JPH06282809A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH06282809A JPH06282809A JP7174693A JP7174693A JPH06282809A JP H06282809 A JPH06282809 A JP H06282809A JP 7174693 A JP7174693 A JP 7174693A JP 7174693 A JP7174693 A JP 7174693A JP H06282809 A JPH06282809 A JP H06282809A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高密度記録に伴って記録周波数が高くなり、
磁気ヘッドのインダクタンスが小さくなっても、ヘッド
の再生出力が低下することのないようにする。 【構成】 非磁性体膜を高飽和磁束密度を有する金属磁
性膜４で挟み磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにおい
て、上記金属磁性膜４を配置させた非磁性体Ｉ型半体コ
ア２と、上記金属磁性膜４を配置させた強磁性体Ｃ型半
体コア５とからなり、上記非磁性体Ｉ型半体コア２に磁
気ギャップｇと非平行な斜面部３を設け、上記斜面部３
上に金属磁性膜４を配置している。
磁気ヘッドのインダクタンスが小さくなっても、ヘッド
の再生出力が低下することのないようにする。 【構成】 非磁性体膜を高飽和磁束密度を有する金属磁
性膜４で挟み磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにおい
て、上記金属磁性膜４を配置させた非磁性体Ｉ型半体コ
ア２と、上記金属磁性膜４を配置させた強磁性体Ｃ型半
体コア５とからなり、上記非磁性体Ｉ型半体コア２に磁
気ギャップｇと非平行な斜面部３を設け、上記斜面部３
上に金属磁性膜４を配置している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲ，ＨＤＤやＦＤ
Ｄ装置などに搭載される高密度記録用磁気ヘッド及びそ
の製造方法に関する。
Ｄ装置などに搭載される高密度記録用磁気ヘッド及びそ
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＶＴＲ装置などに使用される高密
度記録用の磁気ヘッドとしては、例えば図１０に示すＭ
ＩＧヘッド３１がある。このヘッドは、フェライト等の
強磁性体からなる一対のコア３２−３２を接合一体化し
たコアチップからなり、一対のコア３２の接合面に高飽
和磁束密度を有するセンダスト等の金属磁性膜３３を被
着形成し、ギャップスペーサーとなるＳｉＯ2 等の非磁
性膜［図示せず］を介在させることによりコアチップ３
１の媒体摺動面３４に磁気ギャップｇが形成される。
度記録用の磁気ヘッドとしては、例えば図１０に示すＭ
ＩＧヘッド３１がある。このヘッドは、フェライト等の
強磁性体からなる一対のコア３２−３２を接合一体化し
たコアチップからなり、一対のコア３２の接合面に高飽
和磁束密度を有するセンダスト等の金属磁性膜３３を被
着形成し、ギャップスペーサーとなるＳｉＯ2 等の非磁
性膜［図示せず］を介在させることによりコアチップ３
１の媒体摺動面３４に磁気ギャップｇが形成される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したＭ
ＩＧヘッドには、以下のような問題があった。
ＩＧヘッドには、以下のような問題があった。
【０００４】ＭＩＧヘッドでは、磁路を主に構成する物
質がフェライト等の強磁性体であるので、その製造の必
然性より磁路の断面積Ｓ2 が広い。従って、ヘッドのイ
ンダクタンスＬが大きくなりやすく、高い記録周波数で
記録する際、記録電流波形が時間とともに急峻に立ち上
がりにくく、高い記録周波数での記録が困難であった。
質がフェライト等の強磁性体であるので、その製造の必
然性より磁路の断面積Ｓ2 が広い。従って、ヘッドのイ
ンダクタンスＬが大きくなりやすく、高い記録周波数で
記録する際、記録電流波形が時間とともに急峻に立ち上
がりにくく、高い記録周波数での記録が困難であった。
