JPH06302886A - 半導体レーザ駆動回路および半導体レーザ駆動電流制御方法 - Google Patents

半導体レーザ駆動回路および半導体レーザ駆動電流制御方法

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JPH06302886A
JPH06302886A JP11412893A JP11412893A JPH06302886A JP H06302886 A JPH06302886 A JP H06302886A JP 11412893 A JP11412893 A JP 11412893A JP 11412893 A JP11412893 A JP 11412893A JP H06302886 A JPH06302886 A JP H06302886A
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JP
Japan
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minimum
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potential
semiconductor laser
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Application number
JP11412893A
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English (en)
Inventor
Takayoshi Suzuki
孝義 鈴木
Yasumasa Asatani
康正 浅谷
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 感光体ドラムにレーザ光を照射して画像形成
する場合、中間調の画像を良好な階調性で得るための半
導体レーザ駆動回路および半導体レーザ駆動電流制御方
法を提供すること。 【構成】 使用最小光量(P1T,P1t)のレーザ光を感
光体ドラムに照射した時に形成される使用最小潜像電位
1 と、使用最大光量(P2T,P2t)を照射した時に形
成される使用最大潜像電位V2 とを、現像バイアスレベ
ルVG 以上であって光量・潜像電位特性曲線の直線的変
化部分の範囲内に選定する。そして、感光体ドラムの表
面電位を検出して、使用最小潜像電位および使用最大潜
像電位が、それぞれ選定したV1 ,V2 に保たれるよう
使用最小光量,使用最大光量を制御する。すると、レー
ザ光強度変調信号が中間調の画像信号であった場合、良
好な階調性が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光で照射される
感光体ドラムの潜像電位を、所定の範囲の電位にするた
めの半導体レーザ駆動回路および半導体レーザ駆動電流
制御方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】レーザ光を利用したプリンタでは、まず
感光体ドラムを一様な或る電位に帯電させておき、次に
レーザビームで照射して画像を描く。すると、照射され
た部分は、照射光量に応じて異なった電位となる(潜像
の形成)。潜像にトナーを付着させて現像し、用紙に転
写した後、定着する。
【0003】このようなプリンタで、画像を鮮明にする
ためには、トナーの付着度合いを適切にしなければなら
ないが、そのためには潜像の電位のコントラストが適切
なものでなければならない。潜像電位は、前記したよう
に照射光量に応じて決まるから、照射光量が適切でなけ
ればならない。
【0004】照射光量が不足すると、画像の背景に相当
する部分(地の部分)との電位差が少なく、画像は薄い
ものとなる。また、光量とそれによって形成される潜像
電位との関係を描いた光量・潜像電位特性曲線(E−V
曲線)の、傾きが小さい範囲での光量を照射すると、画
線が太くなり、文字などはつぶれてしまう。そこで、潜
像電位やE−V曲線の傾きを検出して、光量を適切な値
に制御することが考えられている(特開昭58−143356号
公報)。半導体レーザダイオードの光量は、それに流さ
れる電流(レーザ駆動電流)によって変化するから、最
終的にはレーザ駆動電流を制御することになる。なお、
