JPH06296937A - バブリング洗浄装置 - Google Patents
バブリング洗浄装置Info
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- JPH06296937A JPH06296937A JP8581093A JP8581093A JPH06296937A JP H06296937 A JPH06296937 A JP H06296937A JP 8581093 A JP8581093 A JP 8581093A JP 8581093 A JP8581093 A JP 8581093A JP H06296937 A JPH06296937 A JP H06296937A
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄効果の高いバブリング洗浄装置の提供。
【構成】 水槽１０内において環状の液体噴射口３８か
ら洗浄水を旋回状態で前方に噴射して先細り円錐形の高
速渦流を形成して、液体噴射口３８の内側の気体噴出口
３２から噴出させた気体を前記高速渦流と接触させて破
砕し、強制混合拡散して超微粒子状の気泡の分散された
洗浄水の強制循環流流を形成し、超微粒子状の気泡によ
って洗浄対象物Ｗから汚れを取り去るようにした。
ら洗浄水を旋回状態で前方に噴射して先細り円錐形の高
速渦流を形成して、液体噴射口３８の内側の気体噴出口
３２から噴出させた気体を前記高速渦流と接触させて破
砕し、強制混合拡散して超微粒子状の気泡の分散された
洗浄水の強制循環流流を形成し、超微粒子状の気泡によ
って洗浄対象物Ｗから汚れを取り去るようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水槽内で超微粒子状の気
泡を洗浄対象物に当てて、洗浄対象物を洗浄するバブリ
ング洗浄装置に関する。
泡を洗浄対象物に当てて、洗浄対象物を洗浄するバブリ
ング洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体部品，時計部品，ガラス部品，プ
ラスチック部品等の洗浄には、これまでフロンが一般に
使用されてきた。しかし、フロンはオゾン層を破壊する
おそれがある等の公害問題に鑑みて使用が全廃されるこ
ととなったため、新たな洗浄技術が必要となってきた。
ラスチック部品等の洗浄には、これまでフロンが一般に
使用されてきた。しかし、フロンはオゾン層を破壊する
おそれがある等の公害問題に鑑みて使用が全廃されるこ
ととなったため、新たな洗浄技術が必要となってきた。
【０００３】そしてフロンを使用しない洗浄装置として
は、水槽内に収容した洗浄対象物に気泡を吹き付け、気
泡の汚れ包括作用、気泡の汚れ破裂作用を利用して洗浄
する、いわゆるバブリング洗浄装置が知られている。
は、水槽内に収容した洗浄対象物に気泡を吹き付け、気
泡の汚れ包括作用、気泡の汚れ破裂作用を利用して洗浄
する、いわゆるバブリング洗浄装置が知られている。
【０００４】
【発明の解決しようとする課題】しかしこの種の装置で
は、水槽内で発生する気泡径が比較的大きいため、微小
隙間にまで気泡が侵入できず、十分な洗浄効果が期待で
きないという問題があった。本発明は前記従来技術の問
題点に鑑みなされたもので、その目的は気体を超微粒子
状態として洗浄液中に噴射することによって水槽内に強
制循環流を形成し、強制循環流中に分散されている超微
粒子状の気泡を洗浄対象物に当てることによって洗浄効
果に優れたバブリング洗浄装置を提供することにある。
は、水槽内で発生する気泡径が比較的大きいため、微小
隙間にまで気泡が侵入できず、十分な洗浄効果が期待で
きないという問題があった。本発明は前記従来技術の問
題点に鑑みなされたもので、その目的は気体を超微粒子
状態として洗浄液中に噴射することによって水槽内に強
制循環流を形成し、強制循環流中に分散されている超微
粒子状の気泡を洗浄対象物に当てることによって洗浄効
果に優れたバブリング洗浄装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係るバブリン
グ洗浄装置においては、洗浄水で満たされ、洗浄対象物
が収容される水槽と、前記水槽内又は水槽壁に設けら
れ、水槽内に微小気泡の分散された強制循環流を形成す
る気液混合体噴射ノズルと、を備えたバブリング洗浄装
置であって、前記噴射ノズルを、前方に向け開口する気
体噴出口と、前記気体噴出口を取り囲む位置に形成され
た円環状の渦流室と、前記円環状渦流室に渦巻状に延
