JPH06297701A - インクジェットヘッド - Google Patents
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- JPH06297701A JPH06297701A JP8752893A JP8752893A JPH06297701A JP H06297701 A JPH06297701 A JP H06297701A JP 8752893 A JP8752893 A JP 8752893A JP 8752893 A JP8752893 A JP 8752893A JP H06297701 A JPH06297701 A JP H06297701A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14419—Manifold
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 インクがスムーズに流れるような形状を形成
し気泡排出性を改善し、インク吐出安定性のすぐれた、
高密度で高信頼性のあるインクジェットヘッドを得る。 【構成】 （１１０）シリコンウェハーを異方性エッチ
ングで貫通させ、両面をノズル板２と圧力発生手段４を
持った平板３によってそれぞれ挟み込み、隣合う（１１
１）側面で形成される鋭角コーナ部になめらかな形状を
成す樹脂壁８を設ける。
し気泡排出性を改善し、インク吐出安定性のすぐれた、
高密度で高信頼性のあるインクジェットヘッドを得る。 【構成】 （１１０）シリコンウェハーを異方性エッチ
ングで貫通させ、両面をノズル板２と圧力発生手段４を
持った平板３によってそれぞれ挟み込み、隣合う（１１
１）側面で形成される鋭角コーナ部になめらかな形状を
成す樹脂壁８を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、駆動電圧の印加により
圧力室の容積を変化させてインクを吐出させるオンデマ
ンド型インクジェットヘッドに関する。
圧力室の容積を変化させてインクを吐出させるオンデマ
ンド型インクジェットヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、高速、高密度の低価格インクジェ
ットプリンタの要求が高まる中、それを実現するための
種々の方法が考えられているが、特公平４−１５０９５
号公報などに見られる感光性樹脂による方法、シリコン
ウェハーの異方性エッチングによる方法などが知られて
いる。シリコンウェハーをエッチングして流路を形成す
る方法としては、大別して（１００）シリコンウェハー
を用いるものと、（１１０）シリコンウェハーを用いた
ものがある。
ットプリンタの要求が高まる中、それを実現するための
種々の方法が考えられているが、特公平４−１５０９５
号公報などに見られる感光性樹脂による方法、シリコン
ウェハーの異方性エッチングによる方法などが知られて
いる。シリコンウェハーをエッチングして流路を形成す
る方法としては、大別して（１００）シリコンウェハー
を用いるものと、（１１０）シリコンウェハーを用いた
ものがある。
【０００３】（１００）シリコンウェハーを用いた例と
して特公昭５８−４０５０９号公報が知られている。こ
の場合、エッチングの結果現れる（１１１）面は（１０
０）面に対して傾きを持つため、パターン幅に対して深
さが一定の比以上は取れない。このため、エッチング断
面は台形もしくは三角形の断面形状になり、複数の流路
を高密度に並べることにより深さが浅くなってしまう。
さらに、ウェハーの一面にノズルを持った平板を持った
いわゆるフェースイジェクト型でウェハーの裏面から電
気機械変換手段によってインク室の容積を変化させてイ
ンクを吐出させる構造のヘッドの場合、台形もしくは三
角形の断面形状のインク室では電気機械変換手段を配置
させることが困難である。
して特公昭５８−４０５０９号公報が知られている。こ
の場合、エッチングの結果現れる（１１１）面は（１０
０）面に対して傾きを持つため、パターン幅に対して深
さが一定の比以上は取れない。このため、エッチング断
面は台形もしくは三角形の断面形状になり、複数の流路
を高密度に並べることにより深さが浅くなってしまう。
さらに、ウェハーの一面にノズルを持った平板を持った
いわゆるフェースイジェクト型でウェハーの裏面から電
