱離液を受けパン15
bで受けて外部に排出する。
合して反応させ、当該凝集汚泥10を自然脱水部の第1
濾布11上に供給して凝集汚泥中の比較的脱離し易い水
分を重力によって脱水し、脱離液を受けパン15aで受
けて外部に排出する。一方、第1濾布11を反転ロール
16aで反転して凝集汚泥10を自然脱水部の第2濾布
12上に落下させ、この第2濾布12でも比較的脱離し
易い水分を重力によって脱水し、脱離液を受けパン15
bで受けて外部に排出する。
【0016】上記の重力によって水分を脱水する自然脱
水部を経た後、凝集汚泥を第1濾布11と第2濾布12
で挟んで、多数のロール16bに掛け回し、さらに、加
圧ベルト17による圧搾脱水部で圧搾脱水を行って、第
1濾布11と第2濾布12の間に脱水ケーキSを形成す
る。 そして、第1濾布11と第2濾布12を反転ロー
ル16c,16dで離間させ、次いで第1濾布11と第
2濾布12は濾布洗浄装置18a,18bでそれぞれ水
洗浄されて自然脱水部に向けて繰り出される。
水部を経た後、凝集汚泥を第1濾布11と第2濾布12
で挟んで、多数のロール16bに掛け回し、さらに、加
圧ベルト17による圧搾脱水部で圧搾脱水を行って、第
1濾布11と第2濾布12の間に脱水ケーキSを形成す
る。 そして、第1濾布11と第2濾布12を反転ロー
ル16c,16dで離間させ、次いで第1濾布11と第
2濾布12は濾布洗浄装置18a,18bでそれぞれ水
洗浄されて自然脱水部に向けて繰り出される。
【0017】赤外線水分計2は、脱水ケーキ出口の近傍
で移動機構3によって第2濾布12から一定の距離に保
持されるとともに、この移動機構3によって第2濾布1
2の幅方向(濾布の走行方向に対して直角な方向)に往
復移動される。
で移動機構3によって第2濾布12から一定の距離に保
持されるとともに、この移動機構3によって第2濾布1
2の幅方向(濾布の走行方向に対して直角な方向)に往
復移動される。
【0018】図2は赤外線水分計2と移動機構3の取付
け部分の正面図、図3はその平面図、図4はその側面図
である。
け部分の正面図、図3はその平面図、図4はその側面図
である。
【0019】移動機構3は左右一対のL型の固定アーム
31L,31Rによってベルトプレス型脱水機1の脱水
ケーキ出口端部のフレーム1Aに固定されており、固定
アーム31L,31Rに掛け渡された水平フレーム32
に2本の平行なスライド軸33を備えている。このスラ
イド軸33は第2濾布12の走行方向に対して直角(反
転ロール16dと平行)に取付けられて移動ブロック3
4を第2濾布12の幅方向に摺動自在に保持している。
31L,31Rによってベルトプレス型脱水機1の脱水
ケーキ出口端部のフレーム1Aに固定されており、固定
アーム31L,31Rに掛け渡された水平フレーム32
に2本の平行なスライド軸33を備えている。このスラ
イド軸33は第2濾布12の走行方向に対して直角(反
転ロール16dと平行)に取付けられて移動ブロック3
4を第2濾布12の幅方向に摺動自在に保持している。
【0020】また、水平フレーム32の上部一端には正
逆回転可能なモータ35が配設されるとともに他端にス
プロケット36が配設されており、モータ35の駆動軸
に取付けられた駆動スプロケット35aとスプロケット
36の間にチェン37が掛け回され、このチェン37の
下辺1箇所が移動ブロック34に固定されている。
逆回転可能なモータ35が配設されるとともに他端にス
プロケット36が配設されており、モータ35の駆動軸
に取付けられた駆動スプロケット35aとスプロケット
36の間にチェン37が掛け回され、このチェン37の
下辺1箇所が移動ブロック34に固定されている。
【0021】そして、移動ブロック34には赤外線水分
計2がその測定ヘッド2aを第2濾布12および反転ロ
ール16d側に向けた状態で固定されている。なお、赤
外線水分計2のケーブル2bは水平フレーム32と平行
に掛け渡された水平バー38にリング等によって吊り下
げられておりその端部は図示しないコントローラに接続
されている。
計2がその測定ヘッド2aを第2濾布12および反転ロ
ール16d側に向けた状態で固定されている。なお、赤
外線水分計2のケーブル2bは水平フレーム32と平行
に掛け渡された水平バー38にリング等によって吊り下
げられておりその端部は図示しないコントローラに接続
されている。
【0022】以上の構成により、モータ35の駆動によ
り移動ブロック34と赤外線水分計2が第2濾布12か
ら一定の距離を保って、この第2濾布12の走行方向に
対して直角な方向に往復移動される。なお、モータ35
は図示しないモータコントローラで制御され、スライド
軸33の両端近傍に取付けられた図示しないリミットス
イッチで移動ブロック34を検知して移動方向の切換え
が行われる。
り移動ブロック34と赤外線水分計2が第2濾布12か
ら一定の距離を保って、この第2濾布12の走行方向に
対して直角な方向に往復移動される。なお、モータ35
は図示しないモータコントローラで制御され、スライド
軸33の両端近傍に取付けられた図示しないリミットス
イッチで移動ブロック34を検知して移動方向の切換え
