JPH06291166A - フィルムキャリアおよびインナ−リ−ドボンディング装置 - Google Patents

フィルムキャリアおよびインナ−リ−ドボンディング装置

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JPH06291166A
JPH06291166A JP5079823A JP7982393A JPH06291166A JP H06291166 A JPH06291166 A JP H06291166A JP 5079823 A JP5079823 A JP 5079823A JP 7982393 A JP7982393 A JP 7982393A JP H06291166 A JPH06291166 A JP H06291166A
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JP
Japan
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inner lead
bonding
semiconductor element
film carrier
electrode
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Application number
JP5079823A
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English (en)
Inventor
Koichiro Atsumi
幸一郎 渥美
Noriyasu Kashima
規安 加島
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 より良好かつ高精度なインナ−リ−ドボンデ
ィングを行うことができるフィルムキャリアおよびイン
ナ−リ−ドボンディング装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 フィルムキャリア1のデバイスホ−ル2a内
に突設された複数本のインナ−リ−ド2…の先端部をガ
ルウイング状2´にプレス成形する下型10および上型
11と、半導体素子3を保持し、この半導体素子3の電
極3aと上記インナ−リ−ド2´のガルウイング状に成
形された先端部とを接触させるボンディングステ−ジ4
と、上記インナ−リ−ド2´の先端部を上記半導体素子
3の電極3aに接合するボンディングツ−ル5とを具備
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、フィルムキャリアお
よび、このフィルムキャリアに設けられたインナ−リ−
ドと半導体素子の電極パッドとを加熱加圧により接合す
るボンディング装置とに関するものである。
【0002】
【従来の技術】TAB(Tape Automated Bonding)の技
術を利用した半導体装置の製造工程においては、可撓性
のフィルムキャリアに半導体素子をインナ−リ−ドボン
ディングする工程がある。
【0003】このインナ−リ−ドボンディングを行う装
置(インナ−リ−ドボンディング装置)は、図2(a)
に示すような構成を有する。
【0004】同図中1はフィルムキャリアである。この
フィルムキャリア1は、可撓性シネフィルム状のキャリ
アテ−プ1aと、このキャリアテ−プ1aの長手方向に
沿って所定間隔で形成されたデバイスホ−ル1bと、上
記キャリアテ−プの表面に形成されると共にこのデバイ
スホ−ル1bの開口部内に延伸された複数本のインナ−
リ−ド2…とからなる。
【0005】この装置は、このフィルムキャリア1を略
水平に張設し、図に矢印(イ)で示す方向に間欠的に送
り駆動する。そして、上記フィルムキャリア1の各デバ
イスホ−ル1bを図にAで示すボンディング位置に順次
停止させる。
【0006】このボンディング位置Aには、上記フィル
ムキャリア1を挟んで、下側に半導体素子3を保持する
ボンディングステ−ジ4が、上側に上記フィルムキャリ
ア1のインナ−リ−ド2を上記半導体素子3の電極3a
に接合するボンディングツ−ル5がそれぞれ設けられて
いる。
【0007】上記ボンディングステ−ジ4は、上面に上
記半導体素子3を保持し、この半導体素子3に形成され
た各電極3a…を上記インナ−リ−ド2…の下面に所定
寸法離間させて対向させる。
【0008】また、上記ボンディングツ−ル5は、上記
フィルムキャリア1の一つのデバイスホ−ル1b内に延
伸された全てのインナ−リ−ド2…を上記半導体素子3
の各電極3aに一括的に加圧することができる大きさの
加圧面を有する。
【0009】また、このボンディングツ−ル5内には、
ヒ−タ6が埋設され、このボンディングツ−ル5を所定
の温度に加熱し保温するようになっている。
【0010】この装置は、上記デバイスホ−ル1b及び
インナ−リ−ド2が上記ボンディング位置Aに停止され
たならば、上記ボンディングツ−ル5を下降駆動する。
このボンディングツ−ル5は、同図(b)に示すよう
に、上記インナ−リ−ド2を下側に変形させつつ下降
し、最終的には、同図(c)に示すように、このインナ
−リ−ド2を下方に変形させた状態で、このインナ−リ
−ド2と上記電極3aとを加圧し加熱して互いに接合
(インナ−リ−ドボンディング)する。
【0011】なお、このとき、上記フィルムキャリア1
の下面は、図に7で示す支持板によって支持されてい
る。この支持板7によって、上記インナ−リ−ド2は、
このインナ−リ−ド2の基端部を支点にして下方に変形
するようになっている。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の装置
では、上述したように、上記半導体素子3の電極3aと
上記フィルムキャリア1のインナ−リ−ド2とを所定寸
法離間させた状態で保持し、上記インナ−リ−ド2を変
形させつつ上記電極3aに接合している。
【0013】これは、上記インナ−リ−ド2と上記電極
3aとをあらかじめ接触させておくと、上記インナ−リ
−ド2の基端部と上記半導体素子3とが近付くために、
図3に示すように、上記インナ−リ−ド2の長さ方向中
途部が上記半導体素子3のエッジ(ロ)に接触するおそ
れがあるからである。
【0014】しかし、上記ボンディングツ−ル5を用い
てインナ−リ−ド3を変形させる場合には、以下に説明
する解決すべき課題がある。
【0015】第1に、このインナ−リ−ド2の基端部の
下面は上記支持板7によって支持されているが、上記こ
のインナ−リ−ド2の先端部の下面を規制する手段はな
い。
【0016】このため、インナ−リ−ド2の先端部の変
形量がばらついたり、図4に示すように上記インナ−リ
−ド2の先端部が横方向に変形する場合がある。このよ
うな現象は、上記インナ−リ−ド2の幅が狭くなりその
強度が弱くなるほど大きく生じ、さらに上記インナ−リ
−ド2…が狭ピッチで設けられている場合には隣り合う
インナ−リ−ド2…どうしが接触しショ−トするという
問題が生じる。
【0017】第2に、上記ボンディングツ−ル5は、ま
ず上記インナ−リ−ド2に接触しこのインナ−リ−ド2
を下方に押し下げてからこのインナ−リ−ド2を上記半
導体素子3の電極3aに接合させる。
【0018】このため、上記インナ−リ−ド2を上記電
極3aに接触させるまでの間に上記インナ−リ−ド2を
介して上記フィルムキャリア1が加熱され、このフィル
ムキャリア1に熱膨張による横方向及び前後方向の伸び
が生じる場合がある。
【0019】このような場合、上述したように、上記イ
ンナ−リ−ドの先端部を規制する手段がないために成形
不良を起こし、上記インナ−リ−ド2が幅方向に位置ず
れを起こしたり、インナ−リ−ド2が弛んだりして長さ
方向中途部が上記半導体素子3のエッジに接触するとい
うことがある。
【0020】このような現象も、上記インナ−リ−ド2
のピッチが狭ピッチ化する程、インナ−リ−ドボンディ
ングの精度に大きく影響するということがある。
【0021】また、これらのことは、近年、多端子化狭
ピッチ化する半導体素子3を良好にインナ−リ−ドボン
ディングするのに大きな妨げになるおそれがある。
【0022】この発明は、このような事情に鑑みて成さ
れたもので、より良好かつ高精度なインナ−リ−ドボン
ディングを行うことができるフィルムキャリアおよびイ
ンナ−リ−ドボンディング装置を提供することを目的と
するものである。
【0023】
【課題を解決するための手段】この発明の第1の手段
は、可撓性のキャリアテ−プと、このキャリアテ−プに
形成されたデバイスホ−ルと、上記キャリアテ−プの表
面に形成され、上記デバイスホ−ルの開口部に延伸され
ると共に先端部が折曲された複数本のインナ−リ−ドと
を具備することを特徴とするものである。
【0024】第2の手段は、キャリアテ−プの上面に形
成され、このキャリアテ−プに設けられたデバイスホ−
ルの開口部に延伸された複数本のインナ−リ−ドの先端
部と半導体素子の電極とを接続するインナ−リ−ドボン
