JPH06288915A - 処理液検出装置 - Google Patents
処理液検出装置Info
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- JPH06288915A JPH06288915A JP5072068A JP7206893A JPH06288915A JP H06288915 A JPH06288915 A JP H06288915A JP 5072068 A JP5072068 A JP 5072068A JP 7206893 A JP7206893 A JP 7206893A JP H06288915 A JPH06288915 A JP H06288915A
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- light
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- processing
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液体の性質に拘らず精度良く処理液を検出で
きるようにする。 【構成】 漏液検知用の検知部４８，４９は、処理液の
漏れを検出するためのものであって、受液部５３，５８
と光導入部５４，５９と光導出部５５，６０とを備えて
いる。受液部５３，５８は、処理液を収容可能であり、
処理液非収容状態では屈折率の差により照射された光を
反射する。光導入部５４，５９は、受液部５３，５８に
光を導入するためのものである。光導出部５５，６０
は、受液部５３，５８からの反射光を導出するためのも
のである。ここでは、受液部５３，５８に処理液が収容
されると屈折率の差が小さくなるので、光が受液部５
３，５８で反射されなくなり、漏液を検出できる。
きるようにする。 【構成】 漏液検知用の検知部４８，４９は、処理液の
漏れを検出するためのものであって、受液部５３，５８
と光導入部５４，５９と光導出部５５，６０とを備えて
いる。受液部５３，５８は、処理液を収容可能であり、
処理液非収容状態では屈折率の差により照射された光を
反射する。光導入部５４，５９は、受液部５３，５８に
光を導入するためのものである。光導出部５５，６０
は、受液部５３，５８からの反射光を導出するためのも
のである。ここでは、受液部５３，５８に処理液が収容
されると屈折率の差が小さくなるので、光が受液部５
３，５８で反射されなくなり、漏液を検出できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、処理液検出装置、特
に、被処理材を処理する処理液を検出するための処理液
検出装置に関する。
に、被処理材を処理する処理液を検出するための処理液
検出装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、半導体基板、液晶用ガラス基板
等を処理する基板処理装置では、純水、市水、各種薬液
等の処理液が使用されている。このため基板処理装置に
は、各種の処理液の漏液を検知する漏液検知器が取り付
けられている。従来、この種の漏液検知器として、樹脂
被覆された１対のステンレス線及びこのステンレス線に
間隔を隔てて配置された複数対の金具を有する漏液検知
帯と、１対のステンレス線の抵抗の変化を検出する検出
器本体とを有するものが知られている。漏液検知帯にお
いては、１対の金具のうちの一方は一方のステンレス線
に導通し、他方は他方のステンレス線に導通している。
この漏液検知器では、漏れた液体により１対の金具間が
導通すると、これらの金具を介して２本のステンレス線
が導通し、抵抗が小さくなる。この抵抗の変化を検出器
本体が検出することにより漏液を検出している。
等を処理する基板処理装置では、純水、市水、各種薬液
等の処理液が使用されている。このため基板処理装置に
は、各種の処理液の漏液を検知する漏液検知器が取り付
けられている。従来、この種の漏液検知器として、樹脂
被覆された１対のステンレス線及びこのステンレス線に
間隔を隔てて配置された複数対の金具を有する漏液検知
帯と、１対のステンレス線の抵抗の変化を検出する検出
器本体とを有するものが知られている。漏液検知帯にお
いては、１対の金具のうちの一方は一方のステンレス線
に導通し、他方は他方のステンレス線に導通している。
