JPH06329218A - 基板供給装置 - Google Patents
基板供給装置Info
- Publication number
- JPH06329218A JPH06329218A JP5139019A JP13901993A JPH06329218A JP H06329218 A JPH06329218 A JP H06329218A JP 5139019 A JP5139019 A JP 5139019A JP 13901993 A JP13901993 A JP 13901993A JP H06329218 A JPH06329218 A JP H06329218A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- cassette
- substrate
- name
- slot
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光装置へレチクルを供給する工程に要する
時間を短縮する。 【構成】 カセットＡは、レチクル名ごとに収納棚１の
指定されたスロット１１〜４０に収納される。露光装置
４からコンピュータ６に指令信号が送られると、エレベ
ータ２ａおよびロボット２ｂが駆動され、カセットハン
ド２によって所定のスロットからカセットが取りだされ
て露光装置へ供給される。収納棚１からカセットが取り
だされるごとに、使用レチクルリスト８にレチクル名が
記憶され、レチクル使用履歴リスト９にその供給回数が
集計され、使用回数の多いレチクル名の順に、カセット
ハンド２の移動距離が短くてすむスロットが指定され
る。
時間を短縮する。 【構成】 カセットＡは、レチクル名ごとに収納棚１の
指定されたスロット１１〜４０に収納される。露光装置
４からコンピュータ６に指令信号が送られると、エレベ
ータ２ａおよびロボット２ｂが駆動され、カセットハン
ド２によって所定のスロットからカセットが取りだされ
て露光装置へ供給される。収納棚１からカセットが取り
だされるごとに、使用レチクルリスト８にレチクル名が
記憶され、レチクル使用履歴リスト９にその供給回数が
集計され、使用回数の多いレチクル名の順に、カセット
ハンド２の移動距離が短くてすむスロットが指定され
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置等にレ
チクルやマスク等の基板を自動的に供給するための基板
供給装置に関するものである。
チクルやマスク等の基板を自動的に供給するための基板
供給装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体素子の多様化に伴って半導
体製造装置の汎用化が進み、多種類のレチクルやマスク
等の基板のなかから各露光工程に必要なものを自動的に
選択して迅速に供給する基板供給装置が要求されてい
る。
体製造装置の汎用化が進み、多種類のレチクルやマスク
等の基板のなかから各露光工程に必要なものを自動的に
選択して迅速に供給する基板供給装置が要求されてい
る。
【０００３】基板供給装置は、一般的に、レチクルやマ
スク等（以下、「レチクル等」という。）を入れたカセ
ットを多数収納して待機させる収納棚と、収納棚から所
望のカセットを取りだすカセットハンドと、取りだされ
たカセットを開くカセット開閉装置と、開かれたカセッ
トからレチクル等を取りだして露光装置へ移送するレチ
クルハンドからなり、収納棚は垂直方向に配列された多
数のスロットを有する。各スロットの位置は、これに収
納されるレチクル名とともにコンピュータのレチクルフ
ァイルに記憶され、露光装置から次工程に必要なレチク
ル名がコンピュータに送信されると、コンピュータはレ
チクルファイルによって該レチクル名を検索し、これを
収納したスロットを見つけてカセットハンドを駆動し、
該スロットのカセットを取りだしてカセット開閉装置へ
移送する。なお、カセットハンドは、これを駆動するロ
ボットとともに、収納棚に沿って垂直方向に往復移動す
るエレベータに支持されており、コンピュータの指令に
よってまずエレベータが駆動され、カセットハンドを所
定のスロットの高さまで移動させたうえで、前述のロボ
ットが駆動され、カセットハンドが前記スロットからカ
セットを取りだす動作を行うように構成されている。
スク等（以下、「レチクル等」という。）を入れたカセ
