JPH06332140A - 感光材料処理装置 - Google Patents
感光材料処理装置Info
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- JPH06332140A JPH06332140A JP6093495A JP9349594A JPH06332140A JP H06332140 A JPH06332140 A JP H06332140A JP 6093495 A JP6093495 A JP 6093495A JP 9349594 A JP9349594 A JP 9349594A JP H06332140 A JPH06332140 A JP H06332140A
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- processing
- solution
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- photosensitive material
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D5/00—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected
- G03D5/04—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected using liquid sprays
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
- G03D3/06—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 新鮮な処理溶液を感光材料の表面を横切って
均一に導入する低容量の感光材料処理装置を提供する。 【構成】 本発明装置は、狹い水平の処理通路を用いて
いる。この処理通路は絞りピンチローラと衝突スロット
ノズルとを反復して組合わすことにより形成される。写
真処理溶液は衝突スロットノズルを通って導入され、絞
りピンチローラは処理溶液を感光材料から取除きまた感
光材料を輸送するのに用いられる。処理溶液の液面高さ
の制御が上向き通路の頂部の下方に位置する排出口によ
って行われる。スロットノズルとピンチローラとは相互
に作用し化学的障壁層を破壊する。
均一に導入する低容量の感光材料処理装置を提供する。 【構成】 本発明装置は、狹い水平の処理通路を用いて
いる。この処理通路は絞りピンチローラと衝突スロット
ノズルとを反復して組合わすことにより形成される。写
真処理溶液は衝突スロットノズルを通って導入され、絞
りピンチローラは処理溶液を感光材料から取除きまた感
光材料を輸送するのに用いられる。処理溶液の液面高さ
の制御が上向き通路の頂部の下方に位置する排出口によ
って行われる。スロットノズルとピンチローラとは相互
に作用し化学的障壁層を破壊する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は写真の分野に関し、詳細
には感光材料処理装置に関する。
には感光材料処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】感光材料の処理は現像、漂白、定着、洗
浄及び乾燥のような一連の段階を含んでいる。これらの
段階はこれら段階自体を、フィルムの連続ウェブもしく
はフィルムの切断シート又は写真印画紙を、それぞれが
その部署の処理段階に適合する異なる処理液を含んでい
る一連の部署又はタンクを順次通過して運搬することに
より、機械化させる。
浄及び乾燥のような一連の段階を含んでいる。これらの
段階はこれら段階自体を、フィルムの連続ウェブもしく
はフィルムの切断シート又は写真印画紙を、それぞれが
その部署の処理段階に適合する異なる処理液を含んでい
る一連の部署又はタンクを順次通過して運搬することに
より、機械化させる。
【0003】様々な大きさの写真フィルム処理装置、す
なわち大きな写真仕上げ装置と小実験室とが存在する。
大きな写真仕上げ装置は約100リットルの各処理溶液
を収容する複数のタンクを利用している。小さい写真仕
上げ装置又は小実験室は10リットルより少ない処理溶
液を収容する複数のタンクを用いている。
なわち大きな写真仕上げ装置と小実験室とが存在する。
大きな写真仕上げ装置は約100リットルの各処理溶液
を収容する複数のタンクを利用している。小さい写真仕
上げ装置又は小実験室は10リットルより少ない処理溶
液を収容する複数のタンクを用いている。
【0004】処理溶液に含有される化学薬品は購入する
のに金がかかり、活性が変化し、そして写真処理の間に
溶け出る感光性材料の成分によって熟成され、またこれ
ら化学薬品が用いられた後化学薬品は環境上安全な方法
で廃棄されなければならない。したがって、全ての大き
さの写真処理装置においては処理溶液の容量を減少する
ことが重要である。従来の技術は、特定の化学薬品を処
理溶液に加え又は除去し現像された材料に不変の写真特
性を保つようにする様々な型式の補充装置を提案してい
る。一定の補充時間の間だけ写真特性に合理的な不変性
を保持することができる。処理溶液が与えられた回数使
用された後、溶液は廃棄され新しい処理溶液がタンクに
加えられる。
のに金がかかり、活性が変化し、そして写真処理の間に
溶け出る感光性材料の成分によって熟成され、またこれ
ら化学薬品が用いられた後化学薬品は環境上安全な方法
で廃棄されなければならない。したがって、全ての大き
さの写真処理装置においては処理溶液の容量を減少する
ことが重要である。従来の技術は、特定の化学薬品を処
理溶液に加え又は除去し現像された材料に不変の写真特
性を保つようにする様々な型式の補充装置を提案してい
る。一定の補充時間の間だけ写真特性に合理的な不変性
を保持することができる。処理溶液が与えられた回数使
用された後、溶液は廃棄され新しい処理溶液がタンクに
加えられる。
【0005】化学薬品の不安定性による活性の低下又は
