JPH06291166A - フィルムキャリアおよびインナ−リ−ドボンディング装置 - Google Patents
フィルムキャリアおよびインナ−リ−ドボンディング装置Info
- Publication number
- JPH06291166A JPH06291166A JP5079823A JP7982393A JPH06291166A JP H06291166 A JPH06291166 A JP H06291166A JP 5079823 A JP5079823 A JP 5079823A JP 7982393 A JP7982393 A JP 7982393A JP H06291166 A JPH06291166 A JP H06291166A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inner lead
- bonding
- semiconductor element
- film carrier
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 より良好かつ高精度なインナ−リ−ドボンデ
ィングを行うことができるフィルムキャリアおよびイン
ナ−リ−ドボンディング装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 フィルムキャリア1のデバイスホ−ル2a内
に突設された複数本のインナ−リ−ド2…の先端部をガ
ルウイング状2´にプレス成形する下型10および上型
11と、半導体素子3を保持し、この半導体素子3の電
極3aと上記インナ−リ−ド2´のガルウイング状に成
形された先端部とを接触させるボンディングステ−ジ4
と、上記インナ−リ−ド2´の先端部を上記半導体素子
3の電極3aに接合するボンディングツ−ル5とを具備
する。
ィングを行うことができるフィルムキャリアおよびイン
ナ−リ−ドボンディング装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 フィルムキャリア1のデバイスホ−ル2a内
に突設された複数本のインナ−リ−ド2…の先端部をガ
ルウイング状2´にプレス成形する下型10および上型
11と、半導体素子3を保持し、この半導体素子3の電
極3aと上記インナ−リ−ド2´のガルウイング状に成
形された先端部とを接触させるボンディングステ−ジ4
と、上記インナ−リ−ド2´の先端部を上記半導体素子
3の電極3aに接合するボンディングツ−ル5とを具備
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、フィルムキャリアお
よび、このフィルムキャリアに設けられたインナ−リ−
ドと半導体素子の電極パッドとを加熱加圧により接合す
るボンディング装置とに関するものである。
よび、このフィルムキャリアに設けられたインナ−リ−
ドと半導体素子の電極パッドとを加熱加圧により接合す
るボンディング装置とに関するものである。
【0002】
【従来の技術】TAB(Tape Automated Bonding)の技
術を利用した半導体装置の製造工程においては、可撓性
のフィルムキャリアに半導体素子をインナ−リ−ドボン
ディングする工程がある。
術を利用した半導体装置の製造工程においては、可撓性
のフィルムキャリアに半導体素子をインナ−リ−ドボン
ディングする工程がある。
【0003】このインナ−リ−ドボンディングを行う装
置(インナ−リ−ドボンディング装置)は、図2(a)
に示すような構成を有する。
置(インナ−リ−ドボンディング装置)は、図2(a)
に示すような構成を有する。
【0004】同図中1はフィルムキャリアである。この
フィルムキャリア1は、可撓性シネフィルム状のキャリ
アテ−プ1aと、このキャリアテ−プ1aの長手方向に
沿って所定間隔で形成されたデバイスホ−ル1bと、上
記キャリアテ−プの表面に形成されると共にこのデバイ
スホ−ル1bの開口部内に延伸された複数本のインナ−
リ−ド2…とからなる。
フィルムキャリア1は、可撓性シネフィルム状のキャリ
アテ−プ1aと、このキャリアテ−プ1aの長手方向に
沿って所定間隔で形成されたデバイスホ−ル1bと、上
記キャリアテ−プの表面に形成されると共にこのデバイ
スホ−ル1bの開口部内に延伸された複数本のインナ−
リ−ド2…とからなる。
【0005】この装置は、このフィルムキャリア1を略
水平に張設し、図に矢印(イ)で示す方向に間欠的に送
り駆動する。そして、上記フィルムキャリア1の各デバ
イスホ−ル1bを図にAで示すボンディング位置に順次
停止させる。
水平に張設し、図に矢印(イ)で示す方向に間欠的に送
り駆動する。そして、上記フィルムキャリア1の各デバ
イスホ−ル1bを図にAで示すボンディング位置に順次
停止させる。
【0006】このボンディング位置Aには、上記フィル
ムキャリア1を挟んで、下側に半導体素子3を保持する
ボンディングステ−ジ4が、上側に上記フィルムキャリ
