JPH06328068A - 光触媒を用いる廃水処理装置 - Google Patents
光触媒を用いる廃水処理装置Info
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- JPH06328068A JPH06328068A JP14135793A JP14135793A JPH06328068A JP H06328068 A JPH06328068 A JP H06328068A JP 14135793 A JP14135793 A JP 14135793A JP 14135793 A JP14135793 A JP 14135793A JP H06328068 A JPH06328068 A JP H06328068A
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- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 title claims description 12
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Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光触媒を粉末状で用いる場合に見られる廃水
からの触媒の分離回収の問題を解決した操作の簡単な廃
水処理装置を提供する。 【構成】 内部に光照射ランプを有し、外部に廃水循環
ポンプを有する光触媒懸濁廃水に光を照射する処理槽
と、該処理槽内に開口する廃水供給管と、該処理槽内に
開口する光照射処理水を排出させる排水管と、該排水管
に付設した排水ポンプと、該排水管に付設したフィルタ
ーを備えたことを特徴とする光触媒を用いる廃水処理装
置。
からの触媒の分離回収の問題を解決した操作の簡単な廃
水処理装置を提供する。 【構成】 内部に光照射ランプを有し、外部に廃水循環
ポンプを有する光触媒懸濁廃水に光を照射する処理槽
と、該処理槽内に開口する廃水供給管と、該処理槽内に
開口する光照射処理水を排出させる排水管と、該排水管
に付設した排水ポンプと、該排水管に付設したフィルタ
ーを備えたことを特徴とする光触媒を用いる廃水処理装
置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光触媒を用いる廃水処理
装置に関するものである。
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光触媒の存在下に光を照射してその廃水
中に含まれる有害物質を分解除去する方法は知られてい
る（特開昭６３−５４９９２号）。この場合、光触媒と
しては、ＴｉＯ2、ＷＯ3、ＺｎＯ、ＳｉＣ、ＣｄＳ等の
半導体が用いられている。
中に含まれる有害物質を分解除去する方法は知られてい
る（特開昭６３−５４９９２号）。この場合、光触媒と
しては、ＴｉＯ2、ＷＯ3、ＺｎＯ、ＳｉＣ、ＣｄＳ等の
半導体が用いられている。
【０００３】ところで、このような光触媒を用いる廃水
処理においては、光触媒は、粉末状又はガラスファイバ
ー等の支持体に固定化した状態で用いられる。しかし、
光触媒を粉末状で用いる場合には光触媒を廃水から分離
回収するのに問題があり、一方、固定化して用いる場合
には、有害物質の分解除去率が低いという問題がある。
処理においては、光触媒は、粉末状又はガラスファイバ
ー等の支持体に固定化した状態で用いられる。しかし、
光触媒を粉末状で用いる場合には光触媒を廃水から分離
回収するのに問題があり、一方、固定化して用いる場合
には、有害物質の分解除去率が低いという問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、光触媒を粉
末状で用いる場合に見られる廃水からの触媒の分離回収
の問題を解決した操作の簡単な廃水処理装置を提供する
ことをその課題とする。
末状で用いる場合に見られる廃水からの触媒の分離回収
の問題を解決した操作の簡単な廃水処理装置を提供する
ことをその課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成
するに至った。即ち、本発明によれば、内部に光照射ラ
ンプを有し、外部に廃水循環ポンプを有する光触媒懸濁
廃水に光を照射する処理槽と、該処理槽内に開口する廃
水供給管と、該処理槽内に開口する光照射処理水を排出
させる排水管と、該排水管に付設した排水ポンプと、該
排水管に付設したフィルターを備えたことを特徴とする
光触媒を用いる廃水処理装置が提供される。
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成
するに至った。即ち、本発明によれば、内部に光照射ラ
ンプを有し、外部に廃水循環ポンプを有する光触媒懸濁
廃水に光を照射する処理槽と、該処理槽内に開口する廃
水供給管と、該処理槽内に開口する光照射処理水を排出
