JPH0632336B2 - 半導体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ装置Info
- Publication number
- JPH0632336B2 JPH0632336B2 JP59202698A JP20269884A JPH0632336B2 JP H0632336 B2 JPH0632336 B2 JP H0632336B2 JP 59202698 A JP59202698 A JP 59202698A JP 20269884 A JP20269884 A JP 20269884A JP H0632336 B2 JPH0632336 B2 JP H0632336B2
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- JP
- Japan
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- semiconductor laser
- temperature
- humidity
- dew point
- laser
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- Expired - Lifetime
Links
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- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜技術分野＞ この発明は、温度制御される半導体レーザ装置に関し、
特にレーザプリンタの光源として好適に使用される半導
体レーザ装置に関する。
特にレーザプリンタの光源として好適に使用される半導
体レーザ装置に関する。
＜従来技術＞ 近年レーザ光を光源とするレーザプリンタが開発されて
いる。そして、レーザ光を発生させるために、半導体レ
ーザを使用することが、光源の小型化等の観点から増加
している。
いる。そして、レーザ光を発生させるために、半導体レ
ーザを使用することが、光源の小型化等の観点から増加
している。
ところで、この半導体レーザは、注入電流を一定に保持
していても、温度が変化すると出力が変化するという特
性を有しているので、半導体レーザの出力変化を防止
し、所定の出力を維持させるために、半導体レーザの温
度を一定値に維持する技術が種々提案されている（特開
昭54-13343号公報、特開昭57-63879号公報、特開昭57-9
9791号公報、特開昭57-136382号公報等参照）。即ち、
半導体レーザにペルチェ素子を取付けることによって、
雰囲気温度の如何に拘わらず、一定温度、例えば２０℃
に維持するようにしている。
していても、温度が変化すると出力が変化するという特
性を有しているので、半導体レーザの出力変化を防止
し、所定の出力を維持させるために、半導体レーザの温
度を一定値に維持する技術が種々提案されている（特開
昭54-13343号公報、特開昭57-63879号公報、特開昭57-9
9791号公報、特開昭57-136382号公報等参照）。即ち、
半導体レーザにペルチェ素子を取付けることによって、
雰囲気温度の如何に拘わらず、一定温度、例えば２０℃
に維持するようにしている。
したがって、外部条件の如何に拘わらず半導体レーザを
一定温度に維持し、出力を一定に維持することができる
のであるが、雰囲気温度と維持温度との差が大きくなれ
ば、湿度条件の影響等により、維持温度が露点温度より
も低くなって、半導体レーザの表面に結露を生じさせる
おそれがある。
一定温度に維持し、出力を一定に維持することができる
のであるが、雰囲気温度と維持温度との差が大きくなれ
ば、湿度条件の影響等により、維持温度が露点温度より
も低くなって、半導体レーザの表面に結露を生じさせる
おそれがある。
この場合には、半導体レーザの出射窓にも結露による水
滴が付着した状態となり、レーザ光が水滴によって散乱
されるので、レーザ光源としての機能を果し得ないとい
う致命的な不都合を発生させることになる。
滴が付着した状態となり、レーザ光が水滴によって散乱
されるので、レーザ光源としての機能を果し得ないとい
う致命的な不都合を発生させることになる。
＜目的＞ この発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、
雰囲気温度、湿度等の如何に関わらず、レーザ光源とし
ての機能を全うし得る半導体レーザ装置を提供すること
を目的としている。
雰囲気温度、湿度等の如何に関わらず、レーザ光源とし
ての機能を全うし得る半導体レーザ装置を提供すること
を目的としている。
＜構成＞ 上記の目的を達成するための、この発明の半導体レーザ
装置は、半導体レーザと、半導体レーザを冷却する冷却
手段と、半導体レーザの雰囲気温度を検出する温度検出
