JPH0629332B2 - 防汚性・低反射性プラスチツク - Google Patents
防汚性・低反射性プラスチツクInfo
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- JPH0629332B2 JPH0629332B2 JP8877685A JP8877685A JPH0629332B2 JP H0629332 B2 JPH0629332 B2 JP H0629332B2 JP 8877685 A JP8877685 A JP 8877685A JP 8877685 A JP8877685 A JP 8877685A JP H0629332 B2 JPH0629332 B2 JP H0629332B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は表面に反射防止塗膜が形成されたプラスチツク
に関し、特に、防汚性と低反射性に優れ、しかも耐擦傷
性をも有する低反射性プラスチツクに関するものであ
る。
に関し、特に、防汚性と低反射性に優れ、しかも耐擦傷
性をも有する低反射性プラスチツクに関するものであ
る。
一般に、プラスチツク材料、特に透明プラスチツク材料
は透明性に加えて、自身の有する軽量、耐衝撃性及び易
加工性などの利点を活かして、建築物の窓・ドアー・間
仕切り、シヨーウインド・シヨーケース、車輛の窓・照
明灯レンズ、２輪車の風防、ＯＡ機器のハウジング、光
学レンズ、メガネレンズなどの広い分野に利用されてい
る。
は透明性に加えて、自身の有する軽量、耐衝撃性及び易
加工性などの利点を活かして、建築物の窓・ドアー・間
仕切り、シヨーウインド・シヨーケース、車輛の窓・照
明灯レンズ、２輪車の風防、ＯＡ機器のハウジング、光
学レンズ、メガネレンズなどの広い分野に利用されてい
る。
しかしながら、それらプラスチツク材料からなる成形品
は太陽光、照明光の反射によるギラツキや眩しさ、ある
いは周囲の景観が映り、透視性や透明性に支障を与えた
り、光の反射により光線透過率が低下して、プラスチツ
クを通して見ると明るさが損なわれるという問題があ
る。
は太陽光、照明光の反射によるギラツキや眩しさ、ある
いは周囲の景観が映り、透視性や透明性に支障を与えた
り、光の反射により光線透過率が低下して、プラスチツ
クを通して見ると明るさが損なわれるという問題があ
る。
従来から、ガラス、プラスチツクなどの透明物品表面の
低反射化は光学部品を中心に開発が進められてきてい
て、通常、プラスチツク成形体の表面に反射防止膜を形
成することによつて行なわれている。反射防止膜は例え
ば、MgF2、LiF、ThF4、氷晶石などの無機フツ化物、Si
O、SiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、などの金属酸化物を真空
蒸着やスパツタリングなどの方法によつて単層あるいは
複層の塗膜として形成されている。一方、高分子物質か
らなる低反射性処理剤を直接塗布あるいは処理剤中に浸
漬することによる反射防止塗膜の形成方法ならびに処理
剤が提案されている。しかしながら、かかる処理剤はガ
ラス、プラスチツクなどの表面への接着性に劣るため、
多くの場合、プレコート層が形成され、その層上に処理
されて、反射防止塗膜として形成される。これらの改良
された反射防止塗膜の形成方法として、例えば、透明材
料、特にプラスチツク基材上に金属酸化物含有組成物を
水を含む条件下で処理してプレコート層を設け、該プレ
コート層上に有機ケイ素化合物を含有する組成物からな
る反射防止塗膜を形成させる方法（特開昭５９−４９９
６０号公報が開示されている。また、本発明者も硬度と
低反射性に優れた反射防止塗膜としてシラン化合物とポ
リフルオロ化基含有化合物からなる多層構造の低反射率
塗膜（特開昭５９−１１５８４０号公報）を提案してい
る。
低反射化は光学部品を中心に開発が進められてきてい
て、通常、プラスチツク成形体の表面に反射防止膜を形
成することによつて行なわれている。反射防止膜は例え
ば、MgF2、LiF、ThF4、氷晶石などの無機フツ化物、Si