処理溶液の成分が一緒に混合された後の化学的汚染物質
のため、小さな容量のタンクでは大きな容量のタンクよ
りも頻繁に処理溶液を捨てることになる。写真処理のあ
る段階は不安定の、すなわち短い処理寿命の化学薬品を
含有する処理溶液を使用している。したがって、不安定
の化学薬品を収容しているタンクの処理溶液は安定性の
化学薬品を収容しているタンクの処理溶液よりもさらに
頻繁に捨てられることになる。
処理溶液の成分が一緒に混合された後の化学的汚染物質
のため、小さな容量のタンクでは大きな容量のタンクよ
りも頻繁に処理溶液を捨てることになる。写真処理のあ
る段階は不安定の、すなわち短い処理寿命の化学薬品を
含有する処理溶液を使用している。したがって、不安定
の化学薬品を収容しているタンクの処理溶液は安定性の
化学薬品を収容しているタンクの処理溶液よりもさらに
頻繁に捨てられることになる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術は感光材料
を処理するために自動写真処理装置を用いていた。自動
写真処理装置は典型的には処理溶液の容量で充たされた
タンクに浸漬された輸送ラックを順次配列した構造に組
立てられている。これらラックとタンクの形状と構造は
ある環境、例えばオフィス、家庭、コンピュータ領域等
においては不適当である。
を処理するために自動写真処理装置を用いていた。自動
写真処理装置は典型的には処理溶液の容量で充たされた
タンクに浸漬された輸送ラックを順次配列した構造に組
立てられている。これらラックとタンクの形状と構造は
ある環境、例えばオフィス、家庭、コンピュータ領域等
においては不適当である。
【0007】上記の理由は、装置の潜在的な損傷と、こ
ぼれた写真処理溶液から生じる周囲の状況と、設備の欠
陥、すなわち水の流出と、ラックを掃除しタンクを洗い
流すための排水溜めとである。写真材料は処理装置の中
で詰まって動かなくなる。この状態ではラックはタンク
から取出され動かなくなった写真材料に接近できてこの
詰まった材料を取除くようにしなければならない。ラッ
クとタンクの形状と構造はいかなる処理溶液をもこぼす
ことなくラックをタンクから取出すのを困難にする。
ぼれた写真処理溶液から生じる周囲の状況と、設備の欠
陥、すなわち水の流出と、ラックを掃除しタンクを洗い
流すための排水溜めとである。写真材料は処理装置の中
で詰まって動かなくなる。この状態ではラックはタンク
から取出され動かなくなった写真材料に接近できてこの
詰まった材料を取除くようにしなければならない。ラッ
クとタンクの形状と構造はいかなる処理溶液をもこぼす
ことなくラックをタンクから取出すのを困難にする。
【0008】ラックとタンクの構造は主として、常に活
性処理溶液を感光材料に与えるのが必要であることによ
って決められる。ラックとタンクの処理装置の主なる作
用の1つは処理溶液の適切な撹拌を得ることである。適
切な撹拌は、新鮮な処理溶液を感光材料の一面又は両面
に送りまた使用ずみの処理溶液を感光材料から除去す
る。
性処理溶液を感光材料に与えるのが必要であることによ
って決められる。ラックとタンクの処理装置の主なる作
用の1つは処理溶液の適切な撹拌を得ることである。適
切な撹拌は、新鮮な処理溶液を感光材料の一面又は両面
に送りまた使用ずみの処理溶液を感光材料から除去す
る。
【0009】従来の技術は、種々の大きさの写真処理装
置の内部に収容される種々のタンクの容量が減少された
としても同じ量のフィルム又は写真印画紙が処理され、
また使用され続いて捨てられる処理溶液の容量を減少さ
せることを提案している。より小さな容量のタンクを使
用することの問題点の1つは処理溶液に十分な撹拌を与
えることである。
置の内部に収容される種々のタンクの容量が減少された
としても同じ量のフィルム又は写真印画紙が処理され、
また使用され続いて捨てられる処理溶液の容量を減少さ
せることを提案している。より小さな容量のタンクを使
用することの問題点の1つは処理溶液に十分な撹拌を与
えることである。
【0010】従来の技術はまた、使用ずみの処理溶液を
感光材料の一方の面又は両面から除去しそして新鮮な処
理溶液を感光材料の一面又は両面に与えるための他の技
術を用いていた。これらの技術は回転式ドラム、網スク
リーン、圧搾羽根、及び溶液噴出口等を含んでいる。網
スクリーン、圧搾羽根及びドラムは感光材料の繊細な表
面を網の中、羽根の上、又はドラム表面の上に蓄積する
くずで損傷することがある。回転ドラムに関する他の問
題点は回転ドラムが大きくしたがって処理装置の最小の
大きさを制限することである。回転ドラムのさらなる問
題点は一度に1枚のシートの感光材料しか処理できない
ことである。
感光材料の一方の面又は両面から除去しそして新鮮な処
理溶液を感光材料の一面又は両面に与えるための他の技
術を用いていた。これらの技術は回転式ドラム、網スク
リーン、圧搾羽根、及び溶液噴出口等を含んでいる。網
スクリーン、圧搾羽根及びドラムは感光材料の繊細な表
面を網の中、羽根の上、又はドラム表面の上に蓄積する
くずで損傷することがある。回転ドラムに関する他の問
題点は回転ドラムが大きくしたがって処理装置の最小の
大きさを制限することである。回転ドラムのさらなる問
題点は一度に1枚のシートの感光材料しか処理できない
ことである。
【0011】感光材料の均一でない処理の問題点は、広
く離間して配された列状でない溶液噴出口が感光材料に
極めて接近して用いられた時に大きくなる。溶液噴出口
はまた新鮮な処理溶液を感光材料の一面又は両面に供給
しまた取除く方法を提供する。
く離間して配された列状でない溶液噴出口が感光材料に
極めて接近して用いられた時に大きくなる。溶液噴出口
はまた新鮮な処理溶液を感光材料の一面又は両面に供給
しまた取除く方法を提供する。
【0012】しかし、噴出口又は孔の形式の溶液噴出口
を使用し小容量処理タンクで新鮮な処理溶液を分配する
ようにした場合には、感光材料は均一に現像されない。
上記の理由は、新鮮な処理溶液が分配されると新鮮な処
理溶液は感光材料に接近し感光材料の表面を横切って均
