JPH06294638A - 表面形状測定装置 - Google Patents
表面形状測定装置Info
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- JPH06294638A JPH06294638A JP10352393A JP10352393A JPH06294638A JP H06294638 A JPH06294638 A JP H06294638A JP 10352393 A JP10352393 A JP 10352393A JP 10352393 A JP10352393 A JP 10352393A JP H06294638 A JPH06294638 A JP H06294638A
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 コンパクトは構成で高速測定可能な表面観察
がおこなえる表面形状測定装置を得る。 【構成】 探針支持部材2には探針1を保持している面
の反対面に回折格子3が構成されている。探針支持部材
2を保持している駆動素子5は制御器29に接続されて
いる。変位検出器8は、投射光6を投光するとともに、
回折光7の位置を検出する。変位検出器8は制御器9に
接続されている。
がおこなえる表面形状測定装置を得る。 【構成】 探針支持部材2には探針1を保持している面
の反対面に回折格子3が構成されている。探針支持部材
2を保持している駆動素子5は制御器29に接続されて
いる。変位検出器8は、投射光6を投光するとともに、
回折光7の位置を検出する。変位検出器8は制御器9に
接続されている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、原子間力顕微鏡(以下
AFMと略称する)および磁気顕微鏡等の試料面に探針
を近づけて試料から受ける物理量から試料の表面を観察
する装置に関する。
AFMと略称する)および磁気顕微鏡等の試料面に探針
を近づけて試料から受ける物理量から試料の表面を観察
する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、原子間力顕微鏡として、例えば特
開平3−296612号公報記載の発明がある。上記発
明を図10に示す。探針支持部材52は探針51を保持
している。試料53を探針51に近づけることにより探
針支持部材52が変位し、この変位量をレザー54,光
ファイバー55,レンズ56,ミラー57および光セン
サー58により構成した光てこ方式の検出器で検出す
る。
開平3−296612号公報記載の発明がある。上記発
明を図10に示す。探針支持部材52は探針51を保持
している。試料53を探針51に近づけることにより探
針支持部材52が変位し、この変位量をレザー54,光
ファイバー55,レンズ56,ミラー57および光セン
サー58により構成した光てこ方式の検出器で検出す
る。
【0003】試料53と探針51との距離を一定の位置
に保つために、駆動素子59で保持された光ファィバー
55,レンズ56,ミラー57,光センサー58,探針
支持部材52および探針51をZ方向に制御しながら、
同時に試料53表面をXY方向に走査することにより試
料面の凹凸を観察する。
に保つために、駆動素子59で保持された光ファィバー
55,レンズ56,ミラー57,光センサー58,探針
支持部材52および探針51をZ方向に制御しながら、
同時に試料53表面をXY方向に走査することにより試
料面の凹凸を観察する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、前記従来技
術においては、試料と探針との距離を一定の位置に保つ
ために、光ファィバー,レンズ,ミラー,光センサー,
探針支持部材および探針全体を駆動素子で制御しなけれ
ばならず、駆動質量が大きくなり、制御特性が低く測定
速度がおそくなる。さらに、レンズと光センサーと探針
支持部材との位置関係が光の反射の法則で規定されるた
め、小型化できない。
術においては、試料と探針との距離を一定の位置に保つ
ために、光ファィバー,レンズ,ミラー,光センサー,
探針支持部材および探針全体を駆動素子で制御しなけれ
ばならず、駆動質量が大きくなり、制御特性が低く測定
速度がおそくなる。さらに、レンズと光センサーと探針
支持部材との位置関係が光の反射の法則で規定されるた
め、小型化できない。
【0005】因って、本発明は前記従来技術における欠
点に鑑みて開発されたもので、小型で駆動部質量の小さ
い構成にすることにより小型で高速制御が可能な表面形
状測定装置を提供することを目的とする。
点に鑑みて開発されたもので、小型で駆動部質量の小さ
い構成にすることにより小型で高速制御が可能な表面形
状測定装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段および作用】本発明の表面
観察装置は、探針支持部材上に1方向以上の回折格子を
構成し、この格子の方向およびピッチにより光反射角を
設定するものである。
観察装置は、探針支持部材上に1方向以上の回折格子を
構成し、この格子の方向およびピッチにより光反射角を
設定するものである。
