JPH0629204A - レジスト現像方法及び装置 - Google Patents
レジスト現像方法及び装置Info
- Publication number
- JPH0629204A JPH0629204A JP4181092A JP18109292A JPH0629204A JP H0629204 A JPH0629204 A JP H0629204A JP 4181092 A JP4181092 A JP 4181092A JP 18109292 A JP18109292 A JP 18109292A JP H0629204 A JPH0629204 A JP H0629204A
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- JP
- Japan
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- wafer
- resist
- developing
- container
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、ウェーハ表面に形成され、露光され
たレジスト層を現像するレジスト現像方法及び装置に関
し、現像液温の精密制御が可能で、現像後の現像分布を
改善したレジスト現像方法及び装置を提供することを目
的とする。 【構成】塗布／現像装置１の容器２内はクリーンルーム
と同一の雰囲気を形成することができるようになってい
る。ウェーハ６を容器２内のチャック４上に吸着させ
る。容器２内の空気を排気する排気口１０を閉鎖して排
気装置（図示せず）を停止させる。現像液供給装置８か
ら現像液をウェーハ６上に供給して、ウェーハ６上のレ
ジスト層の現像を行う。このとき、加湿装置１２によ
り、容器２内を加湿する。容器２内の水蒸気圧が上昇
し、現像液の水分の蒸発が抑制され、蒸発による気化熱
が奪われないので、ウェーハ６の温度及びウェーハ６上
に付着した現像液の温度が場所によらず一定となるよう
に構成する。
たレジスト層を現像するレジスト現像方法及び装置に関
し、現像液温の精密制御が可能で、現像後の現像分布を
改善したレジスト現像方法及び装置を提供することを目
的とする。 【構成】塗布／現像装置１の容器２内はクリーンルーム
と同一の雰囲気を形成することができるようになってい
る。ウェーハ６を容器２内のチャック４上に吸着させ
る。容器２内の空気を排気する排気口１０を閉鎖して排
気装置（図示せず）を停止させる。現像液供給装置８か
ら現像液をウェーハ６上に供給して、ウェーハ６上のレ
ジスト層の現像を行う。このとき、加湿装置１２によ
り、容器２内を加湿する。容器２内の水蒸気圧が上昇
し、現像液の水分の蒸発が抑制され、蒸発による気化熱
が奪われないので、ウェーハ６の温度及びウェーハ６上
に付着した現像液の温度が場所によらず一定となるよう
に構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウェーハ表面に形成さ
れ、露光されたレジスト層を現像するレジスト現像方法
及び装置に関する。
れ、露光されたレジスト層を現像するレジスト現像方法
及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体装置の微細化の要求に伴
い、フォトリソグラフィ技術においても半導体装置の微
細化に対応したウェーハプロセスが要求されている。フ
ォトリソグラフィ技術におけるウェーハプロセスの工程
順序を概略説明すると、ウェーハ上にレジストを塗布す
るレジスト塗布工程、塗布したレジスト上に所定パター
ンの露光を行う露光工程、レジストの現像を行いレジス
トパターンを形成する現像工程、レジストパターンをマ
スクとしてエッチングを行うエッチング工程がある。半
導体装置の微細化に対応するためには、それぞれの工程
で微細化に対応した改善、改良が必要であるが、レジス
トの現像工程における改良は重要である。いかに微細な
パターンを露光することができても、現像において、微
細な露光パターンがレジストパターンとして形成できな
ければ半導体装置の微細化は不可能だからである。
い、フォトリソグラフィ技術においても半導体装置の微
細化に対応したウェーハプロセスが要求されている。フ
ォトリソグラフィ技術におけるウェーハプロセスの工程
順序を概略説明すると、ウェーハ上にレジストを塗布す
るレジスト塗布工程、塗布したレジスト上に所定パター
ンの露光を行う露光工程、レジストの現像を行いレジス
トパターンを形成する現像工程、レジストパターンをマ
スクとしてエッチングを行うエッチング工程がある。半
導体装置の微細化に対応するためには、それぞれの工程
で微細化に対応した改善、改良が必要であるが、レジス
トの現像工程における改良は重要である。いかに微細な
パターンを露光することができても、現像において、微
細な露光パターンがレジストパターンとして形成できな
ければ半導体装置の微細化は不可能だからである。
【０００３】レジストの現像を行いレジストパターンを
形成する現像工程における現像方法には、スプレー法、
ディップ法、及びパドル法等がある。スプレー法は現像
液温の精密制御が困難であるという問題がある。従っ
