JPH06329681A - ビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物およびその製造方法 - Google Patents
ビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH06329681A JPH06329681A JP11843893A JP11843893A JPH06329681A JP H06329681 A JPH06329681 A JP H06329681A JP 11843893 A JP11843893 A JP 11843893A JP 11843893 A JP11843893 A JP 11843893A JP H06329681 A JPH06329681 A JP H06329681A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bis
- tetrahydrophthalic anhydride
- formula
- aryl group
- butadienyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ケイ素原子にテトラヒドロ無水フタル酸基を
２つ有する新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法を
提供する。 【構成】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はアリール基を示
し、他方はアリール基又はアルキル基を示す。）で表さ
れるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物、
及び 下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はアリール基を示
し、他方はアリール基又はアルキル基を示す。）で表さ
れるブタジエニルシランと無水マレイン酸とを反応させ
る前記一般式（１）で表されるビス（テトラヒドロ無水
フタル酸）シラン化合物の製造方法。
２つ有する新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法を
提供する。 【構成】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はアリール基を示
し、他方はアリール基又はアルキル基を示す。）で表さ
れるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物、
及び 下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はアリール基を示
し、他方はアリール基又はアルキル基を示す。）で表さ
れるブタジエニルシランと無水マレイン酸とを反応させ
る前記一般式（１）で表されるビス（テトラヒドロ無水
フタル酸）シラン化合物の製造方法。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、下記一般式（１）
【０００２】
【化４】
【０００３】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はア
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表される新規なビス（テトラヒドロ無水フタル
酸）シラン化合物及びその製造方法に関するものであ
る。
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表される新規なビス（テトラヒドロ無水フタル
酸）シラン化合物及びその製造方法に関するものであ
る。
【０００４】
【従来の技術】ポリイミドのコモノマーとしてテトラヒ
ドロフタル酸無水物を官能基としてもつシロキサン化合
物は公知である。（米国特許第５０１５７００号） また、１つのケイ素原子に、ハロゲン、低級アルキル基
または低級アルコキシ基が２つと、テトラヒドロ無水フ
タル酸基が２つ結合したシラン化合物も公知である。
（特開昭６１−２０５２８５号公報）
ドロフタル酸無水物を官能基としてもつシロキサン化合
物は公知である。（米国特許第５０１５７００号） また、１つのケイ素原子に、ハロゲン、低級アルキル基
または低級アルコキシ基が２つと、テトラヒドロ無水フ
タル酸基が２つ結合したシラン化合物も公知である。
（特開昭６１−２０５２８５号公報）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、１つの
ケイ素原子に２つのテトラヒドロ無水フタル酸基を有
し、かつそのケイ素原子に少なくとも１つのアリール基
が結合しており、残りはアリール基又はアルキル基が結
合しているような有機ケイ素化合物は知られていなかっ
た。一方、樹脂改質剤、ポリイミドのコモノマー、接着
性改良剤等として新規なシラン化合物の出現が望まれて
いた。
ケイ素原子に２つのテトラヒドロ無水フタル酸基を有
し、かつそのケイ素原子に少なくとも１つのアリール基
が結合しており、残りはアリール基又はアルキル基が結
合しているような有機ケイ素化合物は知られていなかっ
た。一方、樹脂改質剤、ポリイミドのコモノマー、接着
性改良剤等として新規なシラン化合物の出現が望まれて
いた。
