JPH0630233B2 - 表面分析装置 - Google Patents
表面分析装置Info
- Publication number
- JPH0630233B2 JPH0630233B2 JP59230832A JP23083284A JPH0630233B2 JP H0630233 B2 JPH0630233 B2 JP H0630233B2 JP 59230832 A JP59230832 A JP 59230832A JP 23083284 A JP23083284 A JP 23083284A JP H0630233 B2 JPH0630233 B2 JP H0630233B2
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- JP
- Japan
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- sample
- thin film
- magnet
- sample holder
- incident
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、例えばＥＰＭＡ（電子線マイクロアナライ
ザ）のように、試料に電子線照射を行なって表面分析を
行なう装置において、試料、特に薄膜試料を保持する試
料保持台に関する。
ザ）のように、試料に電子線照射を行なって表面分析を
行なう装置において、試料、特に薄膜試料を保持する試
料保持台に関する。
（従来の技術） ＥＰＭＡなどの表面分析装置において、薄膜試料を測定
する場合、薄膜試料はその縁部が支持され測定部は空間
に保持されるか、バルクの試料保持台に保持される。
する場合、薄膜試料はその縁部が支持され測定部は空間
に保持されるか、バルクの試料保持台に保持される。
（発明が解決しようとする問題点） 分析試料が薄膜の場合、入射電子のエネルギーが相対的
に高すぎてイオン化率が小さい（副島啓義 博士論文
（大阪大学、１９７９年）第４章参照）。
に高すぎてイオン化率が小さい（副島啓義 博士論文
（大阪大学、１９７９年）第４章参照）。
第３図に示されるように、試料１が空間に保持された場
合には、入射電子２のうち試料１を透過した電子４は試
料１のイオン化には勿論寄与しない。３はイオン化に伴
なって発生したＸ線である。また、第４図に示されるよ
うに、試料１がバルクの試料保持台５に保持された場合
には、試料１を透過した電子４の一部が試料保持台５で
反射され、反射電子６となって再び試料１に入射し試料
１のイオン化に寄与するが、その寄与の程度は大きくな
い。
合には、入射電子２のうち試料１を透過した電子４は試
料１のイオン化には勿論寄与しない。３はイオン化に伴
なって発生したＸ線である。また、第４図に示されるよ
うに、試料１がバルクの試料保持台５に保持された場合
には、試料１を透過した電子４の一部が試料保持台５で
反射され、反射電子６となって再び試料１に入射し試料
１のイオン化に寄与するが、その寄与の程度は大きくな
い。
このように、薄膜試料の場合には、試料励起効率が悪
く、信号（ＥＰＭＡの場合はＸ線）の発生強度が小さ
く、したがって検出感度が低いという問題がある。
く、信号（ＥＰＭＡの場合はＸ線）の発生強度が小さ
く、したがって検出感度が低いという問題がある。
本発明は、電子線照射を行なう表面分析装置において、
薄膜試料の分析感度を高めることを目的とするものであ
る。
薄膜試料の分析感度を高めることを目的とするものであ
る。
（問題点を解決するための手段） 本発明は試料保持台を改良することにより上記問題点を
解決しようとするものであって、その試料保持台は、少
なくとも試料を保持する部分が磁区の貫通した磁石にて
形成されており、その磁石の磁区方向が電子線の入射方
向に対し概して直角方向に向けられ、かつ、その磁石の
試料固着面は試料を透過した入射電子がその磁石内の磁
界によるローレンツ力で曲げられて試料に戻される方向
に傾斜して設置されている試料保持台である。
解決しようとするものであって、その試料保持台は、少
なくとも試料を保持する部分が磁区の貫通した磁石にて
形成されており、その磁石の磁区方向が電子線の入射方
向に対し概して直角方向に向けられ、かつ、その磁石の
試料固着面は試料を透過した入射電子がその磁石内の磁
界によるローレンツ力で曲げられて試料に戻される方向
に傾斜して設置されている試料保持台である。
（作用） 薄膜試料を透過した電子は試料保持台の磁石からの磁界
によりローレンツ力を受けて曲げられ、その磁石の表面
から出て再び薄膜試料に入射する反射電子となる割合が
増大する。
によりローレンツ力を受けて曲げられ、その磁石の表面
から出て再び薄膜試料に入射する反射電子となる割合が
増大する。
（実施例） 第１図は一実施例を表わす。７は永久磁石にてなる試料
保持台であり、表面に薄膜試料１が固着される。この試
料保持台７をＥＰＭＡのような表面分析装置に設置する
ときは、入射電子２の入射方向に対して直角方向とし、
かつ、その試料保持台７の表面（薄膜試料１が固着され
ている面）を入射電子２が試料保持台７中でローレンツ
力により曲げられる方向に傾斜して設置する。すなわ
ち、第１図において、入射電子２が上方から入射してく
るとし、試料保持台７の磁区の方向を紙面に対し裏面か
ら表面へ向う方向とした場合には、試料保持台７の表面
を図のように水平より右下りに傾斜させて設置する。Ｍ
ｓは磁化の状態を示す。
保持台であり、表面に薄膜試料１が固着される。この試
料保持台７をＥＰＭＡのような表面分析装置に設置する
ときは、入射電子２の入射方向に対して直角方向とし、
かつ、その試料保持台７の表面（薄膜試料１が固着され
ている面）を入射電子２が試料保持台７中でローレンツ
力により曲げられる方向に傾斜して設置する。すなわ
ち、第１図において、入射電子２が上方から入射してく
るとし、試料保持台７の磁区の方向を紙面に対し裏面か