気機械変換手段によってインク室の容積を変化させてイ
ンクを吐出させる構造のヘッドの場合、台形もしくは三
角形の断面形状のインク室では電気機械変換手段を配置
させることが困難である。
【０００４】一方、（１１０）シリコンウェハー を用
いたインクジェットヘッドの例として、"K.E.Prtrrse
n,'Fabrication of an Integrated, Planar Silicon In
k-JetStructure,'IEEE transactions on electron devi
ces, vol.ED-26,No.12, December 1979" などが知られ
ている。図６に示すように（１１０）シリコンウェハー
による異方性エッチングでは、エッチングの結果現われ
る（１１１）面は（１１０）面に対して垂直であり、こ
の（１１１）面を側壁として、インク室１０１、供給路
１０２、インク溜り１０３が形成されている。このため
インク室１０１を所定の深さに形成できるため、流路の
高密度化により流路幅が狭くても流路抵抗を小さくで
き、高密度で複数のインク室を配置しても高応答が得ら
れ易い。前記エッチングにより（１１０）シリコンウェ
ハーを貫通させた前記インク流路を形成し、そのウェハ
ーの両（１１０）面をノズル板２と振動板３で挟み込む
構造にすることにより、前記インク室の深さバラツキを
抑えることができる。
いたインクジェットヘッドの例として、"K.E.Prtrrse
n,'Fabrication of an Integrated, Planar Silicon In
k-JetStructure,'IEEE transactions on electron devi
ces, vol.ED-26,No.12, December 1979" などが知られ
ている。図６に示すように（１１０）シリコンウェハー
による異方性エッチングでは、エッチングの結果現われ
る（１１１）面は（１１０）面に対して垂直であり、こ
の（１１１）面を側壁として、インク室１０１、供給路
１０２、インク溜り１０３が形成されている。このため
インク室１０１を所定の深さに形成できるため、流路の
高密度化により流路幅が狭くても流路抵抗を小さくで
き、高密度で複数のインク室を配置しても高応答が得ら
れ易い。前記エッチングにより（１１０）シリコンウェ
ハーを貫通させた前記インク流路を形成し、そのウェハ
ーの両（１１０）面をノズル板２と振動板３で挟み込む
構造にすることにより、前記インク室の深さバラツキを
抑えることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の（１１
０）シリコンウェハーの異方性エッチングからなる従来
例は、以下のような課題を有する。
０）シリコンウェハーの異方性エッチングからなる従来
例は、以下のような課題を有する。
【０００６】前記インク室１０１は（１１０）シリコン
ウェハー面に対して垂直な（１１１）面で全側壁が形成
されるため、図６に示すように前記インク室は概ね平行
四辺形をしている。このため、この平行四辺形の鋭角側
の隅でインクの流れが滞りやすく、インクが充填不足と
なったり、気泡が停滞しやすく、流路中の気泡排出性を
損ね、吐出不良の原因となる。
ウェハー面に対して垂直な（１１１）面で全側壁が形成
されるため、図６に示すように前記インク室は概ね平行
四辺形をしている。このため、この平行四辺形の鋭角側
の隅でインクの流れが滞りやすく、インクが充填不足と
なったり、気泡が停滞しやすく、流路中の気泡排出性を
損ね、吐出不良の原因となる。
【０００７】本発明はこういった状況に鑑み上記の課題
を解決するもので、その目的とするところは、高密度か
つ流路の気泡排出性が良いインクジェットヘッドを提供
することにある。
を解決するもので、その目的とするところは、高密度か
つ流路の気泡排出性が良いインクジェットヘッドを提供
することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のインクジェット
ヘッドは、インク流路の側面が（１１０）シリコンウェ
ハーの（１１１）面で形成され、その隣合う側面で構成
されるコーナー部に、樹脂を充填したことを特徴とす
る。
ヘッドは、インク流路の側面が（１１０）シリコンウェ
ハーの（１１１）面で形成され、その隣合う側面で構成
されるコーナー部に、樹脂を充填したことを特徴とす