が行われる。
【0023】また、モータ35の回転速度はベルトプレ
ス型脱水機1の運転速度に応じて制御され、赤外線水分
計2は第2濾布12の走行速度に同調した速度で往復移
動され、この赤外線水分計2によって第2濾布12上の
脱水ケーキSの含水率(水分値)が測定される。
ス型脱水機1の運転速度に応じて制御され、赤外線水分
計2は第2濾布12の走行速度に同調した速度で往復移
動され、この赤外線水分計2によって第2濾布12上の
脱水ケーキSの含水率(水分値)が測定される。
【0024】ベルトプレス型脱水機1の脱水ケーキ出口
近傍では、ベルトプレス型脱水機1における脱水機構
(圧搾脱水部の機構)により、脱水ケーキがシート状に
なって排出されるので、脱水ケーキの表面は平滑にな
る。ベルトプレス型脱水機による脱水ケーキは、濾布の
幅方向にほぼ均等に分散させた凝集汚泥を2枚の濾布の
間に挟み、多数のロールに掛け回して脱水処理するた
め、脱水ケーキはその表面が平板状に形成されて排出さ
れる。
近傍では、ベルトプレス型脱水機1における脱水機構
(圧搾脱水部の機構)により、脱水ケーキがシート状に
なって排出されるので、脱水ケーキの表面は平滑にな
る。ベルトプレス型脱水機による脱水ケーキは、濾布の
幅方向にほぼ均等に分散させた凝集汚泥を2枚の濾布の
間に挟み、多数のロールに掛け回して脱水処理するた
め、脱水ケーキはその表面が平板状に形成されて排出さ
れる。
【0025】また、ベルトプレス型脱水機に掛け回され
ている濾布は通常空気シリンダで緊張されており、該シ
リンダのストローク長限度までの汚泥供給に耐えられる
構造となっている。該シリンダのストローク長以上の汚
泥が供給される時は、もはや該シリンダのクッション限
界を超えており、これ以降は濾布の破断に結びついてし
まう。したがって通常、重力脱水部の高さが一定の範囲
に入るような何らかの対策が施されている。
ている濾布は通常空気シリンダで緊張されており、該シ
リンダのストローク長限度までの汚泥供給に耐えられる
構造となっている。該シリンダのストローク長以上の汚
泥が供給される時は、もはや該シリンダのクッション限
界を超えており、これ以降は濾布の破断に結びついてし
まう。したがって通常、重力脱水部の高さが一定の範囲
に入るような何らかの対策が施されている。
【0026】このような理由からベルトプレス型脱水機
から排出される脱水ケーキは、その表面が平板状であ
り、かつその厚みは脱水される汚泥の性状によっても多
少異なるが、ほぼ10mmを標準に±3mm程度の範囲に収
まる。
から排出される脱水ケーキは、その表面が平板状であ
り、かつその厚みは脱水される汚泥の性状によっても多
少異なるが、ほぼ10mmを標準に±3mm程度の範囲に収
まる。
【0027】従って、脱水ケーキの表面が平滑になるば
かりか赤外線水分計2と脱水ケーキの表面の距離も略一
定に保たれ、赤外線水分計2による水分値の測定誤差が
低減される。また、非接触型の赤外線水分計を用いてい
るので、脱水ケーキの含水率を瞬時に測定することがで
きる。
かりか赤外線水分計2と脱水ケーキの表面の距離も略一
定に保たれ、赤外線水分計2による水分値の測定誤差が
低減される。また、非接触型の赤外線水分計を用いてい
るので、脱水ケーキの含水率を瞬時に測定することがで
きる。
【0028】ところで、ベルトプレス型脱水機は使用す
る濾布の幅方向の長さが大きくなればなる程、脱水機構
の関係で幅方向の脱水性すなわち脱水ケーキの含水率に
分布が生じてしまう。例えば図5に一例として濾布幅3
mのベルトプレス型脱水機についての幅方向の測定位置
と含水率の測定結果を示したように、濾布の中央付近と
両端付近とでは脱水性に差が生じる。
る濾布の幅方向の長さが大きくなればなる程、脱水機構
の関係で幅方向の脱水性すなわち脱水ケーキの含水率に
分布が生じてしまう。例えば図5に一例として濾布幅3
mのベルトプレス型脱水機についての幅方向の測定位置
と含水率の測定結果を示したように、濾布の中央付近と
両端付近とでは脱水性に差が生じる。
【0029】しかしながら、上記実施例の装置によれ
ば、赤外線水分計2が濾布(第2濾布12)の幅方向に
往復移動可能になっているので、この濾布の幅方向での
脱水ケーキの含水率の平均値を求めることにより、脱水
ケーキの実際の含水率を把握することができる。
ば、赤外線水分計2が濾布(第2濾布12)の幅方向に
往復移動可能になっているので、この濾布の幅方向での
脱水ケーキの含水率の平均値を求めることにより、脱水
ケーキの実際の含水率を把握することができる。
【0030】また、ベルトプレス型脱水機1における濾
布の走行速度がたとえ変化しても、前記実施例の装置に
よれば、コントローラでモータ35の速度を制御して、
赤外線水分計2の濾布の幅方向に対する移動速度を濾布
の速度に同調させることができるので、濾布の走行距離
に対する幅方向の平均値が求め易くなる。
布の走行速度がたとえ変化しても、前記実施例の装置に
よれば、コントローラでモータ35の速度を制御して、
赤外線水分計2の濾布の幅方向に対する移動速度を濾布
の速度に同調させることができるので、濾布の走行距離
に対する幅方向の平均値が求め易くなる。
【0031】次に、赤外線水分計2について説明する。
図6は図1に示す一実施例に使用する赤外線水分計を示
すブロック図である。
図6は図1に示す一実施例に使用する赤外線水分計を示
すブロック図である。
【0032】光学系40は水分測定用赤外線と性状判断
用赤外線および参照赤外線の光束を生成する共に被測定
物Sからの反射光を検出し、アナログ処理部50は光学
系40からのアナログ信号を処理し、デジタル処理部6
0はアナログ処理部50からの信号に基づいて水分値と
性状判断因子を演算して表示する。
用赤外線および参照赤外線の光束を生成する共に被測定
物Sからの反射光を検出し、アナログ処理部50は光学
系40からのアナログ信号を処理し、デジタル処理部6
0はアナログ処理部50からの信号に基づいて水分値と
性状判断因子を演算して表示する。
【0033】光学系40は、光源41、集光レンズ4
2、回転ディスク43、ディスク回転用モータ44、反
射板45、凹面鏡46、凸面鏡47、赤外線検出器4
8、回転位置検出器49を含んで構成されている。
2、回転ディスク43、ディスク回転用モータ44、反
射板45、凹面鏡46、凸面鏡47、赤外線検出器4
8、回転位置検出器49を含んで構成されている。
【0034】本実施例の赤外線水分計は、汚泥の性状を
判断する因子として油脂および蛋白質を用いるものであ
る。参照波長として水分、その他の成分の影響が小さい
1360nm(代表値)の赤外線、水分測定用赤外線と
して1320nm(代表値)、1450nm(代表
値)、1450nm(代表値)、1540nm(代表
値),1590nm(代表値)の波長の赤外線を用い、
性状測定用赤外線として油脂によって吸収されやすい1
320nm(代表値)、蛋白質によって吸収されやすい
1540nm(代表値)、1590nm(代表値)、油
脂によって吸収されやすい1760nm(代表値)の波
長の赤外線を用いて行うが、これらの波長には重複して
いるものがあるので、実際に使用する波長は6種とな
る。従って、回転ディスク43には、図7に示すよう
に、次の6種の干渉フィルタF1 〜F6 を取付ける。 フィルタ 通過波長帯域(nm) F1 1360±100 (参照) F2 1320±100 (水分及び油脂) F3 1450±100 (水分) F4 1540±100 (水分及び蛋白質) F5 1590±100 (水分及び蛋白質) F6 1760±100 (油脂)
判断する因子として油脂および蛋白質を用いるものであ
る。参照波長として水分、その他の成分の影響が小さい
1360nm(代表値)の赤外線、水分測定用赤外線と
して1320nm(代表値)、1450nm(代表
値)、1450nm(代表値)、1540nm(代表
値),1590nm(代表値)の波長の赤外線を用い、
性状測定用赤外線として油脂によって吸収されやすい1
320nm(代表値)、蛋白質によって吸収されやすい
1540nm(代表値)、1590nm(代表値)、油
脂によって吸収されやすい1760nm(代表値)の波
長の赤外線を用いて行うが、これらの波長には重複して
いるものがあるので、実際に使用する波長は6種とな
る。従って、回転ディスク43には、図7に示すよう
に、次の6種の干渉フィルタF1 〜F6 を取付ける。 フィルタ 通過波長帯域(nm) F1 1360±100 (参照) F2 1320±100 (水分及び油脂) F3 1450±100 (水分) F4 1540±100 (水分及び蛋白質) F5 1590±100 (水分及び蛋白質) F6 1760±100 (油脂)
【0035】各干渉フィルタF1 〜F6 は回転ディスク
43の同一円周上に取付けられており、ディスク回転モ
ータ44によって回転ディスク43が回転されると、各
干渉フィルタF1 〜F6 は、図6に示したように集光レ
ンズ42と反射板45の間の光路を順番に横切るように
なっている。
43の同一円周上に取付けられており、ディスク回転モ
ータ44によって回転ディスク43が回転されると、各
干渉フィルタF1 〜F6 は、図6に示したように集光レ
ンズ42と反射板45の間の光路を順番に横切るように
なっている。
【0036】なお、回転ディスク43の近傍には光セン
サ等によって回転ディスク43の回転位置を検出する回
転位置検出器49が配設されており、この回転位置検出
器49の位置検出によって上記光路位置に来た干渉フィ
ルタFの種類がアナログ処理部50で識別される。
サ等によって回転ディスク43の回転位置を検出する回
転位置検出器49が配設されており、この回転位置検出
器49の位置検出によって上記光路位置に来た干渉フィ
ルタFの種類がアナログ処理部50で識別される。
【0037】図8は本実施例の赤外線水分計を用いて水
分測定を行う工程を示す流れ図である。本図に示す順序
に従って水分測定方法を説明する。
分測定を行う工程を示す流れ図である。本図に示す順序
に従って水分測定方法を説明する。
【0038】光源41からの光は集光レンズ42で収束
されて回転ディスク43の干渉フィルタF1 〜F6 によ
って参照赤外線、油脂測定用赤外線、水分測定用赤外
線、蛋白質測定用赤外線にされ、反射板45を介して被