ディング装置において、プレス金型を用いて上記インナ
−リ−ドの先端部を折曲するプレス折曲手段と、上記イ
ンナ−リ−ドの先端部と半導体素子の電極とを接続する
接合手段とを具備することを特徴とするものである。
【0025】
【作用】このような構成によれば、フィルムキャリアに
設けられたインナ−リ−ドの先端部をあらかじめ折曲
し、このインナ−リ−ドの折曲された先端部を半導体素
子の電極に接合することで、この半導体素子をフィルム
キャリアにインナ−リ−ドボンディングすることができ
る。
【0026】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1を参照して
説明する。なお、従来例と同一の構成要素には同一符号
を付してその説明は省略する。
【0027】この装置は、上記フィルムキャリア1を図
に示すように略水平に張設する。そして、図示しない送
り駆動手段により、このフィルムキャリア1を矢印
(ハ)で示す方向に間欠的に送り駆動し、各デバイスホ
−ル1b(インナ−リ−ド2…)を図に(a)で示す位
置から(d)で示す各位置に順次停止させるようになっ
ている。
【0028】このフィルムキャリア1の送り経路中に
は、図に(b)で示すインナ−リ−ド成形位置と、
(d)で示すボンディング位置とが設けられている。
【0029】上記インナ−リ−ド成形位置(b)には、
このフィルムキャリア1を挟んで設けられ、図示しない
駆動手段によって互いに接離する方向に駆動される下型
10と、上型11(プレス金型)とが設けられている
(プレス折曲手段)。
【0030】上記下型10は、上端面の外周縁に設けら
れ上記インナ−リ−ド2の基端部の下面を保持する保持
部10aと、上端面の中央部に凹設され、上記デバイス
ホ−ル1bの開口部に延伸されたインナ−リ−ド2の先
端部の下面を保持する凹陥部10bとを具備する。
【0031】また、上記上型11は、上記下型10の凹
陥部10b内に位置するインナ−リ−ド2の先端部を上
記凹陥部10bとの間に挟み込んでガルウイング状に成
形する加圧部11aを具備する。
【0032】さらに、図示しないが、この装置には、上
記プレス成形前に、この上型11および下型10から突
出して上記インナ−リ−ド2を上下方向から挟持するホ
ルダが設けられている。
【0033】そして、位置(a)に示す略水平なインナ
−リ−ド2…が、上記インナ−リ−ド形成位置(b)の
上型11と下型10との間に停止されたならば、まず、
このホルダによって上記インナ−リ−ド2は挟持され、
幅方向に移動できない状態で固定される。
【0034】ついで、上記下型10が上昇し、上記保持
部10aで上記インナ−リ−ド2の基端部の下面を保持
すると、上記上型11が下降駆動され、上記インナ−リ
−ド2…の先端部をプレス成形によりガルウイング状に
折曲する。(以下、ガルウイング状に折曲された後のイ
ンナ−リ−ド2を符号2´で示す。)このプレス成形が
終了したならば、上記上型11と下型10はフィルムキ
ャリア1から離間する方向に駆動され、上記折曲された
インナ−リ−ド2´は、1ピッチ送り駆動され、位置
(c)に移送される。
【0035】次に、上記インナ−リ−ド2´は、位置
(c)からさらに1ピッチ送り駆動され、上記ボンディ
ング位置(d)に停止する。このボンディング位置
(d)には、上記ボンディングツ−ル5とボンディング
ステ−ジ4とが設けられている(接合手段)。
【0036】このボンディングステ−ジ4上には、図示
しない移載手段によって、半導体素子3が供給される。
上記ボンディングステ−ジ4は、この半導体素子3の各
電極3aを上記ガルウイング状に成形されたインナ−リ
−ド2´の先端部に対向位置決めした後、この半導体素
子3を上昇駆動する。このことで、この半導体素子3の
電極3aを上記インナ−リ−ド2´の先端部の下面に当
接させる。
【0037】ついで、上記ボンディングツ−ル5が下降
駆動され、上記インナ−リ−ド2´の先端部を上記半導
体素子3の電極3aに加熱し加圧することで、両者を熱
圧着して接合(インナ−リ−ドボンディング)する。
【0038】このようにしてインナ−リ−ドボンディン
グが終了したならば、上記ボンディングツ−ル5と上記
ボンディングステ−ジ4は上記フィルムキャリア1から
離間する。ついで、フィルムキャリアは1ピッチ送り駆
動され、上記半導体素子3とインナ−リ−ド2´は位置
(e)に移送される。
【0039】このことで、全ボンディング工程が終了