この漏液検知器では、漏れた液体により１対の金具間が
導通すると、これらの金具を介して２本のステンレス線
が導通し、抵抗が小さくなる。この抵抗の変化を検出器
本体が検出することにより漏液を検出している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の構成では、
純水等の比抵抗の大きな液体は、漏れて１対の金具間が
導通しても抵抗の変化が非常に小さいので漏液を検知で
きないという問題がある。また、腐食性液体の漏液を検
知する場合には、金具やステンレス線が腐食し、漏液の
都度、金具やステンレス線を交換しなければならない。
さらに、金具の固定を行う場合には絶縁に注意しなけれ
ばならないとともに、絶縁に注意しても時間の経過とと
もに何らかの原因で絶縁不良が生じることがある。この
ため、誤動作が頻繁に生じ、精度良く漏液を検出できな
い。さらに、漏液検知等のステンレス線が検出器本体か
ら外れてしまった場合、そのことを検出できず、信頼性
に欠けるという問題がある。
純水等の比抵抗の大きな液体は、漏れて１対の金具間が
導通しても抵抗の変化が非常に小さいので漏液を検知で
きないという問題がある。また、腐食性液体の漏液を検
知する場合には、金具やステンレス線が腐食し、漏液の
都度、金具やステンレス線を交換しなければならない。
さらに、金具の固定を行う場合には絶縁に注意しなけれ
ばならないとともに、絶縁に注意しても時間の経過とと
もに何らかの原因で絶縁不良が生じることがある。この
ため、誤動作が頻繁に生じ、精度良く漏液を検出できな
い。さらに、漏液検知等のステンレス線が検出器本体か
ら外れてしまった場合、そのことを検出できず、信頼性
に欠けるという問題がある。
【０００４】本発明の目的は、処理液の性質に拘らず精
度良く処理液を検出できるようにすることにある。
度良く処理液を検出できるようにすることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る処理液検出
装置は、被処理材を処理する処理液を検出するための装
置であって、透光性部材で構成された検知部本体と受液
部と光導入部と光導出部とを備えている。受液部は、検
知部本体に設けられ処理液を収容可能であり、処理液が
収容されていない状態では照射された光を反射するもの
である。光導入部は、受液部に光を導入するためのもの
である。光導出部は、受液部からの反射光を導出するた
めのものである。
装置は、被処理材を処理する処理液を検出するための装
置であって、透光性部材で構成された検知部本体と受液
部と光導入部と光導出部とを備えている。受液部は、検
知部本体に設けられ処理液を収容可能であり、処理液が
収容されていない状態では照射された光を反射するもの
である。光導入部は、受液部に光を導入するためのもの
である。光導出部は、受液部からの反射光を導出するた
めのものである。
【０００６】
【作用】本発明に係る処理液検出装置では、受液部に処
理液が収容されていない状態では、光導入部から導入さ
れた光は、受液部で反射して光導出部から導出される。
一方、漏液等により受液部に処理液が収容された状態で
は、受液部における屈折率の差が小さくなるので、受液
部に導入された光は処理液中を透過し、光導出部には導
出されない。
理液が収容されていない状態では、光導入部から導入さ
れた光は、受液部で反射して光導出部から導出される。
一方、漏液等により受液部に処理液が収容された状態で
は、受液部における屈折率の差が小さくなるので、受液
部に導入された光は処理液中を透過し、光導出部には導
出されない。
【０００７】このような装置に光ファイバーを接続する
とともに、この光ファイバーを投光部及び受光部を有す
る検知器に接続すれば、漏液等による処理液を検出でき
る。
とともに、この光ファイバーを投光部及び受光部を有す
る検知器に接続すれば、漏液等による処理液を検出でき
る。
【０００８】
【実施例】図１及び図２に示す本発明の一実施例を採用
した浸漬型基板洗浄装置１は、基板収容カセットＣの搬
入搬出部２と、カセットＣからの基板Ｗの取り出し又は
カセットＣへの基板Ｗの装填を行う基板移載部３と、カ
セットＣを洗浄するためのカセット洗浄器３ａと、搬入
搬出部２と基板移載部３とカセット洗浄器３ａとの間で
カセットＣを移載するカセット移載ロボット４と、複数
の基板Ｗを一括して洗浄する浸漬型基板洗浄処理部５
