JPH0628715Y2 - 電子エネルギー分布測定装置 - Google Patents
電子エネルギー分布測定装置Info
- Publication number
- JPH0628715Y2 JPH0628715Y2 JP5100888U JP5100888U JPH0628715Y2 JP H0628715 Y2 JPH0628715 Y2 JP H0628715Y2 JP 5100888 U JP5100888 U JP 5100888U JP 5100888 U JP5100888 U JP 5100888U JP H0628715 Y2 JPH0628715 Y2 JP H0628715Y2
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- JP
- Japan
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- target
- electrons
- energy distribution
- electron
- electrode
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、ターゲットに電子を照射するよう構成した
装置、例えばイオン注入装置、イオンビームエッチング
装置等であってウエハを含むターゲットにイオンビーム
照射と併せて帯電防止用に電子を照射するよう構成した
装置等に用いられる電子エネルギー分布測定装置に関す
る。
装置、例えばイオン注入装置、イオンビームエッチング
装置等であってウエハを含むターゲットにイオンビーム
照射と併せて帯電防止用に電子を照射するよう構成した
装置等に用いられる電子エネルギー分布測定装置に関す
る。
第３図は、従来のイオン注入装置の一例を部分的に示す
断面図である。
断面図である。
この装置は、基本的には、真空中においてイオンビーム
２を、ホルダ１０にウエハ１２を装着したターゲット８
に照射して、ウエハ１２にイオン注入を施すものである
が、その際のイオンビーム２のビーム電流計測を正確に
行うためにターゲット８をファラデーケージ６内に収納
すると共に、その入口部に電子が上流側へ逃げるのを防
止する負電位のサプレッサ電極４を配置している。また
ファラデーケージ６内には、ターゲット８にイオンビー
ム２を照射しないときにイオンビーム２および後述する
二次電子２０等を受け止める回転式のファラデーフラグ
１４を設けている。
２を、ホルダ１０にウエハ１２を装着したターゲット８
に照射して、ウエハ１２にイオン注入を施すものである
が、その際のイオンビーム２のビーム電流計測を正確に
行うためにターゲット８をファラデーケージ６内に収納
すると共に、その入口部に電子が上流側へ逃げるのを防
止する負電位のサプレッサ電極４を配置している。また
ファラデーケージ６内には、ターゲット８にイオンビー
ム２を照射しないときにイオンビーム２および後述する
二次電子２０等を受け止める回転式のファラデーフラグ
１４を設けている。
更に、イオンビーム２の照射に伴ってウエハ１２の表面
が、特に当該表面が絶縁物の場合、正に帯電するのを防
止するために、ファラデーケージ６の側部に電子発生源
１６を設けて、これから引き出した一次電子１８をファ
ラデーケージ６内の対向面に当ててそこから二次電子２
０を放出させ、この二次電子２０をターゲット８に照射
してウエハ１２上でのイオンビーム２による正電荷を中
和するようにしている。
が、特に当該表面が絶縁物の場合、正に帯電するのを防
止するために、ファラデーケージ６の側部に電子発生源
１６を設けて、これから引き出した一次電子１８をファ
ラデーケージ６内の対向面に当ててそこから二次電子２
０を放出させ、この二次電子２０をターゲット８に照射
してウエハ１２上でのイオンビーム２による正電荷を中
和するようにしている。
その場合、一次電子１８のエネルギーは例えば数百ｅＶ
程度であり、二次電子２０のエネルギーは数ｅＶ程度を
ピークとする分布をなしていると考えられている。
程度であり、二次電子２０のエネルギーは数ｅＶ程度を
ピークとする分布をなしていると考えられている。
ところが上記のような装置においては、現実的には二次
電子２０に混じって、電子発生源１６から引き出された
エネルギーの高い（例えば前述したように数百ｅＶ程度
の）一次電子１８がウエハ１２を含むターゲット８に照
射される。
電子２０に混じって、電子発生源１６から引き出された
エネルギーの高い（例えば前述したように数百ｅＶ程度
の）一次電子１８がウエハ１２を含むターゲット８に照
射される。
その場合、ウエハ１２の表面に設けられたデバイスのう
ち耐圧の弱いものは１０Ｖ程度で絶縁破壊を起こしてし
まうが、一次電子１８のようなエネルギーの高い電子が
ウエハ１２に多く照射されると、エネルギーが高いぶん
だけ、当該電子による帯電電圧も高くなるため、ウエハ
１２上のデバイスを破壊する可能性が大になる。
ち耐圧の弱いものは１０Ｖ程度で絶縁破壊を起こしてし