ットを多数収納して待機させる収納棚と、収納棚から所
望のカセットを取りだすカセットハンドと、取りだされ
たカセットを開くカセット開閉装置と、開かれたカセッ
トからレチクル等を取りだして露光装置へ移送するレチ
クルハンドからなり、収納棚は垂直方向に配列された多
数のスロットを有する。各スロットの位置は、これに収
納されるレチクル名とともにコンピュータのレチクルフ
ァイルに記憶され、露光装置から次工程に必要なレチク
ル名がコンピュータに送信されると、コンピュータはレ
チクルファイルによって該レチクル名を検索し、これを
収納したスロットを見つけてカセットハンドを駆動し、
該スロットのカセットを取りだしてカセット開閉装置へ
移送する。なお、カセットハンドは、これを駆動するロ
ボットとともに、収納棚に沿って垂直方向に往復移動す
るエレベータに支持されており、コンピュータの指令に
よってまずエレベータが駆動され、カセットハンドを所
定のスロットの高さまで移動させたうえで、前述のロボ
ットが駆動され、カセットハンドが前記スロットからカ
セットを取りだす動作を行うように構成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、露光装置の汎用化が進
むにつれて、これに用いるレチクル等が多種類となり、
各露光工程に必要なものを迅速に選別して供給するのが
困難になる。すなわち、収納棚の各スロットからカセッ
トを取りだすにはまずエレベータによってカセットハン
ドを垂直方向に移動させなければならず、収納棚のスロ
ットの数が増えると、エレベータによってカセットハン
ドが上下動する距離が長くなり迅速な供給作業を行うこ
とができない。また、収納棚のスロットに新たなカセッ
トを補充する作業も、コンピュータに記憶されたレチク
ル名と新たなカセットのレチクル名を照合する必要があ
るため、多くの人手と時間を必要とする。
の技術によれば、前述のように、露光装置の汎用化が進
むにつれて、これに用いるレチクル等が多種類となり、
各露光工程に必要なものを迅速に選別して供給するのが
困難になる。すなわち、収納棚の各スロットからカセッ
トを取りだすにはまずエレベータによってカセットハン
ドを垂直方向に移動させなければならず、収納棚のスロ
ットの数が増えると、エレベータによってカセットハン
ドが上下動する距離が長くなり迅速な供給作業を行うこ
とができない。また、収納棚のスロットに新たなカセッ
トを補充する作業も、コンピュータに記憶されたレチク
ル名と新たなカセットのレチクル名を照合する必要があ
るため、多くの人手と時間を必要とする。
【０００５】本発明は、上記従来の技術の有する問題点
に鑑みてなされたものであり、収納棚から所定のレチク
ルを取りだして露光装置等へ供給する作業をより迅速に
行うことのできる基板供給装置を提供すことを目的とす
るものである。
に鑑みてなされたものであり、収納棚から所定のレチク
ルを取りだして露光装置等へ供給する作業をより迅速に
行うことのできる基板供給装置を提供すことを目的とす
るものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の基板供給装置は、それぞれ所定の基板名の基
板を入れた複数の基板収容容器を個別に収納自在な複数
のスロットを有する収納手段と、該収納手段に収納され
た基板収容容器を搬出する搬出手段と、搬出された基板
収容容器の数を各基板名ごとに集計する集計手段と、集
計された基板収容容器の数に基づいて各基板名ごとに前
記スロットのうちの少くとも１つを指定する指定手段か
らなることを特徴とする。
に本発明の基板供給装置は、それぞれ所定の基板名の基
板を入れた複数の基板収容容器を個別に収納自在な複数
のスロットを有する収納手段と、該収納手段に収納され
た基板収容容器を搬出する搬出手段と、搬出された基板
収容容器の数を各基板名ごとに集計する集計手段と、集
計された基板収容容器の数に基づいて各基板名ごとに前
記スロットのうちの少くとも１つを指定する指定手段か
らなることを特徴とする。
【０００７】また、搬出手段が、指定手段によって指定
されたスロットに基板収容容器を入れかえるように構成
されているとよい。
されたスロットに基板収容容器を入れかえるように構成
されているとよい。
【０００８】
【作用】基板を入れた基板収容容器は基板名ごとに指定
されたスロットへ収納される。露光装置等からの指令に
よって所定の基板名の基板収容容器が収納手段から搬出