一に拡散される空間が得られないことにある。ノズル又
は孔と感光材料の表面との間の距離が増し新鮮な処理溶
液の十分な分配が達成されたならば、小さな容量のタン
クは必要でなくなる。
を使用し小容量処理タンクで新鮮な処理溶液を分配する
ようにした場合には、感光材料は均一に現像されない。
上記の理由は、新鮮な処理溶液が分配されると新鮮な処
理溶液は感光材料に接近し感光材料の表面を横切って均
一に拡散される空間が得られないことにある。ノズル又
は孔と感光材料の表面との間の距離が増し新鮮な処理溶
液の十分な分配が達成されたならば、小さな容量のタン
クは必要でなくなる。
【0013】従来の技術では、処理溶液が溶液の大容量
部を横切って均一に流れないため新鮮な処理溶液を大容
量タンクにおいて分配するためにスロット(細長い穴)
を使用していなかった。
部を横切って均一に流れないため新鮮な処理溶液を大容
量タンクにおいて分配するためにスロット(細長い穴)
を使用していなかった。
【0014】感光材料がタンクを通過するにつれて、境
界層が感光材料の表面と処理溶液との間に形成される。
処理溶液は感光材料と共に移動する。したがって、感光
材料と処理溶液との間の境界層は破壊され新鮮な処理溶
液が感光材料に到達できるようにしなければならない。
大きな従来のタンクにおいては複数のローラが使用され
てこの境界層を破壊するようにしていた。これらローラ
が使用ずみの処理溶液を感光材料の表面から絞り取り、
それにより新鮮な処理溶液が感光材料の表面に到達でき
るようにする。小容量のタンクでは、ローラが余分の空
間を必要とし所要の処理溶液の容量に加わるため、感光
材料と処理溶液との間の境界層を破壊するためにはロー
ラを使用しない。
界層が感光材料の表面と処理溶液との間に形成される。
処理溶液は感光材料と共に移動する。したがって、感光
材料と処理溶液との間の境界層は破壊され新鮮な処理溶
液が感光材料に到達できるようにしなければならない。
大きな従来のタンクにおいては複数のローラが使用され
てこの境界層を破壊するようにしていた。これらローラ
が使用ずみの処理溶液を感光材料の表面から絞り取り、
それにより新鮮な処理溶液が感光材料の表面に到達でき
るようにする。小容量のタンクでは、ローラが余分の空
間を必要とし所要の処理溶液の容量に加わるため、感光
材料と処理溶液との間の境界層を破壊するためにはロー
ラを使用しない。
【0015】現存の処理装置に関するさらなる問題点
は、処理装置が与えられた時間にロール又は切断シート
形式の感光材料を処理するにすぎないということであ
る。さらに、感光材料を切断シート形式で処理するよう
構成された処理装置は、輸送される感光材料の最小又は
最大の長さによって感光材料を処理する能力が制限され
る。
は、処理装置が与えられた時間にロール又は切断シート
形式の感光材料を処理するにすぎないということであ
る。さらに、感光材料を切断シート形式で処理するよう
構成された処理装置は、輸送される感光材料の最小又は
最大の長さによって感光材料を処理する能力が制限され
る。
【0016】余分のローラがより短い感光材料の長さを
輸送するのに必要とされる。この理由は、感光材料の一
部が一対の輸送ローラと常に物理的に接触しなければな
らないか又は感光材料の切断シートが処理装置全体を通
って移動することができなくなるということにある。必
要とされる輸送ローラの数が増すにしたがって、処理溶
液の撹拌は減少する。ローラが処理溶液を取除きそれに
より境界層を破壊しても、この余分のローラは感光材料
の表面への新鮮な処理溶液の流れと感光材料の表面から
の使用ずみの処理溶液の流れとを激しく妨害する。
輸送するのに必要とされる。この理由は、感光材料の一
部が一対の輸送ローラと常に物理的に接触しなければな
らないか又は感光材料の切断シートが処理装置全体を通
って移動することができなくなるということにある。必
要とされる輸送ローラの数が増すにしたがって、処理溶
液の撹拌は減少する。ローラが処理溶液を取除きそれに
より境界層を破壊しても、この余分のローラは感光材料
の表面への新鮮な処理溶液の流れと感光材料の表面から
の使用ずみの処理溶液の流れとを激しく妨害する。
【0017】
【課題を解決するための手段と発明の効果】本発明は新
鮮な処理溶液を感光材料の表面を横切って均一に導入す
る低容量の写真材料処理装置を提供することによって、
従来技術の欠点を解消する。本発明の処理装置は、その
流体分配形式が感光材料の幅に合致し又は超過するスロ
ットノズル構造を用いる。このスロットノズルは定期的
に取替え又は清掃することを要せず、またある量の新鮮
な処理溶液が十分な速度でスロットノズルを出て使用ず
みの処理溶液の境界層を粉砕し新鮮な処理溶液が感光材
料の表面に到達できるように構成されている。スロット
ノズルは流出する処理溶液の速度を溶液の圧力を変える
ことにより変化できるようにする。このようにして、感
光材料の表面に到達する新鮮な処理溶液の量を制御する
ことができる。したがって、感光材料と感光材料の表面
に到達する新鮮な処理溶液との間の化学的な反応は制御
される。
鮮な処理溶液を感光材料の表面を横切って均一に導入す
る低容量の写真材料処理装置を提供することによって、
従来技術の欠点を解消する。本発明の処理装置は、その
流体分配形式が感光材料の幅に合致し又は超過するスロ
ットノズル構造を用いる。このスロットノズルは定期的
に取替え又は清掃することを要せず、またある量の新鮮
な処理溶液が十分な速度でスロットノズルを出て使用ず
みの処理溶液の境界層を粉砕し新鮮な処理溶液が感光材
料の表面に到達できるように構成されている。スロット
ノズルは流出する処理溶液の速度を溶液の圧力を変える
ことにより変化できるようにする。このようにして、感
光材料の表面に到達する新鮮な処理溶液の量を制御する
ことができる。したがって、感光材料と感光材料の表面
に到達する新鮮な処理溶液との間の化学的な反応は制御
される。
【0018】追加のスロットノズルが用いられて新鮮な
処理溶液と感光材料との間の化学反応の量を制御する。
処理溶液と感光材料との間の化学反応の量を制御する。