O、SiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、などの金属酸化物を真空
蒸着やスパツタリングなどの方法によつて単層あるいは
複層の塗膜として形成されている。一方、高分子物質か
らなる低反射性処理剤を直接塗布あるいは処理剤中に浸
漬することによる反射防止塗膜の形成方法ならびに処理
剤が提案されている。しかしながら、かかる処理剤はガ
ラス、プラスチツクなどの表面への接着性に劣るため、
多くの場合、プレコート層が形成され、その層上に処理
されて、反射防止塗膜として形成される。これらの改良
された反射防止塗膜の形成方法として、例えば、透明材
料、特にプラスチツク基材上に金属酸化物含有組成物を
水を含む条件下で処理してプレコート層を設け、該プレ
コート層上に有機ケイ素化合物を含有する組成物からな
る反射防止塗膜を形成させる方法（特開昭５９−４９９
６０号公報が開示されている。また、本発明者も硬度と
低反射性に優れた反射防止塗膜としてシラン化合物とポ
リフルオロ化基含有化合物からなる多層構造の低反射率
塗膜（特開昭５９−１１５８４０号公報）を提案してい
る。
前記の反射防止膜の形成方法において、真空蒸着あるい
はスパツタリング法は装置の機構上及びコスト面から適
応物品は小型精密光学部品などに限定されるという制約
があり、更に連続的製造には適していない。
はスパツタリング法は装置の機構上及びコスト面から適
応物品は小型精密光学部品などに限定されるという制約
があり、更に連続的製造には適していない。
一方前記のごとき公知の低反射処理剤はプラスチツク表
面への接着性は充分でなく、プレコート層の形成を必要
とし、低反射処理工程を煩雑なものとして、コスト的に
不利である。しかも形成されら反射防止塗膜は大気中に
浮遊する塵埃、水滴、油滴などが付着して汚染されると
塗膜の構造特性から通常の洗浄作業によつては容易に除
去されず、例えば強く払拭すると塗膜に傷を生じ、つい
には剥離してしまい、耐擦傷性に劣るという問題があ
る。
面への接着性は充分でなく、プレコート層の形成を必要
とし、低反射処理工程を煩雑なものとして、コスト的に
不利である。しかも形成されら反射防止塗膜は大気中に
浮遊する塵埃、水滴、油滴などが付着して汚染されると
塗膜の構造特性から通常の洗浄作業によつては容易に除
去されず、例えば強く払拭すると塗膜に傷を生じ、つい
には剥離してしまい、耐擦傷性に劣るという問題があ
る。
したがつて、低反射処理工程が簡単であり、しかも形成
された反射防止塗膜は耐擦傷性と防汚性とに優れている
低反射性プラスチツクの開発が望まれている。
された反射防止塗膜は耐擦傷性と防汚性とに優れている
低反射性プラスチツクの開発が望まれている。
本発明者は、前記問題点に鑑み、プラスチツク表面に対
して接着性に優れ、しかも形成された反射防止塗膜は耐
擦傷性と防汚性とを満足する低反射処理剤について種々
研究、検討を行なつた。その結果、特定の含フツ素シリ
コーン化合物の２種とシリコーン化合物との三成分から
なる組成物は反射防止塗膜としてプラスチツク表面に形
成されると、前記問題点を解決するに足る塗膜となり得
るという事実を見い出し本発明を完成するに至つたもの
である。
して接着性に優れ、しかも形成された反射防止塗膜は耐
擦傷性と防汚性とを満足する低反射処理剤について種々
研究、検討を行なつた。その結果、特定の含フツ素シリ
コーン化合物の２種とシリコーン化合物との三成分から
なる組成物は反射防止塗膜としてプラスチツク表面に形
成されると、前記問題点を解決するに足る塗膜となり得
るという事実を見い出し本発明を完成するに至つたもの
である。
而して、上記組成物において、三成分のいずれが欠けて
も特性は満足されないが、三成分が含まれることによつ
て各種プラスチツクに応用が可能であつて、プラスチツ
クの有する透明性、透視性を損なうことなく、塗布、吹
付け、浸漬など既知の簡便な方法によつてプラスチツク
表面上に塗膜として形成されることによつて、可視光全
域を平均に低反射化し、しかも耐擦傷性、防汚性にも優
れた低反射性プラスチツクが得られるものである。
も特性は満足されないが、三成分が含まれることによつ
て各種プラスチツクに応用が可能であつて、プラスチツ
クの有する透明性、透視性を損なうことなく、塗布、吹