まうが、一次電子１８のようなエネルギーの高い電子が
ウエハ１２に多く照射されると、エネルギーが高いぶん
だけ、当該電子による帯電電圧も高くなるため、ウエハ
１２上のデバイスを破壊する可能性が大になる。
これを防ぐためには、まずはターゲット８に達する電子
のエネルギー分布を把握する必要があり、この考案はそ
れを可能にした電子エネルギー分布測定装置を提供する
ことを目的とする。
のエネルギー分布を把握する必要があり、この考案はそ
れを可能にした電子エネルギー分布測定装置を提供する
ことを目的とする。
この考案の電子エネルギー分布測定装置は、前述したよ
うなターゲットに向かう電子を遮る位置に出し入れ可能
な網状または多孔の電極と、この電極に負電圧を印加す
る電圧可変の直流電源と、ターゲットに流れる電流を計
測する電流計とを備えることを特徴とする。
うなターゲットに向かう電子を遮る位置に出し入れ可能
な網状または多孔の電極と、この電極に負電圧を印加す
る電圧可変の直流電源と、ターゲットに流れる電流を計
測する電流計とを備えることを特徴とする。
電極をターゲットに向かう電子を遮る位置に入れ、直流
電源からそれに負電圧を印加すると、この電圧に相当す
るエネルギー以上のエネルギーを持つ電子のみが電極の
部分を通り抜けてターゲットに達することができ、その
量に応じた電流が電流計に流れる。従ってこの電圧を変
化させて上記電流を計測することによって、ターゲット
に達する電子のエネルギー分布を測定することができ
る。
電源からそれに負電圧を印加すると、この電圧に相当す
るエネルギー以上のエネルギーを持つ電子のみが電極の
部分を通り抜けてターゲットに達することができ、その
量に応じた電流が電流計に流れる。従ってこの電圧を変
化させて上記電流を計測することによって、ターゲット
に達する電子のエネルギー分布を測定することができ
る。
第１図は、実施例に係る電子エネルギー分布測定装置を
備えるイオン注入装置の一例を部分的に示す断面図であ
る。第３図の装置と同一または相当する部分には同一符
号を付し、以下においてはそれとの相違点を主に説明す
る。
備えるイオン注入装置の一例を部分的に示す断面図であ
る。第３図の装置と同一または相当する部分には同一符
号を付し、以下においてはそれとの相違点を主に説明す
る。
この実施例においては、前述したようなファラデーケー
ジ６内に網状または多孔の電極２２を設け、この電極２
２とファラデーケージ６間に前者に負電圧を印加する電
圧可変の直流電源２６を接続し、更にターゲット８に流
れる電流を計測する電流計２８をホルダ１０とアース間
に接続して、電子エネルギー分布測定装置を構成してい
る。
ジ６内に網状または多孔の電極２２を設け、この電極２
２とファラデーケージ６間に前者に負電圧を印加する電
圧可変の直流電源２６を接続し、更にターゲット８に流
れる電流を計測する電流計２８をホルダ１０とアース間
に接続して、電子エネルギー分布測定装置を構成してい
る。
電極２２を網状または多孔にするのは、そこを二次電子
２０等の電子が通ることができるようにすると共に、そ
の電子の通過部分にできるだけ均一に電界がかかるよう
にするためである。
２０等の電子が通ることができるようにすると共に、そ
の電子の通過部分にできるだけ均一に電界がかかるよう
にするためである。
またこの電極２２は、それが取り付けられた回転軸２４
の回転によって、測定時はターゲット８へ向かう二次電
子２０等を遮る位置に入れ、またウエハ１２にイオンビ
ーム２を照射するときはファラデーフラグ１４と同様に
イオンビーム２等の邪魔にならないところに移動させる
ことができるようにしている。
の回転によって、測定時はターゲット８へ向かう二次電
子２０等を遮る位置に入れ、またウエハ１２にイオンビ
ーム２を照射するときはファラデーフラグ１４と同様に
イオンビーム２等の邪魔にならないところに移動させる
ことができるようにしている。
測定に際しては、電極２２を図示例のようにターゲット
８へ向かう二次電子２０等を遮る位置に入れ、直流電源
２６からそれに負電圧Ｖを印加する。勿論その場合はイ
オンビーム２は止めておく。そうすると、この電圧Ｖに
相当するエネルギー以上のエネルギーを持つ電子のみが
電極２２の部分を通り抜けてターゲット８に達すること
ができ、その量に応じた電流Ｉが電流計２８に流れる。
８へ向かう二次電子２０等を遮る位置に入れ、直流電源
２６からそれに負電圧Ｖを印加する。勿論その場合はイ
オンビーム２は止めておく。そうすると、この電圧Ｖに
相当するエネルギー以上のエネルギーを持つ電子のみが
電極２２の部分を通り抜けてターゲット８に達すること
ができ、その量に応じた電流Ｉが電流計２８に流れる。
そしてこの電圧Ｖを変化させて上記電流Ｉを計測する
と、例えば第２図に示すようなグラフが得られる。この
グラフは、ターゲット８に達する電子のエネルギー分
布、即ちどれ位のエネルギーのものがどれ位の量あるか
を表している。例えば、ターゲット８に達する電子の
内、電圧Ｖ１に相当するエネルギー以上のエネルギーを