び、供給された洗浄水を渦流室に高速で導入し、渦流室
に高速旋回流を形成する旋回導孔と、前記渦流室の気体
噴出口を取り囲む位置に形成され、気体噴出口前方に先
細り円錐形の高速渦流を噴射形成する円環状の液体噴射
口と、から構成するようにしたものである。
グ洗浄装置においては、洗浄水で満たされ、洗浄対象物
が収容される水槽と、前記水槽内又は水槽壁に設けら
れ、水槽内に微小気泡の分散された強制循環流を形成す
る気液混合体噴射ノズルと、を備えたバブリング洗浄装
置であって、前記噴射ノズルを、前方に向け開口する気
体噴出口と、前記気体噴出口を取り囲む位置に形成され
た円環状の渦流室と、前記円環状渦流室に渦巻状に延
び、供給された洗浄水を渦流室に高速で導入し、渦流室
に高速旋回流を形成する旋回導孔と、前記渦流室の気体
噴出口を取り囲む位置に形成され、気体噴出口前方に先
細り円錐形の高速渦流を噴射形成する円環状の液体噴射
口と、から構成するようにしたものである。
【０００６】請求項２に係るバブリング洗浄装置におい
ては、請求項１記載のバブリング洗浄装置において、前
記噴射ノズルの気体噴出口を、空気パイプを介して大気
に連通し、液体噴射口からの液体の噴射に伴って気体噴
出口前方に負圧領域を形成し、この負圧を利用して気体
噴出口から空気を前方に吸引噴出するようにしたもので
ある。
ては、請求項１記載のバブリング洗浄装置において、前
記噴射ノズルの気体噴出口を、空気パイプを介して大気
に連通し、液体噴射口からの液体の噴射に伴って気体噴
出口前方に負圧領域を形成し、この負圧を利用して気体
噴出口から空気を前方に吸引噴出するようにしたもので
ある。
【０００７】
【作用】渦流室に形成された洗浄液の高速旋回流が環状
の液体噴射口から気体噴出口の前方に噴射され、水槽内
のノズル前方に先細り円錐形の高速渦流を形成する。そ
して気体噴出口から噴出した気体が、液体噴射口から噴
射されて気体周りに形成された洗浄水の高速渦流と接触
することで破砕され、強制混合拡散されて、ノズル前方
には超微粒子状気泡が分散された洗浄水の旋回流が形成
される。そして水槽内には、ノズルの作動により気泡を
分散した強制循環流が形成され、循環流中に分散されて
いる超微粒子状の気泡が水槽内の洗浄対象物と接触して
汚れを洗浄する。
の液体噴射口から気体噴出口の前方に噴射され、水槽内
のノズル前方に先細り円錐形の高速渦流を形成する。そ
して気体噴出口から噴出した気体が、液体噴射口から噴
射されて気体周りに形成された洗浄水の高速渦流と接触
することで破砕され、強制混合拡散されて、ノズル前方
には超微粒子状気泡が分散された洗浄水の旋回流が形成
される。そして水槽内には、ノズルの作動により気泡を
分散した強制循環流が形成され、循環流中に分散されて
いる超微粒子状の気泡が水槽内の洗浄対象物と接触して
汚れを洗浄する。
【０００８】請求項２では、液気混合体噴射ノズルが、
液体が液体噴射口から噴射されることにより気体噴出口
前方に形成される負圧を利用して気体を吸引噴出され
る、いわゆるエジェクター作用を利用した構造であるた
め、ブロワやポンプ等により気体噴出口に気体を圧送す
る必要がない。
液体が液体噴射口から噴射されることにより気体噴出口
前方に形成される負圧を利用して気体を吸引噴出され
る、いわゆるエジェクター作用を利用した構造であるた
め、ブロワやポンプ等により気体噴出口に気体を圧送す
る必要がない。
【０００９】
【実施例】次に本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。図１〜図４は本発明の一実施例を示すもので、図１
はバブリング洗浄装置の全体概要図、図２は同装置の平
面図、図３は同装置の要部であるエジェクター式渦流型
気液混合体噴射ノズルの拡大正面図、図４は同ノズルの
縦断面図（図３に示す線IV−IVに沿う断面図、図５は旋
回導孔の形成されている旋回導孔形成部の斜視図であ
る。
る。図１〜図４は本発明の一実施例を示すもので、図１
はバブリング洗浄装置の全体概要図、図２は同装置の平
面図、図３は同装置の要部であるエジェクター式渦流型
気液混合体噴射ノズルの拡大正面図、図４は同ノズルの
縦断面図（図３に示す線IV−IVに沿う断面図、図５は旋
回導孔の形成されている旋回導孔形成部の斜視図であ
る。
【００１０】これらの図において、符号１０は洗浄液で
満たされた水槽で、水槽１０内には、被洗浄対象物Ｗが
懸吊等されることにより収容されている。符号１２（１
２ａ，１２ｂ）は、水槽１０の側壁に設けられた洗浄液
吸込口１３と洗浄液吐出口１４間に配設された洗浄水循