【０００６】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、ケイ素原子にテトラヒドロ無水フタル酸
基を２つ有する新規な有機ケイ素化合物及びその製造方
法を提供する事を目的とするものである。
たものであり、ケイ素原子にテトラヒドロ無水フタル酸
基を２つ有する新規な有機ケイ素化合物及びその製造方
法を提供する事を目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記一
般式（１）
般式（１）
【０００８】
【化５】
【０００９】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はア
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表されるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シ
ラン化合物である。
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表されるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シ
ラン化合物である。
【００１０】また、本発明は、下記一般式（２）
【００１１】
【化６】
【００１２】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はア
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表されるブタジエニルシランと無水マレイン酸
とを反応させることを特徴とする下記一般式（１）
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表されるブタジエニルシランと無水マレイン酸
とを反応させることを特徴とする下記一般式（１）
【００１３】
【化７】
【００１４】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はア
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表されるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シ
ラン化合物の製造方法である。
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表されるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シ
ラン化合物の製造方法である。
【００１５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
前記一般式（１）で表されるシラン化合物は、１つのケ
イ素原子に２つのテトラヒドロ無水フタル酸基を有し、
かつそのケイ素原子に少なくとも１つのアリール基が結
合しており、残りはアリール基又はアルキル基が結合し
ているような構造を有する化合物である。
前記一般式（１）で表されるシラン化合物は、１つのケ
イ素原子に２つのテトラヒドロ無水フタル酸基を有し、
かつそのケイ素原子に少なくとも１つのアリール基が結
合しており、残りはアリール基又はアルキル基が結合し
ているような構造を有する化合物である。
【００１６】一般式（１）で表されるシラン化合物の具
体的な例としては、ビス（１，２，３，６−テトラヒド
ロ無水フタル酸）フェニルメチルシラン、ビス（１，
２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）フェニルエチ
ルシラン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フ
タル酸）ジフェニルシラン、ビス（１，２，３，６−テ
トラヒドロ無水フタル酸）トリルメチルシラン、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）トリル
エチルシラン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロド
ロ無水フタル酸）ジトリルシラン、ビス（１，２，３，
６−テトラヒドロ無水フタル酸）キシリルメチルシラ
ン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル
酸）キシリルエチルシラン、ビス（１，２，３，６−テ
トラヒドロ無水フタル酸）ジキシリルシラン、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）メシチ
ルメチルシラン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ
無水フタル酸）メシチルエチルシラン、ビス（１，２，
３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）ジメシチルシラ
ン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル
酸）クメニルメチルシラン、ビス（１，２，３，６−テ
トラヒドロ無水フタル酸）クメニルエチルシラン、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）ジクメ