持つ電子は電流Ｉ１に相当する量だけあることを表して
いる。
と、例えば第２図に示すようなグラフが得られる。この
グラフは、ターゲット８に達する電子のエネルギー分
布、即ちどれ位のエネルギーのものがどれ位の量あるか
を表している。例えば、ターゲット８に達する電子の
内、電圧Ｖ１に相当するエネルギー以上のエネルギーを
持つ電子は電流Ｉ１に相当する量だけあることを表して
いる。
従って、上記のようにして電圧Ｖを変化させて電流Ｉを
計測することによって、例えば、ウエハ１２上のデバイ
スに悪影響を与える可能性がある高エネルギー電子の量
がどれ位あるかを知ることができる。そしてそのような
データが得られれば、例えば、電子発生源１６から引き
出す一次電子１８のエネルギーを最適なものまで下げる
等の種々の対策を取ることができる。
計測することによって、例えば、ウエハ１２上のデバイ
スに悪影響を与える可能性がある高エネルギー電子の量
がどれ位あるかを知ることができる。そしてそのような
データが得られれば、例えば、電子発生源１６から引き
出す一次電子１８のエネルギーを最適なものまで下げる
等の種々の対策を取ることができる。
尚、上記例のイオン注入装置はイオンビーム２を静電ス
キャンするタイプであるが、ターゲットをメカニカルス
キャンするイオン注入装置、更にはイオン注入装置以外
の装置にも、上記のような電子エネルギー分布測定装置
を利用することができるのは勿論である。
キャンするタイプであるが、ターゲットをメカニカルス
キャンするイオン注入装置、更にはイオン注入装置以外
の装置にも、上記のような電子エネルギー分布測定装置
を利用することができるのは勿論である。
以上のようにこの考案によれば、ターゲットに達する電
子のエネルギー分布を簡単に測定することができる。
子のエネルギー分布を簡単に測定することができる。
第１図は、実施例に係る電子エネルギー分布測定装置を
備えるイオン注入装置の一例を部分的に示す断面図であ
る。第２図は、第１図の電子エネルギー分布測定装置に
よる測定結果の一例を示すグラフである。第３図は、従
来のイオン注入装置の一例を部分的に示す断面図であ
る。 ８……ターゲット、１８……一次電子、２０……二次電
子、２２……電極、２６……直流電源、２８……電流
計。
備えるイオン注入装置の一例を部分的に示す断面図であ
る。第２図は、第１図の電子エネルギー分布測定装置に
よる測定結果の一例を示すグラフである。第３図は、従
来のイオン注入装置の一例を部分的に示す断面図であ
る。 ８……ターゲット、１８……一次電子、２０……二次電
子、２２……電極、２６……直流電源、２８……電流
計。
Claims (1)
- 【請求項１】ターゲットに電子を照射するよう構成した
装置に用いられるものであって、ターゲットに向かう電
子を遮る位置に出し入れ可能な網状または多孔の電極
と、この電極に負電圧を印加する電圧可変の直流電源
と、ターゲットに流れる電流を計測する電流計とを備え
ることを特徴とする電子エネルギー分布測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5100888U JPH0628715Y2 (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | 電子エネルギー分布測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5100888U JPH0628715Y2 (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | 電子エネルギー分布測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01154489U JPH01154489U (ja) | 1989-10-24 |
| JPH0628715Y2 true JPH0628715Y2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=31277037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5100888U Expired - Lifetime JPH0628715Y2 (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | 電子エネルギー分布測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0628715Y2 (ja) |
-
1988
- 1988-04-15 JP JP5100888U patent/JPH0628715Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01154489U (ja) | 1989-10-24 |
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