させる排水管と、該排水管に付設した排水ポンプと、該
排水管に付設したフィルターを備えたことを特徴とする
光触媒を用いる廃水処理装置が提供される。
【０００６】次に、本発明の装置を図面を参照して説明
する。図１は本発明の装置の一つの実施例についての構
成図を示す。図１において、１は廃水処理槽、２は処理
構内に配設された光照射ランプ、３は処理槽外部に配設
された廃水循環ポンプ、４は処理槽内に開口する廃水供
給管、５は光照射ランプへ接続する電源、６は処理槽内
に開口する光照射処理水を排出させる排水管、７及び８
は廃水を循環させるための配管、９は排水ポンプ、１０
はフィルター、１１は処理水を貯留する貯水槽、１２は
水面感知センサーを各示す。
する。図１は本発明の装置の一つの実施例についての構
成図を示す。図１において、１は廃水処理槽、２は処理
構内に配設された光照射ランプ、３は処理槽外部に配設
された廃水循環ポンプ、４は処理槽内に開口する廃水供
給管、５は光照射ランプへ接続する電源、６は処理槽内
に開口する光照射処理水を排出させる排水管、７及び８
は廃水を循環させるための配管、９は排水ポンプ、１０
はフィルター、１１は処理水を貯留する貯水槽、１２は
水面感知センサーを各示す。
【０００７】本発明の装置を用いて廃水処理を行うに
は、処理槽１に光触媒を充填するとともに、廃水供給管
４を介して廃水を処理槽内に充填する。光触媒として
は、従来公知のもの、例えば二酸化チタンや、三酸化タ
ングステン、酸化亜鉛等を用いることができるが、コス
ト、毒性、有害物質の分解効率の面から二酸化チタンの
使用が好ましい。光触媒の粒径は、廃水の撹拌停止後、
光触媒が廃水中において沈降の容易なように、平均粒径
が１μｍ以上、好ましくは１〜５μｍの範囲に規定する
のがよい。本発明で用いる好ましい光触媒は、粒径が１
〜２μｍのルチル型の二酸化チタン又はアナタース型と
ルチル型二酸化チタンからなる混合二酸化チタンであ
る。処理槽に対する光触媒の充填割合は、処理槽の廃水
１０００重量部に対し、１〜５重量部の割合である。光
触媒の充填量が前記範囲より少ないとその光触媒効果が
不十分であるし、前記範囲より多くなると廃水中での光
の透過が悪くなる。
は、処理槽１に光触媒を充填するとともに、廃水供給管
４を介して廃水を処理槽内に充填する。光触媒として
は、従来公知のもの、例えば二酸化チタンや、三酸化タ
ングステン、酸化亜鉛等を用いることができるが、コス
ト、毒性、有害物質の分解効率の面から二酸化チタンの
使用が好ましい。光触媒の粒径は、廃水の撹拌停止後、
光触媒が廃水中において沈降の容易なように、平均粒径
が１μｍ以上、好ましくは１〜５μｍの範囲に規定する
のがよい。本発明で用いる好ましい光触媒は、粒径が１
〜２μｍのルチル型の二酸化チタン又はアナタース型と
ルチル型二酸化チタンからなる混合二酸化チタンであ
る。処理槽に対する光触媒の充填割合は、処理槽の廃水
１０００重量部に対し、１〜５重量部の割合である。光
触媒の充填量が前記範囲より少ないとその光触媒効果が
不十分であるし、前記範囲より多くなると廃水中での光
の透過が悪くなる。
【０００８】前記のようにして処理槽内に廃水及び光触
媒を充填した後、循環ポンプ３を作動させて、処理槽内
の廃水の一部を配管７を介して抜出すとともに、配管８
を介して処理槽内に返還させることにより、処理槽内の
廃水を撹拌させ、これによって光触媒を廃水中に均一に
分散懸濁させることができる。また、この廃水の撹拌と
同時に、光照射ランプ２を作動させて、その廃水中に光
を照射させる。この場合、光照射ランプ２としては、２
００〜４００ｎｍの波長の光を放射するランプ、例え
ば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、ブラッ
クライト等が用いられる。ランプ外表面と処理槽内壁と
の間の距離は、強い光照射強度を得る点からできるだけ
短い距離、例えば、５〜１５ｍｍの範囲に保持するのが
好ましい。なお、前記のようにして廃水の処理を行う場
合、処理槽内の廃水中には酸素、オゾン、過酸化水素等
の酸化剤を添加することもできる。
媒を充填した後、循環ポンプ３を作動させて、処理槽内
の廃水の一部を配管７を介して抜出すとともに、配管８
を介して処理槽内に返還させることにより、処理槽内の
廃水を撹拌させ、これによって光触媒を廃水中に均一に
分散懸濁させることができる。また、この廃水の撹拌と
同時に、光照射ランプ２を作動させて、その廃水中に光
を照射させる。この場合、光照射ランプ２としては、２
００〜４００ｎｍの波長の光を放射するランプ、例え
ば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、ブラッ
クライト等が用いられる。ランプ外表面と処理槽内壁と
の間の距離は、強い光照射強度を得る点からできるだけ
短い距離、例えば、５〜１５ｍｍの範囲に保持するのが
好ましい。なお、前記のようにして廃水の処理を行う場