と、基板Ｗの液切り及び乾燥を行うための基板乾燥部６
と、基板移載部３でカセットＣから取り出した複数の基
板Ｗを一括保持して基板洗浄処理部５及び基板乾燥部６
に搬送する基板搬送ロボット７とから構成されている。
した浸漬型基板洗浄装置１は、基板収容カセットＣの搬
入搬出部２と、カセットＣからの基板Ｗの取り出し又は
カセットＣへの基板Ｗの装填を行う基板移載部３と、カ
セットＣを洗浄するためのカセット洗浄器３ａと、搬入
搬出部２と基板移載部３とカセット洗浄器３ａとの間で
カセットＣを移載するカセット移載ロボット４と、複数
の基板Ｗを一括して洗浄する浸漬型基板洗浄処理部５
と、基板Ｗの液切り及び乾燥を行うための基板乾燥部６
と、基板移載部３でカセットＣから取り出した複数の基
板Ｗを一括保持して基板洗浄処理部５及び基板乾燥部６
に搬送する基板搬送ロボット７とから構成されている。
【０００９】基板移載部３は、２つのカセットＣを載置
する回転可能なテーブル８を有している。テーブル８
は、カセットＣを必要に応じて９０°回転させる。テー
ブル８の中心には矩形の開口が形成されており、開口の
下方には、カセットＣから基板Ｗを一括して取り出すと
ともに、カセットＣに基板Ｗを一括して装填するための
昇降可能な基板受け部８ａが配置されている。
する回転可能なテーブル８を有している。テーブル８
は、カセットＣを必要に応じて９０°回転させる。テー
ブル８の中心には矩形の開口が形成されており、開口の
下方には、カセットＣから基板Ｗを一括して取り出すと
ともに、カセットＣに基板Ｗを一括して装填するための
昇降可能な基板受け部８ａが配置されている。
【００１０】カセット移載ロボット４は、昇降及び回転
自在でありかつ矢印Ａ方向に移動可能に構成されてい
る。カセット移載ロボット４は、搬入搬出部２に搬入さ
れてきたカセットＣをテーブル８上に移載し、基板洗浄
中においてカセット洗浄器３ａとテーブル８との間でカ
セットＣを出し入れし、また、洗浄済み基板Ｗを収容し
たカセットＣをテーブル８から搬入搬出部２へ移載す
る。
自在でありかつ矢印Ａ方向に移動可能に構成されてい
る。カセット移載ロボット４は、搬入搬出部２に搬入さ
れてきたカセットＣをテーブル８上に移載し、基板洗浄
中においてカセット洗浄器３ａとテーブル８との間でカ
セットＣを出し入れし、また、洗浄済み基板Ｗを収容し
たカセットＣをテーブル８から搬入搬出部２へ移載す
る。
【００１１】基板搬送ロボット７は、移動部１０内を矢
印Ｂ方向に移動可能であり、基板移載部３の基板受け部
８ａから受け取った複数の基板Ｗを挟持する基板挟持ア
ーム９を有している。このロボット７は、基板挟持アー
ム９で挟持した複数の基板Ｗを移動部１０に沿って基板
洗浄部５及び基板乾燥部６へ順次搬送する。基板洗浄処
理部５は、オーバーフロー型の洗浄処理部５ａと、オー
バーフローさせないで酸洗浄を行う酸洗浄処理部５ｂと
の２つの別系統の処理部から構成されている。各処理部
５ａ，５ｂは洗浄槽１２ａ，１２ｂと、洗浄槽１２ａ，
１２ｂに昇降自在に設けられた基板保持具１１とを備え
ている。各洗浄処理部５ａ，５ｂは、基板搬送ロボット
７から受け取った複数の基板Ｗを、基板保持具１１で保
持して洗浄槽１２ａ，１２ｂ内に浸漬する。
印Ｂ方向に移動可能であり、基板移載部３の基板受け部
８ａから受け取った複数の基板Ｗを挟持する基板挟持ア
ーム９を有している。このロボット７は、基板挟持アー
ム９で挟持した複数の基板Ｗを移動部１０に沿って基板
洗浄部５及び基板乾燥部６へ順次搬送する。基板洗浄処
理部５は、オーバーフロー型の洗浄処理部５ａと、オー
バーフローさせないで酸洗浄を行う酸洗浄処理部５ｂと
の２つの別系統の処理部から構成されている。各処理部
５ａ，５ｂは洗浄槽１２ａ，１２ｂと、洗浄槽１２ａ，
１２ｂに昇降自在に設けられた基板保持具１１とを備え
ている。各洗浄処理部５ａ，５ｂは、基板搬送ロボット
７から受け取った複数の基板Ｗを、基板保持具１１で保
持して洗浄槽１２ａ，１２ｂ内に浸漬する。
【００１２】また、基板洗浄処理部５の３つの基板洗浄
槽１２ａ，１２ｂの下部には、洗浄液の給排用配管室３
１が配置されているとともに、洗浄処理部５の後方の空
間には、メンテナンススペース３２が形成されている。
このメンテナンススペース３２の床部には、複数の配
管、バルブ等が敷設されている。なお、給排用配管室３
１の下部には、各種の洗浄用薬液を貯溜する５つの貯溜