ニルシラン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水
フタル酸）ベンジルメチルシラン、ビス（１，２，３，
６−テトラヒドロ無水フタル酸）ベンジルエチルシラ
ン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル
酸）ジベンジルシラン等が例示される。
体的な例としては、ビス（１，２，３，６−テトラヒド
ロ無水フタル酸）フェニルメチルシラン、ビス（１，
２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）フェニルエチ
ルシラン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フ
タル酸）ジフェニルシラン、ビス（１，２，３，６−テ
トラヒドロ無水フタル酸）トリルメチルシラン、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）トリル
エチルシラン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロド
ロ無水フタル酸）ジトリルシラン、ビス（１，２，３，
６−テトラヒドロ無水フタル酸）キシリルメチルシラ
ン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル
酸）キシリルエチルシラン、ビス（１，２，３，６−テ
トラヒドロ無水フタル酸）ジキシリルシラン、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）メシチ
ルメチルシラン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ
無水フタル酸）メシチルエチルシラン、ビス（１，２，
３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）ジメシチルシラ
ン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル
酸）クメニルメチルシラン、ビス（１，２，３，６−テ
トラヒドロ無水フタル酸）クメニルエチルシラン、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）ジクメ
ニルシラン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水
フタル酸）ベンジルメチルシラン、ビス（１，２，３，
６−テトラヒドロ無水フタル酸）ベンジルエチルシラ
ン、ビス（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル
酸）ジベンジルシラン等が例示される。
【００１７】次に、一般式（１）で表されるシラン化合
物の製造方法について説明する。一般式（１）で表され
るシラン化合物は、下記一般式（２）
物の製造方法について説明する。一般式（１）で表され
るシラン化合物は、下記一般式（２）
【００１８】
【化８】
【００１９】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はア
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表されるブタジエニルシランと無水マレイン酸
とを反応させることにより製造することができる。
リール基を示し、他方はアリール基又はアルキル基を示
す。）で表されるブタジエニルシランと無水マレイン酸
とを反応させることにより製造することができる。
【００２０】一般式（２）で表されるブタジエニルシラ
ンは、式中のＲ1 、Ｒ2 は一般式（１）におけるＲ1 、
Ｒ2 と同じものを意味するが、ブタジエニルシランの具
体的な例としては、ビス〔２−（１，３−ブタジエニ
ル）〕フェニルメチルシラン、ビス〔２−（１，３−ブ
タジエニル）〕フェニルエチルシラン、ビス〔２−
（１，３−ブタジエニル）〕ジフェニルシラン、ビス
〔２−（１，３−ブタジエニル）〕トリルメチルシラ
ン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕トリルエチ
ルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕ジト
リルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕キ
シリルメチルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニ
ル）〕キシリルエチルシラン、ビス〔２−（１，３−ブ
タジエニル）〕ジキシリルシラン、ビス〔２−（１，３
−ブタジエニル）〕メシチルメチルシラン、ビス〔２−
（１，３−ブタジエニル）〕メシチルエチルシラン、ビ
ス〔２−（１１，３−ブタジエニル）〕ジメシチルシラ
ン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕クメニルメ
チルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕ク
メニルエチルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニ
ル）〕ジクメニルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジ
エニル）〕ベンジルメチルシラン、ビス〔２−（１，３
−ブタジエニル）〕ベンジルエチルシラン、ビス〔２−
（１，３〔２−（１，３−ブタジエニル）〕ジベンジル
シラン等が例示される。
ンは、式中のＲ1 、Ｒ2 は一般式（１）におけるＲ1 、
Ｒ2 と同じものを意味するが、ブタジエニルシランの具
体的な例としては、ビス〔２−（１，３−ブタジエニ
ル）〕フェニルメチルシラン、ビス〔２−（１，３−ブ
タジエニル）〕フェニルエチルシラン、ビス〔２−
（１，３−ブタジエニル）〕ジフェニルシラン、ビス
〔２−（１，３−ブタジエニル）〕トリルメチルシラ
ン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕トリルエチ
ルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕ジト
リルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕キ
シリルメチルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニ
ル）〕キシリルエチルシラン、ビス〔２−（１，３−ブ
タジエニル）〕ジキシリルシラン、ビス〔２−（１，３
−ブタジエニル）〕メシチルメチルシラン、ビス〔２−
（１，３−ブタジエニル）〕メシチルエチルシラン、ビ
ス〔２−（１１，３−ブタジエニル）〕ジメシチルシラ
ン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕クメニルメ
チルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニル）〕ク
メニルエチルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジエニ
ル）〕ジクメニルシラン、ビス〔２−（１，３−ブタジ
エニル）〕ベンジルメチルシラン、ビス〔２−（１，３
−ブタジエニル）〕ベンジルエチルシラン、ビス〔２−
（１，３〔２−（１，３−ブタジエニル）〕ジベンジル
シラン等が例示される。
【００２１】本発明における反応に用いられる一般式
（２）で表されるブタジエニルシランと無水マレイン酸
の割合は、モル比で１：０．１〜１：３、特に１：１．
５〜１：２．５の範囲が好ましい。
（２）で表されるブタジエニルシランと無水マレイン酸
の割合は、モル比で１：０．１〜１：３、特に１：１．
５〜１：２．５の範囲が好ましい。
【００２２】また、本発明の反応は溶媒中で行なうのが
好ましく、溶媒には、例えばテトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ヘキサン等
の脂肪族系溶媒、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲ
ン化アルキル溶媒等の反応を阻害しない溶媒を用いるこ
とができる。溶媒の使用量（希釈率）は、反応熱、生産
性等を考慮して決められる。反応温度は、−５０℃から
溶媒の沸点温度の範囲で設定可能であり、好ましくは、
０℃〜５０℃である。反応時間は、３０分〜４８時間、
好ましくは２時間〜１０時間の範囲が望ましい。
好ましく、溶媒には、例えばテトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ヘキサン等
の脂肪族系溶媒、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲ
ン化アルキル溶媒等の反応を阻害しない溶媒を用いるこ
とができる。溶媒の使用量（希釈率）は、反応熱、生産
性等を考慮して決められる。反応温度は、−５０℃から
溶媒の沸点温度の範囲で設定可能であり、好ましくは、
０℃〜５０℃である。反応時間は、３０分〜４８時間、
好ましくは２時間〜１０時間の範囲が望ましい。
【００２３】本発明の製造方法において、一方の原料と
なるブタジエニルシランは、重合性を有するので製造の
際に通常の重合禁止剤、例えばハイドロキノン、ターシ
ャリーブチルカテコール等を使用することができる。ま
た、原料の無水マレイン酸及び得られた目的物は加水分
解性を有するので必要に応じて、窒素、アルゴン等の不
活性ガス下で反応を行ってもよい。
なるブタジエニルシランは、重合性を有するので製造の
際に通常の重合禁止剤、例えばハイドロキノン、ターシ
ャリーブチルカテコール等を使用することができる。ま
た、原料の無水マレイン酸及び得られた目的物は加水分
解性を有するので必要に応じて、窒素、アルゴン等の不
活性ガス下で反応を行ってもよい。
【００２４】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
する。
【００２５】実施例１ リフラックスコンデンサー、温度計、撹拌機及び滴下ロ
ートを備えた１０００ｍｌセパラブルフラスコに、窒素
雰囲気下で金属マグネシウムと十分に脱水したテトラヒ
ドロフランを入れ、ブロモエタンを滴下ロートでゆっく
りいれた。次に塩化亜鉛を入れ、約６０℃に加熱して十
分に脱水したテトラヒドロフランとクロロプレンをゆっ
くりと添加した。この間、反応液はリフラックス状態で
あり、滴下終了とともにリフラックス状態は終わった。
引続き７０℃で１時間熟成を行った後、Ｏ−フェナント
ロリンを用いグリニャール化合物の生成を確認した。