【0019】上記の作用は、処理溶液を通路内部に収容
するための上向きの入口と出口とを備えた狹い水平の処
理通路を用いる低容量の写真材料処理装置を提供するこ
とにより達成される。この通路は絞りピンチローラと衝
突スロットノズルとを繰返し組合せることにより形成さ
れる。写真処理溶液は1つ又はそれ以上の衝突スロット
ノズルを通って感光材料の表面に動力学的に衝突され、
また絞りピンチローラは処理溶液を感光材料から取除き
感光材料を輸送するために用いられる。
するための上向きの入口と出口とを備えた狹い水平の処
理通路を用いる低容量の写真材料処理装置を提供するこ
とにより達成される。この通路は絞りピンチローラと衝
突スロットノズルとを繰返し組合せることにより形成さ
れる。写真処理溶液は1つ又はそれ以上の衝突スロット
ノズルを通って感光材料の表面に動力学的に衝突され、
また絞りピンチローラは処理溶液を感光材料から取除き
感光材料を輸送するために用いられる。
【0020】溶液衝突スロットノズルと絞りピンチロー
ラとの上記の配置構造は、切断シート又はロールの感光
材料の輸送を可能としまた相互作用で新鮮な処理溶液を
感光材料に与えるとともに使用ずみの処理溶液を感光材
料から取除くよう作動する。
ラとの上記の配置構造は、切断シート又はロールの感光
材料の輸送を可能としまた相互作用で新鮮な処理溶液を
感光材料に与えるとともに使用ずみの処理溶液を感光材
料から取除くよう作動する。
【0021】衝突スロットノズルは、処理溶液を感光材
料の一面又は両面に輸送し非常に小さな容量の処理溶液
が感光材料を処理するのに用いられるようにする効率的
な方法を提供する。このスロットノズルは処理溶液を感
光材料の一面又は両面に、感光材料のこの面を横切る均
一の処理が達成されるように供給する。上記の作用は写
真処理装置の構成要素の大部分を処理溶液に浸漬するこ
となく小容量の処理溶液を用いながら行われる。こうし
て、残りの処理溶液が処理通路の中に含まれないように
なる。したがって、残りの処理溶液は同時にろ過され、
輸送され、化学的に処理(イオン交換)されまた温度が
処理通路の外部で制御される。付加的な処理効率がスロ
ットノズルと絞りピンチローラの適当の配置によって得
られる。
料の一面又は両面に輸送し非常に小さな容量の処理溶液
が感光材料を処理するのに用いられるようにする効率的
な方法を提供する。このスロットノズルは処理溶液を感
光材料の一面又は両面に、感光材料のこの面を横切る均
一の処理が達成されるように供給する。上記の作用は写
真処理装置の構成要素の大部分を処理溶液に浸漬するこ
となく小容量の処理溶液を用いながら行われる。こうし
て、残りの処理溶液が処理通路の中に含まれないように
なる。したがって、残りの処理溶液は同時にろ過され、
輸送され、化学的に処理(イオン交換)されまた温度が
処理通路の外部で制御される。付加的な処理効率がスロ
ットノズルと絞りピンチローラの適当の配置によって得
られる。
【0022】上記の作用は感光材料を処理する装置を提
供することによって達成されるが、この感光材料処理装
置は、処理溶液が流れる通路を含む容器であって、前記
通路の入口と出口が上向きで処理溶液を通路の内部に収
容するようになっている容器と、前記通路に連結されて
感光材料を通路入口から通路を通って通路出口へと輸送
する手段であって、前記通路と前記輸送手段が、処理溶
液と感光材料を保持するための小さな容量部が前記通路
と前記手段との間に形成されるよう相対的に大きさが決
められるようにしている、輸送手段と、処理溶液を前記
小さな容量部と前記容器とを通って循環させる手段であ
って、1つ又はそれ以上のスロットノズルが前記循環手
段に連結されかつ通路の一部を形成し感光材料の表面に
動力学的に衝突する処理溶液の速度と量を制御するよう
にしている、処理溶液循環手段、とを具備している。
供することによって達成されるが、この感光材料処理装
置は、処理溶液が流れる通路を含む容器であって、前記
通路の入口と出口が上向きで処理溶液を通路の内部に収
容するようになっている容器と、前記通路に連結されて
感光材料を通路入口から通路を通って通路出口へと輸送
する手段であって、前記通路と前記輸送手段が、処理溶
液と感光材料を保持するための小さな容量部が前記通路
と前記手段との間に形成されるよう相対的に大きさが決
められるようにしている、輸送手段と、処理溶液を前記
小さな容量部と前記容器とを通って循環させる手段であ
って、1つ又はそれ以上のスロットノズルが前記循環手
段に連結されかつ通路の一部を形成し感光材料の表面に
動力学的に衝突する処理溶液の速度と量を制御するよう
にしている、処理溶液循環手段、とを具備している。
【0023】
【実施例】図面を詳細に参照する、さらに詳細には図1
を参照すると、参照符号10は処理モジュールを示し、
単独で立つことができ又は他の処理モジュール10と組
合されもしくは接合されて感光材料を処理するための連
続した低容量のユニットを形成するようになっている。
を参照すると、参照符号10は処理モジュールを示し、
単独で立つことができ又は他の処理モジュール10と組
合されもしくは接合されて感光材料を処理するための連
続した低容量のユニットを形成するようになっている。
【0024】処理モジュール10は、容器11と、上向
きの入口通路100(図2の記載において説明される)
と、入口輸送ローラ組立体12と、輸送ローラ組立体1
3と、出口輸送ローラ組立体15と、上向きの出口通路
101(図2の記載において説明される)と、高速衝突
スロットノズル17a,17b及び17cと、駆動装置
16と、駆動装置16のための任意の公知の手段、すな
わちモータ、歯車、ベルト、チェーン等とすることので
きる回転組立体18とを含んでいる。接近孔61が容器
11に設けられる。孔61はモジュール10を相互に連
結するのに利用される。組立体12,13及び15は容
器11の壁の近くで容器11の内部に配置され、スロッ
トノズル17a,17b及び17cは容器11の壁の近
くの内側に配置されている。駆動装置16はローラ組立
体12,13及び15と回転組立体18に連結され、駆