容器２２A 〜２２E が配置されている。
槽１２ａ，１２ｂの下部には、洗浄液の給排用配管室３
１が配置されているとともに、洗浄処理部５の後方の空
間には、メンテナンススペース３２が形成されている。
このメンテナンススペース３２の床部には、複数の配
管、バルブ等が敷設されている。なお、給排用配管室３
１の下部には、各種の洗浄用薬液を貯溜する５つの貯溜
容器２２A 〜２２E が配置されている。
【００１３】図２及び図３に示すように、貯溜容器２２
A 〜２２E の下部には、それぞれ貯溜容器室ドレンバッ
ト４１A 〜４１E が配置されている。このバット４１A
〜４１E は、貯溜容器２２A 〜２２E からの漏液を溜め
るためのものである。メンテナンススペース３２にも同
様なドレンパッド４２が配置され、また、基板乾燥部
６、カセット洗浄器３ａ、給排用配管室３１にも同様の
ドレンバット４２〜４５が配置されている。さらに、図
３上側には、給水配管のための２つのドレンバット４
６，４７が配置されている。各ドレンバット４１〜４７
には、それぞれ２種の検知部４８，４９と、それらを繋
ぐ光ファイバーケーブル５０とからなる漏液検知帯５１
が配置されている。検知部４８，４９は、ドレンバット
４１〜４７において、配管の継手部や接合部等の漏液の
可能性がある部分の下方に配置されている。
A 〜２２E の下部には、それぞれ貯溜容器室ドレンバッ
ト４１A 〜４１E が配置されている。このバット４１A
〜４１E は、貯溜容器２２A 〜２２E からの漏液を溜め
るためのものである。メンテナンススペース３２にも同
様なドレンパッド４２が配置され、また、基板乾燥部
６、カセット洗浄器３ａ、給排用配管室３１にも同様の
ドレンバット４２〜４５が配置されている。さらに、図
３上側には、給水配管のための２つのドレンバット４
６，４７が配置されている。各ドレンバット４１〜４７
には、それぞれ２種の検知部４８，４９と、それらを繋
ぐ光ファイバーケーブル５０とからなる漏液検知帯５１
が配置されている。検知部４８，４９は、ドレンバット
４１〜４７において、配管の継手部や接合部等の漏液の
可能性がある部分の下方に配置されている。
【００１４】漏液検知帯５１は、図４に示すように、２
本の光ファイバーケーブル５０で光検出器５２に接続さ
れている。光検出器５２は、ＬＥＤ等の投光素子とＰＤ
等の受光素子とを有するものであり、投光素子から変調
した光を照射し、各検知部４８，４９を透過した光を受
光素子が検出する構成である。ここで、検知部４８，４
９は、ともに光が透過可能な透明な３フッ化エチレン樹
脂により方形状のブロックとして形成されており、一方
の検知部４８は中継用として、他方の検知部４９は末端
用としてそれぞれ用いられる。
本の光ファイバーケーブル５０で光検出器５２に接続さ
れている。光検出器５２は、ＬＥＤ等の投光素子とＰＤ
等の受光素子とを有するものであり、投光素子から変調
した光を照射し、各検知部４８，４９を透過した光を受
光素子が検出する構成である。ここで、検知部４８，４
９は、ともに光が透過可能な透明な３フッ化エチレン樹
脂により方形状のブロックとして形成されており、一方
の検知部４８は中継用として、他方の検知部４９は末端
用としてそれぞれ用いられる。
【００１５】図５に示すように中継用の検知部４８の１
つの隅部には、漏液を収容するための受液部５３が形成
されている。受液部５３は上方が開口する窪みであり、
平面視直角二等辺三角形状となっている。検知部４８の
直交する２つの側壁４８ａ，４８ｂには、光ファイバー
ケーブル５０を接続するための光導入部５４及び光導出
部５５が形成されている。光導入部５４及び光導出５５
は、光導入部５４から入射した光が受液部５３の斜辺部
５３ａで反射し、さらにこの反射光が光導入部５５から
導出されるような位置関係で配置されている。また、側
壁４８ａと、これに対向する側壁４８ｃとには、対向す
る位置に光導入部５６及び光導出部５７が形成されてい
る。これらの光導入部５６及び光導出部５７には、末端
用の検知部４９から返って来た光を光検出器５３に導く
ための光ファイバーケーブル５０が接続される。
つの隅部には、漏液を収容するための受液部５３が形成
されている。受液部５３は上方が開口する窪みであり、
平面視直角二等辺三角形状となっている。検知部４８の
直交する２つの側壁４８ａ，４８ｂには、光ファイバー
ケーブル５０を接続するための光導入部５４及び光導出