されると、搬出された基板収容容器の基板名が記憶さ
れ、それまでに搬出された同基板名の基板収容容器の数
が集計手段によって集計される。指定手段は、集計手段
によって集計された基板収容容器の数の多い順に、搬出
手段の操作時間が短くてすむスロットを指定する。指定
されたスロットに基板収容容器を補充すれば、搬出手段
の操作時間が短くてすむため基板の供給に要する時間を
短縮できる。
されたスロットへ収納される。露光装置等からの指令に
よって所定の基板名の基板収容容器が収納手段から搬出
されると、搬出された基板収容容器の基板名が記憶さ
れ、それまでに搬出された同基板名の基板収容容器の数
が集計手段によって集計される。指定手段は、集計手段
によって集計された基板収容容器の数の多い順に、搬出
手段の操作時間が短くてすむスロットを指定する。指定
されたスロットに基板収容容器を補充すれば、搬出手段
の操作時間が短くてすむため基板の供給に要する時間を
短縮できる。
【０００９】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【００１０】図１は一実施例による基板供給装置を説明
するもので、基板供給装置は、基板であるレチクルを入
れた基板収容容器であるカセットＡを収納して待機させ
る収納手段である収納棚１と、収納棚１から所望のカセ
ットを取りだす搬出手段であるカセットハンド２と、取
りだされたカセットを開くカセット開閉装置３と、開か
れたカセットからレチクルを取りだして露光装置４へ移
送するレチクルハンド５からなり、収納棚１は垂直方向
に配列された多数のスロット１１〜４０を有し、各スロ
ット１１〜４０の垂直方向の位置（以下、「棚位置」と
いう。）はこれに収納されたカセットの基板名であるレ
チクル名とともにコンピュータ６のレチクルファイル７
ａ（図２に示す）に記憶される。カセットハンド２は、
収納棚１に沿って上下動するエレベータ２ａに支持され
ており、エレベータ２ａに設けられたロボット２ｂによ
って収納棚１からカセットを取りだしてカセット開閉装
置３へ移送する作業を行う。
するもので、基板供給装置は、基板であるレチクルを入
れた基板収容容器であるカセットＡを収納して待機させ
る収納手段である収納棚１と、収納棚１から所望のカセ
ットを取りだす搬出手段であるカセットハンド２と、取
りだされたカセットを開くカセット開閉装置３と、開か
れたカセットからレチクルを取りだして露光装置４へ移
送するレチクルハンド５からなり、収納棚１は垂直方向
に配列された多数のスロット１１〜４０を有し、各スロ
ット１１〜４０の垂直方向の位置（以下、「棚位置」と
いう。）はこれに収納されたカセットの基板名であるレ
チクル名とともにコンピュータ６のレチクルファイル７
ａ（図２に示す）に記憶される。カセットハンド２は、
収納棚１に沿って上下動するエレベータ２ａに支持され
ており、エレベータ２ａに設けられたロボット２ｂによ
って収納棚１からカセットを取りだしてカセット開閉装
置３へ移送する作業を行う。
【００１１】露光装置４から次工程に必要なレチクル名
がコンピュータ６に送信されると、コンピュータ６はレ
チクルファイル７ａによって該レチクル名を検索し、こ
れを収納したスロットを見つけてエレベータ２ａを駆動
し、カセットハンド２を該スロットの棚位置へ移動させ
る。次いで、ロボット２ｂによってカセットハンド２を
略水平方向へ移動させ、スロットからカセットを取りだ
してこれをカセット開閉装置３へ移送する。カセット開
閉装置３によってカセットが開かれると、レチクルハン
ド５が駆動され、カセットからレチクルを取りだして露
光装置４へ移動させる。
がコンピュータ６に送信されると、コンピュータ６はレ
チクルファイル７ａによって該レチクル名を検索し、こ
れを収納したスロットを見つけてエレベータ２ａを駆動
し、カセットハンド２を該スロットの棚位置へ移動させ
る。次いで、ロボット２ｂによってカセットハンド２を
略水平方向へ移動させ、スロットからカセットを取りだ
してこれをカセット開閉装置３へ移送する。カセット開
閉装置３によってカセットが開かれると、レチクルハン
ド５が駆動され、カセットからレチクルを取りだして露
光装置４へ移動させる。
【００１２】収納棚１の各スロット１１〜４０はそれぞ
れ収納されたカセットのレチクル名を識別する図示しな
いセンサを有し、コンピュータ６は各センサの出力に基