【０００５】また、ＭＩＧヘッドでは、コアの外形形状
を変えずにインダクタンスＬを小さくするためには、磁
路の断面積Ｓ2 を狭くすることが必要であるが、その手
段として巻線窓長さｌを長くするかあるいは、チップコ
ア厚みＴを薄くする方法がある。しかし、前者では、磁
路長が長くなるため磁気抵抗が増し、再生効率が低下
し、かえって出力が低くなってしまうという問題点があ
り、後者の場合、コアチップが薄いためコアチップが割
れやすく、巻線等の組立工程が困難になるという問題点
があった。
を変えずにインダクタンスＬを小さくするためには、磁
路の断面積Ｓ2 を狭くすることが必要であるが、その手
段として巻線窓長さｌを長くするかあるいは、チップコ
ア厚みＴを薄くする方法がある。しかし、前者では、磁
路長が長くなるため磁気抵抗が増し、再生効率が低下
し、かえって出力が低くなってしまうという問題点があ
り、後者の場合、コアチップが薄いためコアチップが割
れやすく、巻線等の組立工程が困難になるという問題点
があった。
【０００６】そこで、本発明は上記問題点に鑑みて提案
されたもので、その目的とするところは、ヘッドのイン
ダクタンスを低くすることができ、高い記録周波数で記
録してもヘッド出力が低下することなく、而も、コアチ
ップの機械的強度も低下しない磁気ヘッド及びその製造
方法を提供することにある。
されたもので、その目的とするところは、ヘッドのイン
ダクタンスを低くすることができ、高い記録周波数で記
録してもヘッド出力が低下することなく、而も、コアチ
ップの機械的強度も低下しない磁気ヘッド及びその製造
方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の技術的手段として、本発明における磁気ヘッドは、非
磁性体膜を高飽和磁束密度を有する金属磁性膜で挟み磁
気ギャップを形成した磁気ヘッドにおいて、上記高飽和
磁束密度を有する金属磁性膜を配置させた非磁性体Ｉ型
半体コアと、上記高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を
配置させた強磁性体Ｃ半体コアとからなることを特徴と
する。
の技術的手段として、本発明における磁気ヘッドは、非
磁性体膜を高飽和磁束密度を有する金属磁性膜で挟み磁
気ギャップを形成した磁気ヘッドにおいて、上記高飽和
磁束密度を有する金属磁性膜を配置させた非磁性体Ｉ型
半体コアと、上記高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を
配置させた強磁性体Ｃ半体コアとからなることを特徴と
する。
【０００８】上記磁気ヘッドにおいて、非磁性体Ｉ型半
体コアには、磁気ギャップと非平行な斜面部を設け、そ
の斜面部上に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を配置
していることを特徴としている。
体コアには、磁気ギャップと非平行な斜面部を設け、そ
の斜面部上に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を配置
していることを特徴としている。
【０００９】さらに、上記高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜の斜面に沿った方向の長さを０．０３ｍｍから
０．３ｍｍとすることを特徴としている。
磁性膜の斜面に沿った方向の長さを０．０３ｍｍから
０．３ｍｍとすることを特徴としている。
【００１０】また、本発明における磁気ヘッドの製造方
法は、非磁性体長尺ブロックの接合予定面にその短手方
向に沿って複数の斜面部を有する溝を形成し、その溝内
に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を所定のトラック
幅が得られる厚みで被着形成した上でその金属磁性膜上
に非磁性体を充填し、非磁性体長尺ブロックの接合面を
鏡面研磨仕上げする工程と、強磁性体長尺ブロックの鏡
面研磨仕上げされた接合面に、その短手方向に沿って所
定のトラック溝を残して複数のトラック溝を形成し、そ
の接合面に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を被着形
成する工程と、上記非磁性体長尺ブロックと、強磁性体
コアブロックとをその接合面間にギャップスペーサーと
なる非磁性膜を介して突き合わせて接合一体化する工程
と、接合一体化された長尺ブロックを、その短手方向に
沿ってスライスし、薄板状のコアチップを得る工程とか
らなることを特徴とする。
法は、非磁性体長尺ブロックの接合予定面にその短手方
向に沿って複数の斜面部を有する溝を形成し、その溝内
に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を所定のトラック
幅が得られる厚みで被着形成した上でその金属磁性膜上
に非磁性体を充填し、非磁性体長尺ブロックの接合面を
鏡面研磨仕上げする工程と、強磁性体長尺ブロックの鏡
面研磨仕上げされた接合面に、その短手方向に沿って所
定のトラック溝を残して複数のトラック溝を形成し、そ
の接合面に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を被着形
成する工程と、上記非磁性体長尺ブロックと、強磁性体
コアブロックとをその接合面間にギャップスペーサーと
なる非磁性膜を介して突き合わせて接合一体化する工程
と、接合一体化された長尺ブロックを、その短手方向に
沿ってスライスし、薄板状のコアチップを得る工程とか
らなることを特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明に係る磁気ヘッドでは、非磁性体Ｉ型半
体コアでは高飽和磁束密度を有する金属磁性膜のみで磁
路が構成されている結果、その断面積を狭くすることが
容易となり、そのヘッドのインダクタンスを小さくする
ことができるため高い周波数での記録が容易に行える。
而も、フェライト等に比較し、金属磁性膜の有する飽和
磁束密度が大きいため、その断面積を狭くしても、再生
時磁気ギャップから流入した磁気媒体からの磁束をコア
外部へ漏洩することがなく、再生出力の低下を未然に防
止できる。
体コアでは高飽和磁束密度を有する金属磁性膜のみで磁
路が構成されている結果、その断面積を狭くすることが
容易となり、そのヘッドのインダクタンスを小さくする
ことができるため高い周波数での記録が容易に行える。
而も、フェライト等に比較し、金属磁性膜の有する飽和
磁束密度が大きいため、その断面積を狭くしても、再生
時磁気ギャップから流入した磁気媒体からの磁束をコア
外部へ漏洩することがなく、再生出力の低下を未然に防
止できる。
【００１２】また、非磁性体Ｉ型半体コアの体積は、お
もに非磁性体で構成されているため、必要以上に小さく
する必要はないことから、コアチップの機械的強度を下
げることなしに巻線等の組立工程が行え、コアチップが
割れやすいということはない。
もに非磁性体で構成されているため、必要以上に小さく
する必要はないことから、コアチップの機械的強度を下
げることなしに巻線等の組立工程が行え、コアチップが
割れやすいということはない。
【００１３】
【実施例１】本発明に係る磁気ヘッド及びその製造方法
の実施例を図１乃至図９に示して説明する。
の実施例を図１乃至図９に示して説明する。
【００１４】まず、本発明に係るＶＴＲ用磁気ヘッドコ
アチップ１を図１に示す。この磁気ヘッドは、同図に示
すように、非磁性体Ｉ型半体コア２に磁気ギャップｇと
非平行な斜面部３を形成している。その斜面部３上に、
センダスト等の高飽和磁束密度を有する金属磁性膜４を
設け、強磁性体Ｃ型半体コア５の接合面にセンダスト等
の高飽和磁束密度を有する金属磁性膜４を設け、上記非
磁性体Ｉ型半体コア２と強磁性体Ｃ型半体コア５との接
合面間に、ギャップスペーサーとなるＳｉＯ2等の非磁
性体膜（図示せず）を介在させることによりコアチップ
１の媒体摺動面６に磁気ギャップｇを形成する。
アチップ１を図１に示す。この磁気ヘッドは、同図に示
すように、非磁性体Ｉ型半体コア２に磁気ギャップｇと
非平行な斜面部３を形成している。その斜面部３上に、
センダスト等の高飽和磁束密度を有する金属磁性膜４を
設け、強磁性体Ｃ型半体コア５の接合面にセンダスト等
の高飽和磁束密度を有する金属磁性膜４を設け、上記非
磁性体Ｉ型半体コア２と強磁性体Ｃ型半体コア５との接
合面間に、ギャップスペーサーとなるＳｉＯ2等の非磁
性体膜（図示せず）を介在させることによりコアチップ
１の媒体摺動面６に磁気ギャップｇを形成する。
【００１５】この実施例によれば、非磁性体Ｉ型半体コ
ア２側では、センダスト等の高飽和磁束密度を有する金
属磁性膜４のみで、磁路が構成されていることになるの
で、その断面積Ｓ1 が狭く、ヘッドのインダクタンスＬ
を小さくすることができ、高い周波数で記録しても記録
電流波形が時間とともに急峻に立ち上がりやすいため、
高密度記録が容易に実現できる。
ア２側では、センダスト等の高飽和磁束密度を有する金
属磁性膜４のみで、磁路が構成されていることになるの
で、その断面積Ｓ1 が狭く、ヘッドのインダクタンスＬ
を小さくすることができ、高い周波数で記録しても記録
電流波形が時間とともに急峻に立ち上がりやすいため、
高密度記録が容易に実現できる。
【００１６】しかも、フェライトに比較し、センダスト
等の金属磁性膜４の有する飽和磁束密度が大きいため、
その断面積Ｓ1 を狭くしても、再生時記録媒体から磁気
ギャップへ流入した磁束をコア外部へ漏洩することがな
く、再生出力を低下させることがない。
等の金属磁性膜４の有する飽和磁束密度が大きいため、
その断面積Ｓ1 を狭くしても、再生時記録媒体から磁気
ギャップへ流入した磁束をコア外部へ漏洩することがな
く、再生出力を低下させることがない。
【００１７】また、非磁性体Ｉ型半体コア２は、非磁性
体で機械的に補強されているため、体積が大きくても磁
路にはならないため必要以上に小さくする必要はなく、
コアチップ１の機械的強度を低下させることなく、巻線
等の組立工程でコアチップ１を損傷させる恐れがない。
体で機械的に補強されているため、体積が大きくても磁
路にはならないため必要以上に小さくする必要はなく、
コアチップ１の機械的強度を低下させることなく、巻線
等の組立工程でコアチップ１を損傷させる恐れがない。
【００１８】さらに、上記金属磁性膜４の斜面部３方向
に沿った長さＬが０．０３ｍｍより短くなると磁路の断
面積が狭くなりすぎ、磁気抵抗が大きくなり再生出力を
低下させる恐れがあり、また上記長さＬが０．３ｍｍよ
り大きくなるとヘッドのインダクタンスが大きくなりや
すく、高い周波数での記録が困難となり、高密度記録再
生ができない恐れがあるため、上記金属磁性膜４の斜面
部３方向に沿った長さＬは０．０３ｍｍから０．３ｍｍ
の間であることが望ましい。
に沿った長さＬが０．０３ｍｍより短くなると磁路の断
面積が狭くなりすぎ、磁気抵抗が大きくなり再生出力を
低下させる恐れがあり、また上記長さＬが０．３ｍｍよ
り大きくなるとヘッドのインダクタンスが大きくなりや
すく、高い周波数での記録が困難となり、高密度記録再
生ができない恐れがあるため、上記金属磁性膜４の斜面
部３方向に沿った長さＬは０．０３ｍｍから０．３ｍｍ
の間であることが望ましい。
【００１９】次に本発明における磁気ヘッドの製造方法
を図５から図９に示す。
を図５から図９に示す。
【００２０】図５に示すように、非磁性体長尺ブロック
１１同士の接合予定面に、その短手方向に沿って複数の
Ｖ字溝１２を所定の間隔で切削加工にて形成し、そのＶ
字溝１２内にセンダスト等の高飽和磁束密度を有する金
属磁性膜１３を所定のトラック幅が得られる厚みだけ被
着形成する。ここで、図示しないが、上記金属磁性膜１
３とＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3 等の絶縁薄膜とを交互に積層
したラミネート層を形成するようにしてもよいのは勿論
である。
１１同士の接合予定面に、その短手方向に沿って複数の
Ｖ字溝１２を所定の間隔で切削加工にて形成し、そのＶ
字溝１２内にセンダスト等の高飽和磁束密度を有する金
属磁性膜１３を所定のトラック幅が得られる厚みだけ被
着形成する。ここで、図示しないが、上記金属磁性膜１
３とＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3 等の絶縁薄膜とを交互に積層
したラミネート層を形成するようにしてもよいのは勿論
である。
【００２１】次に、上記金属磁性膜１３上に、低融点ガ
ラス等の非磁性体１４を充填し、非磁性体長尺ブロック
１１の接合面１５を鏡面研磨仕上げし、図７に示す非磁
性体長尺ブロック１１を得る。
ラス等の非磁性体１４を充填し、非磁性体長尺ブロック
１１の接合面１５を鏡面研磨仕上げし、図７に示す非磁
性体長尺ブロック１１を得る。
【００２２】また、図８に示すように、強磁性体長尺ブ
ロック１６の鏡面研磨仕上げされた接合予定面１５に、
その短手方向に沿って所定のトラック幅を残して、複数
のトラック溝１８を形成し、その接合面予定１５にセン
ダスト等の高飽和磁束密度を有する金属磁性膜１３を被
着形成する。
ロック１６の鏡面研磨仕上げされた接合予定面１５に、
その短手方向に沿って所定のトラック幅を残して、複数
のトラック溝１８を形成し、その接合面予定１５にセン
ダスト等の高飽和磁束密度を有する金属磁性膜１３を被
着形成する。
【００２３】次に、図９に示すように、上記非磁性体長
尺ブロック１１と強磁性体長尺ブロック１６とをその接
合面１５間にギャップスペーサーとなるＳｉＯ2 あるい
はＡｌ2 Ｏ3 等の非磁性膜（図示せず）を介在して突き
合わせて加熱し、接合一体化し、図９に示す長尺コアブ
ロック１７を得る。そして、上記長尺コアブロック１７
を定ピッチでスライスして、図１に示すコアチップ１を
得る。ここで、図９ｂは図９ａのＣ部の拡大平面図を示
し、ｇが磁気ギャップを構成している。
尺ブロック１１と強磁性体長尺ブロック１６とをその接
合面１５間にギャップスペーサーとなるＳｉＯ2 あるい
はＡｌ2 Ｏ3 等の非磁性膜（図示せず）を介在して突き
合わせて加熱し、接合一体化し、図９に示す長尺コアブ
ロック１７を得る。そして、上記長尺コアブロック１７
を定ピッチでスライスして、図１に示すコアチップ１を
得る。ここで、図９ｂは図９ａのＣ部の拡大平面図を示
し、ｇが磁気ギャップを構成している。
【００２４】
【実施例２】図２は、この発明の第２実施例を示したＨ
ＤＤ用磁気ヘッド２１である。図２ｂは、図２ａのＡ部
の拡大斜視図を示す。このＨＤＤ用磁気ヘッド２１は、
同図に示すように、スライダー２２に本発明に係るコア
チップ１を接合一体化したものであって、その製造方法
を図２から図４に示す。
ＤＤ用磁気ヘッド２１である。図２ｂは、図２ａのＡ部
の拡大斜視図を示す。このＨＤＤ用磁気ヘッド２１は、
同図に示すように、スライダー２２に本発明に係るコア
チップ１を接合一体化したものであって、その製造方法
を図２から図４に示す。
【００２５】まず、図１に示したコアチップ１の片側面
を、磁気ギャップｇが露出するまで鏡面研磨仕上げする
ことによりスライダー接合面２３を設け、図３に示すよ
うな片面鏡面研磨仕上げされたＨＤＤ用コアチップ２４
を得る。次に、図４に示すように、上記ＨＤＤ用コアチ
ップ２４の接合面２３と、巻線用溝２５を有するスライ
ダー２２と接合一体化し、所定のギャップデプス（図示
しない）が得られるように媒体摺動面（エアーベアリン
グサーフェイス）２６を鏡面研磨仕上げし、浮上用傾斜
面２７を設ける。
を、磁気ギャップｇが露出するまで鏡面研磨仕上げする
ことによりスライダー接合面２３を設け、図３に示すよ
うな片面鏡面研磨仕上げされたＨＤＤ用コアチップ２４
を得る。次に、図４に示すように、上記ＨＤＤ用コアチ
ップ２４の接合面２３と、巻線用溝２５を有するスライ
ダー２２と接合一体化し、所定のギャップデプス（図示
しない）が得られるように媒体摺動面（エアーベアリン
グサーフェイス）２６を鏡面研磨仕上げし、浮上用傾斜
面２７を設ける。
【００２６】次に、図２に示すように、所定のトラック
幅Ｔｗが得られるようにトラック形成用傾斜部２８を設
け、ＨＤＤ用磁気ヘッド２１を得る。本発明によるＨＤ
Ｄ磁気ヘッド２１では、非磁性体Ｉ型半体コア２側で
は、センダスト等の高飽和磁束密度を有する金属磁性膜
１３のみで磁路が構成されているため、その断面積を狭
くすることが容易になり、ヘッドのインダクタンスＬを
小さくすることができ、さらに非磁性体Ｉ型半体コアは
おもに非磁性体で構成されているため、磁路にはなら
ず、その体積を必要以上に小さくする必要はない。した
がって、ＨＤＤ用コアチップ２４の強度が低下すること
なく、巻線等の組立工程でＨＤＤ用コアチップ２４を損
傷することはない。
幅Ｔｗが得られるようにトラック形成用傾斜部２８を設
け、ＨＤＤ用磁気ヘッド２１を得る。本発明によるＨＤ
Ｄ磁気ヘッド２１では、非磁性体Ｉ型半体コア２側で
は、センダスト等の高飽和磁束密度を有する金属磁性膜
１３のみで磁路が構成されているため、その断面積を狭
くすることが容易になり、ヘッドのインダクタンスＬを
小さくすることができ、さらに非磁性体Ｉ型半体コアは
おもに非磁性体で構成されているため、磁路にはなら
ず、その体積を必要以上に小さくする必要はない。した
がって、ＨＤＤ用コアチップ２４の強度が低下すること
なく、巻線等の組立工程でＨＤＤ用コアチップ２４を損
傷することはない。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による磁気
ヘッドは、非磁性体膜を高飽和磁束密度を有する金属磁
性膜で挟み、磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにおい
て、上記高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を配置させ
た非磁性体Ｉ型半体コアと、上記高飽和磁束密度を有す
る金属磁性膜を配置させた強磁性体Ｃ型半体コアとから
なり、上記非磁性体Ｉ型半体コアに磁気ギャップと非平
行な斜面部を設け、その斜面部上に高飽和磁束密度を有
する金属磁性膜を配置しているため、非磁性体Ｉ型半体
コア側では、高飽和磁束密度を有する金属磁性膜のみで
磁路が構成されているため、その断面積を狭くすること
が容易となり、ヘッドのインダクタンスＬを小さくする
ことができ、高い記録周波数での記録が容易に実施で
き、高密度記録が実現できるという効果がある。更に、
非磁性体Ｉ型半体コアのほとんどは、磁路にはならない
非磁性体で構成されているため、必要以上にその体積を
小さくする必要はなく、コアチップ機械的強度が低下す
ることはなく巻線等の組立工程でコアチップが損傷する
ということが未然に防げる。また、上記金属磁性膜の斜
面部方向に沿った長さを０．０３ｍｍから０．３ｍｍに
することによって、ヘッドの再生出力を低下させること
なくインダクタンスＬを小さくすることができる。
ヘッドは、非磁性体膜を高飽和磁束密度を有する金属磁
性膜で挟み、磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにおい
て、上記高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を配置させ
た非磁性体Ｉ型半体コアと、上記高飽和磁束密度を有す
る金属磁性膜を配置させた強磁性体Ｃ型半体コアとから
なり、上記非磁性体Ｉ型半体コアに磁気ギャップと非平
行な斜面部を設け、その斜面部上に高飽和磁束密度を有
する金属磁性膜を配置しているため、非磁性体Ｉ型半体
コア側では、高飽和磁束密度を有する金属磁性膜のみで
磁路が構成されているため、その断面積を狭くすること
が容易となり、ヘッドのインダクタンスＬを小さくする
ことができ、高い記録周波数での記録が容易に実施で
き、高密度記録が実現できるという効果がある。更に、
非磁性体Ｉ型半体コアのほとんどは、磁路にはならない
非磁性体で構成されているため、必要以上にその体積を
小さくする必要はなく、コアチップ機械的強度が低下す
ることはなく巻線等の組立工程でコアチップが損傷する
ということが未然に防げる。また、上記金属磁性膜の斜
面部方向に沿った長さを０．０３ｍｍから０．３ｍｍに
することによって、ヘッドの再生出力を低下させること
なくインダクタンスＬを小さくすることができる。
【図１】 ＶＴＲ装置に搭載される本発明の磁気ヘッド
コアチップを示す斜視図。
コアチップを示す斜視図。
【図２】 ａはＨＤＤ装置に搭載される本発明の磁気ヘ
ッドを示す斜視図、ｂは図２のａのＡ部の拡大斜視図。
ッドを示す斜視図、ｂは図２のａのＡ部の拡大斜視図。
【図３】 図２のＨＤＤ用磁気ヘッドの製造方法を示す
斜視図。
斜視図。
【図４】 ａは図２のＨＤＤ用磁気ヘッドの製造方法を
示す斜視図、ｂは図４ａのＢ部の拡大斜視図。
示す斜視図、ｂは図４ａのＢ部の拡大斜視図。
【図５】 図１のＶＴＲ用磁気ヘッドの製造方法を示す
斜視図。
斜視図。
【図６】 図１のＶＴＲ用磁気ヘッドの製造方法を示す
斜視図。
斜視図。
【図７】 図１のＶＴＲ用磁気ヘッドの製造方法を示す
斜視図。
斜視図。
【図８】 図１のＶＴＲ用磁気ヘッドの製造方法を示す
斜視図。
斜視図。
【図９】 ａは図１のＶＴＲ用磁気ヘッドの製造方法を
示す斜視図、ｂは図９ａのＣ部の拡大平面図。
示す斜視図、ｂは図９ａのＣ部の拡大平面図。
【図１０】 従来のＭＩＧヘッドの具体例を示す斜視
図。
図。
１ コアチップ ２ 非磁性体Ｉ型半体コア ３ 磁気ギャップｇと非平行な斜面部 ４ 高飽和磁束密度を有する金属磁性膜 ５ 強磁性体Ｃ型半体コア ｇ 磁気ギャップ Ｌ 金属磁性膜４の斜面部３方向に沿った長さ Ｓ1 Ｉ型半体コア２に配置された金属磁性膜４の断面
積。
積。
Claims (4)
- 【請求項１】非磁性体膜を高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜で挟み、磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにお
いて、上記高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を配置さ
せた非磁性体Ｉ型半体コアと、上記高飽和磁束密度を有
する金属磁性膜を配置させた強磁性体Ｃ型半体コアとか
らなることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】上記非磁性体Ｉ型半体コアにおいて、摺動
面側から見て磁気ギャップと非平行な面を、上記Ｉ型半
体コアに形成し、その非平行な面上に高飽和磁束密度を
有する金属磁性膜を配置していることを特徴とする請求
項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】上記高飽和磁束密度を有する金属磁性膜
の、上記摺動面側から見て磁気ギャップと非平行な面に
０．０３ｍｍから０．３ｍｍとすることを特徴とする請
求項２記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】非磁性体長尺ブロックの接合予定面にその
短手方向に沿って複数の斜面部を有する溝を形成し、そ
の溝内に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を所定のト
ラック幅が得られる厚みで被着形成した上でその金属磁
性膜上に非磁性体を充填し、非磁性体長尺ブロックの接
合面を鏡面研磨仕上げする工程と、強磁性体長尺ブロッ
クの鏡面研磨仕上げされた接合面に、その短手方向に沿
って所定のトラック幅を残して複数のトラック溝を形成
し、その接合面に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を
被着形成する工程と、上記非磁性体長尺ブロックと強磁
性体長尺ブロックとをその接合面間にギャップスペーサ
となる非磁性膜を介して突き合わせて接合一体化する工
程と、接合一体化された長尺ブロックをその短手方向に
沿ってスライスし、薄板状のコアチップを得る工程とか
らなることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7174693A JPH06282809A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7174693A JPH06282809A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06282809A true JPH06282809A (ja) | 1994-10-07 |
Family
ID=13469404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7174693A Pending JPH06282809A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06282809A (ja) |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP7174693A patent/JPH06282809A/ja active Pending
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