測定物Sに照射される。被測定物Sからの反射光は凹面
鏡46で集光されて凸面鏡47を介して赤外線検出器4
8に導かれ、この赤外線検出器48は受光量に応じたレ
ベルの電圧信号をアナログ処理部50に出力する。
されて回転ディスク43の干渉フィルタF1 〜F6 によ
って参照赤外線、油脂測定用赤外線、水分測定用赤外
線、蛋白質測定用赤外線にされ、反射板45を介して被
測定物Sに照射される。被測定物Sからの反射光は凹面
鏡46で集光されて凸面鏡47を介して赤外線検出器4
8に導かれ、この赤外線検出器48は受光量に応じたレ
ベルの電圧信号をアナログ処理部50に出力する。
【0039】赤外線検出器48からの電圧信号は回転デ
ィスク43の回転に伴って交流信号となり、この信号は
交流増幅部51で増幅されて同期整流部52に入力され
る。また、回転位置検出器49からの位置検出信号は同
期信号発生部53に入力され、この同期信号発生部53
は回転ディスク43の回転に伴って光学系40の光路を
横切るフィルタFの種類に応じた同期信号を発生して同
期整流部52に供給する。
ィスク43の回転に伴って交流信号となり、この信号は
交流増幅部51で増幅されて同期整流部52に入力され
る。また、回転位置検出器49からの位置検出信号は同
期信号発生部53に入力され、この同期信号発生部53
は回転ディスク43の回転に伴って光学系40の光路を
横切るフィルタFの種類に応じた同期信号を発生して同
期整流部52に供給する。
【0040】同期整流部52の出力端子は、フィルタF
の種類に対応して同期信号毎に予め設定されており、交
流増幅部51から入力される電圧信号について、油脂測
定用赤外線、水分測定用赤外線、蛋白質測定用赤外線に
よる電圧信号、参照赤外線による電圧信号をそれぞれ同
期信号から識別し、それぞれ整流して選択的に各出力端
子に出力する。そして、各電圧信号はデジタル処理部6
0に入力される。
の種類に対応して同期信号毎に予め設定されており、交
流増幅部51から入力される電圧信号について、油脂測
定用赤外線、水分測定用赤外線、蛋白質測定用赤外線に
よる電圧信号、参照赤外線による電圧信号をそれぞれ同
期信号から識別し、それぞれ整流して選択的に各出力端
子に出力する。そして、各電圧信号はデジタル処理部6
0に入力される。
【0041】デジタル処理部60は、A−D変換器等を
備えたアナログ入力部61、マイクロプロセッサ等で構
成された演算処理部62、測定結果を表示する表示部6
3を備えており、アナログ処理部50の同期整流部52
からの水分測定用赤外線、油脂測定用赤外線、蛋白質測
定用赤外線の電圧信号、参照赤外線の電圧信号は、アナ
ログ入力部61でそれぞれ電圧値を示すデジタルデータ
に変換され、このデジタルデータに基づいて演算処理部
62で水分値、性状判断因子が演算され、求められた水
分値、性状判断因子(混合比)が表示部63に表示され
る。
備えたアナログ入力部61、マイクロプロセッサ等で構
成された演算処理部62、測定結果を表示する表示部6
3を備えており、アナログ処理部50の同期整流部52
からの水分測定用赤外線、油脂測定用赤外線、蛋白質測
定用赤外線の電圧信号、参照赤外線の電圧信号は、アナ
ログ入力部61でそれぞれ電圧値を示すデジタルデータ
に変換され、このデジタルデータに基づいて演算処理部
62で水分値、性状判断因子が演算され、求められた水
分値、性状判断因子(混合比)が表示部63に表示され
る。
【0042】演算処理部62は、主波長が1320nm
の性状測定赤外線のデータ(X1 )、主波長が1540
nmの性状測定用赤外線のデータ(X2 )、主波長が1
590nmの性状測定用赤外線のデータ(X3 )、主波
長が1760nmの性状測定赤外線のデータ(X4 )及
び主波長が1360nmの参照赤外線のデータ(R)か
ら、例えば次式(1)により性状判断因子(M)を演算
する。ここで、性状判断因子(M)は、汚泥群Aと汚泥
群Bの混合比を示す。 M=a0 +a1 log(X1 /R)+a2 log(X2 /R) +a3 log(X3 /R)+a4 log(X4 /R) …(1) 今、log(X1 /R)=λ1 ,log(X2 /R)=
λ2 ,log(X3 /R)=λ3 ,log(X4 /R)
=λ4 とおけば、(1)式は次のように表される。な
お、λ1 〜λ4 は吸光度換算値である。 M=a0 +a1 λ1 +a2 λ2 +a3 λ3 +a4 λ4 …(2) ここで、a0 ,a1 ,a2 ,a3 ,a4 は別に行った実
験により求められた定数である。
の性状測定赤外線のデータ(X1 )、主波長が1540
nmの性状測定用赤外線のデータ(X2 )、主波長が1
590nmの性状測定用赤外線のデータ(X3 )、主波
長が1760nmの性状測定赤外線のデータ(X4 )及
び主波長が1360nmの参照赤外線のデータ(R)か
ら、例えば次式(1)により性状判断因子(M)を演算
する。ここで、性状判断因子(M)は、汚泥群Aと汚泥
群Bの混合比を示す。 M=a0 +a1 log(X1 /R)+a2 log(X2 /R) +a3 log(X3 /R)+a4 log(X4 /R) …(1) 今、log(X1 /R)=λ1 ,log(X2 /R)=