し、上記半導体素子3がインナ−リ−ドボンディングさ
れたフィルムキャリア1は、図示しないポッティング工
程(樹脂封止工程)に送られる。
【0040】このような構成によれば、以下に説明する
効果がある。
【0041】第1に、上記インナ−リ−ド2を上記ボン
ディングツ−ル5で変形させるのではなく、あらかじ
め、上記インナ−リ−ド成形位置(b)に設けられた下
型10および上型11によってガルウイング状2´にプ
レス成形するようにした。
【0042】すなわち、専用のプレス金型を用いて上記
インナ−リ−ド2の先端部の折曲を行うようにしたか
ら、この折曲が良好に行え、このインナ−リ−ド2に横
曲り等の不良が生じることが少なくなる。
【0043】また、上記ボンディングツ−ルでインナ−
リ−ド2を変形させる従来例と異なり、このインナ−リ
−ド2を折曲する際にこのインナ−リ−ド2を加熱する
ことがない。したがって、折曲時にフィルムキャリア1
の熱膨張によるインナ−リ−ド2の位置ずれは発生しな
い。
【0044】この結果、上記インナ−リ−ド2を良好に
折曲することができる効果がある。
【0045】第2に、上記インナ−リ−ド2を確実にガ
ルウイング状2´にプレス成形するようにしたので、イ
ンナ−リ−ド2の成形量を安定的に制御することが可能
になり、接合時にこのインナ−リ−ド2の長さ方向中途
部に弛みが生じることが有効に防止できる。この結果、
上記インナ−リ−ド2の中途部が上記半導体素子3のエ
ッジに接触してショ−ト不良が生じることが有効に防止
できる効果がある。
【0046】第3に、上記インナ−リ−ド2´の先端部
と上記半導体素子3の電極3aとをあらかじめ接触させ
ることができるので、ボンディング時には上記インナ−
リ−ド2を加熱すると同時にこのインナ−リ−ド2を上
記電極3aに押圧することができる。
【0047】この結果、上記インナ−リ−ド2´を電極
3aに接触させるまでの間にこのインナ−リ−ド2´が
フィルムキャリア1の熱膨張に起因して位置ずれを生じ
るということがなくなる。したがって、より精度の高い
インナ−リ−ドボンディングを行うことができる効果が
ある。
【0048】以上のことから、この発明によれば、従来
のインナ−リ−ドボンディング装置に比べてより良好か
つ高精度なインナ−リ−ドボンディングを行うことがで
きるので、半導体素子3が多端子狭ピッチ化した場合で
も十分に対応することができる効果がある。
【0049】なお、この発明は上記一実施例に限定され
るものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変
形可能である。
【0050】例えば、上記一実施例では、上記フィルム
キャリア1のインナ−リ−ド2´…を一括的に上記半導
体素子3の電極3aに接合するギャングボンディング方
式であったが、上記インナ−リ−ド2´を一本づつ接合
するシングルポイント方式のインナ−リ−ドボンディン
グ(シングルポイントボンディング)であっても良い。
【0051】このシングルポイントボンディングでは、
従来、上記直線状に設けられたインナ−リ−ド2の先端
を上記半導体素子3の電極3aの上面に当接させてボン
ディングしていたため、前述したようなボンディングツ
−ルによるインナ−リ−ドリ−ド2の押し曲げ成形(折
曲)ができなかった。
【0052】したがって上記フィルムキャリア1と上記
半導体素子3の距離が近くなり、上記インナ−リ−ド2
の中途部が上記半導体素子3のエッジに接触してショ−
ト不良を生じるおそれがギャングボンディング方式の場
合に比べて大きかった。
【0053】しかし、この発明によれば、上記インナ−
リ−ド2´の先端部と上記半導体素子3の電極3aとを
接触させた状態でも、上記フィルムキャリア1と上記半
導体素子3の距離を所定寸法離間させることが可能にな
るので、上記ショ−ト不良が生じることを有効に防止で
きる効果がある。
【0054】また、上記一実施例では、上記長尺なるフ
ィルムキャリア1を張設し、これを間欠的に送り駆動す
ることで上記インナ−リ−ドボンディングを行っていた
が、これに限定されるものではない。
【0055】すなわち、上記フィルムキャリア1を一つ
のデバイスホ−ル1bごとに短冊状に切断し、これをス
ライドキャリアに収納する。そして、このスライドキャ
リアを送り駆動するさせることで、上記インナ−リ−ド
2の成形及びインナ−リ−ドボンディングを行うように
してもよい。
【0056】このようにすれば、上記フィルムキャリア
1を巻き取ることがないので、巻き取ることで生じてい