半導体レーザの駆動電流の制御に関する他の文献として
は、例えば特開平3− 46383号公報がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
(問題点)前記した従来技術(特開昭58−143356号公報
記載の技術)では、単純な白と黒とから成る2値画像を
描く場合にはよいが、白と黒との間に幾つかの階調を有
する中間調の画像を描く場合には、充分な階調性が得ら
れないという問題点があった。
【0006】(問題点の説明)中間調の画像を描くに
は、或る光量から別の或る光量までの範囲で、レーザ光
の強度を階調に応じて変化させるわけであるが、単に電
位コントラストを充分にとりE−V曲線の傾きが所定範
囲になるようにするという前記技術では、階調に比例し
た潜像電位を得ることは出来なかった。そのため、充分
な階調性が得られなかった。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明では、半導体レーザダイオードの光量を検出
する検出手段と、検出出力を所望値と比較する第1の比
較手段と、半導体レーザダイオードより光量を得るため
の駆動電流源として、レーザ特性曲線のレーザ発光領域
の範囲内に定められた使用最小光量P1 を出力せしめる
第1の電流を単独で流すよう制御される第1の電流源
と、前記第1の電流と合計して半導体レーザダイオード
に流される電流であってレーザ光強度変調信号によって
値が制御される第2の電流を流す第2の電流源とを具え
る半導体レーザ駆動回路において、レーザ光が照射され
る感光体ドラムの潜像電位を検出する表面電位計と、現
像バイアスレベルVG 以上であって光量・潜像電位特性
曲線の直線的変化部分の範囲内に選定された使用最小潜
像電位V1 ,使用最大潜像電位V2 に相当する基準値を
提供する基準部と、前記表面電位計からの検出電位と前
記基準値とを比較する第2の比較手段とを具え、該第2
の比較手段の出力に応じて前記第1の電流および前記第
2の電流を制御することとした。
【0008】また、本発明では、半導体レーザ駆動電流
制御方法を、現像バイアスレベルVG 以上であって光量
・潜像電位特性曲線の直線的変化部分の範囲内に使用最
小潜像電位V1 ,使用最大潜像電位V2 を選定し、使用
最小光量P1 のレーザ光が照射された時に感光体ドラム
の表面電位が使用最小潜像電位V1 となり、使用最大光
量P2 のレーザ光が照射された時に使用最大潜像電位V
2 となるようレーザ駆動電流を制御するものとする。
【0009】
【作 用】使用最小光量P1 のレーザ光を感光体ドラ
ムに照射した時に形成される使用最小潜像電位V1 と、
使用最大光量P2 を照射した時に形成される使用最大潜
像電位V2 とを、現像バイアスレベルVG 以上であって
光量・潜像電位特性曲線の直線的変化部分の範囲内に選
定する。そして、感光体ドラムの表面電位を検出して、
使用最小潜像電位および使用最大潜像電位が、それぞれ
選定したV1 ,V2 に保たれるよう使用最小光量P1
使用最大光量P2 を制御する。すると、レーザ光強度変
調信号が中間調の画像信号であった場合、良好な階調性
が得られる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は、本発明の半導体レーザ駆動回路を
示す図である。1は半導体レーザダイオード、2は表面
電位計、3はレーザ光強度変調信号端子、4は乗算型D
A変換器、5はディジタル入力端子、6はアナログ入力
端子、7,8は電流源、9はモニター用フォトダイオー
ド、10,11はDA変換部、12は増幅器、13はコ
ントローラ、14は比較部、15は基準部である。
【0011】半導体レーザダイオード1には、電流源7
の電流IB と電流源8の電流IA との和の電流IA +I
B が流れる。電流IA はDA変換部11によって制御さ
れ、電流IB は乗算型DA変換器4によって制御され
る。画像データがレーザ光強度変調信号として用いら
れ、電流IB が変化させられる。これにより、半導体レ
ーザダイオード1からの光量が変化させられる。
【0012】ここで、図7によって半導体レーザダイオ
ードの光量特性について説明する。横軸はレーザ駆動電
流であり、縦軸は光量である。半導体レーザダイオード
の光量は、レーザ駆動電流によって変化する。また、同
じ電流を流していても、温度の変化によって変化する。