手段と、半導体レーザの雰囲気湿度を検出する湿度検出
手段と、湿度に対する水の露点温度特性を記憶している
メモリと、湿度検出手段の検出湿度に基づいて、上記メ
モリを参照して露点温度を算出し、温度検出手段の検出
温度がこの露点温度よりも高くなるように冷却手段を制
御する制御手段とを備えるものである。
装置は、半導体レーザと、半導体レーザを冷却する冷却
手段と、半導体レーザの雰囲気温度を検出する温度検出
手段と、半導体レーザの雰囲気湿度を検出する湿度検出
手段と、湿度に対する水の露点温度特性を記憶している
メモリと、湿度検出手段の検出湿度に基づいて、上記メ
モリを参照して露点温度を算出し、温度検出手段の検出
温度がこの露点温度よりも高くなるように冷却手段を制
御する制御手段とを備えるものである。
この装置は、半導体レーザの温度が露点温度よりも低い
場合には、半導体レーザの温度を露点温度よりも高い温
度に設定するものであり、雰囲気温度、湿度等の変化に
対応させて、半導体レーザの温度が露点温度以下になら
ないよう、半導体レーザの温度を制御することにより、
半導体レーザ表面、特に出射窓部分への結露を未然に防
止することができる。
場合には、半導体レーザの温度を露点温度よりも高い温
度に設定するものであり、雰囲気温度、湿度等の変化に
対応させて、半導体レーザの温度が露点温度以下になら
ないよう、半導体レーザの温度を制御することにより、
半導体レーザ表面、特に出射窓部分への結露を未然に防
止することができる。
＜実施例＞ 以下、実施例を示す添付図面によって詳細に説明する。
第１図はレーザプリンタの構成を明示する概略図であ
り、半導体レーザ(1) からのレーザ光が集光器(2) を通
してミラー(3) に照射され、ミラー(3) で反射されたレ
ーザ光が集光器(4) を通して感光体(5) 上に照射され
る。そして、ミラー(3) により反射されたレーザ光の強
度を検出する光センサ(6)、感光体(5) の雰囲気の温度
を検出する温度センサ(7) 、半導体レーザ(1) の温度を
検出する温度センサ(8) 、半導体レーザ(1) の雰囲気の
温度を検出する温度センサ(8′)、半導体レーザ(1) の
雰囲気の湿度を検出する湿度センサ(9) の各出力信号を
マイクロコンピュータ(10)に印加しているとともに、画
像信号をマイクロコンピュータ(10)に印加しており、マ
イクロコンピュータ(10)の出力信号を半導体レーザ(1)
およびペルチェ素子(11)に印加している。
り、半導体レーザ(1) からのレーザ光が集光器(2) を通
してミラー(3) に照射され、ミラー(3) で反射されたレ
ーザ光が集光器(4) を通して感光体(5) 上に照射され
る。そして、ミラー(3) により反射されたレーザ光の強
度を検出する光センサ(6)、感光体(5) の雰囲気の温度
を検出する温度センサ(7) 、半導体レーザ(1) の温度を
検出する温度センサ(8) 、半導体レーザ(1) の雰囲気の
温度を検出する温度センサ(8′)、半導体レーザ(1) の
雰囲気の湿度を検出する湿度センサ(9) の各出力信号を
マイクロコンピュータ(10)に印加しているとともに、画
像信号をマイクロコンピュータ(10)に印加しており、マ
イクロコンピュータ(10)の出力信号を半導体レーザ(1)
およびペルチェ素子(11)に印加している。
また、上記ミラー(3) は、多角柱状体の外面を鏡面に形
成したものであり、図示しない駆動機構によって、図中
矢印で示す方向に回転させることにより、感光体(5) の
全幅にわたってレーザ光を照射させることができる。
成したものであり、図示しない駆動機構によって、図中
矢印で示す方向に回転させることにより、感光体(5) の
全幅にわたってレーザ光を照射させることができる。
マイクロコンピュータ(10)は、感光体(5) の感度−温度
カーブ（第３図参照）、半導体レーザ(1) の出力−温度
カーブ（第４図参照）、および各湿度に対する露点温度
カーブを記憶しているものであり、温度センサ(7) によ
り感光体(5) の感度を、温度センサ(8) により半導体レ
ーザ(1) の温度を算出することができる。
カーブ（第３図参照）、半導体レーザ(1) の出力−温度
カーブ（第４図参照）、および各湿度に対する露点温度
カーブを記憶しているものであり、温度センサ(7) によ
り感光体(5) の感度を、温度センサ(8) により半導体レ
ーザ(1) の温度を算出することができる。
第２図は半導体レーザ(1) の取付構造を示しており、取
付基台(12)に放熱板(15)を取付け、取付基台(12)に形成
した孔(13)を貫通させてペルチェ素子(11)を放熱板(15)
に取付け、ペルチェ素子(11)にホルダ(14)を介在させて
半導体レーザ(1) を取付けている。
付基台(12)に放熱板(15)を取付け、取付基台(12)に形成
した孔(13)を貫通させてペルチェ素子(11)を放熱板(15)
に取付け、ペルチェ素子(11)にホルダ(14)を介在させて