る。
【０００９】
【実施例】以下実施例に従って本発明のインクジェット
ヘッドの構造について詳しく説明する。
ヘッドの構造について詳しく説明する。
【００１０】図１は本発明の一実施例のインクジェット
ヘッドであり、図２はＢＢ面の断面図である。１は（１
１０）シリコンウェハーで、両面からの異方性エッチン
グによりインク室１０１、供給路１０２、インク溜り１
０３のそれぞれの側壁を形成し、耐インク性を向上させ
るためにパターン形成後、熱酸化処理を施してある。供
給路１０２はインク室１０３よりも幅を小さくして流路
抵抗を大きくし、吐出時に効果的にノズル２０１側にイ
ンクを送り出すと共にインク溜り１０３への流出を減ら
してクロストークを防止する。また、インク室１０１を
（１１１）面に囲まれた平行四辺形とし、供給路１０２
は、インクの流れを円滑にし気泡排出性を向上させるよ
うにインク室１０１の平行四辺形の鋭角側の隅に配置
し、かつ、一つの（１１１）面を共有するように配し
た。また、対向する前記ノズル側のインク室１０１の平
行四辺形の鋭角側のコーナー部には、樹脂を充填してな
めらかな形状にすることにより、インクの流れを円滑に
し気泡排出性を向上させている。このシリコンウェハー
１の両面に各インク室１０１に対応するノズル２０１を
持つノズル板２と、振動板３が接着されており、振動板
３の背面に圧電素子４が各インク室１０１の位置に取り
付けられている。ノズル板２は厚さ０．１ｍｍの金属板
で直径４０μｍのノズル２０１があけられている。圧電
素子４の振動板３と反対側はブロック５と波線Ａで示し
た箇所で接着されている。インクはパイプ６からブロッ
ク５にあけられた貫通口７、インク溜り１０３、供給路
１０２、インク室１０１へと供給される。振動板３には
図２に示すように、インク室１０１毎に突起部３０１が
設けられており、圧電素子４の変位が効果的にインク室
１０１内の体積変化を発生させるようになっている。本
実施例では振動板３はポリイミドフィルムやニッケルの
電鋳で製作し厚さ１〜５μｍ、突起部は厚さ２０〜４０
μｍとした。また、シリコンウェハー１と振動板３間の
接着剤のはみ出し１０４は、振動板３の変位を妨げイン
ク室１０１内の体積変化量を大きく減少させるため、接
着剤のはみ出し長さを１０μｍ以下になるように管理し
ている。
ヘッドであり、図２はＢＢ面の断面図である。１は（１
１０）シリコンウェハーで、両面からの異方性エッチン
グによりインク室１０１、供給路１０２、インク溜り１
０３のそれぞれの側壁を形成し、耐インク性を向上させ
るためにパターン形成後、熱酸化処理を施してある。供
給路１０２はインク室１０３よりも幅を小さくして流路
抵抗を大きくし、吐出時に効果的にノズル２０１側にイ
ンクを送り出すと共にインク溜り１０３への流出を減ら
してクロストークを防止する。また、インク室１０１を
（１１１）面に囲まれた平行四辺形とし、供給路１０２
は、インクの流れを円滑にし気泡排出性を向上させるよ
うにインク室１０１の平行四辺形の鋭角側の隅に配置
し、かつ、一つの（１１１）面を共有するように配し
た。また、対向する前記ノズル側のインク室１０１の平
行四辺形の鋭角側のコーナー部には、樹脂を充填してな
めらかな形状にすることにより、インクの流れを円滑に
し気泡排出性を向上させている。このシリコンウェハー
１の両面に各インク室１０１に対応するノズル２０１を
持つノズル板２と、振動板３が接着されており、振動板
３の背面に圧電素子４が各インク室１０１の位置に取り
付けられている。ノズル板２は厚さ０．１ｍｍの金属板
で直径４０μｍのノズル２０１があけられている。圧電
素子４の振動板３と反対側はブロック５と波線Ａで示し
た箇所で接着されている。インクはパイプ６からブロッ
ク５にあけられた貫通口７、インク溜り１０３、供給路
１０２、インク室１０１へと供給される。振動板３には
図２に示すように、インク室１０１毎に突起部３０１が
設けられており、圧電素子４の変位が効果的にインク室
１０１内の体積変化を発生させるようになっている。本
実施例では振動板３はポリイミドフィルムやニッケルの
電鋳で製作し厚さ１〜５μｍ、突起部は厚さ２０〜４０
μｍとした。また、シリコンウェハー１と振動板３間の
接着剤のはみ出し１０４は、振動板３の変位を妨げイン
ク室１０１内の体積変化量を大きく減少させるため、接
着剤のはみ出し長さを１０μｍ以下になるように管理し
ている。