づいてレチクルファイル７ａを作成し、前述のように、
露光装置４から送信されるレチクル名をレチクルファイ
ル７ａによって検索し、エレベータ２ａおよびロボット
２ｂを駆動する。コンピュータ６は、さらに、図３に示
すように、収納棚１から露光装置４へ供給されたレチク
ルのレチクル名を供給された日時とともに記憶する使用
レチクルリスト８と、これに基づいて各レチクル名ごと
にレチクルの使用回数を計算する集計手段と、これを表
示するレチクル使用履歴リスト９を有し、レチクル使用
履歴リスト９は、レチクルの使用回数の多いレチクル名
を検索し、これを待機させるスロットを次工程であるカ
セット開閉装置３に近いスロットに変更する指令を発生
するように構成されている。すなわち、レチクル使用履
歴リスト９には、各レチクル名ごとにレチクルを待機さ
せるスロットを指令する指定手段である指定スロット欄
が設けられており、使用回数の多いレチクルがカセット
開閉装置３から遠いスロット位置にある場合には指定ス
ロット欄の指定スロットを変更する。収納棚１に新たな
カセットが補充されたとき、レチクル使用履歴リスト９
の指定スロット欄に基づいてコンピュータ６がカセット
ハンド２を駆動し、カセットの入れかえを行う。
れ収納されたカセットのレチクル名を識別する図示しな
いセンサを有し、コンピュータ６は各センサの出力に基
づいてレチクルファイル７ａを作成し、前述のように、
露光装置４から送信されるレチクル名をレチクルファイ
ル７ａによって検索し、エレベータ２ａおよびロボット
２ｂを駆動する。コンピュータ６は、さらに、図３に示
すように、収納棚１から露光装置４へ供給されたレチク
ルのレチクル名を供給された日時とともに記憶する使用
レチクルリスト８と、これに基づいて各レチクル名ごと
にレチクルの使用回数を計算する集計手段と、これを表
示するレチクル使用履歴リスト９を有し、レチクル使用
履歴リスト９は、レチクルの使用回数の多いレチクル名
を検索し、これを待機させるスロットを次工程であるカ
セット開閉装置３に近いスロットに変更する指令を発生
するように構成されている。すなわち、レチクル使用履
歴リスト９には、各レチクル名ごとにレチクルを待機さ
せるスロットを指令する指定手段である指定スロット欄
が設けられており、使用回数の多いレチクルがカセット
開閉装置３から遠いスロット位置にある場合には指定ス
ロット欄の指定スロットを変更する。収納棚１に新たな
カセットが補充されたとき、レチクル使用履歴リスト９
の指定スロット欄に基づいてコンピュータ６がカセット
ハンド２を駆動し、カセットの入れかえを行う。
【００１３】次に、収納棚１に新たなカセットが補充す
る手順を図４に基づいて説明する。
る手順を図４に基づいて説明する。
【００１４】ステップ１において収納棚１の任意のスロ
ットにそれぞれカセットが挿入されると、コンピュータ
６は前述のセンサによって各カセットのレチクル名を識
別し、これに基づいてレチクルファイル７ｂを作成す
る。ステップ２でレチクルファイル７ｂとレチクル使用
履歴リスト９の指定スロット欄を照合し、ステップ３で
レチクルファイル７ｂ内のレチクル名がレチクル使用履
歴リスト９の指定スロット欄にあるか否かを確認したう
えで（ステップ４）、レチクル使用履歴リスト９の指定
スロット欄から指定スロットを検索し（ステップ５）、
これに基づいてエレベータ２ａおよびロボット２ｂを駆
動し、補充されたカセットを指定されたスロットに入れ
かえる（ステップ６）。このとき、指定されたスロット
に前回に補充されたカセットが残っていれば、これを収
納棚１の最下段に設けられた待避スロット４１へ移動さ
せたのち、新たなカセットを挿入する。カセットの入れ
かえの完了と同時に各スロット１１〜４０に収納された
カセットのレチクル名が確認され、レチクルファイル７
ａの再作成が行われ（ステップ７）、以後、露光装置４
から指令がある度に、コンピュータ６がレチクルファイ
ル７ａから必要なレチクルを入れたカセットを検索し、
カセットハンド２を駆動して所定のスロットからカセッ
トを取りだす。
ットにそれぞれカセットが挿入されると、コンピュータ
６は前述のセンサによって各カセットのレチクル名を識
別し、これに基づいてレチクルファイル７ｂを作成す
る。ステップ２でレチクルファイル７ｂとレチクル使用
履歴リスト９の指定スロット欄を照合し、ステップ３で
レチクルファイル７ｂ内のレチクル名がレチクル使用履
