JPH06306019A - 芳香族アミン環水素化相当物を製造するための芳香族アミンの水素化 - Google Patents
芳香族アミン環水素化相当物を製造するための芳香族アミンの水素化Info
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- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/68—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton from amines, by reactions not involving amino groups, e.g. reduction of unsaturated amines, aromatisation, or substitution of the carbon skeleton
- C07C209/70—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton from amines, by reactions not involving amino groups, e.g. reduction of unsaturated amines, aromatisation, or substitution of the carbon skeleton by reduction of unsaturated amines
- C07C209/72—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton from amines, by reactions not involving amino groups, e.g. reduction of unsaturated amines, aromatisation, or substitution of the carbon skeleton by reduction of unsaturated amines by reduction of six-membered aromatic rings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/89—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals
- B01J23/8913—Cobalt and noble metals
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 芳香族アミンを触媒の存在下で水素と接触さ
せることによる芳香族アミンをそれらの環水素化相当物
に接触水素化する方法において、前記水素化をコバルト
とロジュウム、パラジュウム、白金からなる群より選ば
れる一種の金属との物理的混合物からなる触媒を用いる
方法。 【効果】 高い選択率と優れた反応速度で芳香族アミン
からそれらの環水素化生成物を得ることができる。
せることによる芳香族アミンをそれらの環水素化相当物
に接触水素化する方法において、前記水素化をコバルト
とロジュウム、パラジュウム、白金からなる群より選ば
れる一種の金属との物理的混合物からなる触媒を用いる
方法。 【効果】 高い選択率と優れた反応速度で芳香族アミン
からそれらの環水素化生成物を得ることができる。
Description
【0001】
【技術分野】本発明は芳香族アミン環水素化対応物を製
造するための芳香族アミンを水素化する方法に関する。
造するための芳香族アミンを水素化する方法に関する。
【0002】
【発明の背景】架橋芳香族アミン(bridged aromatic a
mines)、例えばビス(パラ−アミノシクロヘキシル)
メタン(PACM)、及びビス(4−アミノシクロヘキ
シル)メタンとも称する4,4′−メチレンジ(シクロ
ヘキシルアミン)を生成するメチレンジアニリン、を含
む芳香族アミンの水素化に関してはこの技術分野にかな
りの文献がある。これらの芳香族アミンの水素化形態は
典型的には異性体、例えばシス、シス−(c,c);シ
ス、トランス−(c,t)及びトランス、トランス−
(t,t)の混合物として存在する。混合物中の異性体
含量は生成物の物理的形態に影響するばかりでなく、そ
れらが組み込まれる製品の性質にも影響するので特定の
異性体含量を持つ生成物を作るのがしばしば望ましい。
PACMの場合、一般にPACM−20と称する混合物
中のトランス、トランス−異性体含量(20%)が低い
ものは液体製品として存在し、一方一般にPACM−4
8と称するトランス、トランス−異性体含量が高い混合
物(50%)は固体形態となる。ある種の用途、例えば
ポリアミド繊維及びエポキシ添加剤の製造には、PAC
M−20の代わりにPACM−48を使用するのがしば
しば有利である。
mines)、例えばビス(パラ−アミノシクロヘキシル)
メタン(PACM)、及びビス(4−アミノシクロヘキ
シル)メタンとも称する4,4′−メチレンジ(シクロ
ヘキシルアミン)を生成するメチレンジアニリン、を含
む芳香族アミンの水素化に関してはこの技術分野にかな
りの文献がある。これらの芳香族アミンの水素化形態は
典型的には異性体、例えばシス、シス−(c,c);シ
ス、トランス−(c,t)及びトランス、トランス−
(t,t)の混合物として存在する。混合物中の異性体
含量は生成物の物理的形態に影響するばかりでなく、そ
れらが組み込まれる製品の性質にも影響するので特定の
異性体含量を持つ生成物を作るのがしばしば望ましい。
PACMの場合、一般にPACM−20と称する混合物
中のトランス、トランス−異性体含量(20%)が低い
ものは液体製品として存在し、一方一般にPACM−4
8と称するトランス、トランス−異性体含量が高い混合
物(50%)は固体形態となる。ある種の用途、例えば
ポリアミド繊維及びエポキシ添加剤の製造には、PAC
M−20の代わりにPACM−48を使用するのがしば
しば有利である。
【0003】工業的には、PACM−48は触媒添加量
及び反応装置滞留時間が熱力学的支配の生成物を得るに
十分である連続操作条件により製造される。バッチ操作
条件ではMDAからPACM−48の製造は熱力学的支
配の生成物への完全な異性化に過剰の反応時間を必要と
するため効率が悪い。
及び反応装置滞留時間が熱力学的支配の生成物を得るに
十分である連続操作条件により製造される。バッチ操作
条件ではMDAからPACM−48の製造は熱力学的支
配の生成物への完全な異性化に過剰の反応時間を必要と
するため効率が悪い。
【0004】PACMのような脂環式アミンを作るため
のいくつかの初期の水素化研究はWhitman 及び Barkdol
l等によってなされ、そしてその研究は一連の米国特
許、例えば第2,511,028号、第2,606,924
号、第2,606,925号及び第2,606,928号に
述べられている。基本的にはこれらの特許に記述されて
いる方法は200psigより高く、好ましくは1000ps
igより高い圧力、80〜275℃の温度でルテニウム触
媒を使用するメチレンジアニリンの水素化を含む。水素
化は液相条件で行い、不活性有機溶媒を水素化工程で使
用する。典型的には、15〜23%のトランス、トラン
ス−異性体含量を持つ液体生成物が得られる。水素化工
程で使用するルテニウム触媒の例は酸化ルテニウム例え
ば三二酸化ルテニウム及び二酸化ルテニウム;及びルテ
ニウム塩を含む。
のいくつかの初期の水素化研究はWhitman 及び Barkdol
l等によってなされ、そしてその研究は一連の米国特
許、例えば第2,511,028号、第2,606,924
号、第2,606,925号及び第2,606,928号に
述べられている。基本的にはこれらの特許に記述されて
いる方法は200psigより高く、好ましくは1000ps
igより高い圧力、80〜275℃の温度でルテニウム触
媒を使用するメチレンジアニリンの水素化を含む。水素
化は液相条件で行い、不活性有機溶媒を水素化工程で使
用する。典型的には、15〜23%のトランス、トラン
ス−異性体含量を持つ液体生成物が得られる。水素化工
程で使用するルテニウム触媒の例は酸化ルテニウム例え
ば三二酸化ルテニウム及び二酸化ルテニウム;及びルテ
ニウム塩を含む。
【0005】Brake等は米国特許第3,696,108号
及び第3,644,522号においてメチレンジアニリン
の水素化によるPACMの製造方法の開発研究を続け
た。彼等は、ルテニウムを支持体上に乗せ、そして支持
体をアルカリで緩和した場合、触媒は所望の水素化PA