て、スプレー法では、現像液温に対して非常に敏感であ
るポジ形レジストに対して再現性のある現像を行うこと
は難しい。ディップ法による現像装置はスプレー法によ
る欠点を補うことができるが連続一貫処理等が困難であ
るという問題がある。そこで、現像液をレジストが塗布
されているウェーハ上に落とした後、ウェーハを低速回
転させて現像するパドル法による現像が行われている。
形成する現像工程における現像方法には、スプレー法、
ディップ法、及びパドル法等がある。スプレー法は現像
液温の精密制御が困難であるという問題がある。従っ
て、スプレー法では、現像液温に対して非常に敏感であ
るポジ形レジストに対して再現性のある現像を行うこと
は難しい。ディップ法による現像装置はスプレー法によ
る欠点を補うことができるが連続一貫処理等が困難であ
るという問題がある。そこで、現像液をレジストが塗布
されているウェーハ上に落とした後、ウェーハを低速回
転させて現像するパドル法による現像が行われている。
【０００４】従来のパドル法による現像方法を簡単に説
明する。一般的にレジストの現像を行う現像装置は、レ
ジストをウェーハに塗布する塗布装置と一体的に作製さ
れた、塗布／現像装置（コーター／デベロッパー）であ
る。この塗布／現像装置の容器内はクリーンルームと同
一の雰囲気にすることができるようになっている。
明する。一般的にレジストの現像を行う現像装置は、レ
ジストをウェーハに塗布する塗布装置と一体的に作製さ
れた、塗布／現像装置（コーター／デベロッパー）であ
る。この塗布／現像装置の容器内はクリーンルームと同
一の雰囲気にすることができるようになっている。
【０００５】露光されたレジスト層が形成されたウェー
ハを塗布／現像装置の容器内に収納する。容器内には、
ウェーハを吸着して回転させることができるチャックが
設けられ、チャックにウェーハを吸着固定させて低速で
回転させる。この状態で現像液供給装置から現像液をウ
ェーハ上に供給して、ウェーハ上のレジスト層の現像を
行う。
ハを塗布／現像装置の容器内に収納する。容器内には、
ウェーハを吸着して回転させることができるチャックが
設けられ、チャックにウェーハを吸着固定させて低速で
回転させる。この状態で現像液供給装置から現像液をウ
ェーハ上に供給して、ウェーハ上のレジスト層の現像を
行う。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このとき、容器内での
レジスト現像液の水分が蒸発することを防ぎ、蒸発に伴
う気化熱によるウェーハ及びウェーハ上の現像液の温度
変化を防止するため、容器内の空気を排気する排気装置
を停止させておくようにしている。現像液温に対して非
常に敏感であるポジ形レジストに対して、可能なかぎり
再現性のある現像を行うためである。
レジスト現像液の水分が蒸発することを防ぎ、蒸発に伴
う気化熱によるウェーハ及びウェーハ上の現像液の温度
変化を防止するため、容器内の空気を排気する排気装置
を停止させておくようにしている。現像液温に対して非
常に敏感であるポジ形レジストに対して、可能なかぎり
再現性のある現像を行うためである。
【０００７】ところが、排気装置を停止させてもレジス
トの現像液中の水分の蒸発は微少ながら発生する。半導
体装置の微細化が進み、露光パターンの線幅が微細化す
ると、現像液の微少の蒸発によるウェーハ及びウェーハ
上の現像液の温度分布が微少でもあると、従来のパドル
法を用いても微細パターンに対応した現像液温の精密制
御が困難であることになり、再現性のある現像ができな
かったり、ウェーハ内の現像むらによる線幅のバラツキ
が生じたりするという問題を生じている。
トの現像液中の水分の蒸発は微少ながら発生する。半導
体装置の微細化が進み、露光パターンの線幅が微細化す
ると、現像液の微少の蒸発によるウェーハ及びウェーハ
上の現像液の温度分布が微少でもあると、従来のパドル
法を用いても微細パターンに対応した現像液温の精密制
御が困難であることになり、再現性のある現像ができな
かったり、ウェーハ内の現像むらによる線幅のバラツキ
が生じたりするという問題を生じている。
【０００８】本発明の目的は、現像液温の精密制御が可
能で、現像後の現像分布を改善したレジスト現像方法及
び装置を提供することにある。
能で、現像後の現像分布を改善したレジスト現像方法及
び装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的は、ウェーハ表
面の露光されたレジスト層に現像液を供給して、前記レ
ジスト層を現像するレジスト現像方法において、前記ウ
ェーハ周囲の雰囲気を加湿しながら前記レジスト層を現
像することを特徴とするレジスト現像方法によって達成
される。
面の露光されたレジスト層に現像液を供給して、前記レ
ジスト層を現像するレジスト現像方法において、前記ウ
ェーハ周囲の雰囲気を加湿しながら前記レジスト層を現
像することを特徴とするレジスト現像方法によって達成
される。
【００１０】また、上記目的は、露光されたレジスト層
が形成されたウェーハを収納する容器と、前記容器内で
前記ウェーハを吸着して回転させるチャックと、前記容
器内で前記チャック上方に設けられ、現像液を前記チャ
