JPH06290452A - 磁気ディスク用カーボン基板及び磁気ディスク媒体 - Google Patents
磁気ディスク用カーボン基板及び磁気ディスク媒体Info
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- JPH06290452A JPH06290452A JP5078279A JP7827993A JPH06290452A JP H06290452 A JPH06290452 A JP H06290452A JP 5078279 A JP5078279 A JP 5078279A JP 7827993 A JP7827993 A JP 7827993A JP H06290452 A JPH06290452 A JP H06290452A
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- Japan
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- magnetic disk
- magnetic
- substrate
- carbon substrate
- carbon
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
- B23K26/3568—Modifying rugosity
- B23K26/3576—Diminishing rugosity, e.g. by grinding, polishing or smoothing
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドとの接触領域で摩擦係数を十分に
小さくすることができ、磁気ヘッドのより一層の低浮上
化を可能とすると共に、ヘッドクラッシュを確実に防止
することができる磁気ディスク用カーボン基板を提供す
る。 【構成】 表面研磨された磁気ディスク用カーボン基板
において、磁気ディスク装置の起動及び停止時に磁気ヘ
ッドとの接触が生じる接触領域内にのみ、パルスレーザ
ーの離散的又は連続的な照射によりカーボンを酸化気化
させることにより複数の孔１１を形成して孔形成領域１
０を設けてある。この孔形成領域１０の面積は、前記接
触領域の面積の５０乃至９９．９％であり、パルスレー
ザーの単パルスで形成される孔の断面積は１乃至９００
μｍ２である。更に、前記パルスレーザーの単パルスで
形成される孔の深さは１０乃至３０００Åである。
小さくすることができ、磁気ヘッドのより一層の低浮上
化を可能とすると共に、ヘッドクラッシュを確実に防止
することができる磁気ディスク用カーボン基板を提供す
る。 【構成】 表面研磨された磁気ディスク用カーボン基板
において、磁気ディスク装置の起動及び停止時に磁気ヘ
ッドとの接触が生じる接触領域内にのみ、パルスレーザ
ーの離散的又は連続的な照射によりカーボンを酸化気化
させることにより複数の孔１１を形成して孔形成領域１
０を設けてある。この孔形成領域１０の面積は、前記接
触領域の面積の５０乃至９９．９％であり、パルスレー
ザーの単パルスで形成される孔の断面積は１乃至９００
μｍ２である。更に、前記パルスレーザーの単パルスで
形成される孔の深さは１０乃至３０００Åである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はテクスチャー処理が施さ
れていて、その上に磁性膜等が形成されて磁気ディスク
となる磁気ディスク用カーボン基板に関する。
れていて、その上に磁性膜等が形成されて磁気ディスク
となる磁気ディスク用カーボン基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】固定磁気ディスク装置は、停止時に、磁
気ヘッドと磁気ディスクが接触状態にあるが、起動時
に、磁気ヘッドが回転する磁気ディスク上を浮上すると
いうコンタクトスタートストップ方式（Contact Start
Stop、以下ＣＳＳと略す）が採用されている。この方式
では、固定磁気ディスク装置の停止時に、磁気ヘッドと
磁気ディスクの間に吸着が生じたり、磁気ヘッドと磁気
ディスクとの接触摩耗により摩擦力が増加し、磁気ディ
スクの回転が妨げられることがある。このような吸着や
摩擦力の増加を防止するために、磁気ディスク用基板に
は、その表面を鏡面でなく適当な表面粗さに調整する表
面加工が行われる。このような表面加工は、一般にテク
スチャリング（texturing)と呼ばれている。また、この
ように加工された表面はテクスチャーと呼ばれている。
気ヘッドと磁気ディスクが接触状態にあるが、起動時
に、磁気ヘッドが回転する磁気ディスク上を浮上すると
いうコンタクトスタートストップ方式（Contact Start
Stop、以下ＣＳＳと略す）が採用されている。この方式