環パイプで、パイプ１２の一端は水槽１０に隣接して設
けられた浄化槽１５に延び、パイプ１２の他端は吐出口
１４に設けられたエジェクター式渦流型気液混合体噴射
ノズル（以下、単にノズルという）３０に接続されてい
る。循環パイプ１２の途中にはダイヤフラムポンプ１６
が設けられて、水槽１０内の洗浄水をこの循環パイプ１
２を介して循環させるようになっている。
満たされた水槽で、水槽１０内には、被洗浄対象物Ｗが
懸吊等されることにより収容されている。符号１２（１
２ａ，１２ｂ）は、水槽１０の側壁に設けられた洗浄液
吸込口１３と洗浄液吐出口１４間に配設された洗浄水循
環パイプで、パイプ１２の一端は水槽１０に隣接して設
けられた浄化槽１５に延び、パイプ１２の他端は吐出口
１４に設けられたエジェクター式渦流型気液混合体噴射
ノズル（以下、単にノズルという）３０に接続されてい
る。循環パイプ１２の途中にはダイヤフラムポンプ１６
が設けられて、水槽１０内の洗浄水をこの循環パイプ１
２を介して循環させるようになっている。
【００１１】浄化槽１５内には、吸込口１３から吸い込
んだ洗浄水を濾過するフィルター１７が設けられてい
る。符号１８は浄化槽１５内に発生する空気を排出する
エア抜きパイプである。ノズル３０とポンプ１６間の循
環パイプ１２ｂの途中には、水槽１０内に開口する洗浄
水噴射口２０が設けられ、循環パイプ１２により循環さ
れた洗浄水は、ノズル３０と噴射口２０の双方から水槽
１０内に供給される。符号２２はノズル３０へ供給する
循環洗浄水量調整バルブである。
んだ洗浄水を濾過するフィルター１７が設けられてい
る。符号１８は浄化槽１５内に発生する空気を排出する
エア抜きパイプである。ノズル３０とポンプ１６間の循
環パイプ１２ｂの途中には、水槽１０内に開口する洗浄
水噴射口２０が設けられ、循環パイプ１２により循環さ
れた洗浄水は、ノズル３０と噴射口２０の双方から水槽
１０内に供給される。符号２２はノズル３０へ供給する
循環洗浄水量調整バルブである。
【００１２】符号２４はノズル３０に空気を供給する空
気吸込パイプで、空気吸込パイプ２４の上端開口部には
フィルター２６が設けられ、フィルター２６は一般洗浄
ではゴミの侵入を防ぐ上で、また半導体部品等の洗浄で
はバクテリア等の雑菌の除去を行う上で有効である。符
号２８はノズル３０に供給される吸込エア量調整用のバ
ルブで、気体噴出口３２に負圧吸引される空気量、即ち
気体噴出口３２から噴出される空気量を調整する。符号
２９は洗浄水を排出するためのドレンである。符号Ｈは
水槽１０内の洗浄水を洗浄に最適な所定温度に保つため
のヒータである。
気吸込パイプで、空気吸込パイプ２４の上端開口部には
フィルター２６が設けられ、フィルター２６は一般洗浄
ではゴミの侵入を防ぐ上で、また半導体部品等の洗浄で
はバクテリア等の雑菌の除去を行う上で有効である。符
号２８はノズル３０に供給される吸込エア量調整用のバ
ルブで、気体噴出口３２に負圧吸引される空気量、即ち
気体噴出口３２から噴出される空気量を調整する。符号
２９は洗浄水を排出するためのドレンである。符号Ｈは
水槽１０内の洗浄水を洗浄に最適な所定温度に保つため
のヒータである。
【００１３】噴射ノズル３０は、図３及び図５に示され
るように、空気吸込パイプ２４と連通する横断面円形の
気体噴出口３２と、この気体噴出口３２を取り囲む円環
状の渦流室３４と、前後に延びる円筒状の循環洗浄水供
給室３５から渦流室３４に渦巻状に延びる複数本の旋回
導孔３６と、渦流室３４の気体噴出口３２に臨む側に形
成された円環状の液体噴射口３８とが、ノズルケーシン
グ３１内に形成された構造となっている。
るように、空気吸込パイプ２４と連通する横断面円形の
気体噴出口３２と、この気体噴出口３２を取り囲む円環
状の渦流室３４と、前後に延びる円筒状の循環洗浄水供
給室３５から渦流室３４に渦巻状に延びる複数本の旋回
導孔３６と、渦流室３４の気体噴出口３２に臨む側に形
成された円環状の液体噴射口３８とが、ノズルケーシン
グ３１内に形成された構造となっている。
【００１４】ノズルケーシング３１の側部には、洗浄水
供給室３５と連通し、循環パイプ１２ｂが連結されるパ
イプ連結部３１ａが形成され、ノズルケーシング３１の
後端部には、空気吸込パイプ２４が接続される空気供給
室３３ａが設けられている。旋回導孔３６は、図３〜図
５に示されるように、洗浄水供給室３５から渦巻状に前
方の渦流室３４に延びており、洗浄水はこの旋回導孔３
６を通過する際に高速水流となる。渦流室３４では、旋
回導孔３６により圧送された高速水流によって旋回水流