λ2 ,log(X3 /R)=λ3 ,log(X4 /R)
=λ4 とおけば、(1)式は次のように表される。な
お、λ1 〜λ4 は吸光度換算値である。 M=a0 +a1 λ1 +a2 λ2 +a3 λ3 +a4 λ4 …(2) ここで、a0 ,a1 ,a2 ,a3 ,a4 は別に行った実
験により求められた定数である。
【0043】すなわち、汚泥群Aと汚泥群Bとを予定比
率で混合することにより混合比が既知である汚泥ケ−キ
を複数サンプル作り、この赤外線水分測定装置で測定し
たときの性状測定用赤外線のデータ(X1 ,X2 ,
X3 ,X4 )及び参照赤外線のデータ(R)と既知な混
合比とにより重回帰分析を行って求められた定数であ
る。
率で混合することにより混合比が既知である汚泥ケ−キ
を複数サンプル作り、この赤外線水分測定装置で測定し
たときの性状測定用赤外線のデータ(X1 ,X2 ,
X3 ,X4 )及び参照赤外線のデータ(R)と既知な混
合比とにより重回帰分析を行って求められた定数であ
る。
【0044】汚泥群Aと汚泥群Bとを予定比率で混合し
て作った汚泥ケ−キについて測定した例を示す。 a0 = 42.5 a1 =83557.6 a2 = 1029 a3 = 5784.2 a4 = 2513.6 これらの定数が演算処理部62のメモリに記憶される。
これらの定数を(2)式に代入すると性状判断因子
(M)は次のように表される。 M=42.5+83557.6λ1 +1029λ2 +5784.2λ3 +2513.6λ4 …(3)
て作った汚泥ケ−キについて測定した例を示す。 a0 = 42.5 a1 =83557.6 a2 = 1029 a3 = 5784.2 a4 = 2513.6 これらの定数が演算処理部62のメモリに記憶される。
これらの定数を(2)式に代入すると性状判断因子
(M)は次のように表される。 M=42.5+83557.6λ1 +1029λ2 +5784.2λ3 +2513.6λ4 …(3)
【0045】演算処理部62は、参照赤外線のデータ
(R)と水分測定用赤外線のデータ(S1 ,S2 ,
S3 ,S4 )から、次式(4)により水分値(W)を演
算する。 W=α0 +α1 log(R/S1 )+α2 log(R/S2 ) +α3 log(R/S3 )+α4 log(R/S4 ) …(4) 今、log(R/S1 )=Y1 ,log(R/S2 )=
Y2 ,log(R/S3)=Y3 ,log(R/S4 )
=Y4 とおけば、(4)式は次のように表される。 W=α0 +α1 Y1 +α2 Y2 +α3 Y3 +α4 Y4 …(5) ここで、α0 ,α1 ,α2 ,α3 ,α4 は別に行った実
験により求められる定数である。すなわち、汚泥群Aと
汚泥群Bとの代表的な混合比を有する汚泥ケ−キについ
て、水分値の異なるものを複数サンプル作り、この赤外
線水分測定装置で測定したときの水分測定用赤外線のデ
ータ(S1 ,S2 ,S3 ,S4 )及び参照赤外線のデー
タ(R)と既知な混合比とにより重回帰分析を行って求
められた定数である。このようにして求められた複数組
の定数が図示しないメモリに記憶されている。
(R)と水分測定用赤外線のデータ(S1 ,S2 ,
S3 ,S4 )から、次式(4)により水分値(W)を演
算する。 W=α0 +α1 log(R/S1 )+α2 log(R/S2 ) +α3 log(R/S3 )+α4 log(R/S4 ) …(4) 今、log(R/S1 )=Y1 ,log(R/S2 )=
Y2 ,log(R/S3)=Y3 ,log(R/S4 )
=Y4 とおけば、(4)式は次のように表される。 W=α0 +α1 Y1 +α2 Y2 +α3 Y3 +α4 Y4 …(5) ここで、α0 ,α1 ,α2 ,α3 ,α4 は別に行った実
験により求められる定数である。すなわち、汚泥群Aと
汚泥群Bとの代表的な混合比を有する汚泥ケ−キについ
て、水分値の異なるものを複数サンプル作り、この赤外
線水分測定装置で測定したときの水分測定用赤外線のデ
ータ(S1 ,S2 ,S3 ,S4 )及び参照赤外線のデー
タ(R)と既知な混合比とにより重回帰分析を行って求
められた定数である。このようにして求められた複数組
の定数が図示しないメモリに記憶されている。
【0046】演算処理部62は、先ず、性状測定用赤外
線のデータ(X1 ,X2 ,X3 ,X 4 )と参照赤外線の
データ(R)から性状判断因子(M)を求め、この性状
判断因子(M)に対応する係数(α0 ,α1 ,α2 ,α
3 ,α4 )をメモリから選択する。次に、この選択され
た係数(α0 ,α1 ,α2 ,α3 ,α4 )を用いて、水
分測定用赤外線のデータ(S1 ,S2 ,S3 ,S4 )と
参照赤外線のデータ(R)から水分値(W)を求める。
そして、この水分値(W)と先に求めた混合比(性状判
断因子(M))を表示部63に表示する。
線のデータ(X1 ,X2 ,X3 ,X 4 )と参照赤外線の
データ(R)から性状判断因子(M)を求め、この性状
判断因子(M)に対応する係数(α0 ,α1 ,α2 ,α