付け、浸漬など既知の簡便な方法によつてプラスチツク
表面上に塗膜として形成されることによつて、可視光全
域を平均に低反射化し、しかも耐擦傷性、防汚性にも優
れた低反射性プラスチツクが得られるものである。
即ち、本発明は、表面に反射防止膜が形成された低反射
性プラスチツクにおいて、下記一般式で表わされる化合
物を含有する反射防止膜組成物からなる塗膜が形成され
てなることを特徴とする防汚性・低反射性プラスチツク
を提供するものである。
性プラスチツクにおいて、下記一般式で表わされる化合
物を含有する反射防止膜組成物からなる塗膜が形成され
てなることを特徴とする防汚性・低反射性プラスチツク
を提供するものである。
一般式 Rf 1-A-SiX3 ５〜80重量％ X3Si-A-Rf 2-A-SiX3 ５〜94重量％ SiX4 １〜90重量％ （但し、式中Ａは二価の有機基、Ｘはハロゲン、 OR、Ｒは低級アルキル基、Rf 1はポリフルオロアルキル
基、Rf 2はフツ素を含有する炭素数２以上の二価の有機
基を示す。） 本発明におけるプラスチツクとしては、表面の反射を低
下させる目的から透明プラスチツクであるのが好適であ
る。かかる透明プラスチツクとしては、例えば、ポリ
（ジエチレングリコールビスアリルカーボネート）、ポ
リカーボネート、ポリメタアクリレート、ポリスチレ
ン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ジ
アリルフタレート樹脂、メラミン樹脂などが挙げられ
る。而して、かかる透明プラスチツクのみに限定される
ものではない。
基、Rf 2はフツ素を含有する炭素数２以上の二価の有機
基を示す。） 本発明におけるプラスチツクとしては、表面の反射を低
下させる目的から透明プラスチツクであるのが好適であ
る。かかる透明プラスチツクとしては、例えば、ポリ
（ジエチレングリコールビスアリルカーボネート）、ポ
リカーボネート、ポリメタアクリレート、ポリスチレ
ン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ジ
アリルフタレート樹脂、メラミン樹脂などが挙げられ
る。而して、かかる透明プラスチツクのみに限定される
ものではない。
本発明の反射防止膜組成物は一般式Rf 1-A-SiX3、X3Si-A
-Rf 2-A-SiX3、SiX4で表わされる各化合物の三成分より
なるが、Rf 1-A-SiX3で表わされる化合物は塗膜の低屈折
率化及び防汚性付与、X3Si-A-Rf 2-A-SiX3で表わされる
化合物は低屈折率化及び耐擦傷性向上、そしてSiX4は耐
擦傷性向上に有用であつて、これら三成分が最適な割合
で組合せられることによつて低反射性、防汚性及び耐擦
傷が発現されるものである。
-Rf 2-A-SiX3、SiX4で表わされる各化合物の三成分より
なるが、Rf 1-A-SiX3で表わされる化合物は塗膜の低屈折
率化及び防汚性付与、X3Si-A-Rf 2-A-SiX3で表わされる
化合物は低屈折率化及び耐擦傷性向上、そしてSiX4は耐
擦傷性向上に有用であつて、これら三成分が最適な割合
で組合せられることによつて低反射性、防汚性及び耐擦
傷が発現されるものである。
ここで、一般式Rf 1-A-SiX3 で表わされる化合物は、Rf 1は防汚性の付与と、その向
上という点でポリフルオロアルキル基であるのが好まし
く、エーテル結合が含まれていてもよい。Ａは二価の有
機基、Ｘはハロゲン、 ORであつてＲは低級アルキル基である。かかる化合物を
例示すると、 Rf(CH2)2SiCl3，Rf(CH2)2Si(OCH3)3， RfCONH(CH2)3Si(OC2H5)3， RfCONH(CH2)3NH(CH2)3Si(OC2H5)3， RfSO2N(CH3)(CH2)2CONH(CH2)3Si(OC2H5)3， Rf(CH2)2OCO(CH2)2S(CH2)3Si(OCH3)3， Rf(CH2)2OCONH(CH2)3Si(OC2H5)3， Rf(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH3)3， Rf(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH2CH2OCH3)3， （但し、Rfはポリフルオロアルキル基、ｍは１以上の整