合、処理槽内の廃水中には酸素、オゾン、過酸化水素等
の酸化剤を添加することもできる。
【０００９】前記のようにして、一定時間光照射処理を
行った後、光照射ランプと循環ポンプの作動を停止さ
せ、廃水中に懸濁する光触媒を沈降させる。光触媒の沈
降後、排水ポンプ９を作動させて、沈降した光触媒より
上方にある上澄液（処理水）を排水管６を通して槽外部
へ抜出し、さらに排水管６に付設したフィルター１０を
介して、貯水槽１１に送り、貯留する。フィルター１０
においては、排水中に同伴された光触媒の微細粒子が捕
集される。フィルター１０は、光触媒の微細粒子の捕集
を確実にし、かつその光触媒の微細粒子による目詰りを
生じないようにできるだけ微細な細孔径のもの、例え
ば、細孔径が１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下の
ものを用いるのがよい。このようなフィルターとして
は、例えば、アドバンデック社製ＰＴＦＥ（ポリテトラ
フルオロエチレン）メンブランフィルター等を用いるこ
とができる。
行った後、光照射ランプと循環ポンプの作動を停止さ
せ、廃水中に懸濁する光触媒を沈降させる。光触媒の沈
降後、排水ポンプ９を作動させて、沈降した光触媒より
上方にある上澄液（処理水）を排水管６を通して槽外部
へ抜出し、さらに排水管６に付設したフィルター１０を
介して、貯水槽１１に送り、貯留する。フィルター１０
においては、排水中に同伴された光触媒の微細粒子が捕
集される。フィルター１０は、光触媒の微細粒子の捕集
を確実にし、かつその光触媒の微細粒子による目詰りを
生じないようにできるだけ微細な細孔径のもの、例え
ば、細孔径が１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下の
ものを用いるのがよい。このようなフィルターとして
は、例えば、アドバンデック社製ＰＴＦＥ（ポリテトラ
フルオロエチレン）メンブランフィルター等を用いるこ
とができる。
【００１０】前記のようにして槽内の処理水の槽外への
排出を一定時間行って、その処理水の水面が水面感知セ
ンサー１２の位置に達したとき、排水ポンプ９の作動が
停止し、処理水の槽外への排水が終了する。次いで、新
しい廃水を廃水供給管４を介して槽内に供給し、再び前
記と同様の操作を行うことによって、廃水の処理を行う
ことができる。
排出を一定時間行って、その処理水の水面が水面感知セ
ンサー１２の位置に達したとき、排水ポンプ９の作動が
停止し、処理水の槽外への排水が終了する。次いで、新
しい廃水を廃水供給管４を介して槽内に供給し、再び前
記と同様の操作を行うことによって、廃水の処理を行う
ことができる。
【００１１】次いで、前記のようにして廃水の処理が終
了した後、排水ポンプ９を逆転させ、貯水槽１１内の処
理水をフィルター１０及び排水管６を介して処理槽１内
に逆流させる。これによってフィルター１０に捕集され
た光触媒の微細粒子を槽内に回収させることができる。
なお、この光触媒微粒子の回収は、一回の廃水処理操作
が終了した毎に行うこともできる。
了した後、排水ポンプ９を逆転させ、貯水槽１１内の処
理水をフィルター１０及び排水管６を介して処理槽１内
に逆流させる。これによってフィルター１０に捕集され
た光触媒の微細粒子を槽内に回収させることができる。
なお、この光触媒微粒子の回収は、一回の廃水処理操作
が終了した毎に行うこともできる。
【００１２】
【実施例】次に本発明の装置を用いた廃水処理の実施例
を示す。
を示す。
【００１３】実施例１ 図１に示した装置の処理槽１内に、トリクロロエチレン
５５ｐｐｍを含む廃水３０００重量部と、平均粒径１．
３μｍの二酸化チタン（ルチル型）１．５重量部を充填
した後、その装置を作動させて廃水の処理を行った。こ
の廃水処理に際しては、光照射時間：３０分、沈降時間
２０分の条件を採用した。得られた処理水中のトリクロ
ロエチレン濃度を測定したところ、１０ｐｐｍであっ
た。
５５ｐｐｍを含む廃水３０００重量部と、平均粒径１．
３μｍの二酸化チタン（ルチル型）１．５重量部を充填
した後、その装置を作動させて廃水の処理を行った。こ
の廃水処理に際しては、光照射時間：３０分、沈降時間
２０分の条件を採用した。得られた処理水中のトリクロ
ロエチレン濃度を測定したところ、１０ｐｐｍであっ
た。
【００１４】実施例２ 実施例１において、トリクロロエチレンの代りにクロロ
ホルムを６３ｐｐｍ含む廃水を用いるとともに、光照射
時間を６０分間とした以外は同様にして実験を行った。
得られた処理水中のクロロホルム濃度は３０ｐｐｍであ
った。
ホルムを６３ｐｐｍ含む廃水を用いるとともに、光照射
時間を６０分間とした以外は同様にして実験を行った。
得られた処理水中のクロロホルム濃度は３０ｐｐｍであ
った。
【００１５】実施例３ 実施例１において、トリクロロエチレンの代りにモノク
ロル酢酸４７ｐｐｍ含む廃水を用いるとともに、光照射
時間を６０分間とした以外は同様にして実験を行った。