CM生成物を生成させる上でいっそう活性でありそして
触媒的に有効であることを見出した。アルカリ緩和は触
媒及び支持体をアルカリ金属ヒドロキシド又はアルコキ
シドと接触させることにより行われ、又、そのような触
媒のアルカリ緩和は水素化の前又は水素化の間にインサ
イチュに実行することができる。
及び第3,644,522号においてメチレンジアニリン
の水素化によるPACMの製造方法の開発研究を続け
た。彼等は、ルテニウムを支持体上に乗せ、そして支持
体をアルカリで緩和した場合、触媒は所望の水素化PA
CM生成物を生成させる上でいっそう活性でありそして
触媒的に有効であることを見出した。アルカリ緩和は触
媒及び支持体をアルカリ金属ヒドロキシド又はアルコキ
シドと接触させることにより行われ、又、そのような触
媒のアルカリ緩和は水素化の前又は水素化の間にインサ
イチュに実行することができる。
【0006】米国特許第3,347,917号、第3,7
11,550号、第3,670,746号、第3,155,
724号、第3,766,272号及び英国特許1,12
2,609号は高いトランス、トランス−異性体含量、
すなわち平衡に近い異性体含量、代表的には50%のト
ランス、トランス−、43%のシス、トランス−及び7
%のシス、シス−を含むPACMを生成させる種々の水
素化及び異性化方法を開示している。初期の研究におけ
るように、通常ルテニウム触媒が異性化を行うために使
用された。高温及び長い反応時間が高いトランス、トラ
ンス−異性体生成物を生成させるために必要であり、そ
の上、生成物のかなりの脱アミノ化が起こった。
11,550号、第3,670,746号、第3,155,
724号、第3,766,272号及び英国特許1,12
2,609号は高いトランス、トランス−異性体含量、
すなわち平衡に近い異性体含量、代表的には50%のト
ランス、トランス−、43%のシス、トランス−及び7
%のシス、シス−を含むPACMを生成させる種々の水
素化及び異性化方法を開示している。初期の研究におけ
るように、通常ルテニウム触媒が異性化を行うために使
用された。高温及び長い反応時間が高いトランス、トラ
ンス−異性体生成物を生成させるために必要であり、そ
の上、生成物のかなりの脱アミノ化が起こった。
【0007】広範囲の種々の触媒系が芳香族アミンの水
素化のために開発されており、そして典型的な触媒系は
次の特許に記述されている。米国特許第3,591,63
5号はメチレンジアニリンの水素化触媒としてロジウム
/アルミナの使用を開示している。
素化のために開発されており、そして典型的な触媒系は
次の特許に記述されている。米国特許第3,591,63
5号はメチレンジアニリンの水素化触媒としてロジウム
/アルミナの使用を開示している。
【0008】米国特許第4,946,998号はロジウム
及びルテニウムの混合物を触媒として使用する不純物で
汚染されたメチレンジアニリンの水素化方法を開示して
いる。約14〜28%のトランス、トランス−異性体含
量を持つ水素化メチレンジアニリン生成物は混合金属触
媒系を使用して作られ、一方より高いトランス、トラン
ス−含量は高温、長い反応温度、及び高いルテニウム濃
度により達成することができる。ロジウムの存在はより
低い操作温度を可能にし、そして反応生成物中のトラン
ス、トランス−異性体の割合を減らす。米国特許第3,
520,928号は白金又はパラジウム触媒を使用する
芳香族第一アミンの鉱酸塩及び水溶液の低圧水素化を開
示している。
及びルテニウムの混合物を触媒として使用する不純物で
汚染されたメチレンジアニリンの水素化方法を開示して
いる。約14〜28%のトランス、トランス−異性体含
量を持つ水素化メチレンジアニリン生成物は混合金属触
媒系を使用して作られ、一方より高いトランス、トラン
ス−含量は高温、長い反応温度、及び高いルテニウム濃
度により達成することができる。ロジウムの存在はより
低い操作温度を可能にし、そして反応生成物中のトラン
ス、トランス−異性体の割合を減らす。米国特許第3,
520,928号は白金又はパラジウム触媒を使用する
芳香族第一アミンの鉱酸塩及び水溶液の低圧水素化を開
示している。
【0009】米国特許第3,558,703号及び米国特
許第3,634,512号はマンガン及びその塩基修飾誘
導体により促進されるコバルト又はニッケル触媒を使用
するジアミノジフェニルアルカン及びエーテルの高圧接
触水素化を開示している('512号)。'703号特許
は他の慣用的触媒をコバルト又はニッケルの触媒成分に
組み入れることができ、そのような金属は約10重量%
までの銅、クロム、ニッケル、タングステン、モリブデ
ン、白金、パラジウム及びルテニウムを含むことを開示
している。米国特許第3,445,516号はラネーニッ
ケル、ラネーコバルト、酸化コバルト及び酸化コバルト
とアルカリ土類金属酸化物例えば酸化カルシウムとの混
合物を炭酸ナトリウムと組み合わせて含む種々の触媒を
使用するトルエンジアミンの水素化を開示している。
許第3,634,512号はマンガン及びその塩基修飾誘
導体により促進されるコバルト又はニッケル触媒を使用
するジアミノジフェニルアルカン及びエーテルの高圧接
触水素化を開示している('512号)。'703号特許
は他の慣用的触媒をコバルト又はニッケルの触媒成分に
組み入れることができ、そのような金属は約10重量%
までの銅、クロム、ニッケル、タングステン、モリブデ
ン、白金、パラジウム及びルテニウムを含むことを開示
している。米国特許第3,445,516号はラネーニッ
ケル、ラネーコバルト、酸化コバルト及び酸化コバルト
とアルカリ土類金属酸化物例えば酸化カルシウムとの混
合物を炭酸ナトリウムと組み合わせて含む種々の触媒を
使用するトルエンジアミンの水素化を開示している。
【0010】
【発明の概要】本発明は芳香族アミンの接触水素化によ
り水素化された熱力学的に安定なそれらの異性体相当物
を生成させることによる脂環式アミン例えば4,4′−
メチレンジ(シクロヘキシルアミン)(PACM)の改
良された製造方法に関する。この水素化方法の改良はコ
バルトと一般にロジウム、ルテニウム、白金及びパラジ
ウムから選ばれる別のVIII族金属との組合せからなる触
媒系を使用することからなる。コバルトとロジウム又は
ルテニウムとの組合せからなる触媒が好ましい。触媒と
してVIII族金属特にロジウム又はルテニウムのコバルト
に対する重量比は0.2〜5、好ましくは1〜2であ
る。
り水素化された熱力学的に安定なそれらの異性体相当物
を生成させることによる脂環式アミン例えば4,4′−
メチレンジ(シクロヘキシルアミン)(PACM)の改
良された製造方法に関する。この水素化方法の改良はコ
バルトと一般にロジウム、ルテニウム、白金及びパラジ
ウムから選ばれる別のVIII族金属との組合せからなる触
媒系を使用することからなる。コバルトとロジウム又は
ルテニウムとの組合せからなる触媒が好ましい。触媒と
してVIII族金属特にロジウム又はルテニウムのコバルト
に対する重量比は0.2〜5、好ましくは1〜2であ
る。
【0011】改良された方法の第二の部分は水素化され
た芳香族アミンの接触異性化により実質的に熱力学的平
衡にある反応生成物を生成させることによる水素化芳香
族アミン例えば4,4′−メチレンジ(シクロヘキシル
アミン)(PACM)の異性化に関する。この方法の段
階における改良はコバルトと好ましくはロジウム、ルテ
ニウム、白金及びパラジウムから選ばれる他のVIII族金
属及び金属の銅との組合せからなる触媒系を使用するこ
とからなる。好ましくはこの触媒はロジウム又はルテニ
ウムと組み合わせたコバルトからなり、この場合コバル
トのロジウム又はルテニウムに対する重量比は、金属含
量で計算した場合、ロジウム又はルテニウムの重量部当
たりコバルトの約0.2〜100重量部であり、そして
異性化は水素の存在下で行われる。
た芳香族アミンの接触異性化により実質的に熱力学的平
衡にある反応生成物を生成させることによる水素化芳香
族アミン例えば4,4′−メチレンジ(シクロヘキシル
アミン)(PACM)の異性化に関する。この方法の段
階における改良はコバルトと好ましくはロジウム、ルテ
ニウム、白金及びパラジウムから選ばれる他のVIII族金
属及び金属の銅との組合せからなる触媒系を使用するこ
とからなる。好ましくはこの触媒はロジウム又はルテニ
ウムと組み合わせたコバルトからなり、この場合コバル
トのロジウム又はルテニウムに対する重量比は、金属含
量で計算した場合、ロジウム又はルテニウムの重量部当
たりコバルトの約0.2〜100重量部であり、そして
異性化は水素の存在下で行われる。