【００１１】次に前記実施例のインク流路部の組立方法
について図３（ａ）〜（ｄ）に沿って説明する。まず、
図３（ａ）に示すように、（１１０）シリコンウェハー
の異方性エッチングによって全側面が（１１１）面から
成る前記インク溜り、供給路、インク室が貫通形成され
たしたシリコンウェハー１とそのインク室に対応したノ
ズル２０１を有するノズル板２を接着する。その後、図
３（ｂ）に示すように感光性レジストを前記インク溜
り、供給路、インク室に充填し、プレベーキングを行
う。その後、Ａ方向よりマスク９を介して、インク室１
０１のノズル側の鋭角コーナーに前記感光性レジストが
残るようにイメージ露光および現像をおこない、図３
（ｃ）に示すように樹脂壁８を形成する。その後、図３
（ｄ）のように、ノズル板２と対面する（１１０）面に
振動板３を接着し、前記インク溜り、供給路、インク室
を閉溝とする。樹脂壁８はインクの流れをスムーズにす
るために、滑らかな形状を設けている。特に、ノズル付
近のインクの流れをより向上させるために、その形状は
ノズル孔に沿っている方が望ましい。
について図３（ａ）〜（ｄ）に沿って説明する。まず、
図３（ａ）に示すように、（１１０）シリコンウェハー
の異方性エッチングによって全側面が（１１１）面から
成る前記インク溜り、供給路、インク室が貫通形成され
たしたシリコンウェハー１とそのインク室に対応したノ
ズル２０１を有するノズル板２を接着する。その後、図
３（ｂ）に示すように感光性レジストを前記インク溜
り、供給路、インク室に充填し、プレベーキングを行
う。その後、Ａ方向よりマスク９を介して、インク室１
０１のノズル側の鋭角コーナーに前記感光性レジストが
残るようにイメージ露光および現像をおこない、図３
（ｃ）に示すように樹脂壁８を形成する。その後、図３
（ｄ）のように、ノズル板２と対面する（１１０）面に
振動板３を接着し、前記インク溜り、供給路、インク室
を閉溝とする。樹脂壁８はインクの流れをスムーズにす
るために、滑らかな形状を設けている。特に、ノズル付
近のインクの流れをより向上させるために、その形状は
ノズル孔に沿っている方が望ましい。
【００１２】このようなウェハーの一面にノズルを持っ
た平板を持ったいわゆるフェースイジェクト型の場合、
インク室からノズルへインクが流れる際、不均一な流れ
の速度分布が生じ気泡が滞りやすいが、前記のような樹
脂壁を設けることにより、気泡排出性が改善されより吐
出安定性の向上を図ることができる。
た平板を持ったいわゆるフェースイジェクト型の場合、
インク室からノズルへインクが流れる際、不均一な流れ
の速度分布が生じ気泡が滞りやすいが、前記のような樹
脂壁を設けることにより、気泡排出性が改善されより吐
出安定性の向上を図ることができる。
【００１３】図４（ａ）〜（ｃ）において、前記インク
流路部の別の組立方法を説明する。図４（ａ）に示すよ
うに、シリコンウェハー１の片面に、ガラスやシリコン
などの平面度のよい平板でテフロンシートを介して蓋を
行い、その上から感光性レジストを充填し、プレベーキ
ングを行う。その後、図４（ｂ）に示すように、シリコ
ンウェハー１の逆片面と振動板３を接着した後、前記平
板およびテフロンシートをはがし、Ａ方向よりマスク９
を介して、インク室１０１のノズル側の鋭角コーナーに
前記感光性レジストが残るようにイメージ露光および現
像を行い、前記樹脂壁を形成する。その後、振動板３と
対面する（１１０）面にノズル板２を図４（ｃ）の様に
接着し、前記インク溜り、供給路、インク室を閉溝とす
る。
流路部の別の組立方法を説明する。図４（ａ）に示すよ
うに、シリコンウェハー１の片面に、ガラスやシリコン
などの平面度のよい平板でテフロンシートを介して蓋を
行い、その上から感光性レジストを充填し、プレベーキ
ングを行う。その後、図４（ｂ）に示すように、シリコ
ンウェハー１の逆片面と振動板３を接着した後、前記平
板およびテフロンシートをはがし、Ａ方向よりマスク９
を介して、インク室１０１のノズル側の鋭角コーナーに
前記感光性レジストが残るようにイメージ露光および現
像を行い、前記樹脂壁を形成する。その後、振動板３と
対面する（１１０）面にノズル板２を図４（ｃ）の様に
接着し、前記インク溜り、供給路、インク室を閉溝とす
る。
【００１４】以上のような組立方法を用いた場合、シリ
コンウェハー１と振動板３の接着の際、接着剤はＢ方向