ックに吸着された前記ウェーハ上に供給する現像液供給
装置とを備え、前記ウェーハ上の前記レジスト層の現像
を行うレジスト現像装置において、前記容器内に前記容
器内を加湿する加湿装置を備えたことを特徴とするレジ
スト現像装置によって達成される。
が形成されたウェーハを収納する容器と、前記容器内で
前記ウェーハを吸着して回転させるチャックと、前記容
器内で前記チャック上方に設けられ、現像液を前記チャ
ックに吸着された前記ウェーハ上に供給する現像液供給
装置とを備え、前記ウェーハ上の前記レジスト層の現像
を行うレジスト現像装置において、前記容器内に前記容
器内を加湿する加湿装置を備えたことを特徴とするレジ
スト現像装置によって達成される。
【００１１】
【作用】本発明によれば、現像装置の容器内を加湿する
ことにより、現像中において現像液が蒸発しにくくな
り、気化熱を奪われることがないので、現像液温の精密
制御が可能となり、現像後の現像分布を改善した良好な
レジストパターンを実現することができる。
ことにより、現像中において現像液が蒸発しにくくな
り、気化熱を奪われることがないので、現像液温の精密
制御が可能となり、現像後の現像分布を改善した良好な
レジストパターンを実現することができる。
【００１２】
【実施例】本発明の一実施例によるレジスト現像装置を
図１を用いて説明する。本実施例によるレジスト現像装
置は、レジストの塗布装置と一体化されたレジストの塗
布／現像装置１である。クリーンルームと同程度の雰囲
気を形成可能な容器２内の覆３に囲まれて、ウェーハ６
を吸着して回転可能に支持するチャック４が設けられて
いる。チャック４に吸着されたウェーハ６上部には、ウ
ェーハ６表面のレジストに現像液を供給する現像液供給
装置８が設けられている。
図１を用いて説明する。本実施例によるレジスト現像装
置は、レジストの塗布装置と一体化されたレジストの塗
布／現像装置１である。クリーンルームと同程度の雰囲
気を形成可能な容器２内の覆３に囲まれて、ウェーハ６
を吸着して回転可能に支持するチャック４が設けられて
いる。チャック４に吸着されたウェーハ６上部には、ウ
ェーハ６表面のレジストに現像液を供給する現像液供給
装置８が設けられている。
【００１３】容器２の下部壁面に排気口１０が設けら
れ、排気装置（図示せず）により容器２内の空気を容器
２内から排出できるようになっている。ウェーハ６上部
の容器２壁面には、容器２内の雰囲気を加湿する加湿装
置１２が取り付けられている。加湿装置１２は、例えば
水を超音波発振させて霧状にして雰囲気内に放出し、加
湿するようにしたものである。
れ、排気装置（図示せず）により容器２内の空気を容器
２内から排出できるようになっている。ウェーハ６上部
の容器２壁面には、容器２内の雰囲気を加湿する加湿装
置１２が取り付けられている。加湿装置１２は、例えば
水を超音波発振させて霧状にして雰囲気内に放出し、加
湿するようにしたものである。
【００１４】次に本実施例によるレジスト現像装置を用
いたレジスト現像方法を説明する。本実施例によるレジ
スト現像方法はパドル法を基本とした現像方法である。
本実施例のレジストの塗布／現像装置１の容器２内はク
リーンルームと同一の雰囲気を形成することができるよ
うになっている。露光されたレジスト層が形成されたウ
ェーハ６を容器２内のチャック４上に吸着させる。容器
２内で現像液の水分が蒸発することを防ぐため、容器２
内の空気を排気する排気口１０を閉鎖して排気装置（図
示せず）を停止させる。現像液供給装置８から現像液を
ウェーハ６上に供給して、ウェーハ６上のレジスト層の
現像を行う。
いたレジスト現像方法を説明する。本実施例によるレジ
スト現像方法はパドル法を基本とした現像方法である。
本実施例のレジストの塗布／現像装置１の容器２内はク
リーンルームと同一の雰囲気を形成することができるよ
うになっている。露光されたレジスト層が形成されたウ
ェーハ６を容器２内のチャック４上に吸着させる。容器
２内で現像液の水分が蒸発することを防ぐため、容器２
内の空気を排気する排気口１０を閉鎖して排気装置（図
示せず）を停止させる。現像液供給装置８から現像液を
ウェーハ６上に供給して、ウェーハ６上のレジスト層の
現像を行う。
【００１５】このとき、現像液中の水分の蒸発を発生さ
せないように加湿装置１２により、容器２内を加湿す
る。そうすることにより、容器２内の水蒸気圧が上昇
し、現像液の水分の蒸発が抑制され、蒸発による気化熱
が奪われないので、ウェーハ６の温度及びウェーハ６上
に付着した現像液の温度が場所によらず一定となる。従
って、より微細化された素子形成において、現像液温の
精密制御を行うことができるようになり、再現性のある
現像ができ、またウェーハ６内の現像むらを低減させて
線幅のバラツキを減少させることができることになる。
せないように加湿装置１２により、容器２内を加湿す
る。そうすることにより、容器２内の水蒸気圧が上昇
し、現像液の水分の蒸発が抑制され、蒸発による気化熱
が奪われないので、ウェーハ６の温度及びウェーハ６上
に付着した現像液の温度が場所によらず一定となる。従
って、より微細化された素子形成において、現像液温の
精密制御を行うことができるようになり、再現性のある