3 ,α4 )をメモリから選択する。次に、この選択され
た係数(α0 ,α1 ,α2 ,α3 ,α4 )を用いて、水
分測定用赤外線のデータ(S1 ,S2 ,S3 ,S4 )と
参照赤外線のデータ(R)から水分値(W)を求める。
そして、この水分値(W)と先に求めた混合比(性状判
断因子(M))を表示部63に表示する。
【0047】次に、係数(α0 ,α1 ,α2 ,α3 ,α
4 )の求め方を実例をもとにして具体的に説明する。ま
ず、汚泥群Aと汚泥群Bの混合比を変えた汚泥ケ−キの
サンプルを用意する。混合比の変え方は任意であるが、
ここでは予備実験で最も良い結果が得られた混合比0〜
25%、25〜75%、75〜100%の3グル−プに
分け、各グル−プから代表的混合比を選び、その各々に
ついて水分値を変えたサンプルを複数個用意する。これ
らのサンプルについて水分値(W)を測定し、係数(α
0 ,α 1 ,α2 ,α3 ,α4 )を求めた。その結果は、
次の通りである。 (1)汚泥群A (混合比(M):0〜25%) W=70+3562.6Y1 +358.4Y2 +734.3Y3 +73.1Y4 …(6) 〔2)汚泥群Aと汚泥群Bの混合汚泥 (混合比(M):25〜75%) W=88+1921Y1 −616.9Y2 +2464.6Y3 −958.3Y4 …(7) 〔3)汚泥群B (混合比(M):75〜100%) W=120−93.3Y1 +413.7Y2 −1400.7Y3 +1425.7Y4 …(8) この3つの式は、それぞれ検量線を表す式である。以上
の実験により得られた係数(α0 ,α1 ,α2 ,α3 ,
α4 )が演算処理部62のメモリに記憶される。
4 )の求め方を実例をもとにして具体的に説明する。ま
ず、汚泥群Aと汚泥群Bの混合比を変えた汚泥ケ−キの
サンプルを用意する。混合比の変え方は任意であるが、
ここでは予備実験で最も良い結果が得られた混合比0〜
25%、25〜75%、75〜100%の3グル−プに
分け、各グル−プから代表的混合比を選び、その各々に
ついて水分値を変えたサンプルを複数個用意する。これ
らのサンプルについて水分値(W)を測定し、係数(α
0 ,α 1 ,α2 ,α3 ,α4 )を求めた。その結果は、
次の通りである。 (1)汚泥群A (混合比(M):0〜25%) W=70+3562.6Y1 +358.4Y2 +734.3Y3 +73.1Y4 …(6) 〔2)汚泥群Aと汚泥群Bの混合汚泥 (混合比(M):25〜75%) W=88+1921Y1 −616.9Y2 +2464.6Y3 −958.3Y4 …(7) 〔3)汚泥群B (混合比(M):75〜100%) W=120−93.3Y1 +413.7Y2 −1400.7Y3 +1425.7Y4 …(8) この3つの式は、それぞれ検量線を表す式である。以上
の実験により得られた係数(α0 ,α1 ,α2 ,α3 ,
α4 )が演算処理部62のメモリに記憶される。
【0048】図9は上記の汚泥群Aの汚泥ケ−キについ
ての乾燥法と赤外線水分計による水分の測定結果を示す
相関図である。乾燥法による水分値に対して赤外線水分
計による水分値が線形になり、(6)式を適用すること
により測定誤差が小さく、精度の高い測定値が得られる
ことが判る。
ての乾燥法と赤外線水分計による水分の測定結果を示す
相関図である。乾燥法による水分値に対して赤外線水分
計による水分値が線形になり、(6)式を適用すること
により測定誤差が小さく、精度の高い測定値が得られる
ことが判る。
【0049】図10は上記の混合汚泥の汚泥ケ−キにつ
いての乾燥法と赤外線水分計による水分の測定結果を示
す相関図である。乾燥法による水分値に対して赤外線水
分計による水分値が線形になり、(7)式を適用するこ
とにより測定誤差が小さく、精度の高い測定値が得られ
ることが判る。
いての乾燥法と赤外線水分計による水分の測定結果を示
す相関図である。乾燥法による水分値に対して赤外線水
分計による水分値が線形になり、(7)式を適用するこ
とにより測定誤差が小さく、精度の高い測定値が得られ
ることが判る。
【0050】図11は上記の汚泥群Bの汚泥ケ−キにつ
いての乾燥法と赤外線水分計による水分の測定結果を示
す相関図である。乾燥法による水分値に対して赤外線水
分計による水分値が線形になり、(8)式を適用するこ
とにより測定誤差が小さく、精度の高い測定値が得られ
ることが判る。
いての乾燥法と赤外線水分計による水分の測定結果を示
す相関図である。乾燥法による水分値に対して赤外線水
分計による水分値が線形になり、(8)式を適用するこ
とにより測定誤差が小さく、精度の高い測定値が得られ
ることが判る。
【0051】以上が実験により得られた結果であり、
乾燥法による水分値に対して赤外線水分測定装置による
水分値が線形になり、測定誤差が小さく、精度の高い測
定値が得られることが判る。
乾燥法による水分値に対して赤外線水分測定装置による
水分値が線形になり、測定誤差が小さく、精度の高い測
定値が得られることが判る。
【0052】ル−チン・ワ−クとして水分測定を行うと
きには、演算処理部62は、まず、(3)式により混合
比(性状判断因子(M))を演算により求め、次にMの
値が何%であるかによって(6),(7),(8)式の
いずれかを選んで演算により水分値(W)を求める。こ
の式の選択が検量線選択である。上記した実施例では汚
泥の性状を判断する因子として油脂及び蛋白質を用いた
が、水分を測定する被測定物に混合される物質に応じて
種々の因子を用いることができる。
きには、演算処理部62は、まず、(3)式により混合
比(性状判断因子(M))を演算により求め、次にMの
値が何%であるかによって(6),(7),(8)式の
いずれかを選んで演算により水分値(W)を求める。こ
の式の選択が検量線選択である。上記した実施例では汚
泥の性状を判断する因子として油脂及び蛋白質を用いた
が、水分を測定する被測定物に混合される物質に応じて
種々の因子を用いることができる。
【0053】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ベルトプレス型脱水機の脱水ケーキ出口近傍に赤外線水
分計を配設し、この脱水ケーキ出口から排出される脱水
ケーキの表面に対して赤外線水分計で含水率の測定を行
うようにしたので、ベルトプレス型脱水機における脱水
ケーキの含水率を、即座に、かつ、誤差を低減して測定
することができる。前記赤外線水分計は、被測定物の含
水量により赤外線吸収量が変化する水分測定用赤外線と
被測定物の性状の差により赤外線吸収量が変化する性状
測定用赤外線とを被測定物に照射し、この性状測定用赤
外線の反射光量に基づいて性状判断因子(混合比)Mを
演算により求め、Mの値が何%であるかによって3つの
水分値(W)を求める式のうちのいずれかを選んで水分
値(W)を求めるようにしたので、被測定物の性状の違
いによる測定誤差を低減することができる。
ベルトプレス型脱水機の脱水ケーキ出口近傍に赤外線水
分計を配設し、この脱水ケーキ出口から排出される脱水
ケーキの表面に対して赤外線水分計で含水率の測定を行
うようにしたので、ベルトプレス型脱水機における脱水
ケーキの含水率を、即座に、かつ、誤差を低減して測定
することができる。前記赤外線水分計は、被測定物の含
水量により赤外線吸収量が変化する水分測定用赤外線と
被測定物の性状の差により赤外線吸収量が変化する性状
測定用赤外線とを被測定物に照射し、この性状測定用赤
外線の反射光量に基づいて性状判断因子(混合比)Mを
演算により求め、Mの値が何%であるかによって3つの
水分値(W)を求める式のうちのいずれかを選んで水分
値(W)を求めるようにしたので、被測定物の性状の違
いによる測定誤差を低減することができる。
【図1】本発明の一実施例の赤外線水分計を備えた脱水
装置の概略を示す図である。
装置の概略を示す図である。
【図2】図1に示す実施例における赤外線水分計と移動
機構の取付け部分の正面図である。
機構の取付け部分の正面図である。
【図3】図1に示す実施例における赤外線水分計と移動
機構の取付け部分の平面図である。
機構の取付け部分の平面図である。
【図4】図1に示す実施例における赤外線水分計と移動
機構の取付け部分の側面図である。
機構の取付け部分の側面図である。
【図5】ベルトプレス型脱水機の濾布の幅方向における
脱水性の分布の一例を示す分布図である。
脱水性の分布の一例を示す分布図である。
【図6】図1に示す赤外線水分計のブロック図である。
【図7】図6の回転ディスクの上面図である。
【図8】本実施例の赤外線水分計を用いて水分測定を行
う手順を示す流れ図である。
う手順を示す流れ図である。
【図9】汚泥群Aの汚泥ケ−キについての乾燥法と赤外
線水分計による水分の測定結果を示す相関図である。
線水分計による水分の測定結果を示す相関図である。
【図10】汚泥群Aと汚泥群Bの混合汚泥の汚泥ケ−キ
についての乾燥法と赤外線水分計による水分の測定結果
を示す相関図である。
についての乾燥法と赤外線水分計による水分の測定結果
を示す相関図である。
【図11】汚泥群Bの汚泥ケ−キについての乾燥法と赤
外線水分計による水分の測定結果を示す相関図である。
外線水分計による水分の測定結果を示す相関図である。
1 ベルトプレス型脱水機 2 赤外線水分計 3 移動機構 11 第1濾布 12 第2濾布 40 光学系 43 回転ディスク 44 ディスク回転モ−タ 46 凹面鏡 47 凸面鏡 48 赤外線検出器 49 回転位置検出器 50 アナログ処理部 60 デジタル処理部 F 干渉フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C02F 11/12 ZAB D 7446−4D // B30B 9/24 Z (72)発明者 中村 賢三 東京都千代田区大手町2丁目6番2号 東 京都下水道サービス株式会社内 (72)発明者 林 知幸 埼玉県戸田市川岸1丁目4番9号 オルガ ノ株式会社総合研究所内 (72)発明者 今濱 敏信 埼玉県戸田市川岸1丁目4番9号 オルガ ノ株式会社総合研究所内 (72)発明者 綱川 順之 東京都品川区東品川4丁目12番62号 日本 たばこ産業株式会社内 (72)発明者 河副 定次 神奈川県平塚市黒部丘1番31号 日本たば こ産業株式会社生産技術開発センター内 (72)発明者 庄司 昌希 東京都品川区東品川4丁目12番62号 日本 たばこ産業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項1】 汚泥を固液分離するベルトプレス型脱水