（図３（ｃ）参照）に流れ出す量が増し、振動板側への
はみ出し１０４を極力小さくすることができる。図２を
用いて説明したように、シリコンウェハー１と振動板３
間の接着剤のはみ出し１０４は、振動板３の変位を妨げ
インク吐出特性に大きく影響するため、上記の組立方法
は、ヘッドおよびノズル間のインク特性バラツキを減少
させる効果がある。
コンウェハー１と振動板３の接着の際、接着剤はＢ方向
（図３（ｃ）参照）に流れ出す量が増し、振動板側への
はみ出し１０４を極力小さくすることができる。図２を
用いて説明したように、シリコンウェハー１と振動板３
間の接着剤のはみ出し１０４は、振動板３の変位を妨げ
インク吐出特性に大きく影響するため、上記の組立方法
は、ヘッドおよびノズル間のインク特性バラツキを減少
させる効果がある。
【００１５】また、ノズル板２は本実施例では金属板に
プレスによってノズル２０１を形成し、ノズル板２とシ
リコンウェハー１を接着したが、ノズルをＥＬ加工する
方法や、ノズル板２をガラスで形成して陽極接合で接合
する方法や、ノズル板２を（１００）シリコンウェハー
で形成して拡散接合する方法でも良い。
プレスによってノズル２０１を形成し、ノズル板２とシ
リコンウェハー１を接着したが、ノズルをＥＬ加工する
方法や、ノズル板２をガラスで形成して陽極接合で接合
する方法や、ノズル板２を（１００）シリコンウェハー
で形成して拡散接合する方法でも良い。
【００１６】図５に図１に示した実施例よりも多数ノズ
ルでより高密度の印字を行えるインクジェットヘッドの
例を示す。基本構造は図１と同様であるので、ここでは
シリコンウェハーのパターンのみを示した。本実施例で
は供給路１０２、インク室１０１、ノズル２０１の組を
０．１４１ｍｍピッチで２６組づつ０．０７ｍｍずらし
て２列配した。この構成で１インチ当たり３６０ドッ
ト、４８ノズルのインクジェットヘッドとなる。図中の
ノズル２０１および供給口７はシリコンウェハー１のパ
ターンの中には無いが説明のために記入してある。両列
とも図中最上部と最下部の組の計４組は実際にはインク
吐出を行わず、インク室１０１の隣接インク室との隔壁
を同じ状態にして吐出特性を揃えることと、上部の組で
は積極的にインク溜り１０３に混入した気泡を流入させ
他のインク室に流入させないことを目的に設置されてい
るものである。しかしながら、これらのインク流路は全
て（１１１）面で囲まれたパターンで側面が形成されて
いるため、前記実施例で説明したインク室と同様に、イ
ンク溜り１０３においても形状が制限され、図中の波線
Ａの箇所でインクの流れが滞りやすい。この箇所におい
ても、前記実施例の組立方法を用いて、インクの流れを
スムーズにするための滑らかな形状を成す図のような樹
脂壁８を設けることにより、インク溜り１０３内の気泡
排出性を向上する事ができる。また、波線Ｃの場所の鋸
状になっているところは、気泡がこの部分に引っ掛かる
のを防ぐために鋸状の谷の部分の深さが５０μｍ以下に
なるようにしているが、より信頼性を確保するため前記
実施例と同様に、樹脂を充填することが望ましい。
ルでより高密度の印字を行えるインクジェットヘッドの
例を示す。基本構造は図１と同様であるので、ここでは
シリコンウェハーのパターンのみを示した。本実施例で
は供給路１０２、インク室１０１、ノズル２０１の組を
０．１４１ｍｍピッチで２６組づつ０．０７ｍｍずらし
て２列配した。この構成で１インチ当たり３６０ドッ
ト、４８ノズルのインクジェットヘッドとなる。図中の
ノズル２０１および供給口７はシリコンウェハー１のパ
ターンの中には無いが説明のために記入してある。両列
とも図中最上部と最下部の組の計４組は実際にはインク
吐出を行わず、インク室１０１の隣接インク室との隔壁
を同じ状態にして吐出特性を揃えることと、上部の組で
は積極的にインク溜り１０３に混入した気泡を流入させ
他のインク室に流入させないことを目的に設置されてい
るものである。しかしながら、これらのインク流路は全
て（１１１）面で囲まれたパターンで側面が形成されて
いるため、前記実施例で説明したインク室と同様に、イ
ンク溜り１０３においても形状が制限され、図中の波線
Ａの箇所でインクの流れが滞りやすい。この箇所におい
ても、前記実施例の組立方法を用いて、インクの流れを
スムーズにするための滑らかな形状を成す図のような樹
脂壁８を設けることにより、インク溜り１０３内の気泡
排出性を向上する事ができる。また、波線Ｃの場所の鋸
状になっているところは、気泡がこの部分に引っ掛かる
のを防ぐために鋸状の谷の部分の深さが５０μｍ以下に
なるようにしているが、より信頼性を確保するため前記
実施例と同様に、樹脂を充填することが望ましい。
【００１７】
【発明の効果】本発明の実施例の構成により、高精度か
つ深いパターンでのインク流路においても、インク流路
内のインクの流れを円滑にすることができるため、気泡
排出性が向上し安定した印字特性を確保できるという効
果を有する。
つ深いパターンでのインク流路においても、インク流路
内のインクの流れを円滑にすることができるため、気泡
排出性が向上し安定した印字特性を確保できるという効
果を有する。
【００１８】また、全て貫通したパターンで、エッチレ
ートが遅い（１１１）面しか残らないので、エッチング
工程における条件変動の許容範囲が広く、非常に安定し
た品質を容易に確保でき、かつ、接着剤によるヘッド特
性への影響を極力小さくすることができ、ヘッド間のイ
ンク吐出特性バラツキを抑えるという効果がある。
ートが遅い（１１１）面しか残らないので、エッチング
工程における条件変動の許容範囲が広く、非常に安定し
た品質を容易に確保でき、かつ、接着剤によるヘッド特
性への影響を極力小さくすることができ、ヘッド間のイ
ンク吐出特性バラツキを抑えるという効果がある。
【図１】本発明の実施例のインクジェットヘッドの斜視
図。
図。
【図２】本発明の実施例のインクジェットヘッドのＢＢ
断面図。
断面図。
【図３】本発明の実施例のインクジェットヘッドの組立
方法の説明図。
方法の説明図。
【図４】本発明の実施例のインクジェットヘッドの別の
組立方法の説明図。
組立方法の説明図。
【図５】本発明の他の実施例のインクジェットヘッド流
路基板を示す図。
路基板を示す図。
【図６】（１１０）シリコンウェハーを用いた従来のイ
ンクジェットヘッドの断面図。
ンクジェットヘッドの断面図。
１ （１１０）シリコンウェハー ２ ノズル板 ３ 振動板 ４ 圧電素子 ５ ブロック ６ パイプ ７ 貫通孔 ８ 樹脂壁 ９ マスク １０１ インク室 １０２ 供給路 １０３ インク溜り １０４ 接着剤 ２０１ ノズル ３０１ 突起部
Claims (2)
- 【請求項１】 インク流路の側面が（１１０）シリコン
ウェハーの（１１１）面で形成され、その隣合う側面で
構成されるコーナー部に、樹脂を充填したことを特徴と
するインクジェットヘッド。 - 【請求項２】 一端が供給路を介してインク溜りに連通
し、他端がインク滴吐出ノズルに連通したインク室を複
数有し、前記インク溜り、供給路、インク室の少なくと
も１側面は、前記（１１１）面から成り、前記インク室
は概ね平行四辺形をしており、シリコンウェハーの両
（１１０）面を挟み込む第１、第２の平板を有し、第１
の平板には前記インク室に連通するノズルを、第２の平
板には圧力発生手段を有することを特徴とする請求項１
記載のインクジェットヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8752893A JP3186321B2 (ja) | 1993-04-14 | 1993-04-14 | インクジェットヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8752893A JP3186321B2 (ja) | 1993-04-14 | 1993-04-14 | インクジェットヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06297701A true JPH06297701A (ja) | 1994-10-25 |
| JP3186321B2 JP3186321B2 (ja) | 2001-07-11 |
Family
ID=13917504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8752893A Expired - Lifetime JP3186321B2 (ja) | 1993-04-14 | 1993-04-14 | インクジェットヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3186321B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999003682A1 (en) * | 1997-07-18 | 1999-01-28 | Seiko Epson Corporation | Inkjet recording head, method of manufacturing the same, and inkjet recorder |