が形成され、絞られた円環状の液体噴射口３８から気体
噴出口３２の前方に向かって高速旋回水流が噴射され、
符号Ｏを焦点とする先細り円錐形の高速渦流が形成され
る（図１，２，４参照）。
供給室３５と連通し、循環パイプ１２ｂが連結されるパ
イプ連結部３１ａが形成され、ノズルケーシング３１の
後端部には、空気吸込パイプ２４が接続される空気供給
室３３ａが設けられている。旋回導孔３６は、図３〜図
５に示されるように、洗浄水供給室３５から渦巻状に前
方の渦流室３４に延びており、洗浄水はこの旋回導孔３
６を通過する際に高速水流となる。渦流室３４では、旋
回導孔３６により圧送された高速水流によって旋回水流
が形成され、絞られた円環状の液体噴射口３８から気体
噴出口３２の前方に向かって高速旋回水流が噴射され、
符号Ｏを焦点とする先細り円錐形の高速渦流が形成され
る（図１，２，４参照）。
【００１５】気体噴出口３２の形成された中子３３がノ
ズルケーシング３１内に収容されることで、洗浄水供給
室３５、旋回導孔３６、渦流室３４及び液体噴射口３８
が形成され、円環状の液体噴射口３８は軸心Ｌ上の一点
に向けて開口している。このため液体噴射口３８から噴
射された高速旋回流は軸心Ｌ上の点Ｏを焦点とする先細
り円錐形の高速旋回流となる。
ズルケーシング３１内に収容されることで、洗浄水供給
室３５、旋回導孔３６、渦流室３４及び液体噴射口３８
が形成され、円環状の液体噴射口３８は軸心Ｌ上の一点
に向けて開口している。このため液体噴射口３８から噴
射された高速旋回流は軸心Ｌ上の点Ｏを焦点とする先細
り円錐形の高速旋回流となる。
【００１６】一方、気体噴出口３２は空気吸込パイプ２
４を介して大気と連通し、液体噴射口３８から洗浄水が
噴射される際にこの気体噴出口３２内には負圧が生じる
ので、この負圧によって空気が気体噴出口３２から吸引
噴出される（図４白抜矢印参照）。そして気体噴出口３
２から吸引噴出された空気は、液体噴射口３８から噴射
形成された円錐形の高速渦流と接触し破砕され、強制混
合拡散されて超微粒子状の気泡となって分散される。
４を介して大気と連通し、液体噴射口３８から洗浄水が
噴射される際にこの気体噴出口３２内には負圧が生じる
ので、この負圧によって空気が気体噴出口３２から吸引
噴出される（図４白抜矢印参照）。そして気体噴出口３
２から吸引噴出された空気は、液体噴射口３８から噴射
形成された円錐形の高速渦流と接触し破砕され、強制混
合拡散されて超微粒子状の気泡となって分散される。
【００１７】なお符号３９はノズルケーシング３１の前
端部外周に形成された雄ねじ３９ａに螺合された締結ナ
ットで、このナット３９とノズルケーシング側段差部３
９ｂとによって水槽１０の側壁を挟持することで、ノズ
ル３０を水槽１０の側壁に固定できる。このように本実
施例に係るバブリング洗浄装置では、気体噴出口３２か
ら吸引噴出された空気は、環状の液体噴射口３８から噴
射形成された洗浄水の円錐形高速渦流と接触し、破砕さ
れ強制混合拡散されて、従来装置では得られなかった超
微粒子状の気泡が分散された図１，２白抜矢印の様な循
環流が形成される。そして循環流の流れの中で、気泡が
循環しながら浮力により上昇し、このとき洗浄対象物Ｗ
と接触して汚れを洗浄する。即ち、循環する洗浄水中に
分散されている気泡は従来では到底得られなかった超微
粒子状であるため、気泡と洗浄対象物と接触面積が大き
く、洗浄効果が極めて高いと推測される。
端部外周に形成された雄ねじ３９ａに螺合された締結ナ
ットで、このナット３９とノズルケーシング側段差部３
９ｂとによって水槽１０の側壁を挟持することで、ノズ
ル３０を水槽１０の側壁に固定できる。このように本実
施例に係るバブリング洗浄装置では、気体噴出口３２か
ら吸引噴出された空気は、環状の液体噴射口３８から噴
射形成された洗浄水の円錐形高速渦流と接触し、破砕さ
れ強制混合拡散されて、従来装置では得られなかった超
微粒子状の気泡が分散された図１，２白抜矢印の様な循
環流が形成される。そして循環流の流れの中で、気泡が
循環しながら浮力により上昇し、このとき洗浄対象物Ｗ
と接触して汚れを洗浄する。即ち、循環する洗浄水中に
分散されている気泡は従来では到底得られなかった超微
粒子状であるため、気泡と洗浄対象物と接触面積が大き
く、洗浄効果が極めて高いと推測される。
【００１８】また本実施例装置では、空気をエジェクタ
ー方式で吸引するので、空気を供給するためのブロワ等
のエネルギー源が不要で、消費エネルギーの節約にもつ
ながる。また本実施例装置の施工には、従来のバブリン
