JPH06310076A - 透過形走査電子線装置及び試料密度測定方法 - Google Patents

透過形走査電子線装置及び試料密度測定方法

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JPH06310076A
JPH06310076A JP5102153A JP10215393A JPH06310076A JP H06310076 A JPH06310076 A JP H06310076A JP 5102153 A JP5102153 A JP 5102153A JP 10215393 A JP10215393 A JP 10215393A JP H06310076 A JPH06310076 A JP H06310076A
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electron
electron beam
intensity
transmitted
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JP5102153A
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Yasushi Nakaizumi
泰 中泉
Masayoshi Ishida
政義 石田
Tatsuki Okamoto
達希 岡本
Akimitsu Okura
昭光 大蔵
Mine Nakagawa
美音 中川
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Central Research Institute of Electric Power Industry
Hitachi Ltd
Original Assignee
Central Research Institute of Electric Power Industry
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】従来技術では達しえなかった、微視的な領域で
の物質の密度、特に高分子材料での密度を、透過形走査
電子線装置を用いて評価できる手段と方法を提供するこ
とにある。 【構成】STEMによる微小領域の観察だけでなく、試
料への入射電子強度を検出する手段と、前記試料を透過
した電子強度を検出する手段を設け、透過電子強度と入
射電子強度の比、すなわち、その試料の電子線透過率
と、走査領域での試料厚さtx物質の密度ρとの関係か
ら、走査領域中の物質の密度を評価できるよう構成した
もの。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は走査形電子顕微鏡及び該
装置等を利用した試料密度測定方法に係り、特に透過形
走査電子顕微鏡に使用するに好適な装置及び測定方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】細く絞った電子線を試料上で走査して、
試料から発生した二次電子,反射電子(後方散乱電
子),透過電子,X線,カソードルミネッセンスなどの
信号を検出して走査像を表示する装置、いわゆる走査形
電子顕微鏡(SEM)は、試料の微小領域を観察する装
置として広く用いられている。しかし、これまでの使用
目的としては、試料の表面観察やX線分析が主体であっ
た。最近になって、試料の内部構造をナノメータレベル
で観察できる透過形走査電子顕微鏡(ScanningTransmis
sion Electron Microscope;以下STEMと略す)が注
目されている。STEM像は、従来の透過形電子顕微鏡
(TEM)像とほぼ同等であるが、次のような特徴をも
っている。
【0003】(1)STEMでは、透過電子の増幅器の
特性を変えることによって像のコントラストを変えるこ
とができる。このため、特に入射電子のエネルギーが3
0keV以下の場合、無染色切片のようにコントラストの
ない試料でも十分高いコントラストで観察できる。
【0004】(2)STEMでは、電子プローブをでき
るだけ小さく絞ることにより、試料面上を走査すること
から、ビーム照射量や照射領域を適当に調節することが
可能である。
【0005】これらの特徴と、電界放出形電子銃(Fiel
d Emission Gun;以下FE−電子銃と略す)とを組み合
わせると、高輝度、超高分解能FE−STEMとなり、
原子・分子レベルの観察装置としてきわめて有用な装置
となる。このため、高分子材料の分野でも、注目されて
きているが,まだもっぱら構造観察に利用されることが
多い。数μm以下の微視的な領域での材料特性評価用と
しての利用は未踏の領域となっており、具体的な手段や
方法は見出されていなかった。特に、高分子材料の特性
評価の中で、極微小領域での物質の密度を評価する手段
は見出されていなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術では達しえなかった、微視的な領域での物質の密
度、特に高分子材料での密度を、透過形走査電子線装置
を用いて評価できる装置及び方法を提供することにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、STEMによる微小領域の観察だけ
ではなく、試料への入射電子強度Iinを検出する手段
と、前記試料を透過した電子強度Iout を検出する手段
を設け、透過電子強度と入射電子強度の比、すなわち、
その試料の電子線透過率Iout/Iinと、走査領域での
(試料厚さt)×(物質の密度ρ)との関係から、走査領
域中の物質の密度を評価できるよう構成し、また、該方
法で試料密度を測定することにある。
【0008】
【作用】入射電子強度検出手段は、対物レンズ絞りでカ
ットされる電子プローブの一部を検出する手段か、試料
の上方で、光軸に対し出し入れ可能な第1のファラデー
カップ装置とする。又は、電子プローブを偏向させる手
段と、光軸外で固定的に配置されたファラデーカップ装
置により、試料に入射する電子流を偏向させることによ
り、入射電子強度を検知できるようにしている。一方、
透過電子強度検出手段は、試料の下方で、シンチレー
タ,ライトガイド及びフォトマルチプライヤーなどで構
成された透過電子検出器で検出するか、又は、試料の下
方に第2のファラデーカップ装置を、光軸から出し入れ
可能にして透過電子流を検出できるようにしている。あ
るいは試料の下方に偏向手段を設けて、光軸外に固定的
に配置されたファラデーカップ装置へ透過電子流を偏向
させて検出できるようにしている。又は、透過電子エネ
ルギー分析装置を設けることにより、透過電子強度を検
出するようにしている。このように検出された透過電子
強度信号と入射電子強度信号を演算回路に取り込んで出
力し、上記したIout/Iinとt・ρの関係が調べられる
ようにしている。
【0009】
【実施例】以下、図面を用いて本発明を詳細に説明す
る。
【0010】図1は、本発明の一実施例であり、電界放
出形電子銃を搭載した透過形走査電子顕微鏡(FE−S
TEM)に本発明の入射電子強度検出手段と、透過電子
検出手段を設けた構成概略図を示している。同図におい
て、電界放出陰極1と静電レンズ2などとから成る電界
放出形電子銃3から放出された電子ビーム4は、第1コ
ンデンサレンズ5,第2コンデンサレンズ6及び対物レ
ンズ7により、インレンズ方式5の試料ステージ8上の
試料9の面上で極めて細い電子プローブ10に収束され
る。電子プローブ10は、走査電源12を通して偏向コ
イル13で偏向することにより、試料面上で二次元的に
走査される。試料上に入射した電子は、試料物質との相
互作用によって、後方散乱電子(図示せず),二次電子
14,吸収電子(図示せず),透過電子15,X線(図
示せず),カソードルミネッセンス(図示せず)などの
種々の信号(試料情報)を与える。STEMの場合は、
透過電子信号を検出できるように、試料は極めて薄い切
片(通常、厚さ数100nm以下)に処理され、試料ス
テージ8上にセットされる。試料9を透過した電子15
には、原子と衝突しないで出てきた透過電子(非散乱電
子),エネルギーを失わずに弾性散乱された電子,原子
と衝突してエネルギーの一部を失って出てきた非弾性散
乱電子とがまざっている。このような透過電子信号は、
試料の下方に配置したシンチレータ16,ライトガイド
17,フォトマルチプライヤ18などで構成される透過
電子検出器19で検出される。さらにこの信号は、増幅
回路20で増幅され、映像信号として信号選択回路21
を経て陰極線管(CathodeRay Tube;以下CRTと略
す)22に送られ、STEM像となる。観察している像
の倍率は、CRT上でのスクリーン幅と試料上での電子
プローブ10の走査幅の比で決まる。この倍率の変化
は、倍率変化回路23と走査電源12によって行われ
る。また、倍率の調整や偏向コイルの偏向角の調整は、
偏向制御回路24によって行われる。なお、試料9の二
次電子像を観察したい場合は、試料の上方に二次電子検
出器25を配置して二次電子信号を検出し、信号選択回
路21を経てCRTに信号を送れば、試料表面の走査像
が得られる。反射電子像についても同様である。
【0011】さて、このような装置で超薄切片試料を観
察した場合、通常のTEMと同様な透過電子像が得られ
るが、STEMの場合、試料上での観察領域を二次元的
に走査することから、入射電子強度(入射電子流)Iin
と透過電子強度(出射電子流)Iout を時々刻々、走査領
域(視野)に対応して測定することが可能である。この
入射電子強度Iinと透過電子強度Iout は次のような関
係式で近似できると考えられる。
【0012】 Iout=Iin・exp(−Aρt) …(1) ここに、ρ:走査領域内の物質の密度 t:試料厚さ A:定数 今、入射電子の加速電圧,エネルギー幅,入射角を一定
とすると(1)式から ρt=(1/A)・ln(Iin/Iout) …(2) したがって、試料の厚さtと、透過電子強度Iout と入
射電子強度Iinとの比から、密度ρを求めることができ
る。
【0013】図1の実施例では、対物レンズ絞り26で
検出される電子プローブ10の一部分が、入射電子流に
比例することから、対物レンズ絞り26で検出された吸
収電子信号を増幅器27で増幅し、比例定数をかけて、
入射電子強度Iinの信号としている。一方、透過電子強
度Iout は試料9の下方に設けられた前記シンチレータ
16,ライトガイド17,フォトマルチプライヤー18
などから構成される透過電子検出器19によって検出さ
れた透過電子信号と同等とみなし、演算回路28に導い
ている。該演算回路は割算や加算,減算できる回路であ
るが、ここでは、割算回路でIin/Iout の演算を行
い、切替スイッチ29により適宜、CRT22に信号と
して送り出し、表示できるようになっている。X方向の
み走査すればCRT上では、ラインプロファイルのよう
にIin/Iout の変化を表示する。また、二次元的な走
査にすれば、Iin/Iout に相当する輝度変化でもっ
て、STEM像が得られる。なお、図示しないが、前記
演算回路28を通したあとの、Iin/Iout のデータを
記録計に出力するようにしてもいい。また、図1の実施
例において、入射電子強度は対物レンズ絞り26で検出
されるプローブ電流の一部を利用したが、FE電子銃3
と第1コンデンサレンズ5の間に設けられたFEノイズ
キャンセル用の絞り、いわゆるビームモニタ絞り30に
よって検出される電気信号を用いてもよい。ただし、コ
ンデンサレンズ5で細く絞る前の電子ビームを利用する
ことになるので、試料への入射電子強度との対応精度は
対物レンズ絞り26で検出する場合よりも多少悪くな
る。
【0014】図2は、本発明の他の一実施例である。以
下、図1とほぼ同一の構成部材を意味するものは同一符
番でもって示すものとする。この実施例では、試料9の
上方に入射電子流を検出する第1のファラデーカップ装
置31を、また、試料の下方には透過電子流を検出する
第2のファラデーカップ装置32を設け、それぞれ、電
子線光軸から自在に出し入れできるようにしている。
【0015】このような構成により、試料への入射電子
強度と、試料からの透過電子強度を正確に検出できるよ
うになる。なお、前記第1のファラデーカップ装置31
の代りに、試料ステージ8上の試料9の近傍にファラデ
ーカップに相当する部材を配置し、試料ステージ8を移
動して、適時、試料9への入射電子流を検出するように
してもかまわない。
【0016】図3は、本発明の他の一実施例であり、前
記第1及び第2のファラデーカップ31a,32aをい
ちいち光軸から出し入れしなくともすむように光軸外に
固定して設け、電子プローブの偏向装置33と、透過電
子偏向装置34を対物レンズ7の上下に設けたものであ
る。これにより、適宜、電子ビームを偏向させて、各々
のファラデーカップ内に電子流が検出されるよう偏向手
段が設けられている。この偏向手段は、偏向コイルで電
磁的に行うようになっていてもよい。あるいは、静電偏
向板で偏向できるようにしてもよい。また、対物レンズ
上部の偏向装置は、第2コンデンサレンズ6の下方の走
査用偏向コイルと兼用できるようにしてもよい。
【0017】図4は、図2で示した実施例に加えて試料
9の厚さを電子エネルギーロススペクトロメーター(El
ectron Energy−Loss Spectrometer;通称EELS)法
によって調べられるように、EELS装置35を対物レ
ンズ7の下方に設けた実施例である(透過電子検出器1
9は横方向から出し入れできるようにしている。)。E
ELS装置35が無い場合は試料9の厚みtは別の装置
により、測定する必要があった。しかし、EELS装置
35でゼロスペクトル及び非弾性散乱のスペクトルを測
定することにより試料の厚みtが次式(3)で求めるこ
とができる。 t=λ・ln(It/I0) …(3) λ:非弾性散乱の平均自由行程 It:EELSのスペクトルの全強度 I0:EELSのゼローロススペクトルの強度 このtの値により、物質の密度ρを求めることができ
る。
【0018】また、EELS装置35により、全透過電
子を検出できるため、ファラデーカップ32は必ずしも
設ける必要は無い。又、EELS装置35の出力を画像
信号として使用することも可能である。
【0019】図4において透過電子検出器19は横方向
から出し入れする方法であるが、この限りではなく、透
過電子検出器19を軸外に固定し、図3で示した偏向装
置34を設け、透過電子を偏向し透過電子検出器19で
検出出来るようにしてもよい。
【0020】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明によれば、S
TEMで観察している領域の物質の密度を知ることがで
きるようになる。特に、高分子材料の分野では、微視的
な材料特性を知る上で有力な装置及び方法となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す構成概略図である。
【図2】本発明の他の一実施例を示す構成概略図であ
る。
【図3】本発明の他の一実施例を示す構成概略図であ
る。
【図4】本発明の他の一実施例を示す構成概略図であ
る。
【符号の説明】
3…電界放出形電子銃、9…試料、10…電子プロー
ブ、15…透過電子、19…透過電子検出器、28…演
算回路、31,31a,32,32a…ファラデーカッ
プ装置、33…電子プローブ偏向装置、34…透過電子
偏向装置、35…電子エネルギースペクトロメーター
(EELS)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡本 達希 神奈川県横須賀市長坂2丁目6番1号 財 団法人 電力中央研究所 横須賀研究所内 (72)発明者 大蔵 昭光 茨城県勝田市市毛1040番地 株式会社日立 サイエンスシステムズ内 (72)発明者 中川 美音 茨城県勝田市堀口字長久保832番地2 日 立計測エンジニアリング株式会社内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子線を試料上で走査する手段を有し、前
    記試料から検出された信号を表示手段に導入して走査像
    を得る装置において、試料への入射電子強度を検出する
    手段と、試料を透過した電子信号を検出して透過走査像
    を得る手段とを有することを特徴とする透過形走査電子
    線装置。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記試料への入射電子
    強度を検出する手段は、入射電子光軸から出し入れでき
    るよう構成したことを特徴とする透過形走査電子線装
    置。
  3. 【請求項3】請求項1において、前記試料への入射電子
    強度検出手段は、試料より上方へ設けた偏向手段によ
    り、照射電子線光軸より電子プローブを偏向させて試料
    への照射電流を検出するよう構成したことを特徴とする
    透過形走査電子線装置。
  4. 【請求項4】請求項1において、前記試料を透過した電
    子強度を検出する手段は、透過電子線光軸の中心軸から
    出し入れできるよう構成したことを特徴とする透過形走
    査電子線装置。
  5. 【請求項5】請求項1において、前記試料を透過した電
    子強度を検出する手段は、試料の下方に設けた偏向手段
    により、透過電子線の中心軸より透過電子線を偏向させ
    て検出するよう構成したことを特徴とする透過形走査電
    子線装置。
  6. 【請求項6】請求項1において、前記試料を透過した電
    子強度を検出する手段として、透過電子エネルギー分析
    装置を備えていることを特徴とする透過形走査電子線装
    置。
  7. 【請求項7】請求項1において、前記試料への入射電子
    強度と、透過電子強度を取り込んで両者の比を出力する
    演算手段を備えていることを特徴とする透過形走査電子
    線装置。
  8. 【請求項8】請求項1において、前記試料の下方に透過
    電子エネルギー分析装置を備えていることを特徴とする
    透過形走査電子線装置。
  9. 【請求項9】請求項1において、前記試料に入射する前
    記電子線のエネルギーは30keV以下であることを特
    徴とする透過形走査電子線装置。
  10. 【請求項10】電子線を試料上で走査し、当該試料の密
    度を測定する方法において、上記試料へ入射される電子
    線強度と、上記試料を透過した電子線強度とを求め、上
    記入射電子線強度と上記透過電子線強度とを比較し、上
    記試料の密度を測定することを特徴とする試料密度測定
    方法。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0768700A1 (en) 1995-10-11 1997-04-16 Hamamatsu Photonics K.K. Electron multiplier for scanning electron microscopes
WO2000041206A1 (fr) * 1999-01-04 2000-07-13 Hitachi, Ltd. Dispositif de mappage d'elements, microscope electronique a transmission et a balayage, et procede associe
US6265812B1 (en) 1996-11-06 2001-07-24 Hamamatsu Photonics K.K. Electron multiplier
JP2005032732A (ja) * 2004-09-15 2005-02-03 Hitachi Ltd 走査電子顕微鏡
JP2006302724A (ja) * 2005-04-22 2006-11-02 Hitachi High-Technologies Corp 電子線分光器を備えた透過型電子顕微鏡
JP2009140893A (ja) * 2007-12-11 2009-06-25 Fujitsu Ltd 電子線装置、電子線形状測定方法及び画像処理方法
EP1450391A3 (en) * 2003-01-31 2011-03-09 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam device
WO2021038715A1 (ja) * 2019-08-27 2021-03-04 株式会社日立ハイテク 透過型電子顕微鏡および撮像方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5717206A (en) * 1995-10-11 1998-02-10 Hamamatsu Photonics K.K. Electron multiplier for scanning electron mircroscopes
EP0768700A1 (en) 1995-10-11 1997-04-16 Hamamatsu Photonics K.K. Electron multiplier for scanning electron microscopes
US6265812B1 (en) 1996-11-06 2001-07-24 Hamamatsu Photonics K.K. Electron multiplier
US7928376B2 (en) 1999-01-04 2011-04-19 Hitachi, Ltd. Element mapping unit, scanning transmission electron microscope, and element mapping method
WO2000041206A1 (fr) * 1999-01-04 2000-07-13 Hitachi, Ltd. Dispositif de mappage d'elements, microscope electronique a transmission et a balayage, et procede associe
US7964845B2 (en) 2003-01-31 2011-06-21 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam device
EP1450391A3 (en) * 2003-01-31 2011-03-09 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam device
EP2560185A3 (en) * 2003-01-31 2013-09-04 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam device with dark field detector
JP2005032732A (ja) * 2004-09-15 2005-02-03 Hitachi Ltd 走査電子顕微鏡
JP2006302724A (ja) * 2005-04-22 2006-11-02 Hitachi High-Technologies Corp 電子線分光器を備えた透過型電子顕微鏡
JP2009140893A (ja) * 2007-12-11 2009-06-25 Fujitsu Ltd 電子線装置、電子線形状測定方法及び画像処理方法
WO2021038715A1 (ja) * 2019-08-27 2021-03-04 株式会社日立ハイテク 透過型電子顕微鏡および撮像方法
JPWO2021038715A1 (ja) * 2019-08-27 2021-03-04
US12183542B2 (en) 2019-08-27 2024-12-31 Hitachi High-Tech Corporation Transmission electron microscope and imaging method

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