39(T)は温度Tの時のレーザ特性曲線、39(t)
は温度tの時のレーザ特性曲線である。
【0013】レーザ特性曲線は、自然放出光領域L1
レーザ発光領域L2 とから成る。自然放出光領域L
1 は、レーザ駆動電流が少なく、発光ダイオードと同程
度の光量しか出さない領域である。レーザ発光領域L2
は、レーザ駆動電流が多く流され、レーザ発振による光
量が出る領域である。変曲点Cは、これら2つの領域の
境界を表している。
【0014】半導体レーザダイオードを画像スキャナー
等の装置に搭載して使用する場合には、レーザ発光領域
2 での光量を利用する。そのため、使用目的に沿っ
て、レーザ発光領域L2 内に使用最小光量P1 および使
用最大光量P2 を適宜設定し、その範囲の光量を、画像
信号に応じて出すようにしている。
【0015】温度がTの場合は、使用最小光量P1 を出
すのに必要な電流はI1Tであり、使用最大光量P2 を出
すのに必要な電流はI1T+I2Tである。温度が上昇して
tになると、レーザ特性曲線は39(t)になるから、
使用最小光量P1 を出すのには、レーザ駆動電流をI1t
にしなければならないし、使用最大光量P2 を出すのに
はI1t+I2tにしなければならない。光量の設定は、図
8で詳しく説明するが、モニター用フォトダイオード9
からの検出信号を基準部15から提供される基準値と比
較しつつ行われる。基準部15には種々の基準値が用意
されており、それらが、コントローラ13からの指示に
より、必要に応じて提供される。
【0016】図1に戻るが、半導体レーザダイオード1
から出た光は、感光体ドラムを照射する。図2は、感光
体ドラム周辺の構成を示す図である。符号は図1のもの
に対応し、20はシリンダミラー、21は感光体ドラ
ム、22は現像器、23は除電器、24は用紙、25は
転写帯電器、26はクリーニングブレード、27は除電
ランプ、28は帯電器である。
【0017】帯電器28で表面が一様の電位に帯電さ
れ、レーザビームが照射されることにより、画像に応じ
た潜像電位が形成される。その電位を、表面電位計2が
検出する。現像器22は、潜像にトナーを付着すること
により現像し、除電器23は、転写し易いように、トナ
ーの感光体ドラム21への付着力を弱める。転写帯電器
25は、トナー像を用紙24に転写する。クリーニング
ブレード26は、感光体ドラム21上に残存しているト
ナーを除去し、除電ランプ27は残存電荷を除去する。
【0018】再び図1に戻る。増幅器12は、検出電位
を増幅するため必要に応じて挿設される。基準部15
は、比較部14にて検出電位と比較する基準値を提供す
る。コントローラ13への信号は、必要に応じてディジ
タル化される。コントローラ13は、データを処理した
り、構成要素の各部に制御信号を発する。例えば、電流
A を設定する場合には、基準部15に対しては、使用
最小光量P1 に対応した基準値を出すよう指示すると共
に、比較部14やDA変換部11にそれぞれの動作を行
うよう指示する。使用最大光量P2 に対応した電流IB
を設定する場合には、DA変換部10が動作するよう指
示を出す。
【0019】図3は、DA変換部10,11の構成を示
す図である。図3において、30はディジタル値入力端
子、31は制御信号入力端子、32はデコーダ、33は
上位ビット群ラッチ、34は下位ビット群ラッチ、35
は全ビットラッチ、36はDA変換器、37は出力線で
ある。出力は、アナログ値である。そして、点線矢印は
制御信号を表し、実線矢印はデータを表している。
【0020】ディジタル値入力端子30は、コントロー
ラ13から送られてくるデータ(ディジタル値)が入力
される端子であり、制御信号入力端子31は、コントロ
ーラ13から送られてくる制御信号が入力される端子で
ある。制御信号は、例えばラッチにデータを書き込めと
か、読み出せとかという信号であり、デコーダ32は、
コントローラ13からの信号がどのラッチへの制御信号
であるかを判別する。
【0021】従って、上位ビット群ラッチ33に書き込
めという信号であった場合には、ディジタル値入力端子
30に入力されて来たデータは、上位ビット群ラッチ3
3に書き込まれる。下位ビット群ラッチ34に書き込め
という信号であった場合には、ディジタル値入力端子3
0に入力されて来たデータは、下位ビット群ラッチ34
に書き込まれる。
【0022】DA変換器36に入力されるデータは、全