数） などのポリフルオロアルキル基含有シラン化合物、ポリ
フルオロアルキル基がエーテル結合を有するシラン化合
物が挙げられる。
上という点でポリフルオロアルキル基であるのが好まし
く、エーテル結合が含まれていてもよい。Ａは二価の有
機基、Ｘはハロゲン、 ORであつてＲは低級アルキル基である。かかる化合物を
例示すると、 Rf(CH2)2SiCl3，Rf(CH2)2Si(OCH3)3， RfCONH(CH2)3Si(OC2H5)3， RfCONH(CH2)3NH(CH2)3Si(OC2H5)3， RfSO2N(CH3)(CH2)2CONH(CH2)3Si(OC2H5)3， Rf(CH2)2OCO(CH2)2S(CH2)3Si(OCH3)3， Rf(CH2)2OCONH(CH2)3Si(OC2H5)3， Rf(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH3)3， Rf(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH2CH2OCH3)3， （但し、Rfはポリフルオロアルキル基、ｍは１以上の整
数） などのポリフルオロアルキル基含有シラン化合物、ポリ
フルオロアルキル基がエーテル結合を有するシラン化合
物が挙げられる。
上記一般式Rf 1-A-SiXで表わされる化合物は反射防止膜
組成物中５〜８０重量％含まれるのが好ましい。５重量
％以下では防汚性が、また８０重量％以上であると耐擦
傷性が低下する。
組成物中５〜８０重量％含まれるのが好ましい。５重量
％以下では防汚性が、また８０重量％以上であると耐擦
傷性が低下する。
次に一般式X3Si-A-Rf 2-A-SiX3で表わされる化合物は、R
f 2がフツ素を含有する炭素数２以上の二価の有機基であ
つてＡ、Ｘは前記と同一である。かかる化合物としては
例えば、 Cl3SiC2H4(CF2)nC2H4SiCl3， (CH3O)3SiC2H4(CF2)nC2H4Si(OCH3)3， （但し、ｎは２〜１４の整数） などが挙げられる。
f 2がフツ素を含有する炭素数２以上の二価の有機基であ
つてＡ、Ｘは前記と同一である。かかる化合物としては
例えば、 Cl3SiC2H4(CF2)nC2H4SiCl3， (CH3O)3SiC2H4(CF2)nC2H4Si(OCH3)3， （但し、ｎは２〜１４の整数） などが挙げられる。
上記、一般式X3Si-A-Rf 2-A-SiX3で表わされる化合物は
反射防止膜組成物中５〜９４重量％含まれるのが好まし
く、５重量％以下であると耐擦傷性が、９４重量％以上
であると防汚性が低下する。
反射防止膜組成物中５〜９４重量％含まれるのが好まし
く、５重量％以下であると耐擦傷性が、９４重量％以上
であると防汚性が低下する。
更に一般式SiX4で表わされる化合物はＸは前記と同一で
ある。この化合物としては SiCl4，Si(OCH3)4，Si(OCH2H5)4， などを例示することができる。この一般式SiX4で表わさ
れる化合物は反射防止膜組成物中１〜９０重量％含まれ
るのが好ましく、１重量％以下では耐擦傷性が、９０重
量％以上では低反射性、防汚性が低下する。
ある。この化合物としては SiCl4，Si(OCH3)4，Si(OCH2H5)4， などを例示することができる。この一般式SiX4で表わさ
れる化合物は反射防止膜組成物中１〜９０重量％含まれ
るのが好ましく、１重量％以下では耐擦傷性が、９０重
量％以上では低反射性、防汚性が低下する。
上記、三成分を構成する化合物において、それぞれの化
合物内で数種が組合わされてもよい。
合物内で数種が組合わされてもよい。
反射防止膜組成物は上記、三成分を構成する化合物の他
に反射防止膜の特性を向上させる目的で、シリカゾルな
どの無機質フイラーや、例えば NH2(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3， NH2(CH2)3Si(OCH3)3，CH2=CHSi(OCH3)3，CH2=CHSiCl3， HS(CH2)3Si(OCH3)3，HCO(CH2)3Si(OC2H5)3，Cl(CH2)3Si