動装置16は回転組立体18の運動をローラ組立体1
2,13及び15に伝達するのに用いられる。
きの入口通路100(図2の記載において説明される)
と、入口輸送ローラ組立体12と、輸送ローラ組立体1
3と、出口輸送ローラ組立体15と、上向きの出口通路
101(図2の記載において説明される)と、高速衝突
スロットノズル17a,17b及び17cと、駆動装置
16と、駆動装置16のための任意の公知の手段、すな
わちモータ、歯車、ベルト、チェーン等とすることので
きる回転組立体18とを含んでいる。接近孔61が容器
11に設けられる。孔61はモジュール10を相互に連
結するのに利用される。組立体12,13及び15は容
器11の壁の近くで容器11の内部に配置され、スロッ
トノズル17a,17b及び17cは容器11の壁の近
くの内側に配置されている。駆動装置16はローラ組立
体12,13及び15と回転組立体18に連結され、駆
動装置16は回転組立体18の運動をローラ組立体1
2,13及び15に伝達するのに用いられる。
【0025】ローラ組立体12,13及び15とスロッ
トノズル17a,17b及び17cは容易に容器11に
挿入され又は容器11から取外される。ローラ組立体1
3は、頂部ローラ22と、底部ローラ23と、頂部ロー
ラ22を底部ローラ23に対し圧縮するよう保持する引
張りスプリング62と、軸受ブラケット26と、細い低
容量処理通路25を有する通路部分24とを含んでい
る。狹い通路開口27が部分24の内部にある。部分2
4の入口側の開口27は部分24の出口側の開口27と
同じ大きさと形状にすることができる。部分24の入口
側の開口27はまた解放され、テーパーがつけられ又は
部分24の出口側より大きくし種々の型式の感光材料2
1の堅さの変化に適応するようにされる。通路開口27
は処理通路25の一部を形成する。ローラ22と23は
駆動又は被駆動ローラとすることができまたローラ22
と23はブラケット26に連結される。ローラ22と2
3は相互噛合い歯車28によって回転される。
トノズル17a,17b及び17cは容易に容器11に
挿入され又は容器11から取外される。ローラ組立体1
3は、頂部ローラ22と、底部ローラ23と、頂部ロー
ラ22を底部ローラ23に対し圧縮するよう保持する引
張りスプリング62と、軸受ブラケット26と、細い低
容量処理通路25を有する通路部分24とを含んでい
る。狹い通路開口27が部分24の内部にある。部分2
4の入口側の開口27は部分24の出口側の開口27と
同じ大きさと形状にすることができる。部分24の入口
側の開口27はまた解放され、テーパーがつけられ又は
部分24の出口側より大きくし種々の型式の感光材料2
1の堅さの変化に適応するようにされる。通路開口27
は処理通路25の一部を形成する。ローラ22と23は
駆動又は被駆動ローラとすることができまたローラ22
と23はブラケット26に連結される。ローラ22と2
3は相互噛合い歯車28によって回転される。
【0026】感光材料21がローラ組立体12,13及
び15によって処理通路25を通り自動的に方向A又は
方向Bに輸送される。感光材料21は切断シートもしく
はロール形式とすることができ、又は感光材料21は同
時にロールにまた同時に切断シート形式にすることがで
きる。感光材料21はその表面の一側又は両側にエマル
ジョンを含むことができる。
び15によって処理通路25を通り自動的に方向A又は
方向Bに輸送される。感光材料21は切断シートもしく
はロール形式とすることができ、又は感光材料21は同
時にロールにまた同時に切断シート形式にすることがで
きる。感光材料21はその表面の一側又は両側にエマル
ジョンを含むことができる。
【0027】カバー20が容器11の上に置かれた時光
不透過の閉鎖構造が形成される。したがって、図5の記
載において説明される組込まれた再循環装置60を有す
るモジュール10は感光材料を処理することのできる単
独で直立する光不透過モジュール、すなわちモノバスと
なる。2つ又はそれ以上のモジュール10が組合される
と、多段の連続処理ユニットが形成される。1つ又は複
数のモジュール10の組合せは図6の記載においてさら
に十分に説明される。
不透過の閉鎖構造が形成される。したがって、図5の記
載において説明される組込まれた再循環装置60を有す
るモジュール10は感光材料を処理することのできる単
独で直立する光不透過モジュール、すなわちモノバスと
なる。2つ又はそれ以上のモジュール10が組合される
と、多段の連続処理ユニットが形成される。1つ又は複
数のモジュール10の組合せは図6の記載においてさら
に十分に説明される。
【0028】図2は図1のモジュール10の一部切欠断
面図である。組立体12,13及び15とノズル17
a,17b及び17cと裏板9とは、処理通路25、容
器11、再循環装置60(図5)及び間隙49a,49
b,49c,49dに収容されている処理溶液の量を最
小にするように設計されている。モジュール10の入口
に、上向きの通路100が処理通路25への入口を形成
する。モジュール10の出口に、上向きの通路101が
処理通路25への出口を形成する。組立体12は組立体
13と同じである。組立体12は、頂部ローラ30と、
底部ローラ31と、頂部ローラ30を底部ローラ31に
対し保持する引張りスプリング62(図示しない)と軸
受ブラケット26と、通路部分24とを含んでいる。狹
い処理通路25の部分が通路部分24によって形成され
る。ローラ30と31は駆動又は被駆動ローラとするこ
とができローラ30と31はブラケット26に連結され
る。組立体15は、ローラ32及び33と同様に作動す
る追加の2つのローラ130と131を有する点を除
き、組立体13と同じである。組立体15は、頂部ロー
ラ32と、底部ローラ33と、引張りスプリング62
(図示しない)と、頂部ローラ130と、底部ローラ1
31と、軸受ブラケット26と、通路部分24とを含ん
でいる。狹い処理通路25の部分が部分24の内部にあ
る。通路24は処理通路25の一部を形成する。ローラ
32,33,130及び131は駆動又は被駆動ローラ
とすることができ、またローラ32,33,130及び