ビットラッチ35にラッチされるが、その全ビットを、
上位側の適宜定めた数のビットをひとまとめにした上位
ビット群と、残った下位のビットをひとまとめにした下
位ビット群とに分ける。例えば、全ビットが10ビット
であった場合、上位側6ビットを上位ビット群とし、残
った下位側4ビットを下位ビット群とする。
【0023】このように分ける理由は、電流を設定する
際、電流の粗調整と微調整とを可能にするためである。
最初、上位ビット群の値だけを与えることにより、粗調
整が出来る。その後、下位ビット群の値を与えることに
より、微調整が出来る。このようにすれば、短時間で設
定することが出来る。
【0024】上位ビット群ラッチ33は、上位ビット群
のビット数を収容し得る容量を有するラッチで構成さ
れ、下位ビット群ラッチ34は、下位ビット群のビット
数を収容し得る容量を有するラッチで構成される。例え
ば、上位ビット群のビット数が6,下位ビット群のビッ
ト数が4であった場合、それぞれ8ビットの容量を有す
るラッチで構成することが出来る。
【0025】図4は、乗算型DA変換器4の構成を示す
図である。符号は図1のものに対応し、4−1は重み付
け部、4−2は選択部、4−3は加算部、4−4は出力
端子、4−5はラッチである。ラッチ4−5は、必要に
応じて設けられる。重み付け部4−1は、アナログ入力
端子6からのアナログ入力に対して、複数種類の重み付
けをした値を生成する部分である。選択部4−2は、そ
の中から幾つかの値を選択して取り出す部分である。ど
のような選択をするかという信号は、ディジタル入力端
子5より入力される。加算部4−3は、選択された値を
加算する部分である。その加算値が、出力端子4−4よ
り出力される。
【0026】図5は、本発明で使用する乗算型DA変換
器4の具体例を示す図である。符号は図4のものに対応
し、Sはスイッチング素子、Rは抵抗値を示している。
重み付け部4−1は、アナログ入力端子6から入力され
てくる電圧を、抵抗で分圧する幾つかの分圧回路から成
っている。分圧比は、適宜異ならせてある。例えば、最
も左側の分圧回路は255R:Rゆえ分圧比は1/26
6、左側から2番目の分圧回路の分圧比は1/128、
左側から3番目の分圧回路の分圧比は1/64、最も右
側の分圧回路の分圧比は1/2である。どのような分圧
比の分圧回路を構成しておくかは、幾つかの分圧回路か
らの出力を組み合わせれば、小さい値から大きい値まで
切れ目なく得ることが出来るようにするということを考
慮して決定される。
【0027】選択部4−2は、一端が各分圧回路の分圧
点に接続され、他端が加算部4−3に接続されたスイッ
チング素子Sで構成される。従って、スイッチング素子
Sの数は、分圧回路と同じ数となる。
【0028】ディジタル入力端子5から入力されるディ
ジタル値のビット数は、この例では8ビットと仮定して
いる。そのためディジタル入力端子5からは、8本の直
線がラッチ4−5との間に引かれている。クロックは、
ラッチのタイミングを取るためのものである。ディジタ
ル入力端子5へ入力される各ビットは、それぞれ各1つ
のスイッチング素子Sをオンまたはオフするよう伝達さ
れるから、スイッチング素子Sの数は、ディジタル入力
端子5から入力されるビット数と同じとされる。それゆ
え、重み付け部4−1の分圧回路の数も、該ビット数と
同じにされる。
【0029】加算部4−3は、オペアンプと抵抗回路で
構成され、選択部4−2で選択された分圧値を合計す
る。これが、図1の電流源7の電流IB を設定する信号
となる。
【0030】(光量設定)次に、使用最小光量P1 や使
用最大光量P2 を出すための、レーザ駆動電流の制御方
法について説明する。まず、使用最小光量P1 を出すよ
うに電流源8の電流IA を制御する方法の概要を説明す
る。この時には、電流源7の電流IB はゼロとしてお
く。それには、乗算型DA変換器4のディジタル入力端
子5およびアナログ入力端子6への入力を、共にゼロに
しておく。そして、モニター用フォトダイオード9で検
出されるモニタ電圧Vm が使用最小光量P1 に相当する
基準値に達しているかどうかを調べて、IA の大きさを
決める。
【0031】使用最大光量P2 を出すように電流源7の
電流IB を制御する方法の概要は、次の通りである。I
A の値は、前記で制御した値に保ち、乗算型DA変換器
4のディジタル入力端子5にレーザ光強度変調信号の最