ア1のインナ−リ−ド2を上記半導体素子3の電極3a
に接合するボンディングツ−ル5がそれぞれ設けられて
いる。
ムキャリア1を挟んで、下側に半導体素子3を保持する
ボンディングステ−ジ4が、上側に上記フィルムキャリ
ア1のインナ−リ−ド2を上記半導体素子3の電極3a
に接合するボンディングツ−ル5がそれぞれ設けられて
いる。
【0007】上記ボンディングステ−ジ4は、上面に上
記半導体素子3を保持し、この半導体素子3に形成され
た各電極3a…を上記インナ−リ−ド2…の下面に所定
寸法離間させて対向させる。
記半導体素子3を保持し、この半導体素子3に形成され
た各電極3a…を上記インナ−リ−ド2…の下面に所定
寸法離間させて対向させる。
【0008】また、上記ボンディングツ−ル5は、上記
フィルムキャリア1の一つのデバイスホ−ル1b内に延
伸された全てのインナ−リ−ド2…を上記半導体素子3
の各電極3aに一括的に加圧することができる大きさの
加圧面を有する。
フィルムキャリア1の一つのデバイスホ−ル1b内に延
伸された全てのインナ−リ−ド2…を上記半導体素子3
の各電極3aに一括的に加圧することができる大きさの
加圧面を有する。
【0009】また、このボンディングツ−ル5内には、
ヒ−タ6が埋設され、このボンディングツ−ル5を所定
の温度に加熱し保温するようになっている。
ヒ−タ6が埋設され、このボンディングツ−ル5を所定
の温度に加熱し保温するようになっている。
【0010】この装置は、上記デバイスホ−ル1b及び
インナ−リ−ド2が上記ボンディング位置Aに停止され
たならば、上記ボンディングツ−ル5を下降駆動する。
このボンディングツ−ル5は、同図(b)に示すよう
に、上記インナ−リ−ド2を下側に変形させつつ下降
し、最終的には、同図(c)に示すように、このインナ
−リ−ド2を下方に変形させた状態で、このインナ−リ
−ド2と上記電極3aとを加圧し加熱して互いに接合
(インナ−リ−ドボンディング)する。
インナ−リ−ド2が上記ボンディング位置Aに停止され
たならば、上記ボンディングツ−ル5を下降駆動する。
このボンディングツ−ル5は、同図(b)に示すよう
に、上記インナ−リ−ド2を下側に変形させつつ下降
し、最終的には、同図(c)に示すように、このインナ
−リ−ド2を下方に変形させた状態で、このインナ−リ
−ド2と上記電極3aとを加圧し加熱して互いに接合
(インナ−リ−ドボンディング)する。
【0011】なお、このとき、上記フィルムキャリア1
の下面は、図に7で示す支持板によって支持されてい
る。この支持板7によって、上記インナ−リ−ド2は、
このインナ−リ−ド2の基端部を支点にして下方に変形
するようになっている。
の下面は、図に7で示す支持板によって支持されてい
る。この支持板7によって、上記インナ−リ−ド2は、
このインナ−リ−ド2の基端部を支点にして下方に変形
するようになっている。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の装置
では、上述したように、上記半導体素子3の電極3aと
上記フィルムキャリア1のインナ−リ−ド2とを所定寸
法離間させた状態で保持し、上記インナ−リ−ド2を変
形させつつ上記電極3aに接合している。
では、上述したように、上記半導体素子3の電極3aと
上記フィルムキャリア1のインナ−リ−ド2とを所定寸
法離間させた状態で保持し、上記インナ−リ−ド2を変
形させつつ上記電極3aに接合している。
【0013】これは、上記インナ−リ−ド2と上記電極
3aとをあらかじめ接触させておくと、上記インナ−リ
−ド2の基端部と上記半導体素子3とが近付くために、
図3に示すように、上記インナ−リ−ド2の長さ方向中
途部が上記半導体素子3のエッジ(ロ)に接触するおそ
れがあるからである。
3aとをあらかじめ接触させておくと、上記インナ−リ
−ド2の基端部と上記半導体素子3とが近付くために、
図3に示すように、上記インナ−リ−ド2の長さ方向中
途部が上記半導体素子3のエッジ(ロ)に接触するおそ
れがあるからである。
【0014】しかし、上記ボンディングツ−ル5を用い
てインナ−リ−ド3を変形させる場合には、以下に説明
する解決すべき課題がある。
てインナ−リ−ド3を変形させる場合には、以下に説明
する解決すべき課題がある。
【0015】第1に、このインナ−リ−ド2の基端部の
下面は上記支持板7によって支持されているが、上記こ
のインナ−リ−ド2の先端部の下面を規制する手段はな
い。
下面は上記支持板7によって支持されているが、上記こ
のインナ−リ−ド2の先端部の下面を規制する手段はな
い。
【0016】このため、インナ−リ−ド2の先端部の変
形量がばらついたり、図4に示すように上記インナ−リ
−ド2の先端部が横方向に変形する場合がある。このよ
うな現象は、上記インナ−リ−ド2の幅が狭くなりその
強度が弱くなるほど大きく生じ、さらに上記インナ−リ
−ド2…が狭ピッチで設けられている場合には隣り合う
インナ−リ−ド2…どうしが接触しショ−トするという
問題が生じる。