【0012】この方法に伴う利点はいくつかあり、それ
らは高い選択率で芳香族アミンを環水素化対応物に水素
化する能力、比較的低い圧力例えば1500psig及
びそれより低い圧力で許容できる反応速度で芳香族アミ
ンの水素化及び異性化を果たす能力、架橋ジアニリンを
熱力学的形態の異性体分布に近いそれを持つ生成物に水
素化しそして異性化する能力、架橋芳香族アミンを供給
材料又は生成物の著しい脱アミノ化を起こすことなく水
素化しそして異性化する能力、及び触媒を連続する時間
の間適度の維持又は再生技術のみで使用する能力を含
む。
らは高い選択率で芳香族アミンを環水素化対応物に水素
化する能力、比較的低い圧力例えば1500psig及
びそれより低い圧力で許容できる反応速度で芳香族アミ
ンの水素化及び異性化を果たす能力、架橋ジアニリンを
熱力学的形態の異性体分布に近いそれを持つ生成物に水
素化しそして異性化する能力、架橋芳香族アミンを供給
材料又は生成物の著しい脱アミノ化を起こすことなく水
素化しそして異性化する能力、及び触媒を連続する時間
の間適度の維持又は再生技術のみで使用する能力を含
む。
【0013】
【発明の詳述】本発明は芳香族アミンの慣用的な環水素
化及び異性化の改良に関し、そしてこれらのアミンは式
化及び異性化の改良に関し、そしてこれらのアミンは式
【化3】 (式中、Rは水素又はC1〜C6アルキル、R1及びR2
は水素又はC1〜C6アルキル、AはC1〜C4アルキル又
はNH、nは0又は1、xは1〜3そしてyは0〜2で
あり、但し式中y群の合計は少なくとも1でなければな
らない)で表される。本発明の実施により、環水素化反
応生成物を高い選択率とすぐれた反応速度で選択的に生
成させることが可能である。
は水素又はC1〜C6アルキル、AはC1〜C4アルキル又
はNH、nは0又は1、xは1〜3そしてyは0〜2で
あり、但し式中y群の合計は少なくとも1でなければな
らない)で表される。本発明の実施により、環水素化反
応生成物を高い選択率とすぐれた反応速度で選択的に生
成させることが可能である。
【0014】この方法の実施に有用な芳香族アミンは架
橋した多核芳香族アミン又は単核芳香族アミンである。
これらは種々の置換基例えば1〜6個の炭素原子を含む
アルキル基で置換され得る。さらにアミノ基はアルキル
基又はアルカノール基で置換されて第二及び第三アミン
を生成し得る。架橋芳香族アミンの例はメチレンジアニ
リン例えば約15重量%までのアニリン−ホルムアルデ
ヒドオリゴマーを含むビス(パラ−アミノフェニル)メ
タン(MDA);ビス(4−アミノ−3−メチルフェニ
ル)メタン;ビス(ジアミノフェニル)メタン;ビス
(ジアミノフェニル)プロパン;ビフェニルアミン;ト
リジン:上記架橋芳香族アミンのN−C1〜C4−脂肪族
誘導体及びN,N′C1〜C4脂肪族第二及び第三アミン
誘導体を含む。単核芳香族アミンの例は2,4−及び2,
6−トルエンジアミン、トルエンジアミンのアルキル化
誘導体、例えば一般にジエチルトルエンジアミンとして
知られる1−メチル−3,5−ジエチル−2,4又は2,
6−ジアミノベンゼン;ジイソプロピルトルエンジアミ
ン、モノ−イソプロピルトルエンジアミン、tert−ブチ
ル−2,4及び2,6−トルエンジアミン、シクロペンチ
ル−トルエンジアミン;フェニレンジアミン、アニリ
ン、及びフェニレンジアミン及びアニリンのアルキル化
誘導体、例えばオルソ−トルイジン、エチルトルイジ
ン、キシレンジアミン、メシチレンジアミン、及び単核
芳香族モノアミン及び単核芳香族ジアミンのN及びN,
N′C1〜C4脂肪族第二及び第三アミン誘導体を含む。
水素化及び異性化工程は液相条件で行うが、そのような
液相条件は典型的には溶媒の存在下で水素化を行うこと
により維持する。この技術分野で報告されていることで
あるが、溶媒を存在させないで反応生成物を生成させる
ことも可能であり、この方法は通常溶媒を使用する場合
よりずっと簡単である。本発明の実施に適する代表的溶
媒は飽和脂肪族及び脂環式炭化水素例えばシクロヘキサ
ン、ヘキサン及びシクロオクタン;低分子量アルコール
例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール;及
び脂肪族及び脂環式炭化水素エーテル、例えばn−プロ
ピルエーテル、イソプロピルエーテル、n−ブチルエー
テル、アミルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジシクロヘキシルエーテル及びグリメポリエーテル
を含む。テトラヒドロフランが好ましい。方法によって
は水を補助溶媒として使用することができるが、系を無
水状態に保つか又は少なくとも水濃度が0.5重量%よ
り低い状態に保つのが好ましい。系に水が存在すると副
生成物アルコール及び重い縮合生成物の量が増加する傾
向があり、そして触媒系が非活性化される傾向がある。
橋した多核芳香族アミン又は単核芳香族アミンである。
これらは種々の置換基例えば1〜6個の炭素原子を含む
アルキル基で置換され得る。さらにアミノ基はアルキル
基又はアルカノール基で置換されて第二及び第三アミン
を生成し得る。架橋芳香族アミンの例はメチレンジアニ
リン例えば約15重量%までのアニリン−ホルムアルデ
ヒドオリゴマーを含むビス(パラ−アミノフェニル)メ
タン(MDA);ビス(4−アミノ−3−メチルフェニ
ル)メタン;ビス(ジアミノフェニル)メタン;ビス
(ジアミノフェニル)プロパン;ビフェニルアミン;ト
リジン:上記架橋芳香族アミンのN−C1〜C4−脂肪族
誘導体及びN,N′C1〜C4脂肪族第二及び第三アミン
誘導体を含む。単核芳香族アミンの例は2,4−及び2,
6−トルエンジアミン、トルエンジアミンのアルキル化
誘導体、例えば一般にジエチルトルエンジアミンとして
知られる1−メチル−3,5−ジエチル−2,4又は2,
6−ジアミノベンゼン;ジイソプロピルトルエンジアミ
ン、モノ−イソプロピルトルエンジアミン、tert−ブチ
ル−2,4及び2,6−トルエンジアミン、シクロペンチ
ル−トルエンジアミン;フェニレンジアミン、アニリ
ン、及びフェニレンジアミン及びアニリンのアルキル化
誘導体、例えばオルソ−トルイジン、エチルトルイジ
ン、キシレンジアミン、メシチレンジアミン、及び単核
芳香族モノアミン及び単核芳香族ジアミンのN及びN,
N′C1〜C4脂肪族第二及び第三アミン誘導体を含む。
水素化及び異性化工程は液相条件で行うが、そのような
液相条件は典型的には溶媒の存在下で水素化を行うこと
により維持する。この技術分野で報告されていることで
あるが、溶媒を存在させないで反応生成物を生成させる
ことも可能であり、この方法は通常溶媒を使用する場合
よりずっと簡単である。本発明の実施に適する代表的溶
媒は飽和脂肪族及び脂環式炭化水素例えばシクロヘキサ
ン、ヘキサン及びシクロオクタン;低分子量アルコール
例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール;及
び脂肪族及び脂環式炭化水素エーテル、例えばn−プロ
ピルエーテル、イソプロピルエーテル、n−ブチルエー
テル、アミルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジシクロヘキシルエーテル及びグリメポリエーテル
を含む。テトラヒドロフランが好ましい。方法によって
は水を補助溶媒として使用することができるが、系を無
水状態に保つか又は少なくとも水濃度が0.5重量%よ
り低い状態に保つのが好ましい。系に水が存在すると副
生成物アルコール及び重い縮合生成物の量が増加する傾
向があり、そして触媒系が非活性化される傾向がある。
【0015】溶媒を使用する場合、反応帯域に投入する
芳香族アミンに対して50重量%のような低い濃度が普
通であるが、典型的には溶媒は出発化合物の約75〜約
500重量%の水準で使用する。高い割合で溶媒を使用
すると回収時に負担を伴う。装置を連続的に作動させる
ことが可能であるが水素化は主としてバッチ操作で行
う。水素化及び異性化工程の温度は約130〜220℃
であり、好ましくは約170〜195℃である。先行技
術の水素化及び異性化方法、特にコバルトを触媒として
使用する架橋アニリンの水素化及び異性化の場合に水素
分圧が代表的には約2500〜4000psigであるのと
は対照的に、本方法ではMDAのオリゴマーのような不
純物を含む系においてさえ約500〜1500psigの低
い圧力を使用する。より低い圧力で作動させ得ることは
設備コストを下げそして稼働コストを低くする。
芳香族アミンに対して50重量%のような低い濃度が普
通であるが、典型的には溶媒は出発化合物の約75〜約