得られた処理水中のモノクロロ酢酸濃度は４ｐｐｍであ
った。
ロル酢酸４７ｐｐｍ含む廃水を用いるとともに、光照射
時間を６０分間とした以外は同様にして実験を行った。
得られた処理水中のモノクロロ酢酸濃度は４ｐｐｍであ
った。
【００１６】
【発明の効果】本発明の装置は、前記構成のものであ
り、その操作は簡便かつ自動的に行うことができ、しか
も、使用する光触媒の損失がないことから、その処理コ
ストも低いという利点がある。本発明の装置は有害物質
を含む各種の廃水、例えば、クリーニング廃水、工業廃
水、水産加工廃水等に適用することができる。
り、その操作は簡便かつ自動的に行うことができ、しか
も、使用する光触媒の損失がないことから、その処理コ
ストも低いという利点がある。本発明の装置は有害物質
を含む各種の廃水、例えば、クリーニング廃水、工業廃
水、水産加工廃水等に適用することができる。
【図１】本発明の装置の構成図を示す。
１ 処理槽 ２ 光照射ランプ ３ 循環ポンプ ４ 廃水供給管 ６ 排水管 ９ 排水ポンプ １０ フィルター １１ 貯水槽
Claims (1)
- 【請求項１】 内部に光照射ランプを有し、外部に廃水
循環ポンプを有する光触媒懸濁廃水に光を照射する処理
槽と、該処理槽内に開口する廃水供給管と、該処理槽内
に開口する光照射処理水を排出させる排水管と、該排水
管に付設した排水ポンプと、該排水管に付設したフィル
ターを備えたことを特徴とする光触媒を用いる廃水処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14135793A JPH06328068A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | 光触媒を用いる廃水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14135793A JPH06328068A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | 光触媒を用いる廃水処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06328068A true JPH06328068A (ja) | 1994-11-29 |
Family
ID=15290103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14135793A Pending JPH06328068A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | 光触媒を用いる廃水処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06328068A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012179538A (ja) * | 2011-03-01 | 2012-09-20 | Air Water Inc | 廃水処理装置および方法 |
| CN104071934A (zh) * | 2013-04-25 | 2014-10-01 | 宁波大学 | 采用无极紫外光源的大处理量光催化废水降解反应器 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02298393A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-10 | Raizaa Kogyo Kk | 光酸化処理方法及びその装置 |
| JPH0523680A (ja) * | 1991-07-17 | 1993-02-02 | Raizaa Kogyo Kk | 光酸化処理方法及びその装置 |
-
1993
- 1993-05-20 JP JP14135793A patent/JPH06328068A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02298393A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-10 | Raizaa Kogyo Kk | 光酸化処理方法及びその装置 |
| JPH0523680A (ja) * | 1991-07-17 | 1993-02-02 | Raizaa Kogyo Kk | 光酸化処理方法及びその装置 |
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| CN104071934A (zh) * | 2013-04-25 | 2014-10-01 | 宁波大学 | 采用无极紫外光源的大处理量光催化废水降解反应器 |
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