大値を入力する。そして、モニタ電圧Vm が使用最大光
量P2 に相当する基準値に達しているかどうかを調べ
て、IB の大きさを決める。
【0032】図8は、以上のような本発明の半導体レー
ザ駆動電流制御方法の詳細を説明するフローチャートで
ある。ステップ1〜7までがIA の制御、ステップ8〜
13までがIB の制御である。 ステップ1…DA変換部10,11の値をリセットす
る。具体的には、図3の上位ビット群ラッチ33,下位
ビット群ラッチ34,全ビットラッチ35の値を、全て
0にする。
【0033】ステップ2…レーザ光強度変調信号端子3
から入力するレーザ光強度変調信号を、最小値(8ビッ
トの場合なら、00H)とする。 ステップ3…DA変換部11の上位ビット群ラッチ33
の値を1だけ増加する。粗い単位で電流IA を変化さ
せ、粗調整をする。 ステップ4…その状態で、モニタ電圧Vm を調べ、光量
が使用最小光量P1 以上となったかどうかチェックす
る。P1 以上となっていなければ、ステップ3に戻り、
更に電流を増加させる。
【0034】ステップ5…もし、使用最小光量P1 以上
となった時には、粗い単位で目標値より行き過ぎている
から、DA変換部11の上位ビット群の値を1つ減少さ
せて前回の値に戻す。 ステップ6…今度は、DA変換部11の下位ビット群ラ
ッチ34の値を1つ増加させる。細かい単位で電流IA
を変化させ、微調整をする。
【0035】ステップ7…使用最小光量P1 以上になっ
たかどうかチェックする。ならなければ、ステップ6に
戻り、更に増加させる。P1 以上になれば、それでIA
の制御を終了する。目標値との誤差は、微調整の1単位
量以下の大きさであるから、これでよしとする。
【0036】ステップ8…レーザ光強度変調信号を、最
大値(8ビットの場合なら、FFH)にする。 ステップ9…DA変換部10の上位ビット群ラッチ33
の値を、1つ増加する(粗調整)。 ステップ10…光量が使用最大光量P2 以上となったか
どうかチェックする。なっていなければ、ステップ9へ
戻り、更に増加させる。
【0037】ステップ11…もし、使用最大光量P2
上となった時には、粗い単位で目標値より行き過ぎてい
るから、DA変換部10の上位ビット群の値を1つ減少
させて前回の値に戻す。 ステップ12…DA変換部10の下位ビット群ラッチ3
4の値を1つ増加させる(微調整)。
【0038】ステップ13…使用最大光量P2 以上にな
ったかどうかチェックする。ならなければ、ステップ1
2に戻り、更に増加させる。P2 以上になれば、それで
Bの制御を終了する。目標値との誤差は、微調整の1
単位量以下の大きさであるから、これでよしとする。
【0039】(潜像電位設定)図6は、レーザ光量と潜
像電位との関係を示す図である。横軸は照射される光量
であり、右方に進むほど光量は大となる。縦軸は潜像電
位であり、下方に進むほど電位は高い。37(T),3
7(t)は、それぞれ温度がT,tの時の潜像電位曲線
である。これは、感光体材料によって異なる。V0 は初
期電位(例、−600V)であり、図2の帯電器28に
よって一様に帯電された時の電位である。VG は現像バ
イアスレベルであり、現像を良好に行うために必要な最
低電位である。従って、感光体ドラム21上に描く画像
の電位は、現像バイアスレベルVG 以上(グラフではV
G より下方)となるようにしなければならない。
【0040】使用最小潜像電位V1 は画像形成に使用す
る最小の電位であり、使用最大潜像電位V2 は画像形成
に使用する最大の電位である。階調の変化は、これら2
つの電位の間を分割することによって行われる。画像信
号の変化に比例して階調が変化するようにするために
は、潜像電位曲線の直線的変化部分38を利用する必要
がある。直線的変化部分38の範囲は、光量を僅かづつ
(ΔP)変化させながら、電位の変化(ΔV)を検出す
ることにより知ることが出来る。ΔPを一定とした時、
ΔVが略一定であれば、略直線的に変化している部分と
みることが出来る。
【0041】使用最小潜像電位V1 ,使用最大潜像電位
2 は、現像バイアスレベルVG より大きく且つ直線的
変化部分38の範囲内のなるべく隔たった値に選定す
る。使用最小潜像電位V1 を形成するための光量が、使
用最小光量P1 に対応し、使用最大潜像電位V2 を形成
するための光量が、使用最大光量P2 に対応することに
