JPH0632270B2 - 稚魚飼育装置 - Google Patents

稚魚飼育装置

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JPH0632270B2
JPH0632270B2 JP62288415A JP28841587A JPH0632270B2 JP H0632270 B2 JPH0632270 B2 JP H0632270B2 JP 62288415 A JP62288415 A JP 62288415A JP 28841587 A JP28841587 A JP 28841587A JP H0632270 B2 JPH0632270 B2 JP H0632270B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特に孵化後の稚魚を幼魚まで飼育装置に関す
るものである。
〔従来技術〕
周知のとおり漁業資源を確保するために天然の魚卵を採
取し、人工孵化させた稚魚を幼魚まで飼育することが普
及するに伴い、適温の清浄な水を確保することが困難と
なるなどの新たな問題が生じるに至っている。従って、
サケ、マスに例を取ると、サケ、マスの回帰が期待され
る河川を持つ他方で人工孵化、飼育事業が盛んに行われ
るようになっている。
ところで、このような地域では、飼育に最も適温とされ
る水温が一般に8℃程度の好ましい水質の水を確保する
ことが困難になっている。即ち、北海道、東北地方の湧
水はほぼ8℃であるが、このような湧水を得るには地域
と湧水量に限度がある。そこで他の水源、例えば河川の
水、伏流水などが使用されるに至っている。これらの用
水は水質が適合しても、サケ、マスの稚魚を飼育する寒
い時期には平均水温が4℃前後と低い温度となり、飼育
場での稚魚の飼育に支障を来す結果となっている。
即ち、稚魚の飼育は流水で行う必要があるので、前記の
ように適温より低い温度の用水を加温して適温とするに
は膨大な熱量を必要とすることの外に、加温することに
より溶存酸素量が減少したり、用水内の生体系が加熱に
より変化したりするという問題がある。
そこで本発明者は、これらの適温以下の水温でも人工孵
化による稚魚を順調に飼育できる養魚手段として、用水
自体を大量の熱を賦与して温めるのではなく、養魚池内
に遠赤外線を放射することにより低水温下でも順調に稚
魚を飼育できる飼育手段を開発し、これを特願昭61-166
575 号(特公平 1-49688号)及び特願昭62-46679号(特
開昭63-214126 号)として既に提案している。これらの
発明は、それぞれ養魚池の上方又は池底に遠赤外線照射
手段を設けて飼育するものである。
これらの手段によると、飼育期間中の平均水温が1〜2
℃の場合、孵化からふ上までの期間が120 日を要してい
たものが、前記発明を実施したところ50〜52日(8℃の
適温でば30日)と著しく短縮することができ、放流時期
に幼魚の発育状態を合せることができた。
しかも孵化からふ上までの稚魚(仔魚)は、適温以下の
冷たい用水中飼育すると養魚池を上流方向に移動する習
性がある。しかし、先に提案した発明の手段によるとこ
のような習性が現れず、従来より遥かに少ない投入エネ
ルギで高い飼育成績を得ることが可能である。
ところでサケ、マスなどの回遊魚が、孵化した河川に回
帰する率は極めて低いと推定されている。したがって、
前記先行技術を効率的に実施するためには、投入エネル
ギに対し高い放射効率の遠赤外線放射装置を開発するこ
とが重要な鍵になる。
〔発明の目的〕
本発明は、以上の問題に着目して成されたものであり、
流水状態で飼育する稚魚、特に、孵化からふ上までの稚
魚を、好適な場所を求めて稚魚が移動することを防止す
るために、効率的に遠赤外線を照射して飼育する稚魚飼
育装置を提供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
以上の目的を達成するための本発明の稚魚飼育装置は、
一方から他方へ水を流下させ、水底に稚魚を潜ませる稚
魚用魚礁を敷き詰めた水槽の上部、あるいは稚魚用魚礁
の下面に養魚用遠赤外線放射装置を設けており、 前記養魚用遠赤外線放射装置は、平板状の放熱面を有す