歴リスト９の指定スロット欄にあるか否かを確認したう
えで（ステップ４）、レチクル使用履歴リスト９の指定
スロット欄から指定スロットを検索し（ステップ５）、
これに基づいてエレベータ２ａおよびロボット２ｂを駆
動し、補充されたカセットを指定されたスロットに入れ
かえる（ステップ６）。このとき、指定されたスロット
に前回に補充されたカセットが残っていれば、これを収
納棚１の最下段に設けられた待避スロット４１へ移動さ
せたのち、新たなカセットを挿入する。カセットの入れ
かえの完了と同時に各スロット１１〜４０に収納された
カセットのレチクル名が確認され、レチクルファイル７
ａの再作成が行われ（ステップ７）、以後、露光装置４
から指令がある度に、コンピュータ６がレチクルファイ
ル７ａから必要なレチクルを入れたカセットを検索し、
カセットハンド２を駆動して所定のスロットからカセッ
トを取りだす。
【００１５】また、収納棚１からカセットが取りだされ
るごとに、図５に示すような手順でレチクル使用履歴リ
スト９の更新が行われる。露光装置４からレチクル搬入
の指令が発生されると（ステップ８）、コンピュータ６
は指令されたレチクル名のレチクルを入れたカセットを
待機させたスロットをレチクルファイル７ａによって検
索し（ステップ９）、エレベータ２ａとロボット２ｂを
駆動する。カセットハンド２が所望のカセットを取りだ
してカセット開閉装置３へ運び、ここでカセットが開か
れてレチクルハンド５によってレチクルが露光装置４へ
搬入されると（ステップ１０）、使用レチクルリスト８
に使用レチクル名が使用された日時とともに記入され、
同時にレチクル使用履歴リスト９のレチクル使用回数の
書きかえと、指定スロットの変更が行われる（ステップ
１１）。例えば、４月１２日の１６時にレチクル名Ｌ２
１６のレチクルが露光装置４へ供給され、レチクル使用
履歴リスト９のレチクル名Ｌ２１６の使用回数が３０か
ら３１へ変更されると、レチクル名Ｌ２１６の指定スロ
ット欄が１６から１７へ、レチクル名Ｌ２１７の指定ス
ロット欄が１７から１６に変更される。このように、レ
チクル使用履歴リスト９は、収納棚１からカセットが取
りだされるごとに指定スロットの変更を行うため、次回
に収納棚１のスロットにカセットを補充するときにレチ
クル使用履歴リスト９の指令スロット欄に基づいて前述
のようなカセットの入れかえを行えば、使用回数の多い
レチクルほどカセット開閉装置に近いスロットに待機さ
せることができる。なお、補充したカセットの入れかえ
は、前述のようにカセットハンドによって自動的に行う
替わりに、作業者がレチクル使用履歴リストを見ながら
手作業で行うこともできる。
るごとに、図５に示すような手順でレチクル使用履歴リ
スト９の更新が行われる。露光装置４からレチクル搬入
の指令が発生されると（ステップ８）、コンピュータ６
は指令されたレチクル名のレチクルを入れたカセットを
待機させたスロットをレチクルファイル７ａによって検
索し（ステップ９）、エレベータ２ａとロボット２ｂを
駆動する。カセットハンド２が所望のカセットを取りだ
してカセット開閉装置３へ運び、ここでカセットが開か
れてレチクルハンド５によってレチクルが露光装置４へ
搬入されると（ステップ１０）、使用レチクルリスト８
に使用レチクル名が使用された日時とともに記入され、
同時にレチクル使用履歴リスト９のレチクル使用回数の
書きかえと、指定スロットの変更が行われる（ステップ
１１）。例えば、４月１２日の１６時にレチクル名Ｌ２
１６のレチクルが露光装置４へ供給され、レチクル使用
履歴リスト９のレチクル名Ｌ２１６の使用回数が３０か
ら３１へ変更されると、レチクル名Ｌ２１６の指定スロ
ット欄が１６から１７へ、レチクル名Ｌ２１７の指定ス
ロット欄が１７から１６に変更される。このように、レ
チクル使用履歴リスト９は、収納棚１からカセットが取
りだされるごとに指定スロットの変更を行うため、次回
に収納棚１のスロットにカセットを補充するときにレチ
クル使用履歴リスト９の指令スロット欄に基づいて前述
のようなカセットの入れかえを行えば、使用回数の多い
レチクルほどカセット開閉装置に近いスロットに待機さ
せることができる。なお、補充したカセットの入れかえ
は、前述のようにカセットハンドによって自動的に行う
替わりに、作業者がレチクル使用履歴リストを見ながら
手作業で行うこともできる。
【００１６】
【発明の効果】本発明は、上述のように構成されている