形量がばらついたり、図4に示すように上記インナ−リ
−ド2の先端部が横方向に変形する場合がある。このよ
うな現象は、上記インナ−リ−ド2の幅が狭くなりその
強度が弱くなるほど大きく生じ、さらに上記インナ−リ
−ド2…が狭ピッチで設けられている場合には隣り合う
インナ−リ−ド2…どうしが接触しショ−トするという
問題が生じる。
【0017】第2に、上記ボンディングツ−ル5は、ま
ず上記インナ−リ−ド2に接触しこのインナ−リ−ド2
を下方に押し下げてからこのインナ−リ−ド2を上記半
導体素子3の電極3aに接合させる。
ず上記インナ−リ−ド2に接触しこのインナ−リ−ド2
を下方に押し下げてからこのインナ−リ−ド2を上記半
導体素子3の電極3aに接合させる。
【0018】このため、上記インナ−リ−ド2を上記電
極3aに接触させるまでの間に上記インナ−リ−ド2を
介して上記フィルムキャリア1が加熱され、このフィル
ムキャリア1に熱膨張による横方向及び前後方向の伸び
が生じる場合がある。
極3aに接触させるまでの間に上記インナ−リ−ド2を
介して上記フィルムキャリア1が加熱され、このフィル
ムキャリア1に熱膨張による横方向及び前後方向の伸び
が生じる場合がある。
【0019】このような場合、上述したように、上記イ
ンナ−リ−ドの先端部を規制する手段がないために成形
不良を起こし、上記インナ−リ−ド2が幅方向に位置ず
れを起こしたり、インナ−リ−ド2が弛んだりして長さ
方向中途部が上記半導体素子3のエッジに接触するとい
うことがある。
ンナ−リ−ドの先端部を規制する手段がないために成形
不良を起こし、上記インナ−リ−ド2が幅方向に位置ず
れを起こしたり、インナ−リ−ド2が弛んだりして長さ
方向中途部が上記半導体素子3のエッジに接触するとい
うことがある。
【0020】このような現象も、上記インナ−リ−ド2
のピッチが狭ピッチ化する程、インナ−リ−ドボンディ
ングの精度に大きく影響するということがある。
のピッチが狭ピッチ化する程、インナ−リ−ドボンディ
ングの精度に大きく影響するということがある。
【0021】また、これらのことは、近年、多端子化狭
ピッチ化する半導体素子3を良好にインナ−リ−ドボン
ディングするのに大きな妨げになるおそれがある。
ピッチ化する半導体素子3を良好にインナ−リ−ドボン
ディングするのに大きな妨げになるおそれがある。
【0022】この発明は、このような事情に鑑みて成さ
れたもので、より良好かつ高精度なインナ−リ−ドボン
ディングを行うことができるフィルムキャリアおよびイ
ンナ−リ−ドボンディング装置を提供することを目的と
するものである。
れたもので、より良好かつ高精度なインナ−リ−ドボン
ディングを行うことができるフィルムキャリアおよびイ
ンナ−リ−ドボンディング装置を提供することを目的と
するものである。
【0023】
【課題を解決するための手段】この発明の第1の手段
は、可撓性のキャリアテ−プと、このキャリアテ−プに
形成されたデバイスホ−ルと、上記キャリアテ−プの表
面に形成され、上記デバイスホ−ルの開口部に延伸され
ると共に先端部が折曲された複数本のインナ−リ−ドと
を具備することを特徴とするものである。
は、可撓性のキャリアテ−プと、このキャリアテ−プに
形成されたデバイスホ−ルと、上記キャリアテ−プの表
面に形成され、上記デバイスホ−ルの開口部に延伸され
ると共に先端部が折曲された複数本のインナ−リ−ドと
を具備することを特徴とするものである。
【0024】第2の手段は、キャリアテ−プの上面に形
成され、このキャリアテ−プに設けられたデバイスホ−
ルの開口部に延伸された複数本のインナ−リ−ドの先端
部と半導体素子の電極とを接続するインナ−リ−ドボン
ディング装置において、プレス金型を用いて上記インナ
−リ−ドの先端部を折曲するプレス折曲手段と、上記イ
ンナ−リ−ドの先端部と半導体素子の電極とを接続する
接合手段とを具備することを特徴とするものである。
成され、このキャリアテ−プに設けられたデバイスホ−
ルの開口部に延伸された複数本のインナ−リ−ドの先端
部と半導体素子の電極とを接続するインナ−リ−ドボン
ディング装置において、プレス金型を用いて上記インナ
−リ−ドの先端部を折曲するプレス折曲手段と、上記イ
ンナ−リ−ドの先端部と半導体素子の電極とを接続する
接合手段とを具備することを特徴とするものである。
【0025】
【作用】このような構成によれば、フィルムキャリアに
設けられたインナ−リ−ドの先端部をあらかじめ折曲
し、このインナ−リ−ドの折曲された先端部を半導体素
子の電極に接合することで、この半導体素子をフィルム
キャリアにインナ−リ−ドボンディングすることができ
る。
設けられたインナ−リ−ドの先端部をあらかじめ折曲
し、このインナ−リ−ドの折曲された先端部を半導体素
子の電極に接合することで、この半導体素子をフィルム
キャリアにインナ−リ−ドボンディングすることができ
る。
【0026】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1を参照して