131はブラケット26に連結される。したがって、実
質的に連続した処理通路がもたらされることがわかる。
面図である。組立体12,13及び15とノズル17
a,17b及び17cと裏板9とは、処理通路25、容
器11、再循環装置60(図5)及び間隙49a,49
b,49c,49dに収容されている処理溶液の量を最
小にするように設計されている。モジュール10の入口
に、上向きの通路100が処理通路25への入口を形成
する。モジュール10の出口に、上向きの通路101が
処理通路25への出口を形成する。組立体12は組立体
13と同じである。組立体12は、頂部ローラ30と、
底部ローラ31と、頂部ローラ30を底部ローラ31に
対し保持する引張りスプリング62(図示しない)と軸
受ブラケット26と、通路部分24とを含んでいる。狹
い処理通路25の部分が通路部分24によって形成され
る。ローラ30と31は駆動又は被駆動ローラとするこ
とができローラ30と31はブラケット26に連結され
る。組立体15は、ローラ32及び33と同様に作動す
る追加の2つのローラ130と131を有する点を除
き、組立体13と同じである。組立体15は、頂部ロー
ラ32と、底部ローラ33と、引張りスプリング62
(図示しない)と、頂部ローラ130と、底部ローラ1
31と、軸受ブラケット26と、通路部分24とを含ん
でいる。狹い処理通路25の部分が部分24の内部にあ
る。通路24は処理通路25の一部を形成する。ローラ
32,33,130及び131は駆動又は被駆動ローラ
とすることができ、またローラ32,33,130及び
131はブラケット26に連結される。したがって、実
質的に連続した処理通路がもたらされることがわかる。
【0029】裏板9とスロットノズル17a,17b及
び17cとが容器11に取付けられる。図に示される実
施態様は感光材料21がその表面の一方にエマルジョン
を有している時に用いられる。材料21のエマルジョン
側はスロットノズル17a,17b及び17cに対面す
る。材料21はローラ30と31の間を通路25に入り
裏板9とノズル17aを通って移動する。それから材料
21はローラ22と23の間を移動し裏板9とノズル1
7b及び17cとを通って移動する。この時材料21は
ローラ32と33の間を移動しそしてローラ130と1
31の間を移動し処理通路25を出る。
び17cとが容器11に取付けられる。図に示される実
施態様は感光材料21がその表面の一方にエマルジョン
を有している時に用いられる。材料21のエマルジョン
側はスロットノズル17a,17b及び17cに対面す
る。材料21はローラ30と31の間を通路25に入り
裏板9とノズル17aを通って移動する。それから材料
21はローラ22と23の間を移動し裏板9とノズル1
7b及び17cとを通って移動する。この時材料21は
ローラ32と33の間を移動しそしてローラ130と1
31の間を移動し処理通路25を出る。
【0030】導管48aがポート44aを介して間隙4
9aを再循環装置60に図5の記載でさらに十分に説明
されるポート44(図5)を介して連結し、また導管4
8bがポート45aを介して間隙49bを再循環装置6
0にポート45(図5)を介して連結する。導管48c
がポート46aを介して間隙49cを再循環装置60に
ポート46(図5)を介して連結しまた導管48dがポ
ート47aを介して間隙49dを再循環装置60にポー
ト47(図5)を介して連結する。スロットノズル17
aは再循環装置60に導管50aとポート44(図5)
を介する入口ポート41aとを経て連結され、スロット
ノズル17bは再循環装置60に導管50bと入口ポー
ト42(図5)を介する入口ポート42aとを経て連結
される。導管50cは入口ポート43aを介してノズル
17cを再循環装置60にポート43(図5)を介して
連結する。センサ52が容器11に連結されそしてセン
サ52は導管51に対し処理溶液の液面高さ235を保
持するのに用いられる。余分の処理溶液は溢流導管51
によって取除かれる。
9aを再循環装置60に図5の記載でさらに十分に説明
されるポート44(図5)を介して連結し、また導管4
8bがポート45aを介して間隙49bを再循環装置6
0にポート45(図5)を介して連結する。導管48c
がポート46aを介して間隙49cを再循環装置60に
ポート46(図5)を介して連結しまた導管48dがポ
ート47aを介して間隙49dを再循環装置60にポー
ト47(図5)を介して連結する。スロットノズル17
aは再循環装置60に導管50aとポート44(図5)
を介する入口ポート41aとを経て連結され、スロット
ノズル17bは再循環装置60に導管50bと入口ポー
ト42(図5)を介する入口ポート42aとを経て連結
される。導管50cは入口ポート43aを介してノズル
17cを再循環装置60にポート43(図5)を介して
連結する。センサ52が容器11に連結されそしてセン
サ52は導管51に対し処理溶液の液面高さ235を保
持するのに用いられる。余分の処理溶液は溢流導管51
によって取除かれる。
【0031】織成された表面200又は205が処理通
路25に対面する裏板9の表面と処理通路25に対面す
るスロットノズル17a,17b及び17cの表面とに
取付けられる。
路25に対面する裏板9の表面と処理通路25に対面す
るスロットノズル17a,17b及び17cの表面とに
取付けられる。
【0032】図3は、材料21が一方の表面にエマルジ
ョンを有しノズル17d,17e及び17fが容器11
の頂上部分にある図2のモジュール10の他の実施態様
の一部切欠図である。組立体12,13及び15と、ノ
ズル17d,17e及び17fと裏板9とは処理通路2
5と間隙49e,49f,49g及び49hに収容され
る処理溶液の量を最小とするように設計されている。モ
ジュール10の入口に、上向き通路100は処理通路2
5への入口を形成する。モジュール10の出口に、上向
き通路101は処理通路25への出口を形成する。組立
体12は組立体13と同じである。組立体12は、頂部
ローラ30と、底部ローラ31と、頂部ローラ30を底