では、固定磁気ディスク装置の停止時に、磁気ヘッドと
磁気ディスクの間に吸着が生じたり、磁気ヘッドと磁気
ディスクとの接触摩耗により摩擦力が増加し、磁気ディ
スクの回転が妨げられることがある。このような吸着や
摩擦力の増加を防止するために、磁気ディスク用基板に
は、その表面を鏡面でなく適当な表面粗さに調整する表
面加工が行われる。このような表面加工は、一般にテク
スチャリング（texturing)と呼ばれている。また、この
ように加工された表面はテクスチャーと呼ばれている。
【０００３】従来、磁気ディスクには、アルミニウム合
金にニッケルリンめっきを施し、表面を研磨した基板が
用いられてきた。この磁気ディスク基板には、上記テク
スチャー形成の一般的な方法として、回転させた磁気デ
ィスク基板に、研磨テープを押し付け、条痕を形成する
というようにした所謂機械的なテクスチャー形成方法が
行われてきた。また、近時、ニッケルリンメッキ層にパ
ルスレーザーを照射し、表面に凹凸を形成する方法が提
案されている（ヨーロッパ特許出願 EP 447025、USP506
2021、USP5108781及び文献：J.Appl.Phys.、Vol.69、N
o.8,15、April 1991）。
金にニッケルリンめっきを施し、表面を研磨した基板が
用いられてきた。この磁気ディスク基板には、上記テク
スチャー形成の一般的な方法として、回転させた磁気デ
ィスク基板に、研磨テープを押し付け、条痕を形成する
というようにした所謂機械的なテクスチャー形成方法が
行われてきた。また、近時、ニッケルリンメッキ層にパ
ルスレーザーを照射し、表面に凹凸を形成する方法が提
案されている（ヨーロッパ特許出願 EP 447025、USP506
2021、USP5108781及び文献：J.Appl.Phys.、Vol.69、N
o.8,15、April 1991）。
【０００４】一方、本出願人は、先に、磁気ディスク用
カーボン基板のテクスチャー形成方法として、表面研磨
された基板を酸化性雰囲気中にて400℃〜700℃の温度で
加熱処理することにより、上記カーボン基板の表面を粗
面化するようにした方法を提案した（特願平2-83137
号）。
カーボン基板のテクスチャー形成方法として、表面研磨
された基板を酸化性雰囲気中にて400℃〜700℃の温度で
加熱処理することにより、上記カーボン基板の表面を粗
面化するようにした方法を提案した（特願平2-83137
号）。
【０００５】この方法は、カーボン基板特有の性質を利
用したものであり、このテクスチャー処理方法において
は、カーボン基板を酸化性雰囲気中で熱処理することに
よって、Ｃ＋Ｏ2→ＣＯ2の酸化反応を利用してカーボン
を適度に気化して、研磨目が選択的にエッチングされる
ことを利用して磁気ディスク基板表面に微小凹凸を形成
している。
用したものであり、このテクスチャー処理方法において
は、カーボン基板を酸化性雰囲気中で熱処理することに
よって、Ｃ＋Ｏ2→ＣＯ2の酸化反応を利用してカーボン
を適度に気化して、研磨目が選択的にエッチングされる
ことを利用して磁気ディスク基板表面に微小凹凸を形成
している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気デ
ィスク装置の高密度化のためには、記録再生時の磁気ヘ
ッドと磁気ディスクとのスペーシング、即ち浮上隙間を
小さくすることが必要となる。この浮上隙間を小さくす
るには、基板の表面粗さを小さくする必要がある。
ィスク装置の高密度化のためには、記録再生時の磁気ヘ
ッドと磁気ディスクとのスペーシング、即ち浮上隙間を
小さくすることが必要となる。この浮上隙間を小さくす
るには、基板の表面粗さを小さくする必要がある。
【０００７】しかし、基板の表面粗さを小さくし過ぎる
と、基板とヘッドとの接触面積が増加し、吸着により摩
擦力が大きくなるという難点がある。特に、従来用いら
れてきたような条痕を形成する機械的なテクスチャー形
成方法を、高記録密度が要求される磁気ディスクに適用
しようとしても、条痕の密度及び深さの制御が難しく、
浮上隙間の低減に限界がある。
と、基板とヘッドとの接触面積が増加し、吸着により摩
擦力が大きくなるという難点がある。特に、従来用いら
れてきたような条痕を形成する機械的なテクスチャー形
成方法を、高記録密度が要求される磁気ディスクに適用
しようとしても、条痕の密度及び深さの制御が難しく、
浮上隙間の低減に限界がある。
【０００８】一方、酸化性雰囲気での加熱によりカーボ
ン基板の表面を粗面化する従来の磁気ディスク用カーボ
ン基板のテクスチャー形成方法においては、基板表面の
微小凹凸の深さを、機械的なテクスチャー形成方法にく
らべて容易に調節できる。基板表面を必要以上に粗くす
ることなく適切な表面粗さを得ることが可能である。
ン基板の表面を粗面化する従来の磁気ディスク用カーボ