部５５が形成されている。光導入部５４及び光導出５５
は、光導入部５４から入射した光が受液部５３の斜辺部
５３ａで反射し、さらにこの反射光が光導入部５５から
導出されるような位置関係で配置されている。また、側
壁４８ａと、これに対向する側壁４８ｃとには、対向す
る位置に光導入部５６及び光導出部５７が形成されてい
る。これらの光導入部５６及び光導出部５７には、末端
用の検知部４９から返って来た光を光検出器５３に導く
ための光ファイバーケーブル５０が接続される。
【００１６】図６に示すように、末端用の検知部４９に
は、上方が開口する受液部５８が形成されている。受液
部５８は、直交する２つの斜辺部５８ａ，５８ｂを一方
側に有している。また、検知部４９の、受液部５８ａ，
５８ｂと対向する側壁４９ａには、光ファイバーケーブ
ル５０を接続するための光導入部５９と光導出部６０と
が形成されている。光導入部５９と光導出部６０とは、
光導入部５９から入射した光が受液部５８の斜辺部５８
ａ，５８ｂで反射し、さらにその反射光が光導出部６０
に導出されるような位置関係となっている。
は、上方が開口する受液部５８が形成されている。受液
部５８は、直交する２つの斜辺部５８ａ，５８ｂを一方
側に有している。また、検知部４９の、受液部５８ａ，
５８ｂと対向する側壁４９ａには、光ファイバーケーブ
ル５０を接続するための光導入部５９と光導出部６０と
が形成されている。光導入部５９と光導出部６０とは、
光導入部５９から入射した光が受液部５８の斜辺部５８
ａ，５８ｂで反射し、さらにその反射光が光導出部６０
に導出されるような位置関係となっている。
【００１７】次に、上述の実施例の動作について説明す
る。基板Ｗが収容されたカセットＣが搬入搬出部２に載
置されると、カセット移載ロボット４がそれを受け取
り、基板移載部３に載置する。カセットＣが基板移載部
３に移載されると、基板受け部８ａがカセットＣから基
板Ｗを取り出し、基板搬送ロボット７に基板Ｗを受け渡
す。基板搬送ロボット７は、洗浄処理部５ａの基板洗浄
槽１２ａ又は酸洗処理部５ｂの酸洗浄槽１２ｂに基板Ｗ
を搬送する。洗浄処理が終了すると、浸漬されていた基
板Ｗは、基板搬送ロボット７により基板乾燥部６に運ば
れる。基板乾燥部６では、基板を回転させて液切り及び
乾燥を行う。乾燥が終了した基板Ｗは、基板搬送ロボッ
ト７によりさらに基板移載部３に運ばれ、基板移載部３
でカセットＣ内に収容される。なお、ここで用いられる
カセットＣは、カセット洗浄器３ａで予め洗浄されてい
る。そしてカセット搬送ロボット４で搬入搬出部２に載
置される。
る。基板Ｗが収容されたカセットＣが搬入搬出部２に載
置されると、カセット移載ロボット４がそれを受け取
り、基板移載部３に載置する。カセットＣが基板移載部
３に移載されると、基板受け部８ａがカセットＣから基
板Ｗを取り出し、基板搬送ロボット７に基板Ｗを受け渡
す。基板搬送ロボット７は、洗浄処理部５ａの基板洗浄
槽１２ａ又は酸洗処理部５ｂの酸洗浄槽１２ｂに基板Ｗ
を搬送する。洗浄処理が終了すると、浸漬されていた基
板Ｗは、基板搬送ロボット７により基板乾燥部６に運ば
れる。基板乾燥部６では、基板を回転させて液切り及び
乾燥を行う。乾燥が終了した基板Ｗは、基板搬送ロボッ
ト７によりさらに基板移載部３に運ばれ、基板移載部３
でカセットＣ内に収容される。なお、ここで用いられる
カセットＣは、カセット洗浄器３ａで予め洗浄されてい
る。そしてカセット搬送ロボット４で搬入搬出部２に載
置される。
【００１８】次に漏液検知について説明する。各検知部
４８，４９の受液部５３，５８に漏液が収容されていな
い状態では、３フッ化エチレン樹脂と空気との屈折率の
違いにより、受液部５３，５８の斜辺部５３ａ，５８
ａ，５８ｂに照射された光はほぼ全量が正反射して光導
出部５５，６０に至る。一方、各部から漏液があると、
漏れた液体はドレンバット４１〜４７に溜まる。このド
レンバット４１〜４７には、検知部４８，４９が配置さ
れているので、漏液があると、それが受液部５３，５８
に収容される。そして受液部５３，５８に所定量の処理
液が貯溜されると、３フッ化エチレン樹脂と漏液との屈
折率の差が３フッ化エチレン樹脂と空気との差より小さ
くなるので、受液部５３，５８の斜辺部５３ａ，５８
ａ，５８ｂに照射された光がほとんど反射せず透過して
しまう。このため光導出部５５，６０に光が導かれなく