半導体レーザ(1) を取付けている。
以上の構成であれば、温度センサ(8′)、および湿度セ
ンサ(9) からの出力信号に基いて露点温度を算出するこ
とができ、半導体レーザ(1) の温度と露点温度との差温
度も算出できることになる。
ンサ(9) からの出力信号に基いて露点温度を算出するこ
とができ、半導体レーザ(1) の温度と露点温度との差温
度も算出できることになる。
したがって、第５図中実線で示すように、差温度が予め
設定した所定温度以下にならないよう、ペルチェ素子(1
1)を駆動して半導体レーザ(1) の温度を制御することに
より、半導体レーザ(1) 表面、特に出射窓部分への結露
を確実に防止することができる。
設定した所定温度以下にならないよう、ペルチェ素子(1
1)を駆動して半導体レーザ(1) の温度を制御することに
より、半導体レーザ(1) 表面、特に出射窓部分への結露
を確実に防止することができる。
なお、以上の場合において、湿度センサ(7) の出力信号
に基いて感光体(5) の感度を算出することができ、光セ
ンサ(6) の出力信号に基いて半導体レーザ(1) の出力を
算出することができるのであるから、温度変化に起因す
る感光体(5) の感度変化量を算出し、感度変化量を補償
し得る量以上の、半導体レーザ(1) の出力変化量のみを
是正するよう半導体レーザ(1) の注入電流を制御するこ
ともでき、この場合には、半導体レーザ(1) および感光
体(5) 全体としての特性を一定に維持することができ、
常に良好なプリント特性を発揮させることができるとい
う効果をも有することになる。
に基いて感光体(5) の感度を算出することができ、光セ
ンサ(6) の出力信号に基いて半導体レーザ(1) の出力を
算出することができるのであるから、温度変化に起因す
る感光体(5) の感度変化量を算出し、感度変化量を補償
し得る量以上の、半導体レーザ(1) の出力変化量のみを
是正するよう半導体レーザ(1) の注入電流を制御するこ
ともでき、この場合には、半導体レーザ(1) および感光
体(5) 全体としての特性を一定に維持することができ、
常に良好なプリント特性を発揮させることができるとい
う効果をも有することになる。
＜効果＞ 以上のようにこの発明は、半導体レーザをキャップなど
で覆うことなく直接外気に晒すので、小型化が可能にな
るとともに、露点温度が半導体レーザの雰囲気温度以上
の場合には、半導体レーザの温度を露点温度より高い温
度に設定するので、雰囲気温度、湿度等の如何に拘わら
ず、半導体レーザの表面、特に出射窓部分における結露
の発生を防止し、レーザ光源としての機能を全うさせる
ことができるという特有の効果を奏する。
で覆うことなく直接外気に晒すので、小型化が可能にな
るとともに、露点温度が半導体レーザの雰囲気温度以上
の場合には、半導体レーザの温度を露点温度より高い温
度に設定するので、雰囲気温度、湿度等の如何に拘わら
ず、半導体レーザの表面、特に出射窓部分における結露
の発生を防止し、レーザ光源としての機能を全うさせる
ことができるという特有の効果を奏する。
第１図はレーザプリンタの構成を明示する概略図、 第２図は半導体レーザの取付構造を示す図、 第３図は感光体(5) の感度−温度カーブを示す図、 第４図は半導体レーザ(1) の、注入電流を一定に維持し
た場合の出力−温度カーブを示す図、 第５図は半導体レーザ(1) の温度と露点温度との関係を
示す図。 １……半導体レーザ、５……感光体。
た場合の出力−温度カーブを示す図、 第５図は半導体レーザ(1) の温度と露点温度との関係を
示す図。 １……半導体レーザ、５……感光体。
Claims (1)
- 【請求項１】半導体レーザ(1) と、半導体レーザ(1) を
冷却する冷却手段(11)と、半導体レーザ(1) の雰囲気温
度を検出する温度検出手段(8′)と、半導体レーザ(1)
の雰囲気湿度を検出する湿度検出手段(9) と、湿度に対
する水の露点温度特性を記憶しているメモリと、制御手
段(10)とを備え、 上記制御手段(10)は、湿度検出手段(9) の検出湿度に基
づいて、上記メモリを参照して露点温度を算出し、温度
検出手段(8′)の検出温度がこの露点温度よりも高くな
るように冷却手段(11)を制御することを特徴とする半導
体レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59202698A JPH0632336B2 (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | 半導体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59202698A JPH0632336B2 (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | 半導体レーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6179285A JPS6179285A (ja) | 1986-04-22 |