ン基板のテクスチャー形成方法においては、基板表面の
微小凹凸の深さを、機械的なテクスチャー形成方法にく
らべて容易に調節できる。基板表面を必要以上に粗くす
ることなく適切な表面粗さを得ることが可能である。
【０００９】しかしながら、微小凹凸の密度及び微小凹
凸の分布パターンを積極的に制御し、調節するための適
当な方法が開発されていないことから、磁気ディスクの
表面における磁気ヘッドに対する摩擦係数をより小さく
して高記録密度化のための磁気ヘッドの低浮上化の要請
に応えるという点において未だ満足できるものではなか
った。
凸の分布パターンを積極的に制御し、調節するための適
当な方法が開発されていないことから、磁気ディスクの
表面における磁気ヘッドに対する摩擦係数をより小さく
して高記録密度化のための磁気ヘッドの低浮上化の要請
に応えるという点において未だ満足できるものではなか
った。
【００１０】また、ニッケルリンメッキを施したアルミ
ニウム合金基板に、パルスレーザーを照射することによ
り従来のテクスチャリングを形成する方法においては、
ニッケルリン合金膜をスポット的に加熱融解させた後、
冷えて凝固するときにクレーター状の凹凸が形成される
ことを利用している。この方法では、パルス間隔とレー
ザー強度の調節により表面粗さの制御がある程度可能で
ある。
ニウム合金基板に、パルスレーザーを照射することによ
り従来のテクスチャリングを形成する方法においては、
ニッケルリン合金膜をスポット的に加熱融解させた後、
冷えて凝固するときにクレーター状の凹凸が形成される
ことを利用している。この方法では、パルス間隔とレー
ザー強度の調節により表面粗さの制御がある程度可能で
ある。
【００１１】しかし、ディスクの内周部にのみテクスチ
ャーを形成する、所謂ゾーンテクスチャーを形成する場
合には、テクスチャー未形成部から、テクスチャー形成
部にヘッドが移動するときに、ヘッドクラッシュが生じ
る可能性がある。即ち、図３（ａ）の断面図に示される
ように、ニッケルリン合金をメッキしたＡｌ基板１２
は、テクスチャー非形成部とテクスチャー形成部との境
界で基板表面の頂点高さが大きくなるため段差が生じ、
この段差にて磁気ヘッドと磁気ディスクとが接触しやす
く、ヘッドクラッシュが生じる可能性がある。また、磁
気ヘッドとの接触は、リング状に突出した部分で生じる
ので、接触面積を制御する場合、接触面積を増加させる
方向に制御するのには限界があり、磁気ディスクが磁気
ヘッドとの接触で摩耗してしまう可能性がある。
ャーを形成する、所謂ゾーンテクスチャーを形成する場
合には、テクスチャー未形成部から、テクスチャー形成
部にヘッドが移動するときに、ヘッドクラッシュが生じ
る可能性がある。即ち、図３（ａ）の断面図に示される
ように、ニッケルリン合金をメッキしたＡｌ基板１２
は、テクスチャー非形成部とテクスチャー形成部との境
界で基板表面の頂点高さが大きくなるため段差が生じ、
この段差にて磁気ヘッドと磁気ディスクとが接触しやす
く、ヘッドクラッシュが生じる可能性がある。また、磁
気ヘッドとの接触は、リング状に突出した部分で生じる
ので、接触面積を制御する場合、接触面積を増加させる
方向に制御するのには限界があり、磁気ディスクが磁気
ヘッドとの接触で摩耗してしまう可能性がある。
【００１２】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、磁気ヘッドとの接触領域で摩擦係数を十分
小さくすることができ、磁気ヘッドのより一層の低浮上
化を可能とすると共に、ヘッドクラッシュを確実に防止
することができる磁気ディスク用カーボン基板及び磁気
ディスク媒体を提供することを目的とする。
のであって、磁気ヘッドとの接触領域で摩擦係数を十分
小さくすることができ、磁気ヘッドのより一層の低浮上
化を可能とすると共に、ヘッドクラッシュを確実に防止
することができる磁気ディスク用カーボン基板及び磁気
ディスク媒体を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ディス
ク用カーボン基板は、表面研磨された磁気ディスク用カ
ーボン基板において、磁気ディスク装置の起動及び停止
時に磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触が生じる接触領
域及びその近辺の領域を含む領域（以下、ヘッドランデ
ィングゾーンという）内にのみ、パルスレーザーの離散
的又は連続的な照射によりカーボンを酸化気化させて複
数のくぼみを形成し、くぼみ形成領域を設けたことを特
徴とする。このくぼみ形成領域は、パルスレーザーの単
パルスで形成される一つのくぼみの面積が１乃至９００
μｍ２以下であり、くぼみの深さが１０乃至３０００Å
であり、５０％乃至９９．９％の表面積をくぼみとした
ものである。
ク用カーボン基板は、表面研磨された磁気ディスク用カ