ートを備えた１０００ｍｌセパラブルフラスコに、窒素
雰囲気下で金属マグネシウムと十分に脱水したテトラヒ
ドロフランを入れ、ブロモエタンを滴下ロートでゆっく
りいれた。次に塩化亜鉛を入れ、約６０℃に加熱して十
分に脱水したテトラヒドロフランとクロロプレンをゆっ
くりと添加した。この間、反応液はリフラックス状態で
あり、滴下終了とともにリフラックス状態は終わった。
引続き７０℃で１時間熟成を行った後、Ｏ−フェナント
ロリンを用いグリニャール化合物の生成を確認した。
【００２６】このグリニャール化合物が生成しているフ
ラスコにシアン化銅を入れ、攪拌しながらジクロロフェ
ニルメチルシランを滴下ロートを用いてゆっくりフィー
ドした。ジクロロフェニルメチルシランのフィードを開
始するとすぐに反応が起こり内温が上昇した。ジクロロ
フェニルメチルシランのフィード終了後、約４０℃、１
時間熟成後、反応液をフラスコから抜取りヘキサンで洗
浄しながら、ろ過を行った。ろ液を濃縮し、分液ロート
中で水洗し、油層を回収して脱水を行い、それを蒸留し
て黄色透明な液を得た。この液をＧＣ−ＭＳ及び 1ＨＮ
ＭＲで分析して回収液がビス〔２−（１，３−ブタジエ
ニル）〕フェニルメチルシランであることを確認した。
ラスコにシアン化銅を入れ、攪拌しながらジクロロフェ
ニルメチルシランを滴下ロートを用いてゆっくりフィー
ドした。ジクロロフェニルメチルシランのフィードを開
始するとすぐに反応が起こり内温が上昇した。ジクロロ
フェニルメチルシランのフィード終了後、約４０℃、１
時間熟成後、反応液をフラスコから抜取りヘキサンで洗
浄しながら、ろ過を行った。ろ液を濃縮し、分液ロート
中で水洗し、油層を回収して脱水を行い、それを蒸留し
て黄色透明な液を得た。この液をＧＣ−ＭＳ及び 1ＨＮ
ＭＲで分析して回収液がビス〔２−（１，３−ブタジエ
ニル）〕フェニルメチルシランであることを確認した。
【００２７】次に、リフラックスコンデンサー、温度
計、撹拌機及び滴下ロートを備えた１０００ｍｌセパラ
ブルフラスコに、上記で作成したビス〔２−（１，３−
ブタジエニル）〕フェニルメチルシラン５６．５ｇ
（０．２２９モル）とテトラヒドロフラン（以下、ＴＨ
Ｆと記す）を３０５ｇ仕込み、窒素ガス雰囲気下で内温
を６０℃に昇温し、攪拌を開始した。適下ロートより無
水マレイン酸４９．４ｇ（０．５０４モル）を含むＴＨ
Ｆ溶液１００ｇを１０分かけて添加した。さらに、６０
℃で６時間反応を継続した。この反応液に室温でヘキサ
ンを１０００ｃｃ加え、析出物を窒素雰囲気下で吸引ろ
過を行い回収し、加熱真空乾燥を行って黄白色固体３０
ｇを回収した。
計、撹拌機及び滴下ロートを備えた１０００ｍｌセパラ
ブルフラスコに、上記で作成したビス〔２−（１，３−
ブタジエニル）〕フェニルメチルシラン５６．５ｇ
（０．２２９モル）とテトラヒドロフラン（以下、ＴＨ
Ｆと記す）を３０５ｇ仕込み、窒素ガス雰囲気下で内温
を６０℃に昇温し、攪拌を開始した。適下ロートより無
水マレイン酸４９．４ｇ（０．５０４モル）を含むＴＨ
Ｆ溶液１００ｇを１０分かけて添加した。さらに、６０
℃で６時間反応を継続した。この反応液に室温でヘキサ
ンを１０００ｃｃ加え、析出物を窒素雰囲気下で吸引ろ
過を行い回収し、加熱真空乾燥を行って黄白色固体３０
ｇを回収した。
【００２８】この化合物について、ＮＭＲ、マススペク
トル、赤外線吸収スペクトルによる分析を行った。その
結果を以下に示す。これより、この黄白色固体は、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）フェニ
ルメチルシランであると認められた。
トル、赤外線吸収スペクトルによる分析を行った。その
結果を以下に示す。これより、この黄白色固体は、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）フェニ
ルメチルシランであると認められた。
【００２９】 1ＨＮＭＲ ；アセトン−ｄ6 （３０℃） δ（ｐｐｍ） ７．３０〜７．５０ （ｍ，５Ｈ，Ｐｈ） ６．２５〜６．５０ （ｍ，２Ｈ，ＨＣ＝Ｃ） ３．５０〜３．７０ （ｍ，４Ｈ，ＣＨ） ２．３５〜２．７０ （ｍ，８Ｈ，ＣＨ2 ） ０．５５ （ｓ，３Ｈ，ＣＨ3 ）
【００３０】赤外線吸収スペクトル （ｃｍ-1） １４２０、１１２０ （Ｓｉ−Ｐｈ） ７８０ （Ｓｉ−ＣＨ3 ） １６００ （Ｃ＝Ｃ） １８４０，１７７０、１２４０、１０５０、９４０
（Ｏ＝Ｃ−Ｏ−Ｃ＝Ｏ）
（Ｏ＝Ｃ−Ｏ−Ｃ＝Ｏ）
【００３１】マススペクトル ３３２ （Ｍ+ ）
【００３２】
【化９】
【００３３】実施例２ 実施例１に準じて、ジクロロフェニルメチルシランの代
わりにジクロロジフェニルシラを使用し、ビス〔２−
（１，３−ブタジエニル）〕ジフェニルシランを作成し
た。次に実施例１と同様の装置を用いてビス〔２−
（１，３−ブタジエニル）〕ジフェニルシラン４４．８
ｇ（０．１５５モル）とＴＨＦを３００ｇ仕込み、窒素
ガス雰囲気下で内温を６０℃に昇温し、攪拌を開始し
た。適下ロートより無水マレイン酸５４．９ｇ（０．５
６０モル）を含むＴＨＦ溶液１５０ｇを１０分かけて添
加した。さらに６０℃で１０時間反応を継続した。その
後、室温でヘキサンを１０００ｃｃ添加し、析出物を窒
素雰囲気下で吸引ろ過を行い回収した。さらに、この析
出物を加熱真空乾燥して黄白色固体を５７ｇ回収した。
わりにジクロロジフェニルシラを使用し、ビス〔２−
（１，３−ブタジエニル）〕ジフェニルシランを作成し