500重量%の水準で使用する。高い割合で溶媒を使用
すると回収時に負担を伴う。装置を連続的に作動させる
ことが可能であるが水素化は主としてバッチ操作で行
う。水素化及び異性化工程の温度は約130〜220℃
であり、好ましくは約170〜195℃である。先行技
術の水素化及び異性化方法、特にコバルトを触媒として
使用する架橋アニリンの水素化及び異性化の場合に水素
分圧が代表的には約2500〜4000psigであるのと
は対照的に、本方法ではMDAのオリゴマーのような不
純物を含む系においてさえ約500〜1500psigの低
い圧力を使用する。より低い圧力で作動させ得ることは
設備コストを下げそして稼働コストを低くする。
【0016】すぐれた反応速度で熱力学的平衡に近い異
性体分布を生じながら、芳香族アミン特にメチレンジア
ニリンを低い水素分圧下で環水素化する能力は、特定の
水素化/異性化触媒系の使用により達成される。水素化
/異性化工程で使用する触媒はVIII族金属と組み合わせ
たコバルトからなる。水素化を行うにはVIII族金属のコ
バルトに対する重量比は広くは0.2〜5、好ましくは
1〜2であり、そしてVIII族金属は好ましくはルテニウ
ム又はロジウムである。
性体分布を生じながら、芳香族アミン特にメチレンジア
ニリンを低い水素分圧下で環水素化する能力は、特定の
水素化/異性化触媒系の使用により達成される。水素化
/異性化工程で使用する触媒はVIII族金属と組み合わせ
たコバルトからなる。水素化を行うにはVIII族金属のコ
バルトに対する重量比は広くは0.2〜5、好ましくは
1〜2であり、そしてVIII族金属は好ましくはルテニウ
ム又はロジウムである。
【0017】好ましい実施態様においては、触媒系のコ
バルト成分はコバルト及びVIII族金属又は銅からなるバ
イメタル混合物として存在する。コバルトがバイメタル
混合物として存在する場合、触媒系のコバルト触媒部分
の還元温度が低くなり、そして水素による還元を200
℃の低温で行うことができる。コバルトがバイメタル混
合物として存在しないで、別の支持体例えばアルミナ、
シリカ、チタニア、又は他の慣用的な物質に担持されて
いる場合、コバルト還元温度は高温例えば400℃及び
それ以上のままである。バイメタルコバルト触媒成分
は、塩としての一部のVIII族金属をコバルト塩と一緒に
共沈させて作ることができる。触媒のバイメタルコバル
ト成分を作るために使用することができる上述の金属の
外に、銅を触媒系のコバルト成分を作るための成分とし
て使用することができる。銅の重量部当たり0.2〜1
00好ましくは3〜60重量部の水準のコバルトを使用
することができる。
バルト成分はコバルト及びVIII族金属又は銅からなるバ
イメタル混合物として存在する。コバルトがバイメタル
混合物として存在する場合、触媒系のコバルト触媒部分
の還元温度が低くなり、そして水素による還元を200
℃の低温で行うことができる。コバルトがバイメタル混
合物として存在しないで、別の支持体例えばアルミナ、
シリカ、チタニア、又は他の慣用的な物質に担持されて
いる場合、コバルト還元温度は高温例えば400℃及び
それ以上のままである。バイメタルコバルト触媒成分
は、塩としての一部のVIII族金属をコバルト塩と一緒に
共沈させて作ることができる。触媒のバイメタルコバル
ト成分を作るために使用することができる上述の金属の
外に、銅を触媒系のコバルト成分を作るための成分とし
て使用することができる。銅の重量部当たり0.2〜1
00好ましくは3〜60重量部の水準のコバルトを使用
することができる。
【0018】この触媒系はコバルト単独又はその他のVI
II族金属単独とは対照的に低い圧力で芳香族アミンの水
素化を可能にし、そして水素化架橋芳香族アミンを大部
分熱力学的異性体形態へ異性化することを可能にする。
そればかりでなく、VIII族金属の多くの他の組合せは同
じ異性体分布又は収率を生じない。例えばビス(パラ−
アミノフェニル)メタンのビス(パラ−アミノシクロヘ
キシル)メタンへの水素化の場合、ロジウム及びルテニ
ウムの触媒混合物は、通常ロジウム及びルテニウムのト
ランス、トランス−異性体含量の間にあるそれを生じ
る。
II族金属単独とは対照的に低い圧力で芳香族アミンの水
素化を可能にし、そして水素化架橋芳香族アミンを大部
分熱力学的異性体形態へ異性化することを可能にする。
そればかりでなく、VIII族金属の多くの他の組合せは同
じ異性体分布又は収率を生じない。例えばビス(パラ−
アミノフェニル)メタンのビス(パラ−アミノシクロヘ
キシル)メタンへの水素化の場合、ロジウム及びルテニ
ウムの触媒混合物は、通常ロジウム及びルテニウムのト
ランス、トランス−異性体含量の間にあるそれを生じ
る。
【0019】コバルト含有触媒は通常支持体上に、その
例えばアルミナ又はチタニアの100重量部当たり金属
の約0.25〜25重量部、好ましくは支持体100重
量部当たり金属の1〜20重量部が担持される。芳香族
アミンの0.1〜10重量%の触媒水準が使用され、好
ましい水準は0.5〜5重量%である。触媒量がこの範
囲の下限に近づくと反応速度は低下することがあり得
る。しかしながら、芳香族アミンに対する触媒の濃度が
増加すると反応速度はある点まで増加し、その後一定速
度で横ばい状態になる。
例えばアルミナ又はチタニアの100重量部当たり金属
の約0.25〜25重量部、好ましくは支持体100重
量部当たり金属の1〜20重量部が担持される。芳香族
アミンの0.1〜10重量%の触媒水準が使用され、好
ましい水準は0.5〜5重量%である。触媒量がこの範
囲の下限に近づくと反応速度は低下することがあり得
る。しかしながら、芳香族アミンに対する触媒の濃度が
増加すると反応速度はある点まで増加し、その後一定速
度で横ばい状態になる。
【0020】触媒は、単に異性化のためにのみ使用する
場合、コバルトのVIII族金属又は銅金属に対する重量比
を、銅金属を含めてVIII族金属金属の重量部当たりコバ
ルトの約0.2〜100、好ましくは3〜60重量部を
基準として配合する。この触媒系はコバルト単独とは対
照的に200℃で活性化後低い圧力での異性化が可能で
あり、そして思いがけなく熱力学的トランス、トランス
−異性体形態への変換が他の方法よりすぐれている。上
で述べたような上述の金属の重量比が異性化に使用され
るが、一部のVIII族金属並びに銅はバイメタルコバルト
含有触媒に組み入れることができる。
場合、コバルトのVIII族金属又は銅金属に対する重量比
を、銅金属を含めてVIII族金属金属の重量部当たりコバ
ルトの約0.2〜100、好ましくは3〜60重量部を
基準として配合する。この触媒系はコバルト単独とは対
照的に200℃で活性化後低い圧力での異性化が可能で
あり、そして思いがけなく熱力学的トランス、トランス
−異性体形態への変換が他の方法よりすぐれている。上
で述べたような上述の金属の重量比が異性化に使用され
るが、一部のVIII族金属並びに銅はバイメタルコバルト
含有触媒に組み入れることができる。
【0021】水素化反応の進行は反応混合物により吸収
される水素の量を観察することにより容易に追跡するこ
とができ、そして吸収された水素の量が基質の完全水素
化に必要な量と等しいか又はほぼ等しくなる時に反応が
終了する。一般に、芳香族アミンの水素化時間は180
℃及び850psigにおける適当な触媒水準、例えば芳香
族アミンの0.5〜5重量%広くは0.1〜10重量%で
約100〜500分であり、そして一般に500分を超
えることはないであろう。
される水素の量を観察することにより容易に追跡するこ
とができ、そして吸収された水素の量が基質の完全水素
化に必要な量と等しいか又はほぼ等しくなる時に反応が
終了する。一般に、芳香族アミンの水素化時間は180
℃及び850psigにおける適当な触媒水準、例えば芳香
族アミンの0.5〜5重量%広くは0.1〜10重量%で
約100〜500分であり、そして一般に500分を超
えることはないであろう。
【0022】理論で制限するつもりはないが、触媒系の
思いがけない活性及び寿命は、特にコバルトがバイメタ
ル混合物として存在する場合、コバルトの水素還元温度
の低下によるものと思われる。本明細書に記述する触媒
系の使用による熱力学的にもっとも安定な形態にある高
濃度の異性体を含む反応生成物の生成は簡単に説明され
ることではない。なぜなら異性体分布がVIII族金属又は
コバルト触媒成分単独の場合の異性体分布の平均を表す
ものではないからである。例えば、高温、高圧、及び長
い反応時間を使用しない限り、コバルトの存在下でのメ
チレンジアニリンの還元は困難であり、そして仮に可能