グ洗浄装置における循環パイプの循環液吐出口に、本実
施例で示すコンパクトなエジェクター式渦流型気液混合
体噴射ノズル３０を設置するだけでよく、施工も非常に
簡単である。
ー方式で吸引するので、空気を供給するためのブロワ等
のエネルギー源が不要で、消費エネルギーの節約にもつ
ながる。また本実施例装置の施工には、従来のバブリン
グ洗浄装置における循環パイプの循環液吐出口に、本実
施例で示すコンパクトなエジェクター式渦流型気液混合
体噴射ノズル３０を設置するだけでよく、施工も非常に
簡単である。
【００１９】なお前記実施例は、液体の噴射による負圧
を利用したエジェクター方式で空気を自給する構造とな
っているが、空気吸込パイプ２４にブロワを設けて、空
気を強制的に気体噴出口３２に供給するようにしてもよ
い。図６及び図７は、本発明の第２の実施例を示すもの
で、図６はバブリング洗浄装置の要部であるエジェクタ
ー式渦流型気液混合体噴射ノズルの正面図を示し、図７
は同ノズルの縦断面図を示す。
を利用したエジェクター方式で空気を自給する構造とな
っているが、空気吸込パイプ２４にブロワを設けて、空
気を強制的に気体噴出口３２に供給するようにしてもよ
い。図６及び図７は、本発明の第２の実施例を示すもの
で、図６はバブリング洗浄装置の要部であるエジェクタ
ー式渦流型気液混合体噴射ノズルの正面図を示し、図７
は同ノズルの縦断面図を示す。
【００２０】前記した第１の実施例における噴射ノズル
３０は、渦巻状に延びる比較的流路面積の小さい複数本
の旋回導孔３６が渦流室３４に延び、さらに渦流室３４
に設けられた液体噴射口３８の流路面積も比較的小さく
形成されていたが、本実施側では、比較的流路面積の大
きい１本の旋回導孔４６が渦流室３４に延び、さらに渦
流室３４から比較的流路面積の大きい円錐状に延びる流
路４８によって液体噴射口３８が形成されており、流路
面積が大きい分だけ目詰まりしにくい構造となってい
る。即ち、図６，７に示すように液体噴射口３８の流路
面積を大きく形成しても、第１の実施例と同程度の気泡
の微粒子化を達成できるので、洗浄効果が前記第１の実
施例より劣るということはない。その他は前記第１の実
施例と同様であり、同一の符号を付すことによりその説
明は省略する。
３０は、渦巻状に延びる比較的流路面積の小さい複数本
の旋回導孔３６が渦流室３４に延び、さらに渦流室３４
に設けられた液体噴射口３８の流路面積も比較的小さく
形成されていたが、本実施側では、比較的流路面積の大
きい１本の旋回導孔４６が渦流室３４に延び、さらに渦
流室３４から比較的流路面積の大きい円錐状に延びる流
路４８によって液体噴射口３８が形成されており、流路
面積が大きい分だけ目詰まりしにくい構造となってい
る。即ち、図６，７に示すように液体噴射口３８の流路
面積を大きく形成しても、第１の実施例と同程度の気泡
の微粒子化を達成できるので、洗浄効果が前記第１の実
施例より劣るということはない。その他は前記第１の実
施例と同様であり、同一の符号を付すことによりその説
明は省略する。
【００２１】図８は本発明の他の実施例であるバブリン
グ洗浄装置の平面図を示すものである。前記した実施例
では、水槽１０に１個のノズル３０を設けた構造となっ
ているが、本実施例では、ノズル３０を２個並設し、所
定時間毎に一方のノズルを作動させることで、正逆反対
方向となる循環流（符号Ｆ1，Ｆ2参照）を形成し、洗浄
効果を高める構造となっている。
グ洗浄装置の平面図を示すものである。前記した実施例
では、水槽１０に１個のノズル３０を設けた構造となっ
ているが、本実施例では、ノズル３０を２個並設し、所
定時間毎に一方のノズルを作動させることで、正逆反対
方向となる循環流（符号Ｆ1，Ｆ2参照）を形成し、洗浄
効果を高める構造となっている。
【００２２】また図９に示すように、多くのノズル３０
をその設置位置を異ならしめて水槽の側壁に設けること
で、さらなる洗浄効果を高める構造としてもよい。さら
に前記した種々の実施例で示すバルブリング洗浄装置に
従来公知の超音波洗浄技術を組合わせた構造とすること
により、洗浄効果を高めるようにしてもよい。
をその設置位置を異ならしめて水槽の側壁に設けること
で、さらなる洗浄効果を高める構造としてもよい。さら
に前記した種々の実施例で示すバルブリング洗浄装置に
従来公知の超音波洗浄技術を組合わせた構造とすること
により、洗浄効果を高めるようにしてもよい。
【００２３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係るバブリング洗浄装置によれば、気体噴出口から噴