た。次に実施例１と同様の装置を用いてビス〔２−
（１，３−ブタジエニル）〕ジフェニルシラン４４．８
ｇ（０．１５５モル）とＴＨＦを３００ｇ仕込み、窒素
ガス雰囲気下で内温を６０℃に昇温し、攪拌を開始し
た。適下ロートより無水マレイン酸５４．９ｇ（０．５
６０モル）を含むＴＨＦ溶液１５０ｇを１０分かけて添
加した。さらに６０℃で１０時間反応を継続した。その
後、室温でヘキサンを１０００ｃｃ添加し、析出物を窒
素雰囲気下で吸引ろ過を行い回収した。さらに、この析
出物を加熱真空乾燥して黄白色固体を５７ｇ回収した。
【００３４】この化合物について、ＮＭＲ、マススペク
トル、赤外吸収スペクトルによる分析を行なった。その
結果を以下に示す。これより、この黄白色固体は、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）ジフェ
ニルシランであると認められた。
トル、赤外吸収スペクトルによる分析を行なった。その
結果を以下に示す。これより、この黄白色固体は、ビス
（１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸）ジフェ
ニルシランであると認められた。
【００３５】 1ＨＮＭＲ ；アセトン−ｄ6 （３０℃） δ（ｐｐｍ） ７．３５〜７．５５ （ｍ，１０Ｈ，Ｐｈ） ６．４０〜６．５０ （ｍ，２Ｈ，ＨＣ＝Ｃ） ３．５０〜３．７０ （ｍ，４Ｈ，ＣＨ） ２．５０〜２．７０ （ｍ，８Ｈ，ＣＨ2 ）
【００３６】赤外線吸収スペクトル （ｃｍ-1） １４２０，１１２０（Ｓｉ−Ｐｈ） １６００ （Ｃ＝Ｃ） １８４０，１７７０、１２４０、１０５０、９４０
（Ｏ＝Ｃ−Ｏ−Ｃ＝Ｏ） ２９５０、１４４０ （Ｃ−Ｈ）
（Ｏ＝Ｃ−Ｏ−Ｃ＝Ｏ） ２９５０、１４４０ （Ｃ−Ｈ）
【００３７】マススペクトル ４８４ （Ｍ+ ）
【００３８】
【化１０】
【００３９】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の前記一般式
（１）で表されるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シ
ラン化合物は、ケイ素原子に反応性に優れた２つのテト
ラヒドロ無水フタル酸基を有し、かつそのケイ素原子が
少なくとも１つのアリール基と結合しており、残りがア
リール基又はアルキル基と結合している新規なシラン化
合物であって、ポリイミドのコモノマー、各種樹脂の改
質剤、中間体及び他のシラン化合物の原料等、広範囲の
用途に供せられる。
（１）で表されるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シ
ラン化合物は、ケイ素原子に反応性に優れた２つのテト
ラヒドロ無水フタル酸基を有し、かつそのケイ素原子が
少なくとも１つのアリール基と結合しており、残りがア
リール基又はアルキル基と結合している新規なシラン化
合物であって、ポリイミドのコモノマー、各種樹脂の改
質剤、中間体及び他のシラン化合物の原料等、広範囲の
用途に供せられる。
【００４０】また、本発明の製造方法によれば、一般式
（１）で表される新規なビス（テトラヒドロ無水フタル
酸）シラン化合物を容易に得ることができる。
（１）で表される新規なビス（テトラヒドロ無水フタル
酸）シラン化合物を容易に得ることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はアリール基を示
し、他方はアリール基又はアルキル基を示す。）で表さ
れるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物。 - 【請求項２】 下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はアリール基を示
し、他方はアリール基又はアルキル基を示す。）で表さ
れるブタジエニルシランと無水マレイン酸とを反応させ
ることを特徴とする下記一般式（１） 【化３】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は少なくとも一方はアリール基を示
し、他方はアリール基又はアルキル基を示す。）で表さ
れるビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11843893A JPH06329681A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | ビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11843893A JPH06329681A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | ビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06329681A true JPH06329681A (ja) | 1994-11-29 |
Family