現像ができ、またウェーハ６内の現像むらを低減させて
線幅のバラツキを減少させることができることになる。
【００１６】このようにして、本実施例のレジスト現像
装置及びレジスト現像方法によれば、現像装置の容器内
を加湿することにより、現像中現像液が蒸発しにくくな
り、気化熱を奪われることがないので、現像液温の精密
制御が可能となり、現像後の現像分布を改善し、微細化
された良好なレジストパターンを実現することができ
る。 本発明は、上記実施例に限らず種々の変形が可能
である。
装置及びレジスト現像方法によれば、現像装置の容器内
を加湿することにより、現像中現像液が蒸発しにくくな
り、気化熱を奪われることがないので、現像液温の精密
制御が可能となり、現像後の現像分布を改善し、微細化
された良好なレジストパターンを実現することができ
る。 本発明は、上記実施例に限らず種々の変形が可能
である。
【００１７】例えば、上記実施例においてはパドル法に
よるレジストの現像に本発明を用いたが、他の方法によ
る現像、例えばスプレー法等を用いた現像に本発明を適
用することも可能である。
よるレジストの現像に本発明を用いたが、他の方法によ
る現像、例えばスプレー法等を用いた現像に本発明を適
用することも可能である。
【００１８】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、現像装置
の容器内を加湿することにより、現像中現像液が蒸発し
にくくなり、気化熱を奪われることがないので、現像液
温の精密制御が可能となり、現像後の現像分布を改善
し、微細化された良好なレジストパターンを実現するこ
とができる。
の容器内を加湿することにより、現像中現像液が蒸発し
にくくなり、気化熱を奪われることがないので、現像液
温の精密制御が可能となり、現像後の現像分布を改善
し、微細化された良好なレジストパターンを実現するこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例によるレジスト現像装置を示
す図である。
す図である。
１…塗布／現像装置 ２…容器 ３…覆 ４…チャック ６…ウェーハ ８…現像液供給装置 １０…排気口 １２…加湿装置
Claims (2)
- 【請求項１】 ウェーハ表面の露光されたレジスト層に
現像液を供給して、前記レジスト層を現像するレジスト
現像方法において、 前記ウェーハ周囲の雰囲気を加湿しながら前記レジスト
層を現像することを特徴とするレジスト現像方法。 - 【請求項２】 露光されたレジスト層が形成されたウェ
ーハを収納する容器と、前記容器内で前記ウェーハを吸
着して回転させるチャックと、前記容器内で前記チャッ
ク上方に設けられ、現像液を前記チャックに吸着された
前記ウェーハ上に供給する現像液供給装置とを備え、前
記ウェーハ上の前記レジスト層の現像を行うレジスト現
像装置において、 前記容器内に前記容器内を加湿する加湿装置を備えたこ
とを特徴とするレジスト現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4181092A JPH0629204A (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | レジスト現像方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4181092A JPH0629204A (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | レジスト現像方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0629204A true JPH0629204A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16094691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4181092A Withdrawn JPH0629204A (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | レジスト現像方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0629204A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004086470A1 (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-07 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
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-
1992
- 1992-07-08 JP JP4181092A patent/JPH0629204A/ja not_active Withdrawn
Cited By (25)
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