であってもその結果は40%のトランス、トランス−異
性体濃度の生成物を生じ、ロジウム単独の存在下ではト
ランス、トランス−異性体濃度は15〜25%であり、
そしてルテニウム単独の存在下ではトランス、トランス
−異性体濃度は20〜40%である。これら金属のいず
れかとコバルトを組み合わせた場合短縮された反応時間
及び諸条件下で45%トランス、トランス−より大きい
トランス、トランス−異性体分布を生じる。次の実施例
は本発明の種々の実施態様を例証しようとするものであ
り、そして記載されたすべての部及びパーセントは別記
しない限り重量部及び重量パーセントである。
思いがけない活性及び寿命は、特にコバルトがバイメタ
ル混合物として存在する場合、コバルトの水素還元温度
の低下によるものと思われる。本明細書に記述する触媒
系の使用による熱力学的にもっとも安定な形態にある高
濃度の異性体を含む反応生成物の生成は簡単に説明され
ることではない。なぜなら異性体分布がVIII族金属又は
コバルト触媒成分単独の場合の異性体分布の平均を表す
ものではないからである。例えば、高温、高圧、及び長
い反応時間を使用しない限り、コバルトの存在下でのメ
チレンジアニリンの還元は困難であり、そして仮に可能
であってもその結果は40%のトランス、トランス−異
性体濃度の生成物を生じ、ロジウム単独の存在下ではト
ランス、トランス−異性体濃度は15〜25%であり、
そしてルテニウム単独の存在下ではトランス、トランス
−異性体濃度は20〜40%である。これら金属のいず
れかとコバルトを組み合わせた場合短縮された反応時間
及び諸条件下で45%トランス、トランス−より大きい
トランス、トランス−異性体分布を生じる。次の実施例
は本発明の種々の実施態様を例証しようとするものであ
り、そして記載されたすべての部及びパーセントは別記
しない限り重量部及び重量パーセントである。
【0023】実施例1 コバルト触媒の調製 a.4%Co/Al2O3触媒の調製 1.98gのCo(NO3)2/6H2Oを7gの脱イオン
(DI)水に添加してコバルト触媒を調製した。この溶
液に10gの活性化ガンマアルミナを添加した。触媒を
100℃で一晩乾燥し、そして空気中で400℃で3時
間か焼して目的の触媒を得た。
(DI)水に添加してコバルト触媒を調製した。この溶
液に10gの活性化ガンマアルミナを添加した。触媒を
100℃で一晩乾燥し、そして空気中で400℃で3時
間か焼して目的の触媒を得た。
【0024】b.1%Ru/3%Co/Al2O3バイメ
タル触媒の調製 0.21gのRu3(CO)12を熱THFに溶解し、次いで
10gの活性化ガンマアルミナを添加してルテニウム−
コバルトバイメタル触媒を調製した。過剰のTHFを攪
拌しながら蒸発させた。このルテニウム溶液に7gのD
I水に溶解した1.48gのCo(NO3)2/6H2Oを添
加した。この混合物を攪拌し、その後100℃のオーブ
ン中に一晩置いた。触媒を400℃で3時間か焼してコ
バルト/ルテニウムバイメタルからなる目的の触媒を得
た。
タル触媒の調製 0.21gのRu3(CO)12を熱THFに溶解し、次いで
10gの活性化ガンマアルミナを添加してルテニウム−
コバルトバイメタル触媒を調製した。過剰のTHFを攪
拌しながら蒸発させた。このルテニウム溶液に7gのD
I水に溶解した1.48gのCo(NO3)2/6H2Oを添
加した。この混合物を攪拌し、その後100℃のオーブ
ン中に一晩置いた。触媒を400℃で3時間か焼してコ
バルト/ルテニウムバイメタルからなる目的の触媒を得
た。
【0025】実施例2 コバルト/アルミナ及びルテニウム/アルミナの混合物 5%Ru/Al2O3及び4%Co/Al2O3の市販の触
媒系を5部のルテニウム金属に対して4重量部のコバル
ト金属の重量比になるように物理的に混合して触媒系を
調製した。その他の触媒系はこれらの実施例1及び2に
記述した手順と本質的に同じように調製することができ
る。もしくは先行技術で使用した方法を触媒系の調製に
使用することができる。
媒系を5部のルテニウム金属に対して4重量部のコバル
ト金属の重量比になるように物理的に混合して触媒系を
調製した。その他の触媒系はこれらの実施例1及び2に
記述した手順と本質的に同じように調製することができ
る。もしくは先行技術で使用した方法を触媒系の調製に
使用することができる。
【0026】実施例3 触媒予備還元方法 1.触媒前処理 a.200℃での予備還元 触媒使用に先立ち、200℃還元を受ける各触媒を空の
清浄な300cc容オートクレーブ反応装置に充填した。
イソプロパノール(125g)を反応装置に添加し、そ
してオートクレーブを密閉し、漏れ試験を行い、窒素で
3回パージした(>200psigに加圧し、攪拌し、次い
で攪拌を止め、排気して大気圧にした)。次に反応装置
を水素で3回パージして850psigにしそして排気し
た。排気後反応装置を750psigに加圧しそして192
℃に加熱した。この系をその温度に2時間保ち、冷却
し、排気しそして窒素で3回パージした。混合物を窒素
雰囲気のもとで濾過して触媒を回収した。
清浄な300cc容オートクレーブ反応装置に充填した。
イソプロパノール(125g)を反応装置に添加し、そ
してオートクレーブを密閉し、漏れ試験を行い、窒素で
3回パージした(>200psigに加圧し、攪拌し、次い
で攪拌を止め、排気して大気圧にした)。次に反応装置
を水素で3回パージして850psigにしそして排気し
た。排気後反応装置を750psigに加圧しそして192
℃に加熱した。この系をその温度に2時間保ち、冷却
し、排気しそして窒素で3回パージした。混合物を窒素
雰囲気のもとで濾過して触媒を回収した。
【0027】b.500℃での予備還元 200℃における触媒予備還元と同様の手順で、各触媒
を内径1/2インチの管状反応装置に充填した(オート
クレーブは500℃の温度に適合していなかった)。水
素を20〜30cc/分の割合で反応装置を通過させた。
パージの10分後、反応装置を500℃に加熱した。こ
の系をその温度に1時間保ち、室温に冷却し、そして窒
素で30分間パージした。次いで触媒を空気中で室温で
回収した。
を内径1/2インチの管状反応装置に充填した(オート
クレーブは500℃の温度に適合していなかった)。水
素を20〜30cc/分の割合で反応装置を通過させた。
パージの10分後、反応装置を500℃に加熱した。こ
の系をその温度に1時間保ち、室温に冷却し、そして窒
素で30分間パージした。次いで触媒を空気中で室温で
回収した。
【0028】実施例4 MDA水素化反応手順における触媒比較 300ccのオートクレーブバッチ式反応装置を使用して
MDAの水素化を行った。すべての実験は反応速度に対
する制限要因である水素物質移動を最小にするため15
00rpmの攪拌速度で180℃及び850psigの圧力で
実施した。予備還元した触媒充填の所望の量を圧力容器
に添加し、次にTHF中MDAを添加した。オートクレ
ーブを密閉し、過剰の窒素次いで水素でパージし、そし
て水素で約600psigに加圧した。オートクレーブを攪
拌しながら特定の反応温度に加熱し、同時に水素をバラ
ストタンクから添加して850psigの圧力に維持した。
バラストタンク内の圧力低下は反応の進行を観察するた
めの便利な方法を提供し、そしてこの反応は水素消費が
停止した時完了とみなした。反応完了後オートクレーブ
を室温に冷却し、排気しそして生成物混合物を取り出し
た。生成物を関連する物質であらかじめ較正した毛細管
ガスクロマトグラフィーにより分析した。表1は触媒の
種類、反応条件及び収率を示しており、そして180℃
及び850psigにおける粗メチレンジアニリン又はMD
A−85(15%オリゴマー)の接触水素化の結果を示
す。
MDAの水素化を行った。すべての実験は反応速度に対
する制限要因である水素物質移動を最小にするため15
00rpmの攪拌速度で180℃及び850psigの圧力で
実施した。予備還元した触媒充填の所望の量を圧力容器
に添加し、次にTHF中MDAを添加した。オートクレ
ーブを密閉し、過剰の窒素次いで水素でパージし、そし
て水素で約600psigに加圧した。オートクレーブを攪
拌しながら特定の反応温度に加熱し、同時に水素をバラ
ストタンクから添加して850psigの圧力に維持した。
バラストタンク内の圧力低下は反応の進行を観察するた
めの便利な方法を提供し、そしてこの反応は水素消費が
停止した時完了とみなした。反応完了後オートクレーブ
を室温に冷却し、排気しそして生成物混合物を取り出し
た。生成物を関連する物質であらかじめ較正した毛細管
ガスクロマトグラフィーにより分析した。表1は触媒の