| US6789319B2 (en) | 1996-10-18 | 2004-09-14 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing an ink jet print head |
| US8113633B2 (en) | 2008-01-31 | 2012-02-14 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus having same |
| JP2012143981A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| JP2016027961A (ja) * | 2015-10-22 | 2016-02-25 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
-
1993
- 1993-04-14 JP JP8752893A patent/JP3186321B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6789319B2 (en) | 1996-10-18 | 2004-09-14 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing an ink jet print head |
| US7153442B2 (en) | 1996-10-18 | 2006-12-26 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing an ink jet print head |
| WO1999003682A1 (en) * | 1997-07-18 | 1999-01-28 | Seiko Epson Corporation | Inkjet recording head, method of manufacturing the same, and inkjet recorder |
| US6390608B1 (en) | 1997-07-18 | 2002-05-21 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording head, its manufacturing method and inkjet recording device |
| US6416680B1 (en) | 1997-07-18 | 2002-07-09 | Seiko Epson Corporation | Ink-jet recording head, its manufacturing method and ink-jet recording device |
| EP2000307A3 (en) * | 1997-07-18 | 2009-09-23 | Seiko Epson Corporation | Inkjet recording head, method of manufacturing the same, and inkjet recorder |
| US8113633B2 (en) | 2008-01-31 | 2012-02-14 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus having same |
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| JP2016027961A (ja) * | 2015-10-22 | 2016-02-25 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3186321B2 (ja) | 2001-07-11 |
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