る金属製ケーシングの前記放熱面の裏面に面状発熱体を
配置すると共に、この面状発熱体の裏面に断熱層を積層
しており、更に前記放熱面の表面にセラミック溶射層が
設けられており、このセラミック溶射層は水槽の水面に
平行し、可視光線を放射しない温度に加熱されることを
特徴としている。
前記金属製ケーシングは板状体を加工したものであり、
これの母材には特に限定はなく溶射したセラミック層が
強固に付着する材料であれば良い。また、放熱面を多く
し、効率的に放熱する意味で放熱面を平坦にしたものを
使用するのが良い。
本発明の養魚用遠赤外線放射装置は主に水槽の上面に設
置されて使用されるものであるが、場合によっては水中
に沈めて使用することもできるが、容易に装置内部に水
が侵入せず、腐食しにくい構造とすることが必要であ
る。
前記溶射層を形成するセラミックは、1種類の原料であ
る必要はなく、種々の原料を混合した組成物であってよ
い。使用し得る原料には特に限定はなく、通常の窯業製
品に使用する原料を使用することができるが、遠赤外線
を多く放射するセラミックとしては、例えばジルコニ
ア、マグネタイト、アルミナ、ジルコン、鉄、クロム、
マンガンなどの複合酸化物などが挙げられる。
前記溶射方法は、通常プラズマ溶射ガンによって行い、
層の厚さは数μ以上、必要に応じて20mm以上にも溶射す
ることができる。このプラズマ溶射ガンは、1万℃以上
の超高温プラズマアーク炎を作り、これに粉末とした原
料を送込み、マッハ1〜2などの高速ジェット噴流中で
融解させながら対象母材表面に原料を叩き付けでセラミ
ック層を形成するものである。なお、実施に当りより効
率のよい溶射厚さとなるようにする。
本発明の前記構成は、高い遠赤外線放射効率により少な
い投入エネルギで、稚魚その他のプランクトンの成長を
促し、且つ遠赤外線放射領域に定着させる作用をする。
即ち、セラミック溶射体は、それ自体が遠赤外線波長へ
の変換体の役割を果している。特にセラミック素材をそ
の素材独特の遠赤外線の波長領域をより多く放射する放
射体に変化させる作用をする。
ケーシングより遠赤外線を効率的に放射するためには、
このケーシングを所定の温度に加温する必要があるが、
これの加温手段は電気的に加熱する手段を採用してお
り、これに使用する抵抗体は、金属低抗体のほか、例え
ばカーボンなどの導電体粒子を樹脂に分散させ、シート
状としたものを使用して面状発熱体の形態として使用す
るのが好ましい。
前記放射面の温度には限定はないが、高温とすると遠赤
外線放射量は増加するが、エネルギロス、例えば可視光
線の放射、伝熱などによるロスが増加するなどエネルギ
効率を低下させる。特に暗がりで飼育する必要のあるサ
ケ、マスの孵化後の稚魚(仔魚)などでは、7〜9℃程
度の範囲の放射面温度とすることが好ましい。
本発明の養魚用遠赤外線放射装置は、稚魚、特に孵化か
らふ上までの稚魚の飼育に使用する場合には、飼育池の
水面から50〜 250cm程度の上方に遠赤外線放射面を下
にして配置することが最も好ましい。しかし、水槽に魚
体を潜ませる石やそれに代わる部材などの稚魚用魚礁を
敷き詰め、これの下面に配置して稚魚に接近した位置か
ら遠赤外線を放射することもできる。
以下にサケ、マスの孵化後の稚魚用飼育池の池底に沈め
て使用するようにして実施した一実施例により本発明を
具体的に説明する。
第1図は本実施例の養魚用遠赤外線放射装置Rを説明す
るために一部破断して示した斜視図である。図において
ステンレス鋼から成るケーシング1は、周囲にフランジ
部2を設け、底板3によって水密的に密閉する偏平な箱
状体であり、そのケーシングの母材面4(放熱面)にセ
ラミック溶射層5を設けている。前記フランジ部2は、
内側に向けて設けることもできる。
発熱体6は、カーボン粒子を混入した熱可塑性樹脂から
成り、両端に銅線をリボン状に編んだ電極7を配置しシ
ート状とした長尺ものとした電熱ヒータ(商標名:プラ
ヒート)であり、その下にバックアップを兼ねた軟質発
泡樹脂から成る断熱層8を設けたものである。
発熱体6は金属抵抗線を用いてもよく、断熱層7は、例
えばガラスウールなど他の断熱材を用いてもよい。なお