部ローラ31に対し圧縮するよう保持する引張りスプリ
ング62(図示しない)と、軸受ブラケット26と、通
路部分24とを含んでいる。狹い処理通路25の部分が
部分24の内部に存在する。通路部分24は処理通路2
5の一部を形成する。ローラ30と31は駆動又は被駆
動ローラとすることができローラ30と31はブラケッ
ト26に連結される。組立体15は、ローラ32及び3
3と同じように作動する追加の2つのローラ130と1
31を有する点を除き、組立体13と同じである。組立
体15は、頂部ローラ32と、底部ローラ33と、引張
りスプリング62(図示しない)と、頂部ローラ130
と、底部ローラ131と、軸受ブラケット26と、通路
部分24とを含んでいる。狹い処理通路25の一部が部
分24の内部に存在する。通路部分24は処理通路25
の一部を形成する。ローラ32,33,130及び13
1は駆動又は被駆動ローラとすることができ、ローラ3
2,33,130及び131はブラケット26に連結さ
れる。
ョンを有しノズル17d,17e及び17fが容器11
の頂上部分にある図2のモジュール10の他の実施態様
の一部切欠図である。組立体12,13及び15と、ノ
ズル17d,17e及び17fと裏板9とは処理通路2
5と間隙49e,49f,49g及び49hに収容され
る処理溶液の量を最小とするように設計されている。モ
ジュール10の入口に、上向き通路100は処理通路2
5への入口を形成する。モジュール10の出口に、上向
き通路101は処理通路25への出口を形成する。組立
体12は組立体13と同じである。組立体12は、頂部
ローラ30と、底部ローラ31と、頂部ローラ30を底
部ローラ31に対し圧縮するよう保持する引張りスプリ
ング62(図示しない)と、軸受ブラケット26と、通
路部分24とを含んでいる。狹い処理通路25の部分が
部分24の内部に存在する。通路部分24は処理通路2
5の一部を形成する。ローラ30と31は駆動又は被駆
動ローラとすることができローラ30と31はブラケッ
ト26に連結される。組立体15は、ローラ32及び3
3と同じように作動する追加の2つのローラ130と1
31を有する点を除き、組立体13と同じである。組立
体15は、頂部ローラ32と、底部ローラ33と、引張
りスプリング62(図示しない)と、頂部ローラ130
と、底部ローラ131と、軸受ブラケット26と、通路
部分24とを含んでいる。狹い処理通路25の一部が部
分24の内部に存在する。通路部分24は処理通路25
の一部を形成する。ローラ32,33,130及び13
1は駆動又は被駆動ローラとすることができ、ローラ3
2,33,130及び131はブラケット26に連結さ
れる。
【0033】裏板9とスロットノズル17d,17e及
び17fとが容器11に取付けられる。図3に示される
実施態様は感光材料21がその表面の一方にエマルジョ
ンを有する時に用いられる。材料21のエマルジョン側
はスロットノズル17d,17e及び17fに対面す
る。材料21はローラ30と31の間を通路25に入り
そして裏板9とノズル17dとを通って移動する。つい
で材料21はローラ22と23の間を移動し裏板9とノ
ズル17e及び17fとを通って移動する。この時材料
21はローラ32と33の間を移動しまたローラ130
と131の間を移動しそして処理通路25を出る。
び17fとが容器11に取付けられる。図3に示される
実施態様は感光材料21がその表面の一方にエマルジョ
ンを有する時に用いられる。材料21のエマルジョン側
はスロットノズル17d,17e及び17fに対面す
る。材料21はローラ30と31の間を通路25に入り
そして裏板9とノズル17dとを通って移動する。つい
で材料21はローラ22と23の間を移動し裏板9とノ
ズル17e及び17fとを通って移動する。この時材料
21はローラ32と33の間を移動しまたローラ130
と131の間を移動しそして処理通路25を出る。
【0034】導管48eがポート44bを介して間隙4
9eを再循環装置60にポート44(図5)を介して連
結し、導管48fがポート45bを介して間隙49fを
再循環装置60にポート45(図5)を介して連結す
る。導管48gがポート46bを介して間隙49gを再
循環装置60にポート46(図5)を介して連結し、導
管48hがポート47bを介して間隙49hを再循環装
置60にポート47(図5)を介して連結する。スロッ
トノズル17dは再循環装置60に導管50dと入口4
1(図5)を介する入口ポート41bとを経て連結さ
れ、スロットノズル17eは再循環装置60に導管50
eとポート42(図5)を介する入口ポート42bとを
経て連結される。導管50fが入口ポート43bを介し
てノズル17fを再循環装置60にポート43(図5)
を介して連結する。センサ52が容器11に連結され、
センサ52は導管51に対し処理溶液の液面高さ235
を保持するのに用いられる。余分の処理溶液は溢流導管
51によって取除かれる。
9eを再循環装置60にポート44(図5)を介して連
結し、導管48fがポート45bを介して間隙49fを
再循環装置60にポート45(図5)を介して連結す
る。導管48gがポート46bを介して間隙49gを再
循環装置60にポート46(図5)を介して連結し、導
管48hがポート47bを介して間隙49hを再循環装
置60にポート47(図5)を介して連結する。スロッ
トノズル17dは再循環装置60に導管50dと入口4
1(図5)を介する入口ポート41bとを経て連結さ
れ、スロットノズル17eは再循環装置60に導管50
eとポート42(図5)を介する入口ポート42bとを
経て連結される。導管50fが入口ポート43bを介し
てノズル17fを再循環装置60にポート43(図5)
を介して連結する。センサ52が容器11に連結され、
センサ52は導管51に対し処理溶液の液面高さ235
を保持するのに用いられる。余分の処理溶液は溢流導管
51によって取除かれる。
【0035】織成された表面200又は205が処理通
路25に対面する裏板9の表面と処理通路25に対面す
るスロットノズル17d,17e及び17fの表面とに
取付けられる。