ーボン基板において、磁気ディスク装置の起動及び停止
時に磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触が生じる接触領
域及びその近辺の領域を含む領域（以下、ヘッドランデ
ィングゾーンという）内にのみ、パルスレーザーの離散
的又は連続的な照射によりカーボンを酸化気化させて複
数のくぼみを形成し、くぼみ形成領域を設けたことを特
徴とする。このくぼみ形成領域は、パルスレーザーの単
パルスで形成される一つのくぼみの面積が１乃至９００
μｍ２以下であり、くぼみの深さが１０乃至３０００Å
であり、５０％乃至９９．９％の表面積をくぼみとした
ものである。
【００１４】前記ヘッドランディングゾーンは、通常、
表面研磨された磁気ディスク用カーボン基板の内周部に
設けられる。このヘッドランディングゾーンにパルスレ
ーザーを照射し、基板の熱酸化気化によるエッチング作
用を利用して、基板を加工し、テクスチャー面を形成す
る。
表面研磨された磁気ディスク用カーボン基板の内周部に
設けられる。このヘッドランディングゾーンにパルスレ
ーザーを照射し、基板の熱酸化気化によるエッチング作
用を利用して、基板を加工し、テクスチャー面を形成す
る。
【００１５】
【作用】本発明のように、カーボン基板にパルスレーザ
ーを照射した場合に、パルスレーザーの単パルスにより
微小くぼみが形成されるが、これは、カーボン基板に特
有の現象であり、ニッケルリンメッキのアルミニウム基
板及びガラス基板などの他の基板では、基板表面が融解
してしまうのみである。このように、カーボン基板にパ
ルスレーザーで形成可能な微小くぼみを連続的に任意の
パターンで形成することにより、磁気ヘッドとの接触面
積を制御することを特徴とすることができる。
ーを照射した場合に、パルスレーザーの単パルスにより
微小くぼみが形成されるが、これは、カーボン基板に特
有の現象であり、ニッケルリンメッキのアルミニウム基
板及びガラス基板などの他の基板では、基板表面が融解
してしまうのみである。このように、カーボン基板にパ
ルスレーザーで形成可能な微小くぼみを連続的に任意の
パターンで形成することにより、磁気ヘッドとの接触面
積を制御することを特徴とすることができる。
【００１６】即ち、表面研磨された磁気ディスク用カー
ボン基板の磁気ヘッドとの接触領域（ヘッドランディン
グゾーン）に、パルスレーザーが照射されると、基板の
温度が上昇し、基板を形成しているカーボンが酸化気化
し、基板がエッチングされる。この時、レーザーの光子
エネルギが基板のカーボン原子に直接に作用し、カーボ
ン原子をたたき出す現象が起こる場合もある。このよう
なパルスレーザーを基板上に走査することにより一つの
パルスに対し一つのくぼみが形成され、エッチングされ
た部分が凹部、それ以外の部分が凸部となった微小凹凸
が形成される。
ボン基板の磁気ヘッドとの接触領域（ヘッドランディン
グゾーン）に、パルスレーザーが照射されると、基板の
温度が上昇し、基板を形成しているカーボンが酸化気化
し、基板がエッチングされる。この時、レーザーの光子
エネルギが基板のカーボン原子に直接に作用し、カーボ
ン原子をたたき出す現象が起こる場合もある。このよう
なパルスレーザーを基板上に走査することにより一つの
パルスに対し一つのくぼみが形成され、エッチングされ
た部分が凹部、それ以外の部分が凸部となった微小凹凸
が形成される。
【００１７】そして、磁気ディスク用カーボン基板の表
面に形成される凹凸形状、段差、微小凹凸の密度及び微
小凹凸の分布パターンは、基板に照射するパルスレーザ
ーのビーム径、エネルギ及び照射位置を制御することに
より容易に調整できる。
面に形成される凹凸形状、段差、微小凹凸の密度及び微
小凹凸の分布パターンは、基板に照射するパルスレーザ
ーのビーム径、エネルギ及び照射位置を制御することに
より容易に調整できる。
【００１８】また、図３（ｂ）に示すように、カーボン
基板１３にパルスレーザーを照射した場合には、凹凸形
成部の頂点高さと非凹凸形成部の面高さが同じであるの
で、ディスクが回転して磁気ヘッドが所定の間隙を有し
て浮上している間は、磁気ヘッドがテクスチャー非形成
部とテクスチャー形成部との間を移動しても、磁気ヘッ
ドと磁気ディスクの接触は生じない。このため、磁気デ
ィスクの損傷を防止できる。
基板１３にパルスレーザーを照射した場合には、凹凸形
成部の頂点高さと非凹凸形成部の面高さが同じであるの
で、ディスクが回転して磁気ヘッドが所定の間隙を有し
て浮上している間は、磁気ヘッドがテクスチャー非形成
部とテクスチャー形成部との間を移動しても、磁気ヘッ
ドと磁気ディスクの接触は生じない。このため、磁気デ
ィスクの損傷を防止できる。
【００１９】なお、ヘッドランディングゾーンにおける
前記孔形成領域の面積比は、５０乃至９９．９％である
ことが好ましい。その理由は、５０％未満であると、Ｃ