ID=14736645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11843893A Pending JPH06329681A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | ビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06329681A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014518292A (ja) * | 2011-06-17 | 2014-07-28 | エルジー・ケム・リミテッド | 硬化性組成物 |
-
1993
- 1993-05-20 JP JP11843893A patent/JPH06329681A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014518292A (ja) * | 2011-06-17 | 2014-07-28 | エルジー・ケム・リミテッド | 硬化性組成物 |
| US9123647B2 (en) | 2011-06-17 | 2015-09-01 | Lg Chem, Ltd. | Curable composition |
| JP2015193850A (ja) * | 2011-06-17 | 2015-11-05 | エルジー・ケム・リミテッド | 硬化性組成物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6984747B2 (en) | Method for preparing styryl-functionalized silanes | |
| CA1273348A (en) | Free-radical initiators, curable compositions and methods | |
| EP0444921B1 (en) | Siloxane compound containing tetrahydrophthalic anhydride group and method of producing the same | |
| JP2530391B2 (ja) | 立体的に遮蔽されたアミノヒドロカルビルシラン類および製造方法 | |
| US4837339A (en) | 4-Substituted-1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid anhydride | |
| JP2654075B2 (ja) | 環状シルエチニルポリマーの製造方法 | |
| US4469881A (en) | [2-(p-t-Butylphenyl)ethyl]silanes and method of making the same | |
| JPH06329681A (ja) | ビス（テトラヒドロ無水フタル酸）シラン化合物およびその製造方法 | |
| JPS63141987A (ja) | 有機けい素基含有環状イソシアヌル酸エステルの製造方法 | |
| JPH01305094A (ja) | ω−シリルアルキニルシラン化合物およびその製造方法 | |
| EP0238826B1 (en) | 1,1-dichloro-1,2,2-trimethyl-2-phenyldisilane and method for producing the same | |
| US5081260A (en) | 3-(2-oxo-1-pyrrolidinyl)-propylsilanes and method for preparing the silane compounds | |
| JP3279148B2 (ja) | ２−アリロキシメチル−１，４−ジオキサンの製造方法 | |
| US5288890A (en) | Fluorine-containing organosilicon compound and process of producing the same | |
| US4625043A (en) | Ethylidenenorbornyl dimethylmethacryloxysilane | |
| EP0234412B1 (en) | 1,2-dichloro-1,2,2-trimethyl-1-phenyldisilane and method for producing the same | |
| JP2850726B2 (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
| US5059705A (en) | Butadienyl group-containing siloxane compounds and method of producing the same | |
| US4895966A (en) | Polymerizable organosilane compound | |
| JPH0827275A (ja) | Ｎ−カルバゾリルポリシランおよびオルガノ−ｎ−カルバゾリルジハロゲノシラン化合物 | |
| JP2599313B2 (ja) | テトラヒドロ無水フタル酸基を有するシロキサン化合物及びその製造方法 | |
| JP2512348B2 (ja) | ブタジエニル基含有シロキサン化合物及びその製造方法 | |
| JP3564530B2 (ja) | テトラキス（ジアリールシリル）ベンゼンの製造方法 | |
| JPH0374392A (ja) | シラン化合物およびその製造方法 | |
| JP2805998B2 (ja) | 酸無水物基含有シラン化合物及びその製造方法 |