なる。したがって、光検出器５２の受光素子が光を検出
できなくなり、漏液が生じたことを検出できる。また、
ここでは各バット４１〜４７毎に漏液検知帯５１を設け
ているので、いずれのバットに漏液があったかが直ちに
判別できる。漏液が生じた場合には直ちに装置を停止さ
せ、メンテナンス処理を行う。そして受液部５３，５８
に溜まった処理液を取り除く。
４８，４９の受液部５３，５８に漏液が収容されていな
い状態では、３フッ化エチレン樹脂と空気との屈折率の
違いにより、受液部５３，５８の斜辺部５３ａ，５８
ａ，５８ｂに照射された光はほぼ全量が正反射して光導
出部５５，６０に至る。一方、各部から漏液があると、
漏れた液体はドレンバット４１〜４７に溜まる。このド
レンバット４１〜４７には、検知部４８，４９が配置さ
れているので、漏液があると、それが受液部５３，５８
に収容される。そして受液部５３，５８に所定量の処理
液が貯溜されると、３フッ化エチレン樹脂と漏液との屈
折率の差が３フッ化エチレン樹脂と空気との差より小さ
くなるので、受液部５３，５８の斜辺部５３ａ，５８
ａ，５８ｂに照射された光がほとんど反射せず透過して
しまう。このため光導出部５５，６０に光が導かれなく
なる。したがって、光検出器５２の受光素子が光を検出
できなくなり、漏液が生じたことを検出できる。また、
ここでは各バット４１〜４７毎に漏液検知帯５１を設け
ているので、いずれのバットに漏液があったかが直ちに
判別できる。漏液が生じた場合には直ちに装置を停止さ
せ、メンテナンス処理を行う。そして受液部５３，５８
に溜まった処理液を取り除く。
【００１９】ここでは、光の反射により漏液を検出して
いるので、処理液の性質、すなわち処理液の比抵抗の違
いや腐食性の有無に拘らず確実に漏液を検出できる。さ
らに光ファイバーケーブル５０が外れたり、あるいは切
断された場合には、前記同様に光検出器５２が光を受光
しなくなり、直ちにそのことを検出できる。したがって
信頼性の向上を図ることもできる。
いるので、処理液の性質、すなわち処理液の比抵抗の違
いや腐食性の有無に拘らず確実に漏液を検出できる。さ
らに光ファイバーケーブル５０が外れたり、あるいは切
断された場合には、前記同様に光検出器５２が光を受光
しなくなり、直ちにそのことを検出できる。したがって
信頼性の向上を図ることもできる。
【００２０】〔他の実施例〕 （ａ） 本発明は、漏液の検知だけではなく、処理液の
レベル検知等の他の用途にも用いることができる。 （ｂ） 前記実施例では、光ファイバーケーブルの接続
を容易にするために戻り側の光ファイバーケーブルも検
知部に接続する構成としたが、戻り側の光ファイバーケ
ーブルは必ずしも検知部を通す必要はない。 （ｃ） 光検出器として投受光型のものを用いたが、投
受光分離型のものを用いてもよい。この場合には、例え
ば末端側の検知部に受光部を配置する構成としてもよ
い。 （ｄ） 前記実施例では検知部をバット上に設けたが、
バットの上面と検知部の上面とが同一平面となるように
配置してもよい。この場合には、水勾配をバットに形成
することにより、バット上に検知部を１ヵ所設けるだけ
でよい。
レベル検知等の他の用途にも用いることができる。 （ｂ） 前記実施例では、光ファイバーケーブルの接続
を容易にするために戻り側の光ファイバーケーブルも検
知部に接続する構成としたが、戻り側の光ファイバーケ
ーブルは必ずしも検知部を通す必要はない。 （ｃ） 光検出器として投受光型のものを用いたが、投
受光分離型のものを用いてもよい。この場合には、例え
ば末端側の検知部に受光部を配置する構成としてもよ
い。 （ｄ） 前記実施例では検知部をバット上に設けたが、
バットの上面と検知部の上面とが同一平面となるように
配置してもよい。この場合には、水勾配をバットに形成
することにより、バット上に検知部を１ヵ所設けるだけ
でよい。
【００２１】
【発明の効果】本発明に係る処理液検出装置では、光の
反射により処理液を検出しているので、絶縁に注意する
必要がなくなり、比抵抗や腐食性等の処理液の性質に拘
らず処理液を精度良く検出できる。また、光ファイバー
が外れた場合には、光導出部に光が導出されない場合と
同様の現象が発生するので、光ファイバーの外れ、切断
等も検出可能となり、信頼性が向上する。
反射により処理液を検出しているので、絶縁に注意する
必要がなくなり、比抵抗や腐食性等の処理液の性質に拘
らず処理液を精度良く検出できる。また、光ファイバー