9は水密とするためのパッキングであり、この養魚用遠
赤外線放射装置Rを水面の上方に設ける場合には使用す
る必要はない。
前記セラミック溶射層5は効率的に遠赤外線を放射する
手段として重要な部材であるが、これの、溶射厚さ20μ
仕様のプラズマ溶射ガンを使用し、本実施例では数μの
厚さとした。母材面4とセラミック溶射層5との接着強
度は極めて高かった。
第2図はセラミック溶射層5を断面の模型的に拡大して
示したものである。図において溶射層5はセラミックを
構成する微粒子10によって構成されており、各粒子1
0は相互の間に空間11が、通常のセラミック焼結体、
例えば通常の窯業製品より疎の状態となっている。即
ち、溶射による前記粒子10の密度が、使用したセラミ
ック原料に基づく遠赤外線放射能を高める作用をしてい
る。
第3図は第1の実施例に係るの稚魚飼育装置12を示す
もので、幅が約1.8 m、長さが約50mの平底で水深をほ
ぼ50cmまで調節できる長方形の水槽(あるいは水路)の
水底14に第1図で示した板状の遠赤外線放射装置Rを
敷き、その上に、ほぼ径が3.5cm前後の玉砂利から成
る稚魚用魚礁16を敷き積めた装置とした。そして、そ
の長手方向に約12mを区切り試験区とするために、直径
約2cmの硬質塩化ビニルパイプ18を10cm間隔で水面
より下に開口させた給水堰20と排水堰22とを配置し
た。
また、第4図は第2の実施例を示すもので、前記遠赤外
線放射装置Rを、水底14に配置した実施例1に代え
て、水面上約40cmの所に吊り紐15で吊るして行う以外
は、実施例1と同様に形成した稚魚飼育装置12を使用
した。
また、前記第1の実施例及び第2の実施例と比較するた
めに、遠赤外線放射装置Rを取り除いた以外は同じ形状
の水槽を使用した比較例の稚魚飼育装置を用意し、それ
ぞれ並列に配置して、サケの稚魚を孵化からふ上まで飼
育した。
飼育条件は、いずれも、ふるい状の網面を水面下約1cm
の所に配置し、ここに発明卵を1万個を配置した。孵化
した図示しない仔魚は、自力で網を抜けて稚魚用魚礁1
6内に身を隠した。
試験期間中の飼育用水として、水温が0.3〜2℃の河
川水を各稚魚飼育装置ごとに、流量35/分となるよう
に供給した。なお、適温8℃の湧水を使用する場合の標
準推量は80/分である。このようにして孵化から仔魚
のさいのうち吸収され、ふ上するまでの日数により、実
施例1、2と比較例とを対比した結果を第1表に示す。
なお、実施例2の遠赤外線放射装置Rの下側空間のグロ
ーブ温度計は7〜8℃に管理した。
水温が8℃の適温の湧水中で孵化まで飼育したサケの仔
魚は、孵化からふ上までに65日要するのに対し、第1の
実施例では、ふ上までの通算日数が90日、第2の実施例
ではふ上までの通算日数が70日を要したのに対し、比較
例では、ふ上までの通算日数が 150日を要し、明らかに
本発明の稚魚飼育装置12が優れているこを示してい
る。
即ち、仔魚は、前記したように、適温以下では好ましい
環境を求めて移動する習性があるが、第1の実施例及び
第2の実施例では、適温以下の水温でも、遠赤外線放射
領域内に定着させることができ、不要な体力消耗をなく
し、成長を促進することができる。
更に、以下の結果は、セラミック溶射層5を設けない遠
赤外線放射装置を使用した場合でも、同様の飼育結果を
得ることができるが、同じ遠赤外線放射量に対し、セラ
ミック溶射層5を設けた本発明の稚魚飼育装置は、電力
使用量が少なくて済み、大量にサケの人工孵化を行う場
合の経済性を大幅に低減させることができ、大きな経済
的利益を与えることができる。
前記第1の実施例は、例えば、稚魚飼育槽の底に基礎を
整えた上に、順次、発泡樹脂、その他の断熱材から成る
断熱層、発熱体を配置し、その上に例えば2〜3cmの厚
さにエポキシ樹脂層を設け、その表面に該樹脂が硬化す
る前にセラミックを溶射した鋼板、アルミニウム板等の
遠赤外線放射体を接着させて、稚魚飼育槽と一体構造と
するなど種々変形して実施することができる。
また、前記遠赤外線放射装置を空中に吊るす第2の実施
例の手段は、特に室内で使用するタイプのものには水密
構造をより簡略にすることができるので、使用材料の選