説明する。なお、従来例と同一の構成要素には同一符号
を付してその説明は省略する。
説明する。なお、従来例と同一の構成要素には同一符号
を付してその説明は省略する。
【0027】この装置は、上記フィルムキャリア1を図
に示すように略水平に張設する。そして、図示しない送
り駆動手段により、このフィルムキャリア1を矢印
(ハ)で示す方向に間欠的に送り駆動し、各デバイスホ
−ル1b(インナ−リ−ド2…)を図に(a)で示す位
置から(d)で示す各位置に順次停止させるようになっ
ている。
に示すように略水平に張設する。そして、図示しない送
り駆動手段により、このフィルムキャリア1を矢印
(ハ)で示す方向に間欠的に送り駆動し、各デバイスホ
−ル1b(インナ−リ−ド2…)を図に(a)で示す位
置から(d)で示す各位置に順次停止させるようになっ
ている。
【0028】このフィルムキャリア1の送り経路中に
は、図に(b)で示すインナ−リ−ド成形位置と、
(d)で示すボンディング位置とが設けられている。
は、図に(b)で示すインナ−リ−ド成形位置と、
(d)で示すボンディング位置とが設けられている。
【0029】上記インナ−リ−ド成形位置(b)には、
このフィルムキャリア1を挟んで設けられ、図示しない
駆動手段によって互いに接離する方向に駆動される下型
10と、上型11(プレス金型)とが設けられている
(プレス折曲手段)。
このフィルムキャリア1を挟んで設けられ、図示しない
駆動手段によって互いに接離する方向に駆動される下型
10と、上型11(プレス金型)とが設けられている
(プレス折曲手段)。
【0030】上記下型10は、上端面の外周縁に設けら
れ上記インナ−リ−ド2の基端部の下面を保持する保持
部10aと、上端面の中央部に凹設され、上記デバイス
ホ−ル1bの開口部に延伸されたインナ−リ−ド2の先
端部の下面を保持する凹陥部10bとを具備する。
れ上記インナ−リ−ド2の基端部の下面を保持する保持
部10aと、上端面の中央部に凹設され、上記デバイス
ホ−ル1bの開口部に延伸されたインナ−リ−ド2の先
端部の下面を保持する凹陥部10bとを具備する。
【0031】また、上記上型11は、上記下型10の凹
陥部10b内に位置するインナ−リ−ド2の先端部を上
記凹陥部10bとの間に挟み込んでガルウイング状に成
形する加圧部11aを具備する。
陥部10b内に位置するインナ−リ−ド2の先端部を上
記凹陥部10bとの間に挟み込んでガルウイング状に成
形する加圧部11aを具備する。
【0032】さらに、図示しないが、この装置には、上
記プレス成形前に、この上型11および下型10から突
出して上記インナ−リ−ド2を上下方向から挟持するホ
ルダが設けられている。
記プレス成形前に、この上型11および下型10から突
出して上記インナ−リ−ド2を上下方向から挟持するホ
ルダが設けられている。
【0033】そして、位置(a)に示す略水平なインナ
−リ−ド2…が、上記インナ−リ−ド形成位置(b)の
上型11と下型10との間に停止されたならば、まず、
このホルダによって上記インナ−リ−ド2は挟持され、
幅方向に移動できない状態で固定される。
−リ−ド2…が、上記インナ−リ−ド形成位置(b)の
上型11と下型10との間に停止されたならば、まず、
このホルダによって上記インナ−リ−ド2は挟持され、
幅方向に移動できない状態で固定される。
【0034】ついで、上記下型10が上昇し、上記保持
部10aで上記インナ−リ−ド2の基端部の下面を保持
すると、上記上型11が下降駆動され、上記インナ−リ
−ド2…の先端部をプレス成形によりガルウイング状に
折曲する。(以下、ガルウイング状に折曲された後のイ
ンナ−リ−ド2を符号2´で示す。)このプレス成形が
終了したならば、上記上型11と下型10はフィルムキ
ャリア1から離間する方向に駆動され、上記折曲された
インナ−リ−ド2´は、1ピッチ送り駆動され、位置
(c)に移送される。
部10aで上記インナ−リ−ド2の基端部の下面を保持
すると、上記上型11が下降駆動され、上記インナ−リ
−ド2…の先端部をプレス成形によりガルウイング状に
折曲する。(以下、ガルウイング状に折曲された後のイ
ンナ−リ−ド2を符号2´で示す。)このプレス成形が
終了したならば、上記上型11と下型10はフィルムキ
ャリア1から離間する方向に駆動され、上記折曲された
インナ−リ−ド2´は、1ピッチ送り駆動され、位置
(c)に移送される。
【0035】次に、上記インナ−リ−ド2´は、位置
(c)からさらに1ピッチ送り駆動され、上記ボンディ
ング位置(d)に停止する。このボンディング位置
(d)には、上記ボンディングツ−ル5とボンディング
ステ−ジ4とが設けられている(接合手段)。
(c)からさらに1ピッチ送り駆動され、上記ボンディ
ング位置(d)に停止する。このボンディング位置
(d)には、上記ボンディングツ−ル5とボンディング
ステ−ジ4とが設けられている(接合手段)。
【0036】このボンディングステ−ジ4上には、図示