種類、反応条件及び収率を示しており、そして180℃
及び850psigにおける粗メチレンジアニリン又はMD
A−85(15%オリゴマー)の接触水素化の結果を示
す。
【0029】
【表1】
【0030】
【表2】
【0031】表1に関する説明 実験2はコバルトの単一触媒系である4%Co/Al2
O3が無効であることを示している。MDAを4%Co
/Al2O3(500℃で還元)を使用して低圧で水素化
した場合、430分で水素化は10%のみ完了し、そし
て痕跡量のPACMのみが生成した。4%Co/Al2
O3触媒を使用するMDAの水素化の間に生じる主な生
成物は半水素化MDAである。
O3が無効であることを示している。MDAを4%Co
/Al2O3(500℃で還元)を使用して低圧で水素化
した場合、430分で水素化は10%のみ完了し、そし
て痕跡量のPACMのみが生成した。4%Co/Al2
O3触媒を使用するMDAの水素化の間に生じる主な生
成物は半水素化MDAである。
【0032】実験3は500℃で還元した5%Ru/A
l2O3及び4%Co/Al2O3の物理的混合物(Ru:
Co=5:4)は410分でMDA水素化を完了し、9
0%より高いPACM収率及び53%のトランス/トラ
ンス−異性体含量であった。MDA水素化のため触媒の
2回目の使用は90%のPACM収率並びに52%のト
ランス/トランス−異性体含量を示した(表に示してい
ない)。この結果は触媒が最初の2回の使用により非活
性化されないことを示す。実験5は200℃で予備還元
した5%Ru/Al2O3及びバイメタル触媒(Co/R
u)の物理的混合物がMDAをPACM−48に変換す
るために有効であることを示している。触媒のバイメタ
ル形態で第二金属(Rh、Ru、Pd又はCu)をコバ
ルトに添加するとコバルトが200℃で容易に還元され
る。これは200℃で予備還元した触媒を用いて、Ru
及びバイメタル触媒(Co/Ru)の物理的混合物がM
DAからPACM−48を生成させることを可能にす
る。同じ特徴はコバルト及びVIII族金属の物理的混合物
からなる触媒には認められず、コバルトはより高い活性
化温度を必要とする。
l2O3及び4%Co/Al2O3の物理的混合物(Ru:
Co=5:4)は410分でMDA水素化を完了し、9
0%より高いPACM収率及び53%のトランス/トラ
ンス−異性体含量であった。MDA水素化のため触媒の
2回目の使用は90%のPACM収率並びに52%のト
ランス/トランス−異性体含量を示した(表に示してい
ない)。この結果は触媒が最初の2回の使用により非活
性化されないことを示す。実験5は200℃で予備還元
した5%Ru/Al2O3及びバイメタル触媒(Co/R
u)の物理的混合物がMDAをPACM−48に変換す
るために有効であることを示している。触媒のバイメタ
ル形態で第二金属(Rh、Ru、Pd又はCu)をコバ
ルトに添加するとコバルトが200℃で容易に還元され
る。これは200℃で予備還元した触媒を用いて、Ru
及びバイメタル触媒(Co/Ru)の物理的混合物がM
DAからPACM−48を生成させることを可能にす
る。同じ特徴はコバルト及びVIII族金属の物理的混合物
からなる触媒には認められず、コバルトはより高い活性
化温度を必要とする。
【0033】実験7は4%Rh/Al2O3が有効な水素
化触媒であるが異性化触媒としては劣ることを示してい
る。実験8は4%Rh/Al2O3及びCo/Rhバイメ
タル触媒の物理的混合物がMDAのPACM−48への
水素化に有効であることを示している。実験9及び10
は触媒としてのルテニウムは低い圧力で粗MDAのPA
CM−48への水素化及び異性化に比較的効果がないこ
とを示している。これらの結果は従来技術の方法と一致
する。
化触媒であるが異性化触媒としては劣ることを示してい
る。実験8は4%Rh/Al2O3及びCo/Rhバイメ
タル触媒の物理的混合物がMDAのPACM−48への
水素化に有効であることを示している。実験9及び10
は触媒としてのルテニウムは低い圧力で粗MDAのPA
CM−48への水素化及び異性化に比較的効果がないこ
とを示している。これらの結果は従来技術の方法と一致
する。
【0034】実験11及び12は5%Ru/Al2O3及
び3%Co/1%Ru/Al2O3(Ru:Co=2:
1)の物理的混合物が粗MDAのPACM−48への水
素化/異性化に極めて活性があることを示している。上
の結果はCo/Al2O3及びRu/Al2O3又はRh/
Al2O3の物理的混合物が、Co/Al2O3触媒を水素
の存在下で400℃又はそれより高温で還元する場合、
PACM異性体の平衡混合物の生産にとって有効な触媒
であることも示している。これは実験4においてCo/
Al2O3を200℃で処理した場合、低いt/t異性体
(14.9)の部分的変換(38.8%)のみが得られた
結果とよい対照をなす。
び3%Co/1%Ru/Al2O3(Ru:Co=2:
1)の物理的混合物が粗MDAのPACM−48への水
素化/異性化に極めて活性があることを示している。上
の結果はCo/Al2O3及びRu/Al2O3又はRh/
Al2O3の物理的混合物が、Co/Al2O3触媒を水素
の存在下で400℃又はそれより高温で還元する場合、
PACM異性体の平衡混合物の生産にとって有効な触媒
であることも示している。これは実験4においてCo/
Al2O3を200℃で処理した場合、低いt/t異性体
(14.9)の部分的変換(38.8%)のみが得られた
結果とよい対照をなす。
【0035】実施例5 PACMの異性化 PACM−20(20%のトランス、トランス−異性体
を含む)を300ccのオートクレーブバッチ式反応装置
に充填し、そして種々のあらかじめ選んだ触媒及び水素
と接触させてPACM−20の異性化を実行し、これら
の触媒の有効性を測定した。反応速度に対する制限要因
である水素物質移動を最小にするため1500rpmの攪
拌速度を使用した。反応物を充填した後、オートクレー
ブを密閉し、窒素次いで水素でパージし、そして水素で
約600psigに加圧した。オートクレーブを攪拌しなが
ら特定の反応温度に加熱し、同時に水素をバラストタン
クから添加して所望の圧力に維持した。反応完了後オー
トクレーブを室温に冷却し、排気しそして生成物混合物
を取り出した。生成物を関連する物質であらかじめ較正
した毛細管ガスクロマトグラフィーにより分析した。表
1は触媒の種類、反応条件及び収率を示す。表2は触
媒、異性化の条件及び結果を示す。
を含む)を300ccのオートクレーブバッチ式反応装置
に充填し、そして種々のあらかじめ選んだ触媒及び水素
と接触させてPACM−20の異性化を実行し、これら
の触媒の有効性を測定した。反応速度に対する制限要因
である水素物質移動を最小にするため1500rpmの攪
拌速度を使用した。反応物を充填した後、オートクレー
ブを密閉し、窒素次いで水素でパージし、そして水素で
約600psigに加圧した。オートクレーブを攪拌しなが
ら特定の反応温度に加熱し、同時に水素をバラストタン
クから添加して所望の圧力に維持した。反応完了後オー
トクレーブを室温に冷却し、排気しそして生成物混合物
を取り出した。生成物を関連する物質であらかじめ較正
した毛細管ガスクロマトグラフィーにより分析した。表
1は触媒の種類、反応条件及び収率を示す。表2は触
媒、異性化の条件及び結果を示す。
【0036】
【表3】 上表の結果は200℃で還元したコバルト/アルミナ又
は5%Ru/Al2O3又は4%Ni/Al2O3はPAC
M−20を45%より高いトランス、トランス−異性体
含量の異性体混合物に異性化するために効果がなかった
が、一方500℃コバルト触媒は有効であったことを示
している。
は5%Ru/Al2O3又は4%Ni/Al2O3はPAC
M−20を45%より高いトランス、トランス−異性体
含量の異性体混合物に異性化するために効果がなかった
が、一方500℃コバルト触媒は有効であったことを示
している。
【0037】実施例6 実施例5の異性化手順を繰り返したが、但しルテニウム
触媒を100〜1750psigの圧力で使用した。反応条
件を表3に示す。
触媒を100〜1750psigの圧力で使用した。反応条
件を表3に示す。
【0038】
【表4】
【0039】表3からわかるように、コバルトは低い圧
力例えば100psigでPACM−20をPACM−48
に異性化する点で大いに有効である。一方、ルテニウム
は100psigでの異性化に比較的効果がなかった。
力例えば100psigでPACM−20をPACM−48
に異性化する点で大いに有効である。一方、ルテニウム