ＳＳ時の磁気ヘッドと磁気ディスクの摩擦力低減効果が
小さく、９９．９％を超えると、凸部での磁気ヘッドと
磁気ディスクの間の接触圧力が大きくヘッドクラッシュ
が起こりやすくなるからである。
前記孔形成領域の面積比は、５０乃至９９．９％である
ことが好ましい。その理由は、５０％未満であると、Ｃ
ＳＳ時の磁気ヘッドと磁気ディスクの摩擦力低減効果が
小さく、９９．９％を超えると、凸部での磁気ヘッドと
磁気ディスクの間の接触圧力が大きくヘッドクラッシュ
が起こりやすくなるからである。
【００２０】また、前記パルスレーザーの単パルスで形
成される一つのくぼみの面積は１乃至９００μｍ2であ
ることが好ましい。その理由は、１μｍ２未満である
と、くぼみの形状を制御するのが難しくなり、９００μ
ｍ２を超えると、磁気ヘッドのレール幅と同程度のくぼ
みとなり、磁気ヘッドと磁気ディスクの吸着が生じ易く
なるからである。
成される一つのくぼみの面積は１乃至９００μｍ2であ
ることが好ましい。その理由は、１μｍ２未満である
と、くぼみの形状を制御するのが難しくなり、９００μ
ｍ２を超えると、磁気ヘッドのレール幅と同程度のくぼ
みとなり、磁気ヘッドと磁気ディスクの吸着が生じ易く
なるからである。
【００２１】更に、前記パルスレーザーの単パルスで形
成されるくぼみの深さは１０乃至３０００Åであること
が好ましい。その理由は、１０Å未満であると、基板の
表面粗さと同程度となり、接触面積低減の効果が小さ
く、３０００Åを超えると、磁気ヘッドの浮上安定性に
影響を与えるためである。
成されるくぼみの深さは１０乃至３０００Åであること
が好ましい。その理由は、１０Å未満であると、基板の
表面粗さと同程度となり、接触面積低減の効果が小さ
く、３０００Åを超えると、磁気ヘッドの浮上安定性に
影響を与えるためである。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の実施例について添付の図面を
参照して具体的に説明する。
参照して具体的に説明する。
【００２３】先ず、本実施例の磁気ディスク用カーボン
基板の作製方法について説明し、これにより本実施例の
磁気ディスク用カーボン基板の構造について説明すると
共に、更に本実施例の磁気ディスク媒体について説明す
る。例えば、磁気ディスク用カーボン基板の材料とし
て、炭化焼成後にガラス質炭素となる熱硬化性樹脂であ
るフェノール・フォルムアルデヒド樹脂を選択し、この
樹脂を磁気ディスク形状にホットプレス成形した後、こ
れを例えばＮ2ガス雰囲気中で１５００℃の温度に加熱
して予備焼成する。
基板の作製方法について説明し、これにより本実施例の
磁気ディスク用カーボン基板の構造について説明すると
共に、更に本実施例の磁気ディスク媒体について説明す
る。例えば、磁気ディスク用カーボン基板の材料とし
て、炭化焼成後にガラス質炭素となる熱硬化性樹脂であ
るフェノール・フォルムアルデヒド樹脂を選択し、この
樹脂を磁気ディスク形状にホットプレス成形した後、こ
れを例えばＮ2ガス雰囲気中で１５００℃の温度に加熱
して予備焼成する。
【００２４】次に、これを熱間静水圧加圧装置（ＨＩ
Ｐ）を使用して、例えば、２６００℃に加熱しつつ、１
８００気圧の等方的圧力を加える。こうして得られた成
形体に所定の端面加工、表面研磨を施し、例えば、外径
が６５ｍｍ、内径が２０ｍｍ、厚みが０．６３５ｍｍの
磁気ディスク用カーボン基板を作成する。
Ｐ）を使用して、例えば、２６００℃に加熱しつつ、１
８００気圧の等方的圧力を加える。こうして得られた成
形体に所定の端面加工、表面研磨を施し、例えば、外径
が６５ｍｍ、内径が２０ｍｍ、厚みが０．６３５ｍｍの
磁気ディスク用カーボン基板を作成する。
【００２５】次に、図１に示すように、この磁気ディス
ク用カーボン基板１をスピンドル２にクランプ３により
固定して取付け、基板１を回転させながらパルスレーザ
ーを基板１の表面に垂直に照射する。即ち、電源及び光
源８から発光した光をライトガイド７によりＱスイッチ
結晶６（高出力の単パルス光に変換するための光学素
子）に導き、この結晶６からパルスレーザー９を出射さ
せる。このパルスレーザーはビームエキスパンダ５によ
り拡張された（ビーム径を大きくした）後、集光レンズ
４により集束されてカーボン基板１の表面上に照射され
る。
ク用カーボン基板１をスピンドル２にクランプ３により
固定して取付け、基板１を回転させながらパルスレーザ
ーを基板１の表面に垂直に照射する。即ち、電源及び光
源８から発光した光をライトガイド７によりＱスイッチ
結晶６（高出力の単パルス光に変換するための光学素
子）に導き、この結晶６からパルスレーザー９を出射さ
せる。このパルスレーザーはビームエキスパンダ５によ
り拡張された（ビーム径を大きくした）後、集光レンズ
４により集束されてカーボン基板１の表面上に照射され
る。