択、装置の形状もそれだけ容易になる。
参考例:実際に使用されている操業条件について説明す
ると、水槽の水面から約2mの位置に遠赤外線放射装置
を吊るし、約1mの位置にグローブ温度計を設けた装置
において、外気温が−11.7℃である場合にグローブ温度
が8℃になるように遠赤外線放射装置を制御した。この
場合の放熱面の温度は23.6℃、稚魚飼育装置を設けた室
内の乾燥温度は 3.2℃、水温は0.1 ℃であった。このよ
うな条件下においても本発明の稚魚飼育装置によれば、
少ない電力使用量で顕著な飼育効果を得ることができ
た。
この事実を考案するに、水温は 0.1℃と極めて低い、空
気中のグローブ温度を8℃程度に調節して遠赤外線を稚
魚に対して放射することによって、稚魚に対しては大き
な体感温度の影響を与えることができるのである。
〔発明の効果〕
本発明に係る稚魚飼育装置は、一方から他方へ水を流下
させ、水底に稚魚を潜ませる稚魚用魚礁を敷き詰めた水
槽の上部、あるいは稚魚用魚礁の下面に養魚用遠赤外線
放射装置を設けており、前記養魚用遠赤外線放射装置
は、平板状の放熱面を有する金属製ケーシングの前記放
熱面の裏面に面状発熱体を配置すると共に、この面状発
熱体の裏面に断熱層を積層しており、更に前記放熱面の
表面にセラミック溶射層が設けられており、このセラミ
ック溶射層は水槽の水面に平行し、可視光線を放射しな
い温度に加熱されることを特徴としている。
従って、流水の下で、適温以下の水温の水を使用して稚
魚を飼育する場合には、適温まで暖めることは経済的に
成り立たない。
しかしながら、本発明においては前記構成からなる養魚
用遠赤外線放射装置を使用して遠赤外線を稚魚用魚礁に
放射することによって、稚魚、特に、孵化からふ上まで
の仔魚を、流れに遡行することなく魚礁内に潜ませ、不
要な体力消耗をなくし、成長を助長することができ、例
えば、サケ・マスなどの稚魚を、適温以下の水温で飼育
し、しかも放流時期に間に合うように飼育することが可
能となる。
そして、平面状のセラミック溶射層は、均等に効率よく
遠赤外線を放射することができるので、稚魚、特に、孵
化からふ上までの仔魚を飼育する際のエネルギー消費を
少なくし、サケ・マスなどの稚魚を大量に人工飼育の経
済性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、一実施例による養魚用の遠赤外線放射装置を
一部破断して示した斜視図、第2図は、第1図のセラミ
ック溶射層の拡大断面図である。 そして第3図は、第1の実施例による本発明の稚魚飼育
装置の概要を説明する断面図、第4図は、第2の実施例
による本発明の稚魚飼育装置の概要を説明する断面図で
ある。 1……ケーシング、4……母材面、5……セラミック溶
射層、6……発熱体、12……稚魚飼育装置、14……
水底、16……稚魚用魚礁、R……遠赤外線放射装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一方から他方へ水を流下させ、水底に稚魚
    を潜ませる稚魚用魚礁を敷き詰めた水槽の上部、あるい
    は稚魚用魚礁の下面に養魚用遠赤外線放射装置を設けて
    おり、 前記養魚用遠赤外線放射装置は、平板状の放熱面を有す
    る金属製ケーシングの前記放熱面の裏面に面状発熱体を
    配置すると共に、この面状発熱体の裏面に断熱層を積層
    しており、更に前記放熱面の表面にセラミック溶射層が
    設けられており、このセラミック溶射層は水槽の水面に
    平行し、可視光線を放射しない温度に加熱されることを
    特徴とする稚魚飼育装置。
JP62288415A 1987-11-17 1987-11-17 稚魚飼育装置 Expired - Lifetime JPH0632270B2 (ja)

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JPH01132085A JPH01132085A (ja) 1989-05-24
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