| JPH0632336B2 true JPH0632336B2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=16461675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59202698A Expired - Lifetime JPH0632336B2 (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | 半導体レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0632336B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11133643B2 (en) | 2017-10-06 | 2021-09-28 | Fanuc Corporation | Laser apparatus including dew condensation prevention function |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63178063A (ja) * | 1987-01-20 | 1988-07-22 | Olympus Optical Co Ltd | 感熱記録装置 |
| JP2001326410A (ja) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 半導体レーザ冷却装置 |
| JP5482985B2 (ja) | 2009-03-11 | 2014-05-07 | ソニー株式会社 | 光安定化装置、光安定化方法および印刷装置 |
| WO2013077067A1 (ja) * | 2011-11-22 | 2013-05-30 | 日本電気株式会社 | 光源装置、画像表示装置、および、光源装置の制御方法 |
| JP6120496B2 (ja) * | 2012-06-15 | 2017-04-26 | 三菱電機株式会社 | 光源装置 |
| JP6014002B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2016-10-25 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 画像形成装置 |
| US9874518B2 (en) | 2014-04-22 | 2018-01-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical sensor system, optical gas sensor system, particulate sensor system, light emitting apparatus, and image printing apparatus |
| JP6259419B2 (ja) * | 2015-06-01 | 2018-01-10 | ファナック株式会社 | 扉の開放の可否を判定する機能を備えたレーザ装置 |
| JP6285404B2 (ja) | 2015-12-04 | 2018-02-28 | ファナック株式会社 | 結露防止機能を有するレーザ装置 |
| WO2018131097A1 (ja) * | 2017-01-11 | 2018-07-19 | オリンパス株式会社 | 照明装置及び照明装置を含む内視鏡システム |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS551119A (en) * | 1978-06-16 | 1980-01-07 | Canon Inc | Semiconductor laser apparatus |
-
1984
- 1984-09-26 JP JP59202698A patent/JPH0632336B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11133643B2 (en) | 2017-10-06 | 2021-09-28 | Fanuc Corporation | Laser apparatus including dew condensation prevention function |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6179285A (ja) | 1986-04-22 |
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