ら表面へ向う方向とした場合には、試料保持台７の表面
を図のように水平より右下りに傾斜させて設置する。Ｍ
ｓは磁化の状態を示す。
第１図のように設置された永久磁石の試料保持台７に薄
膜試料１を固着して電子２を照射すると、入射電子２が
薄膜試料１を励起するだけでなく、薄膜試料１を透過し
た電子は試料保持台７内でローレンツ力を受けて大半が
薄膜試料１の方向へ散乱されてくるので、再び薄膜試料
１へ入射して薄膜試料１を励起する反射電子６となる確
率が高くなる。すなわち、入射電子２のイオン化率が大
幅に向上する。
膜試料１を固着して電子２を照射すると、入射電子２が
薄膜試料１を励起するだけでなく、薄膜試料１を透過し
た電子は試料保持台７内でローレンツ力を受けて大半が
薄膜試料１の方向へ散乱されてくるので、再び薄膜試料
１へ入射して薄膜試料１を励起する反射電子６となる確
率が高くなる。すなわち、入射電子２のイオン化率が大
幅に向上する。
第２図は他の実施例を表わす。この試料保持台は、磁性
をもたないバルクの部分１０に永久磁石１１が埋め込ま
れて構成され、薄膜試料１は永久磁石１１の表面に固着
されるようになっている。
をもたないバルクの部分１０に永久磁石１１が埋め込ま
れて構成され、薄膜試料１は永久磁石１１の表面に固着
されるようになっている。
この試料保持台がＥＰＭＡなどの表面分析装置に設置さ
れるときの永久磁石１１の磁区の方向及び表面の傾斜の
方向は第１図と同じである。
れるときの永久磁石１１の磁区の方向及び表面の傾斜の
方向は第１図と同じである。
尚、第１図及び第２図において、永久磁石７，１１の磁
区の方向は入射電子２の入射方向に対し直角であること
が最も好ましいが、若干傾斜していても実用上差し支え
がなく、したがって、本発明はそのような場合も含んで
いる。
区の方向は入射電子２の入射方向に対し直角であること
が最も好ましいが、若干傾斜していても実用上差し支え
がなく、したがって、本発明はそのような場合も含んで
いる。
更に他の実施例としては、第１図又は第２図の永久磁石
を電磁石としてもよい。
を電磁石としてもよい。
（発明の効果） 本発明によれば、薄膜試料を透過した電子が試料保持台
の磁石の磁界からローレンツ力を受けて再び薄膜試料に
入射してくるので、従来のように薄膜試料を空間に保持
したり磁性をもたない試料保持台に保持する場合に比較
して、薄膜試料の励起効率が向上し、検出感度が向上す
る。
の磁石の磁界からローレンツ力を受けて再び薄膜試料に
入射してくるので、従来のように薄膜試料を空間に保持
したり磁性をもたない試料保持台に保持する場合に比較
して、薄膜試料の励起効率が向上し、検出感度が向上す
る。
第１図及び第２図はそれぞれ実施例を示す断面図、第３
図及び第４図はそれぞれ従来例を示す断面図である。 １……薄膜試料、２……入射電子、 ６……反射電子、７，１１……永久磁石。
図及び第４図はそれぞれ従来例を示す断面図である。 １……薄膜試料、２……入射電子、 ６……反射電子、７，１１……永久磁石。
Claims (1)
- 【請求項１】試料の励起源として電子線を使用する表面
分析装置において、 試料が固着される試料保持台を備え、その試料保持台の
少なくとも試料を保持する部分は磁区が貫通した磁石に
て形成されており、その磁石の磁区方向が電子線の入射
方向に対し概して直角方向に向けられ、かつ、その磁石
の試料固着面は試料を透過した入射電子がその磁石内の
磁界によるローレンツ力で曲げられて試料に戻される方
向に傾斜して設置されていることを特徴とする表面分析
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59230832A JPH0630233B2 (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 表面分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59230832A JPH0630233B2 (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 表面分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61109252A JPS61109252A (ja) | 1986-05-27 |
| JPH0630233B2 true JPH0630233B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=16913973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59230832A Expired - Fee Related JPH0630233B2 (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 表面分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0630233B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57196465A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-02 | Nichidenshi Tekunikusu:Kk | Scanning electron microscope |
-
1984
- 1984-10-31 JP JP59230832A patent/JPH0630233B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61109252A (ja) | 1986-05-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |