JPH063219U - 調理器の加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 渦巻き形シーズヒータを用いた加熱装置の火
力分布の均一化を図ることである。 【構成】 シーズヒータ１５の内端１６の反渦巻き方向
に片寄った部分に正規の渦巻き形状より内側に寄った内
側片寄り部２４を形成し、また外端１７の渦巻き方向に
片寄った部分に正規の渦巻き形状より外側に寄った外側
片寄り部２５を形成したことにより、火力分布の均一化
を図った。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は、電気炊飯器等の調理器の加熱装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

業務用の電気炊飯器のように大形の調理器の加熱装置は十分大きな電力を必要 とするため、シーズヒータを渦巻き形に２〜３周巻き曲げたものが使用される。

【０００３】 この場合の渦巻き形シーズヒータは、その内端から外端まで、中心からの半径 が角度に応じて滑らかに増大する形状、即ち正規の渦巻き形状をなし、また、全 体として平盤形のものであった。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記のごとき渦巻き形シーズヒータを用いて炊飯等の調理を行 った場合、シーズヒータの内端や外端の近傍において火力が不足しがちであり、 調理物の仕上がりにムラがあるという問題があった。

【０００５】 一方、調理鍋の底面は、プレス成形の都合上、中央部分が内方に高く、外方に 至るに従って低くなる曲面になっているが、これを加熱するためのシーズヒータ は全体として平盤形であるので、鍋の底面とシーズヒータの間隙が不均一であっ た。その不均一の影響を無くするため、従来は、遮熱板に工夫を加えたり、或い は熱風を循環させるなどして均一な加熱が出来るようにしていたが、このような 手段は製品のコストアップの要因になるという難点があった。

【０００６】 そこで、この考案の課題はシーズヒータの形状に工夫を加えることにより、上 述の問題を解決することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】 上記の課題を解決するための第１の手段は、渦巻き形シーズヒータを有する調 理器の加熱装置において、上記シーズヒータ内端の反渦巻き方向に片寄った部分 に正規の渦巻き形状より内側に寄った内側片寄り部を形成し、ヒータ外端の渦巻 き方向に片寄った部分に正規の渦巻き形状より外側に寄った外側片寄り部を形成 した構成としたものである。

【０００８】 また、第２の手段は、上記第１の手段の構成において、底面の中心部分が内方 に高く、外周に至るほど低くなる曲面に形成された鍋を載せる加熱装置において 、内側のシーズヒータに比べ外側のシーズヒータが上記鍋の底面形状に沿って低 く形成された構成としたものである。

【０００９】

【作用】

上記第１の手段の加熱装置においては、火力の不足する部分にシーズヒータが 片寄って配置されるので、その部分の火力が上昇し、全体として火力分布が均一 化する。

【００１０】 また、第２の手段の加熱装置においては、シーズヒータと鍋の底面間の間隙が 全体的に均一化されるので、火力分布が一層均一化される。

【００１１】

【実施例】

添付の図面は、調理器の一例としての電気炊飯器の加熱装置を示すものである 。

【００１２】 図１において、１は胴、２は底、３は蓋、４は外遮熱板、５は外容器、６は鍋 、７は加熱装置、８は温度センサを示す。また図２において、９は肩、１１は外 容器５と加熱装置７との間に介在された内遮熱板である。この内遮熱板１１は中 央部分にテーパ状の立上がり部１２があり、その立上がり部１２に温度センサ８ を臨ませるための穴１４が形成される（図４参照）。

【００１３】 加熱装置７は、渦巻き形のシーズヒータ１５により構成される。このシーズヒ ータ１５は、内遮熱板１１の立上がり部１２に近い部分に形成された穴を通して 内遮熱板１１の上面に引出される。シーズヒータ１５はこの引出された端部、即 ち内端１６を基点として、立上がり部１２のまわりを囲み、次第に中心からの距 離が大きくなって渦巻き形をなす。渦巻き形に２周半回ったところで、シーズヒ ータ１５の端部、即ち外端１７は、内遮熱板１１の穴からその下面に引込まれ、 その下面においてリード線と接続される。

【００１４】 上記のシーズヒータ１５は、３箇所において、ホルダ１８、１９、２０により 支持され、内遮熱板１１上から所定の間隔を保持している。１つのホルダ１８は 内端１６の近くに設けられ、他の２つのホルダ１９、２０は上記のホルダ１８か ら中心角で１２０度ずつ隔てた位置において放射方向に設けられる。

【００１５】 これらのホルダ１８、１９、２０は、図４に示すように、外容器５の底面に固 定された下ホルダ２１を内遮熱板１１の放射方向のスリット２２に挿入し、その 下ホルダ２１によりシーズヒータ１５の下面を支持する。シーズヒータ１５の上 面は上ホルダ２３により保持され、上ホルダ２３は下ホルダ２１上に重ねて内遮 熱板１１に固定される。

【００１６】 シーズヒータ１５の渦巻き形状は正規の渦巻き形状（図３の二点鎖線参照）か ら部分的にずれている。即ち、内端１６の近傍においては、その内端１６近くの ホルダ１８から反渦巻き方向の隣接したホルダ２０との間において、１周目のシ ーズヒータ１５が正規の渦巻き形状から内方へ片寄った内側片寄り部２４が形成 され、上記二つのホルダー１８、２０間における立上がり部分１２に沿った部分 の火力分布の不足を補っている。

【００１７】 また、上記内端１６の近傍のホルダ１８から反渦巻き方向に二つ目のホルダ１ ９にわたる範囲のシーズヒータ１５については、正規の渦巻き形状よりも外方へ 片寄った外側片寄り部２５が形成されており、この部分の火力分布の不足を補っ ている。

【００１８】 一方、前記の鍋６の底面は、中央部分が最も高く、外周に至るに従い、緩やか に低くなる曲面に形成されている。前記のシーズヒータ１５はその鍋６の底面の 曲面に沿って、その中央部分、即ち内遮熱板１１の立上がり部分１２の周りの１ 周目の部分が最も高く、２周目以降は次第に低くなるように形成され、全体とし て、鍋６の底面とシーズヒータ１５との間隔は一定に保持される。

【００１９】

【考案の効果】

以上のように、この考案によればシーズヒータが内端及び外端の近傍において それぞれ内側片寄り部及び外側片寄り部を有することから、平面的な火力分布が 均一化され調理の仕上がりが良好である。

【００２０】 更に、上記の構成に加えて鍋底の曲面形状に沿うより中央部が高く、外周に至 るほど低くなるよう形成することにより、鍋底とシーズヒータとの間隔が一定と なり、一層火力分布の均一化が促進され、調理の仕上りも一層良好となる。

【００２１】 また、シーズヒータの形状の工夫だけで火力分布の均一化を図ることができ、 他の部材を用いる必要がないので、低コストである利点もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の縦断正面図

【図２】同上の一部拡大縦断正面図

【図３】同上の加熱装置の平面図

【図４】同上の一部分解斜視断面図

【符号の説明】

１ 胴 ２ 底 ３ 蓋 ４ 外遮熱板 ５ 外容器 ６ 鍋 ７ 加熱装置 ８ 温度センサ ９ 肩 １１ 内遮熱板 １２ 立上がり部 １４ 穴 １５ シーズヒータ １６ 内端 １７ 外端 １８、１９、２０ ホルダ ２１ 下ホルダ ２２ スリット ２３ 上ホルダ ２４ 内側片寄り部 ２５ 外側片寄り部

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 渦巻き形シーズヒータを有する調理器の
   加熱装置において、上記シーズヒータ内端の反渦巻き方
   向に片寄った部分に正規の渦巻き形状より内側に寄った
   内側片寄り部を形成し、ヒータ外端の渦巻き方向に片寄
   った部分に正規の渦巻き形状より外側に寄った外側片寄
   り部を形成したことを特徴とする調理器の加熱装置。
2. 【請求項２】 底面の中心部分が内方に高く、外周に至
   るほど低くなる曲面に形成された鍋を載せる加熱装置に
   おいて、内側のシーズヒータに比べ外側のシーズヒータ
   が上記鍋の底面形状に沿って低く形成されたことを特徴
   とする請求項１に記載の調理器の加熱装置。