が外れた場合には、光導出部に光が導出されない場合と
同様の現象が発生するので、光ファイバーの外れ、切断
等も検出可能となり、信頼性が向上する。
【図１】本発明の一実施例を採用した基板洗浄装置の斜
視図。
視図。
【図２】その縦断面概略図。
【図３】その平面概略図。
【図４】漏液検知帯の平面図。
【図５】検知部の平面図。
【図６】検知部の平面図。
【図７】検知部の側面図。
【図８】検知部の側面図。
４８，４９ 検知部 ５１ 漏液検知帯 ５３，５８ 受液部 ５４，５９ 光導入部 ５５，６０ 光導出部
Claims (1)
- 【請求項１】被処理材を処理する処理液を検出するため
の処理液検出装置であって、 透光性部材で構成された検知部本体と、 前記検知部本体に設けられ、前記処理液を収容可能であ
り、前記処理液が収容されていない状態では照射された
光を反射する受液部と、 前記受液部に光を導入するための光導入部と、 前記受液部からの反射光を導出するための光導出部と、
を備えた処理液検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5072068A JPH06288915A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 処理液検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5072068A JPH06288915A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 処理液検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06288915A true JPH06288915A (ja) | 1994-10-18 |
Family
ID=13478720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5072068A Pending JPH06288915A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 処理液検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06288915A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002296141A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | T & T:Kk | 漏液センサー |
| CN102012641A (zh) * | 2003-07-28 | 2011-04-13 | 株式会社尼康 | 曝光装置、器件制造方法 |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP5072068A patent/JPH06288915A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002296141A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | T & T:Kk | 漏液センサー |
| CN102012641A (zh) * | 2003-07-28 | 2011-04-13 | 株式会社尼康 | 曝光装置、器件制造方法 |
| US9760026B2 (en) | 2003-07-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, method for producing device, and method for controlling exposure apparatus |
| US10185232B2 (en) | 2003-07-28 | 2019-01-22 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, method for producing device, and method for controlling exposure apparatus |
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