出した気体が液体噴射口から噴射した高速渦流によって
破砕され、強制混合拡散されて、水槽内には超微粒子状
の気泡の分散された強制循環流が形成される。このため
洗浄対象物との大きな接触面積の確保できる超微粒子状
の気泡によって、洗浄対象物の微小隙間における汚れも
確実に除去できることとなって、顕著な洗浄効果が達成
できる。
に係るバブリング洗浄装置によれば、気体噴出口から噴
出した気体が液体噴射口から噴射した高速渦流によって
破砕され、強制混合拡散されて、水槽内には超微粒子状
の気泡の分散された強制循環流が形成される。このため
洗浄対象物との大きな接触面積の確保できる超微粒子状
の気泡によって、洗浄対象物の微小隙間における汚れも
確実に除去できることとなって、顕著な洗浄効果が達成
できる。
【００２４】請求項２では、ノズルをエジェクター構造
としたので、ブロワやポンプ等の気体噴出口への空気圧
送手段が不要で、エネルギーの節約という点で有効であ
る。
としたので、ブロワやポンプ等の気体噴出口への空気圧
送手段が不要で、エネルギーの節約という点で有効であ
る。
【図１】本発明の一実施例であるバブリング洗浄装置の
全体概要図
全体概要図
【図２】同装置の平面図
【図３】バブリング洗浄装置の要部であるエジェクター
式渦流型気液混合体噴射ノズルの正面図
式渦流型気液混合体噴射ノズルの正面図
【図４】同ノズルの縦断面図（図３に示す線IV−IVに沿
う断面図）
う断面図）
【図５】旋回導孔形成部の斜視図
【図６】本発明の他の実施例の要部であるエジェクター
式渦流型気液混合体噴射ノズルの正面図
式渦流型気液混合体噴射ノズルの正面図
【図７】同ノズルの縦断面図
【図８】本発明のさらに他の実施例であるバブリング洗
浄装置の平面図
浄装置の平面図
【図９】本発明のさらに他の実施例であるバブリング洗
浄装置の平面図
浄装置の平面図
１０ 水槽 １２（１２ａ，１２ｂ） 洗浄水循環パイプ １３ 洗浄水吸込口 １４ 洗浄水吐出口 １６ ポンプ ２４ 空気吸込パイプ ３０ エジェクター式渦流型気液混合体噴射ノズル ３１ ノズルケーシング ３２ 気体噴出口 ３３ 中子 ３４ 渦流室 ３６，４６ 旋回導孔 ３８ 液体噴射口
Claims (2)
- 【請求項１】 洗浄水で満たされ、洗浄対象物が収容さ
れる水槽と、前記水槽内又は水槽壁に設けられ、水槽内
に微小気泡の分散された強制循環流を形成する気液混合
体噴射ノズルと、を備えたバブリング洗浄装置であっ
て、 前記噴射ノズルは、前方に向け開口する気体噴出口と、 前記気体噴出口を取り囲む位置に形成された円環状の渦
流室と、 前記円環状渦流室に渦巻状に延び、供給された洗浄水を
渦流室に高速で導入し、渦流室に高速旋回流を形成する
旋回導孔と、 前記渦流室の気体噴出口を取り囲む位置に形成され、気
体噴出口前方に先細り円錐形の高速渦流を噴射形成する
円環状の液体噴射口と、から構成されたことを特徴とす
るバブリング洗浄装置。 - 【請求項２】 前記噴射ノズルの気体噴出口は空気パイ
プを介して大気に連通されており、液体噴射口からの液
体の噴射に伴って気体噴出口前方に形成される負圧によ
り気体噴出口から空気が前方に吸引噴出されることを特
徴とする請求項１記載のバブリング洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05085810A JP3142412B2 (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | バブリング洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05085810A JP3142412B2 (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | バブリング洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06296937A true JPH06296937A (ja) | 1994-10-25 |
| JP3142412B2 JP3142412B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=13869228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05085810A Expired - Fee Related JP3142412B2 (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | バブリング洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3142412B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004314048A (ja) * | 2003-01-15 | 2004-11-11 | Toray Ind Inc | 循環式口金洗浄装置および洗浄方法 |
| JPWO2004112970A1 (ja) * | 2003-06-23 | 2006-07-27 | 池田 正明 | 渦流式液体微粒化ノズル |
| JP2007152227A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Hiroyoshi Hamanaka | 運動機能性エアロゾルを用いる剥離洗浄方法 |
| JP2011036815A (ja) * | 2009-08-13 | 2011-02-24 | Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd | 洗浄装置 |
| JP2013086089A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-13 | Tdk Corp | マイクロバブル洗浄装置及び洗浄方法 |
| JP5842049B1 (ja) * | 2014-12-18 | 2016-01-13 | ゼニス羽田株式会社 | 固形物の洗浄装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6271869B1 (en) | 1998-12-15 | 2001-08-07 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Multicolor image forming apparatus having adjustable optical members |
| JP2001253113A (ja) | 2000-03-13 | 2001-09-18 | Fuji Xerox Co Ltd | カラー画像形成装置 |
| US8149475B2 (en) | 2007-10-30 | 2012-04-03 | Ricoh Company, Ltd. | Apparatus, method, and computer program product for processing image |
-
1993
- 1993-04-13 JP JP05085810A patent/JP3142412B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JP2004314048A (ja) * | 2003-01-15 | 2004-11-11 | Toray Ind Inc | 循環式口金洗浄装置および洗浄方法 |
| JPWO2004112970A1 (ja) * | 2003-06-23 | 2006-07-27 | 池田 正明 | 渦流式液体微粒化ノズル |
| JP4659616B2 (ja) * | 2003-06-23 | 2011-03-30 | 正明 池田 | 渦流式液体微粒化ノズル |
| JP2007152227A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Hiroyoshi Hamanaka | 運動機能性エアロゾルを用いる剥離洗浄方法 |
| JP2011036815A (ja) * | 2009-08-13 | 2011-02-24 | Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd | 洗浄装置 |
| JP2013086089A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-13 | Tdk Corp | マイクロバブル洗浄装置及び洗浄方法 |
| JP5842049B1 (ja) * | 2014-12-18 | 2016-01-13 | ゼニス羽田株式会社 | 固形物の洗浄装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3142412B2 (ja) | 2001-03-07 |
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