は100psigでの異性化に比較的効果がなかった。
【0040】実施例7 混合金属触媒を使用する異性化 実施例5の手順を繰り返し、但し種々の混合金属触媒を
評価した。その結果を表4に示す。
評価した。その結果を表4に示す。
【0041】
【表5】
【0042】
【表6】
【0043】上の表4の結果はPACM−20のPAC
M−48への異性化に対するバイメタル触媒の影響を示
す。異性化は触媒の200℃の予備還元を使用して実行
することができる。金属である触媒の物理的混合物は異
性化に適していなかった。異性化はコバルト触媒が物理
的混合物として存在する場合、500℃の還元温度を使
用して実行することができた。
M−48への異性化に対するバイメタル触媒の影響を示
す。異性化は触媒の200℃の予備還元を使用して実行
することができる。金属である触媒の物理的混合物は異
性化に適していなかった。異性化はコバルト触媒が物理
的混合物として存在する場合、500℃の還元温度を使
用して実行することができた。
【0044】表3で論議した結果はPACM−20のP
ACM−48への異性化にとって200℃(水素中)で
還元した4%Co/Al2O3は無効であったが、500
℃(水素中)で還元した4%Co/Al2O3は有効であ
ったことを示している。コバルト−アルミナ触媒自身は
300〜400℃で還元されることが水素化における熱
重量分析(TGA)により示された。従って、200℃
還元試料及び500℃還元試料の間の異性化活性におけ
る差異は、前者(200℃還元触媒)の場合コバルトは
還元されないが、一方後者(500℃還元触媒)ではコ
バルトが還元されることである。
ACM−48への異性化にとって200℃(水素中)で
還元した4%Co/Al2O3は無効であったが、500
℃(水素中)で還元した4%Co/Al2O3は有効であ
ったことを示している。コバルト−アルミナ触媒自身は
300〜400℃で還元されることが水素化における熱
重量分析(TGA)により示された。従って、200℃
還元試料及び500℃還元試料の間の異性化活性におけ
る差異は、前者(200℃還元触媒)の場合コバルトは
還元されないが、一方後者(500℃還元触媒)ではコ
バルトが還元されることである。
【0045】表4の結果はコバルト−アルミナ触媒への
少量のRu、Rh、Pd、Pt又はCuの添加は200
℃還元の後においてのみ異性化に対して活性にすること
も示している。このバイメタル触媒作用の相乗作用に対
する一つの可能性のある理由は、第二金属(Rh、R
u、Pt又はCu)がコバルトの還元温度を200℃よ
り低く下げるということである。
少量のRu、Rh、Pd、Pt又はCuの添加は200
℃還元の後においてのみ異性化に対して活性にすること
も示している。このバイメタル触媒作用の相乗作用に対
する一つの可能性のある理由は、第二金属(Rh、R
u、Pt又はCu)がコバルトの還元温度を200℃よ
り低く下げるということである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300 (72)発明者 リチヤード・スコツト・マイアーズ アメリカ合衆国ペンシルベニア州19530. クツツタウン.イーグルポイントロード 1190 (72)発明者 ジヨン・ネルソン・アーマー アメリカ合衆国ペンシルベニア州18069. オーアフイールド.バークウツドドライブ 1608
Claims (25)
- 【請求項1】 水素化をコバルトとロジウム、ルテニウ
ム、パラジウム、白金からなる群より選ばれる一種の金
属との物理的混合物からなる触媒を用いて行うことを特
徴とする、芳香族アミンを触媒の存在下で水素と接触さ
せることによる芳香族アミンをそれらの環水素化相当物
に接触水素化する方法。 - 【請求項2】 芳香族アミンが式 【化1】 (式中、Rは水素又はC1〜C6脂肪族、R1及びR2は
水素又はC1〜C6脂肪族、AはC1〜C4又はNH、nは
0〜1、xは1〜3そしてyは0〜2であり、但しy群
の合計は少なくとも1でなければならない)により表さ
れる請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 芳香族アミンが式Iで表される請求項2
記載の方法。 - 【請求項4】 触媒が芳香族アミンの約0.1〜10重
量%の量で存在する請求項3記載の方法。 - 【請求項5】 コバルトの金属に対する重量比がコバル
トの重量部当たり金属としてVIII族金属の約0.2〜5
重量部の範囲である請求項4記載の方法。 - 【請求項6】 R1及びR2が水素である請求項5記載
の方法。 - 【請求項7】 RがH又はメチルである請求項6記載の
方法。 - 【請求項8】 nが0である請求項7記載の方法。
- 【請求項9】 Aが−CH2−でありそしてnが1であ
る請求項7記載の方法。 - 【請求項10】 各yが1である請求項9記載の方法。
- 【請求項11】 水素化を約500〜1500psigの水
素圧力で行う請求項10記載の方法。 - 【請求項12】 触媒がコバルトとロジウムのバイメタ
ル混合物からなり、そして金属としてコバルトのロジウ
ムに対する比率がコバルトの重量部当たりロジウムの約
1〜2重量部である請求項11記載の方法。 - 【請求項13】 触媒がVIII族金属としてルテニウム又
はロジウムを含みそしてコバルト成分がコバルトと銅の
バイメタル混合物として存在し、そして金属としてコバ
ルトの銅に対する比率が銅の重量部当たりコバルトの約
0.2〜100重量部である請求項11記載の方法。 - 【請求項14】 触媒がコバルトとルテニウムのバイメ
タル混合物からなり、そして金属としてコバルトのルテ
ニウムに対する比率がコバルトの重量部当たりルテニウ
ムの約1〜2重量部である請求項11記載の方法。 - 【請求項15】 芳香族アミンが式IIで表される請求項
1記載の方法。 - 【請求項16】 触媒が芳香族アミンの約0.5〜5重
量%の量で存在しそして触媒のコバルト成分の少なくと
も一部分は別の成分としてのロジウム、ルテニウム、又
は銅とコバルトからなるバイメタル触媒として存在する
請求項15記載の方法。 - 【請求項17】 水素化芳香族アミンを触媒の存在下で
水素と接触させることによる水素化芳香族アミンのそれ
らの動力学的異性体分布からそれらの熱力学的異性体平
衡環水素化対応物への接触異性化の方法において、前記
異性化を還元状態のコバルトを含む金属触媒を用いて行
うことからなる改良。 - 【請求項18】 水素化芳香族アミンが式 【化2】 (式中、Rは水素又はC1〜C6脂肪族、R1及びR2は
水素又はC1〜C6脂肪族、AはC1〜C4又はNH、nは
0〜1、xは1〜3そしてyは0〜2であり、但しy群
の合計は少なくとも1でなければならない)により表さ
れる請求項1記載の方法。 - 【請求項19】 異性化を約50〜4000psigの水素
圧力で行いそして芳香族アミンが式Iで表される請求項
18記載の方法。 - 【請求項20】 触媒がコバルトとロジウム、ルテニウ
ム、白金及びパラジウムから選ばれるVIII族金属の一種
及び銅からなり、そしてコバルトのVIII族金属または銅
に対する重量比が金属の重量部当たり金属としてコバル
トの約0.2〜100重量部である請求項19記載の方
法。 - 【請求項21】 R1及びR2が水素である請求項20
記載の方法。 - 【請求項22】 RがH又はメチルである請求項21記
載の方法。 - 【請求項23】 nが0である請求項21記載の方法。
- 【請求項24】 Aが−CH2−でありそしてnが1で
ある請求項21記載の方法。 - 【請求項25】 各yが1である請求項24記載の方
法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/040,311 US6121493A (en) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | Isomerization of cyclohexylamines to produce their thermodynamic isomeric form |
| US040311 | 1993-04-06 | ||
| US043646 | 1993-04-06 | ||
| US08/043,646 US6140540A (en) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | Hydrogenation of aromatic amines to produce their ring hydrogenated counterparts |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06306019A true JPH06306019A (ja) | 1994-11-01 |