【0007】図1は本発明の概念図、図2〜図5は回折
格子を示し、図2は斜視図、図3〜図5は回折格子の形
状例を示す概略平面図である。図1に示す様に、この装
置では探針1を試料4に対向して配置し、接近或いは接
触させることにより両者の間に物理量を作用させて探針
支持部材2を変位させる。この物理量は、具体的には、
AFMでは原子間力、磁気力顕微鏡では磁気力として作
用する。
格子を示し、図2は斜視図、図3〜図5は回折格子の形
状例を示す概略平面図である。図1に示す様に、この装
置では探針1を試料4に対向して配置し、接近或いは接
触させることにより両者の間に物理量を作用させて探針
支持部材2を変位させる。この物理量は、具体的には、
AFMでは原子間力、磁気力顕微鏡では磁気力として作
用する。
【0008】駆動素子5は、探針1で試料4の面上を2
次元に走査し、さらに探針支持部材2の変位量を変位検
出器8で検出し、制御器29によりこの変位量を一定に
するようにZ方向の制御動作をおこなう。この時、前記
Z方向の制御動作をモニタする事により試料4の面形状
を測定できる。
次元に走査し、さらに探針支持部材2の変位量を変位検
出器8で検出し、制御器29によりこの変位量を一定に
するようにZ方向の制御動作をおこなう。この時、前記
Z方向の制御動作をモニタする事により試料4の面形状
を測定できる。
【0009】探針1を保持している探針支持部材2は、
板バネ等の弾性部材で構成され、図2に示す様に、探針
1が保持されている面の反対面に回折格子3を構成す
る。変位検出器8は、レーザー光を投光する機能および
投光した光が回折格子により回折した光の位置を検出す
る機能を有する。
板バネ等の弾性部材で構成され、図2に示す様に、探針
1が保持されている面の反対面に回折格子3を構成す
る。変位検出器8は、レーザー光を投光する機能および
投光した光が回折格子により回折した光の位置を検出す
る機能を有する。
【0010】投射光6と回折光7の角度θは、前記回折
格子へのレーザー光入射角を1とし、反射角をθ、レー
ザー光の波長をλ、回折格子ピッチをPとすると、P
(sinI+sinθ)=mλで表される。mは、m次
回折光の次数。
格子へのレーザー光入射角を1とし、反射角をθ、レー
ザー光の波長をλ、回折格子ピッチをPとすると、P
(sinI+sinθ)=mλで表される。mは、m次
回折光の次数。
【0011】このように回折格子3の格子方向および格
子ピッチを変化させることにより、任意の方向に回折光
を出す事が出来る。回折光7は、探針支持部材2が変化
した時その回折角が変化し、これを変位検出器8により
検出してその変位量を知る事が出来る。
子ピッチを変化させることにより、任意の方向に回折光
を出す事が出来る。回折光7は、探針支持部材2が変化
した時その回折角が変化し、これを変位検出器8により
検出してその変位量を知る事が出来る。
【0012】
【実施例1】図6は本実施例を示す概略構成図である。
支持体11は、レーザー光源16,レンズ22,センサ
14,センサ15,駆動素子5および粗動機構26を保
持している。探針1は、図2に示す通り、探針支持部材
2の先端へ試料4に対向して配置され、回折格子23は
探針1に裏面にあたる位置へ構成されている。探針支持
部材2は駆動素子5により保持されている。探針支持部
材2としては充分に薄い燐青銅の箔片または半導体作製
技術により作製されたSi箔を用いる。
支持体11は、レーザー光源16,レンズ22,センサ
14,センサ15,駆動素子5および粗動機構26を保
持している。探針1は、図2に示す通り、探針支持部材
2の先端へ試料4に対向して配置され、回折格子23は
探針1に裏面にあたる位置へ構成されている。探針支持
部材2は駆動素子5により保持されている。探針支持部
材2としては充分に薄い燐青銅の箔片または半導体作製
技術により作製されたSi箔を用いる。
【0013】レーザー光源16およびレンズ22は回折
格子23に対向した位置に配置する。センサ14および
センサ15は回折格子23の格子ピッチとレーザー光源
16とで決まる回折角θに準じて配置する。回折角は、
例として波長0.8μmのレーザー光源16に対し、格
子ピッチ2μmでは23.6度の方向に1次回折光が発
生する。センサ14およびセンサ15は、ポジションセ
ンサまたは2分割センサ等の市販センサで構成されてい
る。
格子23に対向した位置に配置する。センサ14および
センサ15は回折格子23の格子ピッチとレーザー光源
16とで決まる回折角θに準じて配置する。回折角は、
例として波長0.8μmのレーザー光源16に対し、格
子ピッチ2μmでは23.6度の方向に1次回折光が発
生する。センサ14およびセンサ15は、ポジションセ
ンサまたは2分割センサ等の市販センサで構成されてい
る。
【0014】センサ14およびセンサ15の出力はそれ
ぞれ増幅器17および増幅器18にはいり、加算器19
および制御回路20で処理されて駆動素子5のZ方向制
御信号となる。さらに、制御回路20の出力と駆動素子
5とで生成されるXY走査信号はモニタ部21に入力す
る。制御回路20は一般的はPID(比例・積分・微
分)制御回路で構成されている。
ぞれ増幅器17および増幅器18にはいり、加算器19