しない移載手段によって、半導体素子3が供給される。
上記ボンディングステ−ジ4は、この半導体素子3の各
電極3aを上記ガルウイング状に成形されたインナ−リ
−ド2´の先端部に対向位置決めした後、この半導体素
子3を上昇駆動する。このことで、この半導体素子3の
電極3aを上記インナ−リ−ド2´の先端部の下面に当
接させる。
しない移載手段によって、半導体素子3が供給される。
上記ボンディングステ−ジ4は、この半導体素子3の各
電極3aを上記ガルウイング状に成形されたインナ−リ
−ド2´の先端部に対向位置決めした後、この半導体素
子3を上昇駆動する。このことで、この半導体素子3の
電極3aを上記インナ−リ−ド2´の先端部の下面に当
接させる。
【0037】ついで、上記ボンディングツ−ル5が下降
駆動され、上記インナ−リ−ド2´の先端部を上記半導
体素子3の電極3aに加熱し加圧することで、両者を熱
圧着して接合(インナ−リ−ドボンディング)する。
駆動され、上記インナ−リ−ド2´の先端部を上記半導
体素子3の電極3aに加熱し加圧することで、両者を熱
圧着して接合(インナ−リ−ドボンディング)する。
【0038】このようにしてインナ−リ−ドボンディン
グが終了したならば、上記ボンディングツ−ル5と上記
ボンディングステ−ジ4は上記フィルムキャリア1から
離間する。ついで、フィルムキャリアは1ピッチ送り駆
動され、上記半導体素子3とインナ−リ−ド2´は位置
(e)に移送される。
グが終了したならば、上記ボンディングツ−ル5と上記
ボンディングステ−ジ4は上記フィルムキャリア1から
離間する。ついで、フィルムキャリアは1ピッチ送り駆
動され、上記半導体素子3とインナ−リ−ド2´は位置
(e)に移送される。
【0039】このことで、全ボンディング工程が終了
し、上記半導体素子3がインナ−リ−ドボンディングさ
れたフィルムキャリア1は、図示しないポッティング工
程(樹脂封止工程)に送られる。
し、上記半導体素子3がインナ−リ−ドボンディングさ
れたフィルムキャリア1は、図示しないポッティング工
程(樹脂封止工程)に送られる。
【0040】このような構成によれば、以下に説明する
効果がある。
効果がある。
【0041】第1に、上記インナ−リ−ド2を上記ボン
ディングツ−ル5で変形させるのではなく、あらかじ
め、上記インナ−リ−ド成形位置(b)に設けられた下
型10および上型11によってガルウイング状2´にプ
レス成形するようにした。
ディングツ−ル5で変形させるのではなく、あらかじ
め、上記インナ−リ−ド成形位置(b)に設けられた下
型10および上型11によってガルウイング状2´にプ
レス成形するようにした。
【0042】すなわち、専用のプレス金型を用いて上記
インナ−リ−ド2の先端部の折曲を行うようにしたか
ら、この折曲が良好に行え、このインナ−リ−ド2に横
曲り等の不良が生じることが少なくなる。
インナ−リ−ド2の先端部の折曲を行うようにしたか
ら、この折曲が良好に行え、このインナ−リ−ド2に横
曲り等の不良が生じることが少なくなる。
【0043】また、上記ボンディングツ−ルでインナ−
リ−ド2を変形させる従来例と異なり、このインナ−リ
−ド2を折曲する際にこのインナ−リ−ド2を加熱する
ことがない。したがって、折曲時にフィルムキャリア1
の熱膨張によるインナ−リ−ド2の位置ずれは発生しな
い。
リ−ド2を変形させる従来例と異なり、このインナ−リ
−ド2を折曲する際にこのインナ−リ−ド2を加熱する
ことがない。したがって、折曲時にフィルムキャリア1
の熱膨張によるインナ−リ−ド2の位置ずれは発生しな
い。
【0044】この結果、上記インナ−リ−ド2を良好に
折曲することができる効果がある。
折曲することができる効果がある。
【0045】第2に、上記インナ−リ−ド2を確実にガ
ルウイング状2´にプレス成形するようにしたので、イ
ンナ−リ−ド2の成形量を安定的に制御することが可能
になり、接合時にこのインナ−リ−ド2の長さ方向中途
部に弛みが生じることが有効に防止できる。この結果、
上記インナ−リ−ド2の中途部が上記半導体素子3のエ
ッジに接触してショ−ト不良が生じることが有効に防止
できる効果がある。
ルウイング状2´にプレス成形するようにしたので、イ
ンナ−リ−ド2の成形量を安定的に制御することが可能
になり、接合時にこのインナ−リ−ド2の長さ方向中途
部に弛みが生じることが有効に防止できる。この結果、
上記インナ−リ−ド2の中途部が上記半導体素子3のエ
ッジに接触してショ−ト不良が生じることが有効に防止
できる効果がある。
【0046】第3に、上記インナ−リ−ド2´の先端部
と上記半導体素子3の電極3aとをあらかじめ接触させ
ることができるので、ボンディング時には上記インナ−
リ−ド2を加熱すると同時にこのインナ−リ−ド2を上
記電極3aに押圧することができる。
と上記半導体素子3の電極3aとをあらかじめ接触させ
ることができるので、ボンディング時には上記インナ−
リ−ド2を加熱すると同時にこのインナ−リ−ド2を上
記電極3aに押圧することができる。
【0047】この結果、上記インナ−リ−ド2´を電極
3aに接触させるまでの間にこのインナ−リ−ド2´が
フィルムキャリア1の熱膨張に起因して位置ずれを生じ
るということがなくなる。したがって、より精度の高い
インナ−リ−ドボンディングを行うことができる効果が
ある。
3aに接触させるまでの間にこのインナ−リ−ド2´が
フィルムキャリア1の熱膨張に起因して位置ずれを生じ
るということがなくなる。したがって、より精度の高い
インナ−リ−ドボンディングを行うことができる効果が
ある。
【0048】以上のことから、この発明によれば、従来
のインナ−リ−ドボンディング装置に比べてより良好か
つ高精度なインナ−リ−ドボンディングを行うことがで
きるので、半導体素子3が多端子狭ピッチ化した場合で
も十分に対応することができる効果がある。
のインナ−リ−ドボンディング装置に比べてより良好か
つ高精度なインナ−リ−ドボンディングを行うことがで
きるので、半導体素子3が多端子狭ピッチ化した場合で
も十分に対応することができる効果がある。
【0049】なお、この発明は上記一実施例に限定され
るものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変
形可能である。
るものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変
形可能である。
【0050】例えば、上記一実施例では、上記フィルム
キャリア1のインナ−リ−ド2´…を一括的に上記半導
体素子3の電極3aに接合するギャングボンディング方
式であったが、上記インナ−リ−ド2´を一本づつ接合
するシングルポイント方式のインナ−リ−ドボンディン
グ(シングルポイントボンディング)であっても良い。
キャリア1のインナ−リ−ド2´…を一括的に上記半導
体素子3の電極3aに接合するギャングボンディング方
式であったが、上記インナ−リ−ド2´を一本づつ接合
するシングルポイント方式のインナ−リ−ドボンディン
グ(シングルポイントボンディング)であっても良い。
【0051】このシングルポイントボンディングでは、
従来、上記直線状に設けられたインナ−リ−ド2の先端
を上記半導体素子3の電極3aの上面に当接させてボン
ディングしていたため、前述したようなボンディングツ
−ルによるインナ−リ−ドリ−ド2の押し曲げ成形(折
曲)ができなかった。
従来、上記直線状に設けられたインナ−リ−ド2の先端
を上記半導体素子3の電極3aの上面に当接させてボン
ディングしていたため、前述したようなボンディングツ
−ルによるインナ−リ−ドリ−ド2の押し曲げ成形(折
曲)ができなかった。
【0052】したがって上記フィルムキャリア1と上記
半導体素子3の距離が近くなり、上記インナ−リ−ド2
の中途部が上記半導体素子3のエッジに接触してショ−
ト不良を生じるおそれがギャングボンディング方式の場
合に比べて大きかった。
半導体素子3の距離が近くなり、上記インナ−リ−ド2
の中途部が上記半導体素子3のエッジに接触してショ−
ト不良を生じるおそれがギャングボンディング方式の場
合に比べて大きかった。
【0053】しかし、この発明によれば、上記インナ−
リ−ド2´の先端部と上記半導体素子3の電極3aとを
接触させた状態でも、上記フィルムキャリア1と上記半
導体素子3の距離を所定寸法離間させることが可能にな
るので、上記ショ−ト不良が生じることを有効に防止で
きる効果がある。
リ−ド2´の先端部と上記半導体素子3の電極3aとを
接触させた状態でも、上記フィルムキャリア1と上記半
導体素子3の距離を所定寸法離間させることが可能にな
るので、上記ショ−ト不良が生じることを有効に防止で
きる効果がある。
【0054】また、上記一実施例では、上記長尺なるフ
ィルムキャリア1を張設し、これを間欠的に送り駆動す
ることで上記インナ−リ−ドボンディングを行っていた
が、これに限定されるものではない。
ィルムキャリア1を張設し、これを間欠的に送り駆動す
ることで上記インナ−リ−ドボンディングを行っていた
が、これに限定されるものではない。
【0055】すなわち、上記フィルムキャリア1を一つ
のデバイスホ−ル1bごとに短冊状に切断し、これをス
ライドキャリアに収納する。そして、このスライドキャ
リアを送り駆動するさせることで、上記インナ−リ−ド
2の成形及びインナ−リ−ドボンディングを行うように
してもよい。
のデバイスホ−ル1bごとに短冊状に切断し、これをス
ライドキャリアに収納する。そして、このスライドキャ
リアを送り駆動するさせることで、上記インナ−リ−ド
2の成形及びインナ−リ−ドボンディングを行うように
してもよい。
【0056】このようにすれば、上記フィルムキャリア
1を巻き取ることがないので、巻き取ることで生じてい
た上記インナ−リ−ド2の変形やこのインナ−リ−ド2
と上記半導体素子3との断線などの不良を有効に低減す
ることができる効果がある。 さらに、上記一実施例
では、上記インナ−リ−ド2をガルウイング状に折曲し