ので、以下に記載するような効果を奏する。
ので、以下に記載するような効果を奏する。
【００１７】収納棚からレチクル等を取りだして露光装
置等へ供給する作業をより迅速に行うことができる。そ
の結果、露光装置等の生産性が向上し、半導体の製造コ
ストを低減できる。
置等へ供給する作業をより迅速に行うことができる。そ
の結果、露光装置等の生産性が向上し、半導体の製造コ
ストを低減できる。
【図１】一実施例を説明する説明図である。
【図２】コンピュータのレチクルファイルを示す図であ
る。
る。
【図３】コンピュータの使用レチクルリストおよびレチ
クル使用履歴リストを示す図である。
クル使用履歴リストを示す図である。
【図４】カセットの入れかえの手順を説明するシーケン
ス図である。
ス図である。
【図５】レチクル使用履歴リストの更新の手順を説明す
るシーケンス図である。
るシーケンス図である。
１ 収納棚 ２ カセットハンド ２ａ エレベータ ２ｂ ロボット ３ カセット開閉装置 ４ 露光装置 ５ レチクルハンド ６ コンピュータ １１〜４０ スロット ７ａ，７ｂ レチクルファイル ８ 使用レチクルリスト ９ レチクル使用履歴リスト
Claims (2)
- 【請求項１】 それぞれ所定の基板名の基板を入れた複
数の基板収容容器を個別に収納自在な複数のスロットを
有する収納手段と、該収納手段に収納された基板収容容
器を搬出する搬出手段と、搬出された基板収容容器の数
を各基板名ごとに集計する集計手段と、集計された基板
収容容器の数に基づいて各基板名ごとに前記スロットの
うちの少くとも１つを指定する指定手段からなる基板供
給装置。 - 【請求項２】 搬出手段が、指定手段によって指定され
たスロットに基板収容容器を入れかえるように構成され
ていることを特徴とする請求項１記載の基板供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13901993A JP3269879B2 (ja) | 1993-05-17 | 1993-05-17 | レチクル供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13901993A JP3269879B2 (ja) | 1993-05-17 | 1993-05-17 | レチクル供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06329218A true JPH06329218A (ja) | 1994-11-29 |
| JP3269879B2 JP3269879B2 (ja) | 2002-04-02 |
Family
ID=15235585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13901993A Expired - Fee Related JP3269879B2 (ja) | 1993-05-17 | 1993-05-17 | レチクル供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3269879B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999060625A1 (en) * | 1998-05-20 | 1999-11-25 | Nikon Corporation | Method and apparatus for wafer transportation, exposure system, micro device, and reticle library |
-
1993
- 1993-05-17 JP JP13901993A patent/JP3269879B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999060625A1 (en) * | 1998-05-20 | 1999-11-25 | Nikon Corporation | Method and apparatus for wafer transportation, exposure system, micro device, and reticle library |
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