および制御回路20で処理されて駆動素子5のZ方向制
御信号となる。さらに、制御回路20の出力と駆動素子
5とで生成されるXY走査信号はモニタ部21に入力す
る。制御回路20は一般的はPID(比例・積分・微
分)制御回路で構成されている。
【0015】駆動素子5は、圧電素子と簡単な走査信号
発生回路とで構成された微動機構であり、紙面に垂直な
方向をY方向とするXYZの直交3方向へ動作可能に構
成されている。粗動機構26はXYZ方向に動作するス
テージ等で構成されている。
発生回路とで構成された微動機構であり、紙面に垂直な
方向をY方向とするXYZの直交3方向へ動作可能に構
成されている。粗動機構26はXYZ方向に動作するス
テージ等で構成されている。
【0016】以上の構成から成る装置は、探針1と試料
4との位置を粗調整する粗動機構26を動作させて試料
4を探針1に近づけることにより、探針1と試料4との
間に力が働き、探針支持部材2が変位する。この変位量
を検出するためのレーザー光源16から出射した光はレ
ンズ22で集光されて回折格子23に投光する。
4との位置を粗調整する粗動機構26を動作させて試料
4を探針1に近づけることにより、探針1と試料4との
間に力が働き、探針支持部材2が変位する。この変位量
を検出するためのレーザー光源16から出射した光はレ
ンズ22で集光されて回折格子23に投光する。
【0017】この結果得られる回折光をセンサ14とセ
ンサ15とで受光し、探針支持部材2の変位にともなう
角度変化を光てこ検出法の原理に基づき、位置変化とし
て検出する。センサ14,15からの出力を、増幅器1
7,18により位置信号となるように演算し、両信号を
加算器19で加算する。試料4の表面の凹凸変化による
探針支持部材2の変位を一定に制御するため、探針支持
部材2を駆動素子5によりZ方向に作動させる。
ンサ15とで受光し、探針支持部材2の変位にともなう
角度変化を光てこ検出法の原理に基づき、位置変化とし
て検出する。センサ14,15からの出力を、増幅器1
7,18により位置信号となるように演算し、両信号を
加算器19で加算する。試料4の表面の凹凸変化による
探針支持部材2の変位を一定に制御するため、探針支持
部材2を駆動素子5によりZ方向に作動させる。
【0018】この時センサ14とセンサ15上の光は、
駆動素子5による動き量に従い互いに逆方向に推移し、
両者の出力を加算器19で加算する事により推移した量
は打ち消し合い加算器19の出力変化はない。この事
は、制御動作による探針支持部材2の変位感度を無く
し、試料4の凹凸による変位変化のみを検出できる作用
をする。
駆動素子5による動き量に従い互いに逆方向に推移し、
両者の出力を加算器19で加算する事により推移した量
は打ち消し合い加算器19の出力変化はない。この事
は、制御動作による探針支持部材2の変位感度を無く
し、試料4の凹凸による変位変化のみを検出できる作用
をする。
【0019】探針支持部材2のZ方向作動は駆動素子5
により行い、加算器19の出力を一定にするように制御
回路20の出力をフィードバック制御する。さらに、駆
動素子5は試料4をXY方向に走査する。この時のXY
方向走査信号と制御回路20の制御信号とによりモニタ
部21で試料表面形状を表示する。
により行い、加算器19の出力を一定にするように制御
回路20の出力をフィードバック制御する。さらに、駆
動素子5は試料4をXY方向に走査する。この時のXY
方向走査信号と制御回路20の制御信号とによりモニタ
部21で試料表面形状を表示する。
【0020】本実施例によれば、高速制御が可能とな
る。
る。
【0021】
【実施例2】図7および図8は本実施例を示し、図7は
概略構成図、図8は投光配置図である。本実施例では、
前記実施例1と同様な構成部分には同一番号を付してそ
の説明を省略する。支持体24は、前記実施例1の他に
センサ27およびセンサ28を保持する。探針支持部材
2は、図4或いは図5に示す様な回折格子を構成する。
概略構成図、図8は投光配置図である。本実施例では、
前記実施例1と同様な構成部分には同一番号を付してそ
の説明を省略する。支持体24は、前記実施例1の他に
センサ27およびセンサ28を保持する。探針支持部材
2は、図4或いは図5に示す様な回折格子を構成する。
【0022】図8の投光配置図に図示する様に、センサ
27およびセンサ28は前記実施例1で示した図3の格
子方向に直角な方向へ回折する回折角に準じて配置す
る。センサ27およびセンサ28は、ポジションセンサ
および2分割センサ等のセンサで構成する。
27およびセンサ28は前記実施例1で示した図3の格
子方向に直角な方向へ回折する回折角に準じて配置す
る。センサ27およびセンサ28は、ポジションセンサ
および2分割センサ等のセンサで構成する。
【0023】センサ27およびセンサ28の出力は、そ
れぞれ増幅器31および増幅器32に入り、これらを加
算器33に入力する。加算器33の出力は、駆動素子5
で生成されるXY走査信号と同時に表示器34に入力す
る。
れぞれ増幅器31および増幅器32に入り、これらを加
算器33に入力する。加算器33の出力は、駆動素子5
で生成されるXY走査信号と同時に表示器34に入力す
る。
【0024】本実施例では、粗動機構26,探針1,探
針支持部材3,駆動素子5,センサ14,センサ15,
レーザー光源16,レンズ22,増幅器17,増幅器1
8,加算器19,制御回路20およびモニタ部21は前
記実施例1と同様に動作し、探針支持部材2の変位を一
定に制御する。
針支持部材3,駆動素子5,センサ14,センサ15,
レーザー光源16,レンズ22,増幅器17,増幅器1
8,加算器19,制御回路20およびモニタ部21は前
記実施例1と同様に動作し、探針支持部材2の変位を一
定に制御する。
【0025】この時、試料面の摩擦等による探針支持部
材2の撓み変位量を検出するため、前記実施例1の回折
格子23に垂直方向な格子要素を付加した回折格子25
を構成し、紙面に垂直なY方向に探針支持部材2を走査
する。このため、レーザー光はセンサ14および15に
回折するとともに、センサ27およびセンサ28に回折
する。
材2の撓み変位量を検出するため、前記実施例1の回折
格子23に垂直方向な格子要素を付加した回折格子25
を構成し、紙面に垂直なY方向に探針支持部材2を走査
する。このため、レーザー光はセンサ14および15に
回折するとともに、センサ27およびセンサ28に回折
する。
【0026】センサ27とセンサ28上での光位置変化
は、前記実施例1の増幅器17,増幅器18および加算
器19と同等に作用する増幅器31,増幅器32および
加算器33で演算し、撓み変位量として表示器34に表
示する。表示器34は、駆動素子5で生成されるXY走
査信号と前記加算器33の出力である撓み変位量とを同
期して表示することにより、試料4の表面特性を測定で
きる。
は、前記実施例1の増幅器17,増幅器18および加算
器19と同等に作用する増幅器31,増幅器32および
加算器33で演算し、撓み変位量として表示器34に表
示する。表示器34は、駆動素子5で生成されるXY走
査信号と前記加算器33の出力である撓み変位量とを同
期して表示することにより、試料4の表面特性を測定で
きる。
【0027】本実施例によれば、試料の表面特性を高精
度で測定できる。
度で測定できる。
【0028】
【実施例3】図9は本実施例を示す概略構成図である。
本実施例における粗動機構26,探針1,探針支持部材
2,回折格子23,センサ14,センサ15,増幅器,
増幅器18,加算器19,制御回路20およびモニタ部
21の構成は前記実施例1と同様である。
本実施例における粗動機構26,探針1,探針支持部材
2,回折格子23,センサ14,センサ15,増幅器,
増幅器18,加算器19,制御回路20およびモニタ部
21の構成は前記実施例1と同様である。
【0029】XY微動機構45は、粗動機構26で固定
されて試料4を保持し、紙面に垂直な面と左右平行な面
X・Y方向に動作する。Z微動機構35は、探針支持部
材2を保持し、粗動機構29に保持されてZ方向に動
く。XY微動機構45およびZ微動機構35は、円筒型
圧電素子等の圧電アクチュエータで構成する。
されて試料4を保持し、紙面に垂直な面と左右平行な面
X・Y方向に動作する。Z微動機構35は、探針支持部
材2を保持し、粗動機構29に保持されてZ方向に動
く。XY微動機構45およびZ微動機構35は、円筒型
圧電素子等の圧電アクチュエータで構成する。
【0030】レーザー光源16,レンズ22,光アイソ
レータ42は同軸上に配置され、ダイクロックミラー4
3により偏光された光を回折格子23に対向した位置に
配置された対物レンズ44を通して回折格子23に投射
できるよう配置する。角度微動機構46はダイクロック
ミラー43を保持し、光学的中心軸を中心に回転機構を
構成する。
レータ42は同軸上に配置され、ダイクロックミラー4
3により偏光された光を回折格子23に対向した位置に
配置された対物レンズ44を通して回折格子23に投射
できるよう配置する。角度微動機構46はダイクロック
ミラー43を保持し、光学的中心軸を中心に回転機構を
構成する。
【0031】対物レンズ44,プリズム38,接眼レン
ズ36,ハーフミラー39,照明レンズ40および光源
41は通常の顕微鏡の構成である。カメラ37は、対物
レンズ44の結像位置に配置し、その出力をビデオモニ
ター48に接続する。赤外カットフィルタ47は、ハー
フミラー39とダイクロックミラー43との間に配置す
る。
ズ36,ハーフミラー39,照明レンズ40および光源
41は通常の顕微鏡の構成である。カメラ37は、対物
レンズ44の結像位置に配置し、その出力をビデオモニ
ター48に接続する。赤外カットフィルタ47は、ハー
フミラー39とダイクロックミラー43との間に配置す
る。
【0032】本実施例では、粗動機構26,探針1,探
針支持部材2,駆動素子5,センサ14,センサ15,
増幅器17,増幅器18,加算器19,制御回路20お
よびモニタ部21は前記実施例1と同様に動作する。レ
ーザー光源16から出射されるレーザー光は、レンズ2
2,光アイソレータ42,ダイクロックミラー43およ
び対物レンズ44を通り、回折格子23上に投射され
る。
針支持部材2,駆動素子5,センサ14,センサ15,
増幅器17,増幅器18,加算器19,制御回路20お
よびモニタ部21は前記実施例1と同様に動作する。レ
ーザー光源16から出射されるレーザー光は、レンズ2
2,光アイソレータ42,ダイクロックミラー43およ
び対物レンズ44を通り、回折格子23上に投射され
る。
【0033】光アイソレータ42は、回折格子23上で
反射した0次回折光がレーザー光源16に戻るのを防ぐ
働きをする。ダイクロックミラー43は、顕微鏡構成部
の光学系光軸と前記レーザー光源16の光学軸を合わせ
る働きをし、レーザー光源16で出射される赤外光を反
射し、可視光を透過する働きをする。このように構成す
ることにより探針支持部材2および試料4表面上を顕微
鏡観察出来ると同時に、レーザー光を回折格子23上に
投射できる。
反射した0次回折光がレーザー光源16に戻るのを防ぐ
働きをする。ダイクロックミラー43は、顕微鏡構成部
の光学系光軸と前記レーザー光源16の光学軸を合わせ
る働きをし、レーザー光源16で出射される赤外光を反
射し、可視光を透過する働きをする。このように構成す
ることにより探針支持部材2および試料4表面上を顕微
鏡観察出来ると同時に、レーザー光を回折格子23上に
投射できる。
【0034】光源41,照明レンズ40およびハーフミ
ラー39は顕微鏡用落射照明として試料面を照明作用す
る。プリズム38は観察像を接眼レンズ36とカメラ3
7に分配する働きをする。ビデオモニター48は、カメ
ラで捕らえた観察像をモニタする。赤外カットフィルタ
47は、観察時に有害となる回折格子23で反射した赤
外光がダイクロックミラー43で完全に反射されずに透
過してしまった光が、目49或いはカメラ37に入射し
ないよう赤外線をカットする機能を持つ。
ラー39は顕微鏡用落射照明として試料面を照明作用す
る。プリズム38は観察像を接眼レンズ36とカメラ3
7に分配する働きをする。ビデオモニター48は、カメ
ラで捕らえた観察像をモニタする。赤外カットフィルタ
47は、観察時に有害となる回折格子23で反射した赤
外光がダイクロックミラー43で完全に反射されずに透
過してしまった光が、目49或いはカメラ37に入射し
ないよう赤外線をカットする機能を持つ。
【0035】角度微動機構46は、ダイクロックミラー
43の角度補正調整機構であり、探針支持部材2が傾い
て取り付けられた場合、レーザー光の回折角がセンサ1
4,15に対してずれてしまうため、レーザー光源16
の光学軸をダイクロックミラー43で回転して投射角を
変えることにより、回折角を変えてセンサ14,15上
にレーザー光が入射するように調整する。粗動機構29
は、探針支持部材2を対物レンズ44に対して調整し、
レーザー光の投射位置を変える機能を持つ。
43の角度補正調整機構であり、探針支持部材2が傾い
て取り付けられた場合、レーザー光の回折角がセンサ1
4,15に対してずれてしまうため、レーザー光源16
の光学軸をダイクロックミラー43で回転して投射角を
変えることにより、回折角を変えてセンサ14,15上
にレーザー光が入射するように調整する。粗動機構29
は、探針支持部材2を対物レンズ44に対して調整し、
レーザー光の投射位置を変える機能を持つ。
【0036】本実施例によれば、試料の表面を光学的に
観察できる。
観察できる。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る表面
形状測定装置によれば、コンパクトな構成で高速測定可
能な表面観察がおこなえる。
形状測定装置によれば、コンパクトな構成で高速測定可
能な表面観察がおこなえる。
【図1】本発明の概念図である。
【図2】回折格子を示す斜視図である。
【図3】回折格子の形状例を示す概略平面図である。
【図4】回折格子の形状例を示す概略平面図である。
【図5】回折格子の形状例を示す概略平面図である。
【図6】実施例1を示す概略構成図である。
【図7】実施例2を示す概略構成図である。
【図8】実施例2を示す投光配置図である。
【図9】実施例3を示す概略構成図である。
【図10】従来例を示す概略構成図である。
1 探針 2 探針支持部材 3 回折格子 4 試料 5 駆動素子 6 投射光 7 回折光 8 変位検出器 29 制御器
Claims (1)
- 【請求項1】 試料面との間に作用する力を検出する探
針と、これを支持する探針支持部材と、前記探針の変位
を検出する変位検出器と、前記試料面と前記探針とを3
次元的に相対運動させる駆動素子と、前記変位検出器の
出力に基づき前記探針と前記試料面とを一定の位置に保
つ制御器とを有した試料表面を観察する表面形状測定装
置において、前記探針支持部材の変位検出面を1方向以
上の回折格子で構成したことを特徴とする表面形状測定
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10352393A JPH06294638A (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 表面形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10352393A JPH06294638A (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 表面形状測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06294638A true JPH06294638A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=14356290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10352393A Withdrawn JPH06294638A (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 表面形状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06294638A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6279389B1 (en) * | 1998-11-05 | 2001-08-28 | Nanodevices, Inc. | AFM with referenced or differential height measurement |
| JP2006514274A (ja) * | 2003-01-31 | 2006-04-27 | フラウンホファー‐ゲゼルシャフト ツール フォーダールング デル アンゲヴァンテン フォーシュング エー・ファウ | 散乱光を抑制した近接場光学顕微鏡プローブおよびその製造方法 |
| WO2007094365A1 (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-23 | Japan Science And Technology Agency | 測定プローブ、試料表面測定装置、及び試料表面測定方法 |
| WO2018177685A1 (en) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Apparatus and method for a scanning probe microscope |
| CN111238373A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-06-05 | 深圳明锐仪器有限公司 | 一种双探针的纳米测量仪器 |
-
1993
- 1993-04-06 JP JP10352393A patent/JPH06294638A/ja not_active Withdrawn
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6279389B1 (en) * | 1998-11-05 | 2001-08-28 | Nanodevices, Inc. | AFM with referenced or differential height measurement |
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| JP4546535B2 (ja) * | 2006-02-14 | 2010-09-15 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 測定プローブ、試料表面測定装置、及び試料表面測定方法 |
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| TWI675206B (zh) * | 2017-03-31 | 2019-10-21 | 德商卡爾蔡司Smt有限公司 | 用於掃描探針顯微鏡的裝置與方法 |
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| US11237185B2 (en) | 2017-03-31 | 2022-02-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Apparatus and method for a scanning probe microscope |
| US11796563B2 (en) | 2017-03-31 | 2023-10-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Apparatus and method for a scanning probe microscope |
| EP4671773A3 (en) * | 2017-03-31 | 2026-03-11 | Carl Zeiss SMT GmbH | Apparatus and method for a scanning probe microscope |
| CN111238373A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-06-05 | 深圳明锐仪器有限公司 | 一种双探针的纳米测量仪器 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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