Family
ID=26716953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5860494A Pending JPH06306019A (ja) | 1993-03-30 | 1994-03-29 | 芳香族アミン環水素化相当物を製造するための芳香族アミンの水素化 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0618188B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06306019A (ja) |
| DE (1) | DE69405623T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016143537A1 (ja) * | 2015-03-09 | 2016-09-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ジアミノジシクロヘキシルメタンの異性化方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19533718A1 (de) * | 1995-09-12 | 1997-03-13 | Basf Ag | Verfahren zur Hydrierung von aromatischen Verbindungen, in denen mindestens eine Aminogruppe an einen aromatischen Kern gebunden ist |
| WO2013040013A2 (en) * | 2011-09-13 | 2013-03-21 | Brookhaven Science Associates, Llc | Bimetallic catalysts for co2 hydrogenation and h2 generation from formic acid and/or salts thereof |
| CN109651165B (zh) * | 2017-10-10 | 2022-04-05 | 中国石油化工股份有限公司 | 苯胺加氢生产环己胺的方法 |
| CN111889097B (zh) * | 2020-07-28 | 2022-07-12 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种苯胺加氢催化剂、制备方法及应用 |
| EP4499730A1 (en) | 2022-03-25 | 2025-02-05 | Solvay Specialty Polymers USA, LLC | Filament containing polyamide (pa) polymer and its use for additive manufacturing |
| WO2024115176A1 (en) | 2022-11-28 | 2024-06-06 | Solvay Specialty Polymers Usa, Llc | Bio based transparent polyamides |
| WO2025071551A1 (en) | 2023-09-26 | 2025-04-03 | Solvay Specialty Polymer Usa, Llc | Polyamide based on 4,4'-diaminodicyclohexylmethane and 4,4'-methylene-bis-cyclohexylamine |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3558703A (en) * | 1966-03-09 | 1971-01-26 | Basf Ag | Catalytic hydrogenation of diaminodiphenyl alkanes or ethers |
| FR1600496A (ja) * | 1967-12-01 | 1970-07-27 | ||
| DE2036502C3 (de) * | 1970-07-23 | 1974-07-04 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Erhöhung des trans, trans-Anteils in Bis-(p-aminocyclohexyl) -propan |
| GB1364395A (en) * | 1972-01-10 | 1974-08-21 | Du Pont | Treatment of bis 4-aminocyclohexyl methane salts |
| DE2506348C3 (de) * | 1975-02-14 | 1980-07-17 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Hydrierkatalysator |
| DE3045719A1 (de) * | 1980-12-04 | 1982-07-08 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von cycloaliphatischen und/oder aromatischen aminen |
| DE3240286A1 (de) * | 1982-10-30 | 1984-05-03 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von n-alkylsubstituierten cyclohexylaminen |
| US4960941A (en) * | 1988-03-30 | 1990-10-02 | Air Products And Chemicals, Inc. | Hydrogenation of aromatic amines to produce their ring hydrogenated counterparts |
| US5214212A (en) * | 1992-02-27 | 1993-05-25 | Olin Corporation | Promoters for hydrogenation of aromatic amines |
-
1994
- 1994-03-25 DE DE1994605623 patent/DE69405623T2/de not_active Revoked
- 1994-03-25 EP EP19940104801 patent/EP0618188B1/en not_active Revoked
- 1994-03-29 JP JP5860494A patent/JPH06306019A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016143537A1 (ja) * | 2015-03-09 | 2016-09-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ジアミノジシクロヘキシルメタンの異性化方法 |
| US10294194B2 (en) | 2015-03-09 | 2019-05-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Isomerization method for diaminodicyclohexylmethane |
| TWI697473B (zh) * | 2015-03-09 | 2020-07-01 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | 二胺基二環己基甲烷之異構化方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69405623D1 (de) | 1997-10-23 |
| DE69405623T2 (de) | 1998-01-29 |
| EP0618188A2 (en) | 1994-10-05 |
| EP0618188A3 (en) | 1995-04-26 |
| EP0618188B1 (en) | 1997-09-17 |
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