なる。前記した図8での光量設定は、実はこのようにし
て決められたP1 ,P2に設定される。潜像電位曲線が
37(T)の時のP1 ,P2 は、それぞれP1T,P2T
あり、37(t)の時のP1 ,P2 は、それぞれP1t
2tである。中間調の画像信号の光量は、P1T〜P
2T(あるいはP1t〜P2t)の間で変化するが、その間は
直線的変化部分38となっているため、潜像電位も画像
信号に比例して変化する。従って、階調性が良好とな
る。
【0042】ところで、潜像電位曲線も温度に応じて変
化するから、使用最小潜像電位V1,使用最大潜像電位
2 が選定値に保たれるよう、時おり使用最小光量,使
用最大光量を修正してやる必要がある。即ち、図6の例
のように温度がTからtに変化した時には、使用最小光
量をP1T→P1tへ修正し、使用最大光量をP2T→P2t
修正してやる必要がある。そのためには、レーザ駆動電
流を制御し直す。その具体的手順を、図9,図10に示
す。
【0043】図9は、使用最小潜像電位V1 を生ずるた
めの半導体レーザ駆動電流制御方法を説明するフローチ
ャートである。 ステップ1…図1のDA変換部11の下位ビット群ラッ
チ34(図3参照)をリセットする。これにより、電流
A の値が少し減少され、レーザ駆動電流が少し減少さ
れるわけであるが、温度変化を補償するために電流を制
御し直す場合、電流が前回制御した値に比べて大きく異
なるということは殆どないので、全ビットラッチ35を
リセットして制御し直すのでなく、下位ビット群ラッチ
34をリセットしたところから制御し直す。
【0044】ステップ2…レーザ光強度変調信号を最小
値(例、8ビットの場合なら00H)にする。これが、
使用最小潜像電位V1 に対応する信号だからである。最
小値にすると、電流IB はゼロとされる。 ステップ3…表面電位計2で検出された電位が、使用最
小潜像電位V1 以上になったかどうか調べる。 ステップ4…なっていなければ、DA変換部11の上位
ビット群ラッチ33の値を1だけ増加する。即ち、粗調
整をする。 ステップ5…使用最小潜像電位V1 以上になったかどう
か調べる。なっていなければ、ステップ4に戻る。
【0045】ステップ6…使用最小潜像電位V1 以上に
なっていれば、DA変換部11の上位ビット群ラッチ3
3の値を1だけ減ずる。この後、使用最小潜像電位V1
より低い側から微調整によって接近するためである。 ステップ7,8…ステップ3で使用最小潜像電位V1
上になっている時には、使用最小潜像電位V1 以下にな
るまで、上位ビット群ラッチ33の値を下げ続ける。 ステップ9,10…検出電位が使用最小潜像電位V1
なるまで、DA変換部11の下位ビット群ラッチ34の
値を1づつ増加させる。このようにして、使用最小光量
が、使用最小潜像電位V1 を保つように修正される。
【0046】図10は、使用最大潜像電位V2 を生ずる
ための半導体レーザ駆動電流制御方法を説明するフロー
チャートである。これは、図9の修正を行った後に行
う。従って、電流IA は修正後の電流となっている。制
御方法は、図9と略同様であるので、ステップを追って
の説明は省略する。ただ、次の点で異なる。第1は、レ
ーザ光強度変調信号の値を、使用最大潜像電位V2 に対
応する信号である最大値(例、FFH)にセットする点
である。第2は、DA変換部11の値ではなくDA変換
部10の値を制御する点である。第3は、潜像電位の目
標値が、使用最小潜像電位V1 でなく使用最大潜像電位
2 である点である。
【0047】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明によれば、使用
最小光量P1 のレーザ光を感光体ドラムに照射した時に
形成される使用最小潜像電位V1 と、使用最大光量P2
を照射した時に形成される使用最大潜像電位V2 とを、
現像バイアスレベルVG 以上であって光量・潜像電位特
性曲線の直線的変化部分の範囲内に選定する。そして、
感光体ドラムの表面電位を検出して、使用最小潜像電位
および使用最大潜像電位が、直線的変化部分の選定した
1 ,V2 に保たれるよう使用最小光量P1 ,使用最大
光量P2 を制御するので、レーザ光強度変調信号として
中間調の画像信号が与えられた場合でも、階調性の高い
潜像電位を得ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の半導体レーザ駆動回路を示す図