た上記インナ−リ−ド2の変形やこのインナ−リ−ド2
と上記半導体素子3との断線などの不良を有効に低減す
ることができる効果がある。 さらに、上記一実施例
では、上記インナ−リ−ド2をガルウイング状に折曲し
ていたが、これに限定されるものではない。上記インナ
−リ−ド2の先端部をフィルムキャリア1から離れる方
向に折曲するような形状であれば他の形状であっても良
い。
【0057】
【発明の効果】以上述べたように、この発明の第1の構
成は、可撓性のキャリアテ−プと、このキャリアテ−プ
に形成されたデバイスホ−ルと、上記キャリアテ−プの
表面に形成され、上記デバイスホ−ルの開口部に延伸さ
れると共に先端部が折曲された複数本のインナ−リ−ド
とを具備することを特徴とするものである。
【0058】第2の構成は、キャリアテ−プの上面に形
成され、このキャリアテ−プに設けられたデバイスホ−
ルの開口部に延伸された複数本のインナ−リ−ドの先端
部と半導体素子の電極とを接続するインナ−リ−ドボン
ディング装置において、プレス金型を用いて上記インナ
−リ−ドの先端部を折曲するプレス折曲手段と、上記イ
ンナ−リ−ドの先端部と半導体素子の電極とを接続する
接合手段とを具備することを特徴とするものである。
【0059】このような第1、第2の構成によれば、よ
り良好かつ高精度なインナ−リ−ドボンディングを行う
ことができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す概略構成図。
【図2】(a)〜(c)は、従来例のインナ−リ−ドボ
ンディング工程を示す工程図。
【図3】同じく、インナ−リ−ドボンディングの不良状
態を拡大して示す縦断面図。
【図4】同じく、インナ−リ−ドボンディングの不良状
態を拡大して示す平面図。
【符号の説明】
1…フィルムキャリア、1b…デバイスホ−ル、2…イ
ンナ−リ−ド、3…半導体素子、3a…電極、5…ボン
ディングツ−ル(接合手段)、10…下型(プレス金
型)、11…上型(プレス金型)、2´…ガルウイング
状に折曲されたインナ−リ−ド。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可撓性のキャリアテ−プと、このキャリ
    アテ−プに形成されたデバイスホ−ルと、上記キャリア
    テ−プの表面に形成され、上記デバイスホ−ルの開口部
    に延伸されると共に先端部が折曲された複数本のインナ
    −リ−ドとを具備することを特徴とするフィルムキャリ
    ア。
  2. 【請求項2】 キャリアテ−プの上面に形成され、この
    キャリアテ−プに設けられたデバイスホ−ルの開口部に
    延伸された複数本のインナ−リ−ドの先端部と半導体素
    子の電極とを接続するインナ−リ−ドボンディング装置
    において、プレス金型を用いて上記インナ−リ−ドの先
    端部を折曲するプレス折曲手段と、上記インナ−リ−ド
    の先端部と半導体素子の電極とを接続する接合手段とを
    具備することを特徴とするインナ−リ−ドボンディング
    装置。
JP5079823A 1993-04-06 1993-04-06 フィルムキャリアおよびインナ−リ−ドボンディング装置 Pending JPH06291166A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7045392B2 (en) 1998-07-28 2006-05-16 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method of fabrication thereof, semiconductor module, circuit board, and electronic equipment

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7045392B2 (en) 1998-07-28 2006-05-16 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method of fabrication thereof, semiconductor module, circuit board, and electronic equipment

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