機と該ベルトプレス型脱水機で脱水された脱水ケーキの
含水率を測定する赤外線水分計とを具備し、 前記赤外線水分計が、前記ベルトプレス型脱水機の脱水
ケーキ出口に対向するように配設されていることを特徴
とする赤外線水分計を備えた脱水装置。 - 【請求項2】 前記赤外線水分計が、該赤外線水分計を
前記脱水ケーキ出口の濾布の幅方向に任意の速度で往復
移動可能にする移動機構によって保持されていることを
特徴とする請求項1記載の赤外線水分計を備えた脱水装
置。 - 【請求項3】 前記移動機構が、前記赤外線水分計を前
記濾布の走行速度に同調する速度で移動させるように構
成されていることを特徴とする請求項2記載の赤外線水
分計を備えた脱水装置。 - 【請求項4】 前記赤外線水分計が、被測定物の含水量
により赤外線吸収量が変化する水分測定用赤外線と被測
定物の性状により赤外線吸収量が変化する性状測定用赤
外線とを被測定物に照射すると共にこの被測定物からの
これら赤外線の反射光を受光する光学系と、前記光学系
で受光した前記性状測定用赤外線の反射光量に基づいて
性状判断因子を算出し、この性状判断因子に対応する水
分測定の検量線を選択する検量線選択手段と、前記光学
系で受光した前記水分測定用赤外線の反射光量と前記選
択された検量線の情報とに基づいて水分値を演算する水
分値演算手段とを備えたことを特徴とする請求項1また
は請求項2または請求項3記載の赤外線水分計を備えた
脱水装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30647193A JPH06281570A (ja) | 1993-01-29 | 1993-12-07 | 赤外線水分計を備えた脱水装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-13655 | 1993-01-29 | ||
| JP1365593 | 1993-01-29 | ||
| JP30647193A JPH06281570A (ja) | 1993-01-29 | 1993-12-07 | 赤外線水分計を備えた脱水装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06281570A true JPH06281570A (ja) | 1994-10-07 |
Family
ID=26349484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30647193A Pending JPH06281570A (ja) | 1993-01-29 | 1993-12-07 | 赤外線水分計を備えた脱水装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06281570A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002273495A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-24 | Tokyoto Gesuido Service Kk | 汚泥脱水装置及び方法 |
| JP2015028446A (ja) * | 2013-07-30 | 2015-02-12 | 鹿島建設株式会社 | 地盤材料の水分量計測方法及びシステム |
| JP2021037508A (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-11 | 水ing株式会社 | 脱水システム |
| WO2022168965A1 (ja) * | 2021-02-08 | 2022-08-11 | 株式会社日立製作所 | 汚泥処理設備運転支援ナビゲーションシステム、汚泥処理設備運転支援方法 |
| JP2022121356A (ja) * | 2021-02-08 | 2022-08-19 | 株式会社日立製作所 | 汚泥処理設備運転支援ナビゲーションシステム、汚泥処理設備運転支援方法 |
| CN116399646A (zh) * | 2023-04-10 | 2023-07-07 | 绍兴市三合检测技术有限公司 | 一种深度脱水污泥含水量检测装置 |
-
1993
- 1993-12-07 JP JP30647193A patent/JPH06281570A/ja active Pending
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| CN116399646A (zh) * | 2023-04-10 | 2023-07-07 | 绍兴市三合检测技术有限公司 | 一种深度脱水污泥含水量检测装置 |
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