ていたが、これに限定されるものではない。上記インナ
−リ−ド2の先端部をフィルムキャリア1から離れる方
向に折曲するような形状であれば他の形状であっても良
い。
1を巻き取ることがないので、巻き取ることで生じてい
た上記インナ−リ−ド2の変形やこのインナ−リ−ド2
と上記半導体素子3との断線などの不良を有効に低減す
ることができる効果がある。 さらに、上記一実施例
では、上記インナ−リ−ド2をガルウイング状に折曲し
ていたが、これに限定されるものではない。上記インナ
−リ−ド2の先端部をフィルムキャリア1から離れる方
向に折曲するような形状であれば他の形状であっても良
い。
【0057】
【発明の効果】以上述べたように、この発明の第1の構
成は、可撓性のキャリアテ−プと、このキャリアテ−プ
に形成されたデバイスホ−ルと、上記キャリアテ−プの
表面に形成され、上記デバイスホ−ルの開口部に延伸さ
れると共に先端部が折曲された複数本のインナ−リ−ド
とを具備することを特徴とするものである。
成は、可撓性のキャリアテ−プと、このキャリアテ−プ
に形成されたデバイスホ−ルと、上記キャリアテ−プの
表面に形成され、上記デバイスホ−ルの開口部に延伸さ
れると共に先端部が折曲された複数本のインナ−リ−ド
とを具備することを特徴とするものである。
【0058】第2の構成は、キャリアテ−プの上面に形
成され、このキャリアテ−プに設けられたデバイスホ−
ルの開口部に延伸された複数本のインナ−リ−ドの先端
部と半導体素子の電極とを接続するインナ−リ−ドボン
ディング装置において、プレス金型を用いて上記インナ
−リ−ドの先端部を折曲するプレス折曲手段と、上記イ
ンナ−リ−ドの先端部と半導体素子の電極とを接続する
接合手段とを具備することを特徴とするものである。
成され、このキャリアテ−プに設けられたデバイスホ−
ルの開口部に延伸された複数本のインナ−リ−ドの先端
部と半導体素子の電極とを接続するインナ−リ−ドボン
ディング装置において、プレス金型を用いて上記インナ
−リ−ドの先端部を折曲するプレス折曲手段と、上記イ
ンナ−リ−ドの先端部と半導体素子の電極とを接続する
接合手段とを具備することを特徴とするものである。
【0059】このような第1、第2の構成によれば、よ
り良好かつ高精度なインナ−リ−ドボンディングを行う
ことができる効果がある。
り良好かつ高精度なインナ−リ−ドボンディングを行う
ことができる効果がある。
【図1】この発明の一実施例を示す概略構成図。
【図2】(a)〜(c)は、従来例のインナ−リ−ドボ
ンディング工程を示す工程図。
ンディング工程を示す工程図。
【図3】同じく、インナ−リ−ドボンディングの不良状
態を拡大して示す縦断面図。
態を拡大して示す縦断面図。
【図4】同じく、インナ−リ−ドボンディングの不良状
態を拡大して示す平面図。
態を拡大して示す平面図。
1…フィルムキャリア、1b…デバイスホ−ル、2…イ
ンナ−リ−ド、3…半導体素子、3a…電極、5…ボン
ディングツ−ル(接合手段)、10…下型(プレス金
型)、11…上型(プレス金型)、2´…ガルウイング
状に折曲されたインナ−リ−ド。
ンナ−リ−ド、3…半導体素子、3a…電極、5…ボン
ディングツ−ル(接合手段)、10…下型(プレス金
型)、11…上型(プレス金型)、2´…ガルウイング
状に折曲されたインナ−リ−ド。
Claims (2)
- 【請求項1】 可撓性のキャリアテ−プと、このキャリ
アテ−プに形成されたデバイスホ−ルと、上記キャリア
テ−プの表面に形成され、上記デバイスホ−ルの開口部
に延伸されると共に先端部が折曲された複数本のインナ
−リ−ドとを具備することを特徴とするフィルムキャリ
ア。 - 【請求項2】 キャリアテ−プの上面に形成され、この
キャリアテ−プに設けられたデバイスホ−ルの開口部に
延伸された複数本のインナ−リ−ドの先端部と半導体素
子の電極とを接続するインナ−リ−ドボンディング装置
において、プレス金型を用いて上記インナ−リ−ドの先
端部を折曲するプレス折曲手段と、上記インナ−リ−ド
の先端部と半導体素子の電極とを接続する接合手段とを
具備することを特徴とするインナ−リ−ドボンディング
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5079823A JPH06291166A (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | フィルムキャリアおよびインナ−リ−ドボンディング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5079823A JPH06291166A (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | フィルムキャリアおよびインナ−リ−ドボンディング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06291166A true JPH06291166A (ja) | 1994-10-18 |