(OCH3)3， などのシランカップリング剤、あるいは架橋剤、帯電防
止剤、その他の特性改良用の添加剤などが配合、含有さ
れてもよい。
に反射防止膜の特性を向上させる目的で、シリカゾルな
どの無機質フイラーや、例えば NH2(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3， NH2(CH2)3Si(OCH3)3，CH2=CHSi(OCH3)3，CH2=CHSiCl3， HS(CH2)3Si(OCH3)3，HCO(CH2)3Si(OC2H5)3，Cl(CH2)3Si
(OCH3)3， などのシランカップリング剤、あるいは架橋剤、帯電防
止剤、その他の特性改良用の添加剤などが配合、含有さ
れてもよい。
反射防止膜組成物は塗膜形成用の処理液として次のよう
に調製される。即ち、前記三成分を構成するそれぞれの
化合物を所定の割合に従つて混合して、溶媒中触媒の存
在下に加水分解反応せしめて、部分縮合体となし、溶媒
に溶解された処理液として調製される。かかる加水分解
反応における溶媒はアルコール類、例えば、ブタノー
ル、好ましくはtert−ブタノールが用いられ、触媒とし
ては塩酸、酢酸あるいは他の有機酸が使用され、反応は
室温にて撹拌することによつて行なわれる。溶媒の量は
調製された処理液のプラスチツク表面への塗布性あるい
は形成される塗膜の膜厚が考慮され、部分縮合体が１〜
２０重量％、好ましくは２〜５重量％となるように調整
される。
に調製される。即ち、前記三成分を構成するそれぞれの
化合物を所定の割合に従つて混合して、溶媒中触媒の存
在下に加水分解反応せしめて、部分縮合体となし、溶媒
に溶解された処理液として調製される。かかる加水分解
反応における溶媒はアルコール類、例えば、ブタノー
ル、好ましくはtert−ブタノールが用いられ、触媒とし
ては塩酸、酢酸あるいは他の有機酸が使用され、反応は
室温にて撹拌することによつて行なわれる。溶媒の量は
調製された処理液のプラスチツク表面への塗布性あるい
は形成される塗膜の膜厚が考慮され、部分縮合体が１〜
２０重量％、好ましくは２〜５重量％となるように調整
される。
かくして調製された塗膜形成用の処理液のプラスチツク
表面への塗布方法は、はけ塗り、ロール塗り、スピニン
グ、吹付け、あるいは浸漬など既知の方法によつて行な
われる。
表面への塗布方法は、はけ塗り、ロール塗り、スピニン
グ、吹付け、あるいは浸漬など既知の方法によつて行な
われる。
塗布後は５０〜１５０℃の温度で２０分以上硬化するこ
とによつて塗膜が形成される。硬化処理における温度の
設定はプラスチツクの軟化温度との関係において適当に
選定される。形成される塗膜の膜厚は0.2μ以下、好ま
しくは0.05〜0.1μであつて、かかる膜厚の調整は塗布
方法の条件によつてなし得るものであり、例えば浸漬法
においては組成物濃度と引上げ速度とによつて決定され
る。
とによつて塗膜が形成される。硬化処理における温度の
設定はプラスチツクの軟化温度との関係において適当に
選定される。形成される塗膜の膜厚は0.2μ以下、好ま
しくは0.05〜0.1μであつて、かかる膜厚の調整は塗布
方法の条件によつてなし得るものであり、例えば浸漬法
においては組成物濃度と引上げ速度とによつて決定され
る。
プラスチツク表面に形成される塗膜の密着性は上記の方
法によれば実用上は充分であるが、プラスチツク表面を
予め、アルカリ処理、グロー放電処理、プラズマ処理な
どの活性処理を施こすことによつて、更に向上せしめる
ことができる。
法によれば実用上は充分であるが、プラスチツク表面を
予め、アルカリ処理、グロー放電処理、プラズマ処理な
どの活性処理を施こすことによつて、更に向上せしめる
ことができる。
次に、本発明を実施例により具体的に説明するが本発明
はこれら実施例のみに限定されるものではない。尚、実
施例において防汚性・低反射性プラスチツクとしての評
価試験方法は次の通りである。
はこれら実施例のみに限定されるものではない。尚、実
施例において防汚性・低反射性プラスチツクとしての評
価試験方法は次の通りである。
反射率測定：自記分光光度計正反射光測定付属装置（日
立製作所製：３２３型）を使用し、波長４００nm〜７０
０nmの入射角５°における平均反射率を測定。
立製作所製：３２３型）を使用し、波長４００nm〜７０
０nmの入射角５°における平均反射率を測定。
膜厚測定：“タリステツプ”（Rank Taylor Hobson社
製）を使用し針圧測定より求める。
製）を使用し針圧測定より求める。
耐擦傷性：綿布を５００ｇ荷重下、１０００回摩擦し傷
の発生の有無を確認 防汚性：油性フエルトペンにて汚染し、１時間放置後、
綿布で払拭し、インクの除去性を確認。
の発生の有無を確認 防汚性：油性フエルトペンにて汚染し、１時間放置後、
綿布で払拭し、インクの除去性を確認。
実施例１ 下記〔Ａ〕〜〔Ｃ〕の化合物とtert−ブタノール２５０
０ｇとを混合し、それに１％塩酸水溶液16.2ｇを加え室
温２４時間撹拌しながら反応させて、反射防止塗膜形成
用の処理液を調製した。
０ｇとを混合し、それに１％塩酸水溶液16.2ｇを加え室
温２４時間撹拌しながら反応させて、反射防止塗膜形成
用の処理液を調製した。
〔Ａ〕RfC2H4Si(OCH3)3 50g （ここで、RfはCnF2n+1でｎは６〜16で平均値９） 〔Ｂ〕(CH3O)3SiC2H4C6F12C2H4Si(OCH3)3 40g 〔Ｃ〕Si(OCH3)4 10g 別にポリ（ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト）製の平板（５０mm×５０mm×３０mm）を１０％苛性
ソーダ水溶液に浸漬後、水洗、乾燥して用意し、これを
上記処理液に浸漬し7.5cm/minの速度で引上げ、室温に
て１０分間乾燥後、続いて１２０℃で６０分間加熱して
硬化させ、反射防止塗膜を形成した。形成された塗膜の
厚膜は0.09μ、波長４００nmから７００nmにおける平均
反射率は片面当り1.7％であつた。また、塗膜の耐擦傷
性試験において傷の発生は全く認められず、防汚性試験
においてはインクは、はじかれ、払拭することによつて
完全に除去することができた。
ト）製の平板（５０mm×５０mm×３０mm）を１０％苛性
ソーダ水溶液に浸漬後、水洗、乾燥して用意し、これを
上記処理液に浸漬し7.5cm/minの速度で引上げ、室温に
て１０分間乾燥後、続いて１２０℃で６０分間加熱して
硬化させ、反射防止塗膜を形成した。形成された塗膜の
厚膜は0.09μ、波長４００nmから７００nmにおける平均
反射率は片面当り1.7％であつた。また、塗膜の耐擦傷
性試験において傷の発生は全く認められず、防汚性試験
においてはインクは、はじかれ、払拭することによつて
完全に除去することができた。
実施例２〜６、比較例１〜４ 実施例１における〔Ａ〕〜〔Ｃ〕の化合物の量を第１表
に示す量に変えた他は、実施例１と同様の方法により、
反射防止塗膜形成用の処理液を調製した。次いで、実施
例１と同様に平板に処理して反射防止塗膜の形成された
平板を得て、その評価試験を行なつた。試験結果を第１
表に示した。
に示す量に変えた他は、実施例１と同様の方法により、
反射防止塗膜形成用の処理液を調製した。次いで、実施
例１と同様に平板に処理して反射防止塗膜の形成された
平板を得て、その評価試験を行なつた。試験結果を第１
表に示した。
実施例７〜８ 実施例１における〔Ａ〕の化合物を第２表に示す量に変
えた他は実施例１と同様の方法により、反射防止塗膜形
成用の処理液を調製した。続いて平板に処理して反射防
止膜の形成された平板を得た。その評価試験を行ない結
果を第２表に示す。
えた他は実施例１と同様の方法により、反射防止塗膜形
成用の処理液を調製した。続いて平板に処理して反射防
止膜の形成された平板を得た。その評価試験を行ない結
果を第２表に示す。
実施例９ 実施例１における〔Ｂ〕の化合物を に変えた他は実施例１と同様の方法により、反射防止塗
膜形成用の処理液を調製した。続いて平板に処理して反
射防止膜の形成された平板を得た。形成された塗膜の膜
厚は0.09μ、平均反射率は片面当り1.6％であつた。ま
た塗膜の耐擦傷性試験において傷の発生は全く認められ
ず、防汚性試験においてはインクは、はじかれ、払拭す
ることによつて完全に除去することができた。
膜形成用の処理液を調製した。続いて平板に処理して反
射防止膜の形成された平板を得た。形成された塗膜の膜
厚は0.09μ、平均反射率は片面当り1.6％であつた。ま
た塗膜の耐擦傷性試験において傷の発生は全く認められ
ず、防汚性試験においてはインクは、はじかれ、払拭す
ることによつて完全に除去することができた。
実施例１０〜１１ 実施例１における平板をポリメタクリル製及びポリウレ
タン製の平板とした他は実施例１と同様に処理して、反
射防止塗膜の形成された平板を得た。その評価試験を行
ない、結果を第３表に示した。
タン製の平板とした他は実施例１と同様に処理して、反
射防止塗膜の形成された平板を得た。その評価試験を行
ない、結果を第３表に示した。
〔発明の効果〕 本発明の防汚性・低反射性プラスチツクは、従来、得ら
れなかつた防汚性と低反射性という両特性を同時に満足
させ、しかも耐擦傷性にも優れているという効果が認め
られるものである。
れなかつた防汚性と低反射性という両特性を同時に満足
させ、しかも耐擦傷性にも優れているという効果が認め
られるものである。
特にプラスチツク表面に形成される反射防止塗膜は塗膜
の形成工程が簡略化され、コスト的にも有利であるとい
う効果をも有するものである。
の形成工程が簡略化され、コスト的にも有利であるとい
う効果をも有するものである。
Claims (3)
- 【請求項１】表面に反射防止膜が形成された低反射性プ
ラスチツクにおいて、下記一般式で表わされる化合物を
含有する反射防止膜組成物からなる塗膜が形成されてな
ることを特徴とする防汚性・低反射性プラスチツク。 一般式 Rf 1-A-SiX3 ５〜80重量％ X3Si-A-Rf 2-A-SiX3 ５〜94重量％ SiX4 １〜90重量％ （但し、式中Ａは二価の有機基、Ｘはハロゲン、 OR、Ｒは低級アルキル基、Rf 1はポリフルオロアルキル
基、Rf 2はフツ素を含有する炭素数２以上の二価の有機
基を示す。） - 【請求項２】プラスチツクが透明プラスチツクである特
許請求の範囲第１項記載の低反射性プラスチツク。 - 【請求項３】プラスチツクの表面が活性処理されてなる
特許請求の範囲第１項記載の低反射性プラスチツク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8877685A JPH0629332B2 (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 防汚性・低反射性プラスチツク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8877685A JPH0629332B2 (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 防汚性・低反射性プラスチツク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61247743A JPS61247743A (ja) | 1986-11-05 |
| JPH0629332B2 true JPH0629332B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=13952253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8877685A Expired - Lifetime JPH0629332B2 (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 防汚性・低反射性プラスチツク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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- 1985-04-26 JP JP8877685A patent/JPH0629332B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
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