【図2】 感光体ドラム周辺の構成を示す図
【図3】 本発明の半導体レーザ駆動回路に使用するD
A変換部の構成を示す図
【図4】 乗算型DA変換器の構成を示す図
【図5】 本発明で使用する乗算型DA変換器の具体例
を示す図
【図6】 レーザ光量と潜像電位との関係を示す図
【図7】 半導体レーザダイオードの特性を説明する図
【図8】 光量設定のための半導体レーザ駆動電流制御
方法を説明するフローチャート
【図9】 使用最小潜像電位V1 を生ずるための半導体
レーザ駆動電流制御方法を説明するフローチャート
【図10】 使用最大潜像電位V2 を生ずるための半導
体レーザ駆動電流制御方法を説明するフローチャート
【符号の説明】
1…半導体レーザダイオード、2…表面電位計、3…レ
ーザ光強度変調信号端子、4…乗算型DA変換器、4−
1…重み付け部、4−2…選択部、4−3…加算部、4
−4…出力端子、4−5…ラッチ、5…ディジタル入力
端子、6…アナログ入力端子、7,8…電流源、9…モ
ニター用フォトダイオード、10,11…DA変換部、
12…増幅器、13…コントローラ、14…比較部、1
5…基準部、20…シリンダミラー、21…感光体ドラ
ム、22…現像器、23…除電器、24…用紙、25…
転写帯電器、26…クリーニングブレード、27…除電
ランプ、28…帯電器、30…ディジタル値入力端子、
31…制御信号入力端子、32…デコーダ、33…上位
ビット群ラッチ、34…下位ビット群ラッチ、35…全
ビットラッチ、36…DA変換器、37(T1 ),37
(T2 )…潜像電位曲線、38…直線的変化部分、39
…レーザ光量特性曲線、V1 …使用最小潜像電位、V2
…使用最大潜像電位、VG …現像バイアスレベル、S…
スイッチング素子

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザダイオードの光量を検出す
    る検出手段と、検出出力を所望値と比較する第1の比較
    手段と、半導体レーザダイオードより光量を得るための
    駆動電流源として、レーザ特性曲線のレーザ発光領域の
    範囲内に定められた使用最小光量P1 を出力せしめる第
    1の電流を単独で流すよう制御される第1の電流源と、
    前記第1の電流と合計して半導体レーザダイオードに流
    される電流であってレーザ光強度変調信号によって値が
    制御される第2の電流を流す第2の電流源とを具える半
    導体レーザ駆動回路において、 レーザ光が照射される感光体ドラムの潜像電位を検出す
    る表面電位計と、現像バイアスレベルVG 以上であって
    光量・潜像電位特性曲線の直線的変化部分の範囲内に選
    定された使用最小潜像電位V1 ,使用最大潜像電位V2
    に相当する基準値を提供する基準部と、前記表面電位計
    からの検出電位と前記基準値とを比較する第2の比較手
    段とを具え、該第2の比較手段の出力に応じて前記第1
    の電流および前記第2の電流を制御することを特徴とす
    る半導体レーザ駆動回路。
  2. 【請求項2】 現像バイアスレベルVG 以上であって光
    量・潜像電位特性曲線の直線的変化部分の範囲内に使用
    最小潜像電位V1 ,使用最大潜像電位V2 を選定し、使
    用最小光量P1 のレーザ光が照射された時に感光体ドラ
    ムの表面電位が使用最小潜像電位V1 となり、使用最大
    光量P2 のレーザ光が照射された時に使用最大潜像電位
    2 となるようレーザ駆動電流を制御することを特徴と
    する半導体レーザ駆動電流制御方法。
JP11412893A 1993-04-16 1993-04-16 半導体レーザ駆動回路および半導体レーザ駆動電流制御方法 Pending JPH06302886A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011508427A (ja) * 2007-12-21 2011-03-10 マイクロビジョン,インク. レーザダイオード補整方法及び装置
JP2013174903A (ja) * 2013-04-22 2013-09-05 Canon Inc 画像形成装置

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