Family
ID=13700934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5079823A Pending JPH06291166A (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | フィルムキャリアおよびインナ−リ−ドボンディング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06291166A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7045392B2 (en) | 1998-07-28 | 2006-05-16 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device and method of fabrication thereof, semiconductor module, circuit board, and electronic equipment |
-
1993
- 1993-04-06 JP JP5079823A patent/JPH06291166A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7045392B2 (en) | 1998-07-28 | 2006-05-16 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device and method of fabrication thereof, semiconductor module, circuit board, and electronic equipment |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20060125064A1 (en) | Semiconductor device and a method of manufacturing the same | |
| US20030178723A1 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| US5078186A (en) | Lead forming for electronic parts having gull wing type outer leads | |
| CN101546711B (zh) | 导线架及其制作方法 | |
| JPS6136378B2 (ja) | ||
| JP2720753B2 (ja) | フィルム貼り付け方法 | |
| KR100375526B1 (ko) | 리드프레임 테이핑설비의 펀칭장치 및 이의 구동방법 | |
| JP2004146729A (ja) | 半導体樹脂封止用金型及び樹脂封止方法 | |
| JP2703272B2 (ja) | ワイヤボンディング装置 | |
| US5202289A (en) | Method of plastically deforming a semiconductor device lead frame in preparation for ultrasonic bonding | |
| JPH10256316A (ja) | 電子部品の実装装置および実装方法 | |
| JPS6344998Y2 (ja) | ||
| JPH0539630Y2 (ja) | ||
| JPS5933978B2 (ja) | ボンディング方法 | |
| JP2636778B2 (ja) | 半導体装置製造用金型 | |
| JPH0936291A (ja) | タイバーカット方法および装置 | |
| JP2632767B2 (ja) | 積層型リードフレームおよびその製造方法 | |
| JP2673124B2 (ja) | Ilbテープのアウターリードのカットフォーミング装置及び該装置によるカットフォーミング方法 | |
| JP2672787B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JP2000216319A (ja) | 電子部品の位置決めリ―ド曲げ装置及び曲げ法 | |
| JPH0722457A (ja) | 位置決め装置およびその位置決め装置を組み込んだ半導体デバイス製造装置 | |
| JP2897396B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置の外部リード成形方法 | |
| JPS60138949A (ja) | 半導体装置用リ−ドフレ−ム | |
| JP2000277650A (ja) | Bga型半導体装置製造方法 | |
| JPH0636418B2 (ja) | Tabのリードフォーミング方法 |