【００２６】上述の方法では、レーザー照射系は固定
し、スピンドル２に取付られたカーボン基板１を回転さ
せつつパルスレーザーを照射するので、図２（ａ）及び
その一部拡大図である図２（ｂ）に示すように、基板内
周部のリング状の領域１０に微小孔１１による凹凸が形
成される。
し、スピンドル２に取付られたカーボン基板１を回転さ
せつつパルスレーザーを照射するので、図２（ａ）及び
その一部拡大図である図２（ｂ）に示すように、基板内
周部のリング状の領域１０に微小孔１１による凹凸が形
成される。
【００２７】このカーボン基板表面の領域１０に形成し
たくぼみ１１は、領域１０の拡大模式図である図４に示
すように、パルスレーザーのビーム径に対応する直径を
有する孔１１が２次元的に相互に接触して配置されたも
のとなっている。このくぼみ形成領域１０（テクスチャ
ー形成部）においては、図３（ｂ）に示すように、カー
ボン基板１３にパルスレーザーを照射したものであるの
で、凹凸形成部の頂点高さと非凹凸形成部の面高さが同
じであるので、磁気ディスクが回転して磁気ヘッドが所
定の間隙を有して浮上している間は、磁気ヘッドがテク
スチャー非形成部とテクスチャー形成部との間を移動し
ても、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間に接触は生じな
い。このため、磁気ディスクの損傷を防止することがで
きる。
たくぼみ１１は、領域１０の拡大模式図である図４に示
すように、パルスレーザーのビーム径に対応する直径を
有する孔１１が２次元的に相互に接触して配置されたも
のとなっている。このくぼみ形成領域１０（テクスチャ
ー形成部）においては、図３（ｂ）に示すように、カー
ボン基板１３にパルスレーザーを照射したものであるの
で、凹凸形成部の頂点高さと非凹凸形成部の面高さが同
じであるので、磁気ディスクが回転して磁気ヘッドが所
定の間隙を有して浮上している間は、磁気ヘッドがテク
スチャー非形成部とテクスチャー形成部との間を移動し
ても、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間に接触は生じな
い。このため、磁気ディスクの損傷を防止することがで
きる。
【００２８】而して、実際に上記各条件で磁気ディスク
用カーボン基板を作り、波長が５２３ｎｍで、パワーが
１Ｗ、パルス周期が６．４ＫＨｚのレーザーを使用して
凹凸を形成し、テクスチャリングした結果、直径が約４
μｍ、最大深さが０．１μｍの半球状に掘れたくぼみ１
１が形成された。また、このようなくぼみ１１はディス
クの中心から半径が１４〜１６．５ｍｍの領域に、間隔
５μｍで均一に形成された。
用カーボン基板を作り、波長が５２３ｎｍで、パワーが
１Ｗ、パルス周期が６．４ＫＨｚのレーザーを使用して
凹凸を形成し、テクスチャリングした結果、直径が約４
μｍ、最大深さが０．１μｍの半球状に掘れたくぼみ１
１が形成された。また、このようなくぼみ１１はディス
クの中心から半径が１４〜１６．５ｍｍの領域に、間隔
５μｍで均一に形成された。
【００２９】このようにして形成した基板に、磁気記録
媒体として、スパッタリングにより下地膜としてＣｒ膜
を０．１５μｍ、磁性層としてＣｏ合金層を０．０３μ
ｍ、保護膜としてカーボン膜を０．０２μｍを連続的に
成膜した。更に潤滑膜として、ＰＴＦＥ（パーフルオロ
ポリティルエーテル）をスピンコート法により２０Å形
成した。第５図に形成した磁気ディスク媒体の断面図を
示す。
媒体として、スパッタリングにより下地膜としてＣｒ膜
を０．１５μｍ、磁性層としてＣｏ合金層を０．０３μ
ｍ、保護膜としてカーボン膜を０．０２μｍを連続的に
成膜した。更に潤滑膜として、ＰＴＦＥ（パーフルオロ
ポリティルエーテル）をスピンコート法により２０Å形
成した。第５図に形成した磁気ディスク媒体の断面図を
示す。
【００３０】このように形成した磁気ディスクと磁気ヘ
ッドとの間の吸着の有無を調査したところ、吸着は発生
しなかった。
ッドとの間の吸着の有無を調査したところ、吸着は発生
しなかった。
【００３１】また、ディスク回転中に、テクスチャー未
形成領域から形成領域にヘッドをシークさせた場合も、
また逆にテクスチャー形成領域から未形成領域にシーク
させた場合も、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触は観
測されなかった。
形成領域から形成領域にヘッドをシークさせた場合も、
また逆にテクスチャー形成領域から未形成領域にシーク
させた場合も、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触は観
測されなかった。
【００３２】更に、上述の磁気ディスクは、微小孔中に
潤滑剤が保持され、潤滑膜の回転飛散による潤滑膜の減
少を防止することができた。
潤滑剤が保持され、潤滑膜の回転飛散による潤滑膜の減
少を防止することができた。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁気
ディスク用カーボン基板においては、磁気ヘッドがその
起動停止時にランディングする接触領域に、パルスレー
ザーの照射によりテクスチャーを形成したので、パルス
レーザーのビーム径と出力パワー及び照射パターンを変
化させることにより、カーボン基板上の磁気ディスク媒
体と磁気ヘッドとの接触面積を制御することが可能であ
る。また、本発明の磁気ディスク用カーボン基板の表面
に、磁性膜、保護膜、潤滑膜を形成した磁気ディスク媒
体では、磁気ヘッドの吸着が発生しにくいと共に、テク
スチャー未形成領域とテクスチャー形成領域との間でヘ
ッドをシークさせても、磁気ディスクとの接触は発生し
ない。また、前記微小くぼみ中に潤滑剤が保持される結
果、潤滑膜の回転飛散による潤滑膜の減少も防止でき
る。
ディスク用カーボン基板においては、磁気ヘッドがその
起動停止時にランディングする接触領域に、パルスレー
ザーの照射によりテクスチャーを形成したので、パルス
レーザーのビーム径と出力パワー及び照射パターンを変
化させることにより、カーボン基板上の磁気ディスク媒
体と磁気ヘッドとの接触面積を制御することが可能であ
る。また、本発明の磁気ディスク用カーボン基板の表面
に、磁性膜、保護膜、潤滑膜を形成した磁気ディスク媒
体では、磁気ヘッドの吸着が発生しにくいと共に、テク
スチャー未形成領域とテクスチャー形成領域との間でヘ
ッドをシークさせても、磁気ディスクとの接触は発生し
ない。また、前記微小くぼみ中に潤滑剤が保持される結
果、潤滑膜の回転飛散による潤滑膜の減少も防止でき
る。
【図１】本発明の実施例に係るに磁気ディスクカーボン
基板の製造に使用するレーザー照射装置を示す模式図で
ある。
基板の製造に使用するレーザー照射装置を示す模式図で
ある。
【図２】本発明の実施例に係る磁気ディスク用カーボン
基板のくぼみ形成領域を示す図であり、（ａ）はその基
板全体を示す平面図、（ｂ）はその一部拡大図である。
基板のくぼみ形成領域を示す図であり、（ａ）はその基
板全体を示す平面図、（ｂ）はその一部拡大図である。
【図３】テクスチャー形成部と非形成部との境界近傍を
示す断面図であり、（ａ）は従来の場合、（ｂ）は本発
明の場合である。
示す断面図であり、（ａ）は従来の場合、（ｂ）は本発
明の場合である。
【図４】本実施例のテクスチャー形成領域のくぼみ配置
を模式的に示す拡大図である。
を模式的に示す拡大図である。
【図５】本実施例の磁気ディスク媒体の断面図である。
１，１２，１３；カーボン基板 ２；パルスレーザー １０；くぼみ形成領域 １１；くぼみ
Claims (3)
- 【請求項１】 表面研磨された磁気ディスク用カーボン
基板において、磁気ディスク装置の起動及び停止時に磁
気ヘッドと磁気ディスクとの接触が生じる領域を含む領
域に選択的にパルスレーザーを照射してカーボンを酸化
気化又はスパッタリングさせることにより、パルスレー
ザーの単パルスで形成される一つのくぼみの面積が１乃
至９００μｍ２以下であり、くぼみの深さが１０乃至３
０００Åであり、５０％乃至９９．９％の表面積をくぼ
みとしたくぼみ形成領域を設けたことを特徴とする磁気
ディスク用カーボン基板。 - 【請求項２】 請求項１の磁気ディスク用カ−ボン基板
に、磁性膜と保護膜と潤滑膜とを順次形成したことを特
徴とする磁気ディスク媒体。 - 【請求項３】 前記磁気ディスク用カーボン基板と磁性
膜との間に下地膜を設けたことを特徴とする請求項２に
記載の磁気ディスク媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5078279A JPH06290452A (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 磁気ディスク用カーボン基板及び磁気ディスク媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5078279A JPH06290452A (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 磁気ディスク用カーボン基板及び磁気ディスク媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06290452A true JPH06290452A (ja) | 1994-10-18 |
Family
ID=13657532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5078279A Pending JPH06290452A (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 磁気ディスク用カーボン基板及び磁気ディスク媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06290452A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09138941A (ja) * | 1995-11-13 | 1997-05-27 | Nec Corp | 磁気ディスク基板およびその製造方法 |
| JPH09167337A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Nec Corp | 磁気ディスクおよびその製造方法 |
| US6132843A (en) * | 1996-11-14 | 2000-10-17 | Nippon Sheet Glass Do., Ltd. | Glass substrate for magnetic disks |
| US6327874B1 (en) * | 1995-10-31 | 2001-12-11 | Kabushiki Kaisha Ohara | Method for manufacturing a glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
| US6396661B1 (en) * | 1998-08-19 | 2002-05-28 | Fujitsu Limited | Magnetic disk drive capable of preventing stiction of magnetic head |
| US6927941B1 (en) * | 1997-03-28 | 2005-08-09 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | Disk drive disk with landing zone having textured and untextured regions |
| CN105728947A (zh) * | 2016-04-20 | 2016-07-06 | 江苏昆仑光源材料有限公司 | 一种双面超紫外波激光阵列修磨组件箱 |
-
1993
- 1993-04-05 JP JP5078279A patent/JPH06290452A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6327874B1 (en) * | 1995-10-31 | 2001-12-11 | Kabushiki Kaisha Ohara | Method for manufacturing a glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
| JPH09138941A (ja) * | 1995-11-13 | 1997-05-27 | Nec Corp | 磁気ディスク基板およびその製造方法 |
| JPH09167337A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Nec Corp | 磁気ディスクおよびその製造方法 |
| US6132843A (en) * | 1996-11-14 | 2000-10-17 | Nippon Sheet Glass Do., Ltd. | Glass substrate for magnetic disks |
| US6927941B1 (en) * | 1997-03-28 | 2005-08-09 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | Disk drive disk with landing zone having textured and untextured regions |
| US6396661B1 (en) * | 1998-08-19 | 2002-05-28 | Fujitsu Limited | Magnetic disk drive capable of preventing stiction of magnetic head |
| US6552872B2 (en) | 1998-08-19 | 2003-04-22 | Fujitsu Limited | Magnetic disk drive capable of preventing stiction of magnetic head |
| CN105728947A (zh) * | 2016-04-20 | 2016-07-06 | 江苏昆仑光源材料有限公司 | 一种双面超紫外波激光阵列修磨组件箱 |
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