路25に対面する裏板9の表面と処理通路25に対面す
るスロットノズル17d,17e及び17fの表面とに
取付けられる。
【0036】図4は材料21が両方の表面にエマルジョ
ンを有しノズル17g,17h及び17iが材料21の
一方のエマルジョン面に対面する容器11の頂上部分に
ありノズル17j,17k及び17lが材料21の他方
のエマルジョン面に対面する容器11の底部分にある図
2の他の実施態様の一部切欠図である。組立体12,1
3及び15とノズル17g,17i,17j,17k及
び17lとは処理通路25と間隙49i,49j,49
k及び49lに収容される処理溶液の量を最小にするよ
うに設計されている。モジュール10の入口に、上向き
の通路100が処理通路25への入口を形成する。モジ
ュール10の出口に、上向きの通路101が処理通路2
5への出口を形成する。組立体12は、頂部ローラ30
と、底部ローラ31と、頂部ローラ30を底部ローラ3
1に圧縮するよう保持する引張りスプリング62(図示
しない)と、軸受ブラケット26と、通路部分24とを
含んでいる。狹い処理通路25の部分が部分24の内部
に存在する。通路部分24は処理通路25の一部を形成
する。ローラ30,31,130及び131は駆動又は
被駆動ローラとすることができ、ローラ30,31,1
30及び131はブラケット26に連結される。組立体
15は、ローラ32及び33と同じように作動する追加
の2つのローラ130と131を有する点を除き、組立
体13と同じである。組立体15は、頂部ローラ32
と、底部ローラ33と、引張りスプリング62(図示し
ない)と、頂部ローラ130と、底部ローラ131と、
軸受ブラケット26と、通路部分24とを含んでいる。
狹い処理通路25の部分が部分24の内部に存在する。
通路部分24は処理通路25の一部を形成する。ローラ
32,33,130及び131は駆動又は被駆動ローラ
とすることができ、ローラ32,33,130及び13
1はブラケット26に連結される。
ンを有しノズル17g,17h及び17iが材料21の
一方のエマルジョン面に対面する容器11の頂上部分に
ありノズル17j,17k及び17lが材料21の他方
のエマルジョン面に対面する容器11の底部分にある図
2の他の実施態様の一部切欠図である。組立体12,1
3及び15とノズル17g,17i,17j,17k及
び17lとは処理通路25と間隙49i,49j,49
k及び49lに収容される処理溶液の量を最小にするよ
うに設計されている。モジュール10の入口に、上向き
の通路100が処理通路25への入口を形成する。モジ
ュール10の出口に、上向きの通路101が処理通路2
5への出口を形成する。組立体12は、頂部ローラ30
と、底部ローラ31と、頂部ローラ30を底部ローラ3
1に圧縮するよう保持する引張りスプリング62(図示
しない)と、軸受ブラケット26と、通路部分24とを
含んでいる。狹い処理通路25の部分が部分24の内部
に存在する。通路部分24は処理通路25の一部を形成
する。ローラ30,31,130及び131は駆動又は
被駆動ローラとすることができ、ローラ30,31,1
30及び131はブラケット26に連結される。組立体
15は、ローラ32及び33と同じように作動する追加
の2つのローラ130と131を有する点を除き、組立
体13と同じである。組立体15は、頂部ローラ32
と、底部ローラ33と、引張りスプリング62(図示し
ない)と、頂部ローラ130と、底部ローラ131と、
軸受ブラケット26と、通路部分24とを含んでいる。
狹い処理通路25の部分が部分24の内部に存在する。
通路部分24は処理通路25の一部を形成する。ローラ
32,33,130及び131は駆動又は被駆動ローラ
とすることができ、ローラ32,33,130及び13
1はブラケット26に連結される。
【0037】スロットノズル17g,17h及び17i
は容器11の上方部分に取付けられる。スロットノズル
17j,17k及び17lは容器11の下方部分に取付
けられる。図4に示される実施態様は、感光材料21が
その2つの表面の両方にエマルジョンを有している時に
用いられる。材料21の一方のエマルジョン側はスロッ
トノズル17g,17h、及び17iに対面し、材料2
1の他方のエマルジョン側はスロットノズル17j,1
7k及び17Lに対面する。材料21はローラ30と3
1の間を通路25に入りノズル17g及び17jを通っ
て移動する。それから材料21はローラ22と23の間
を移動しノズル17h,17k、及び17lを通って移
動する。この時材料21はローラ32と33の間を移動
し、ローラ130と131の間を移動しそして処理通路
25を出る。
は容器11の上方部分に取付けられる。スロットノズル
17j,17k及び17lは容器11の下方部分に取付
けられる。図4に示される実施態様は、感光材料21が
その2つの表面の両方にエマルジョンを有している時に
用いられる。材料21の一方のエマルジョン側はスロッ
トノズル17g,17h、及び17iに対面し、材料2
1の他方のエマルジョン側はスロットノズル17j,1
7k及び17Lに対面する。材料21はローラ30と3
1の間を通路25に入りノズル17g及び17jを通っ
て移動する。それから材料21はローラ22と23の間
を移動しノズル17h,17k、及び17lを通って移
動する。この時材料21はローラ32と33の間を移動
し、ローラ130と131の間を移動しそして処理通路
25を出る。
【0038】導管48iがポート44cを介して間隙4
9iを再循環装置60にポート44(図5)を介して連
結しまた導管48jがポート45cを介して間隙49k
を再循環装置60にポート45(図5)を介して連結す
る。導管48kがポート46cを介して間隙49lを再
循環装置60に連結しまた導管48lがポート47cを
介して間隙49jを再循環装置60にポート47(図
5)を介して連結する。スロットノズル17gは再循環
装置60にポート41(図5)を介する導管50gを経
て連結される。スロットノズル17hは再循環装置60
に導管50hとポート42(図5)を介する入口ポート
62とを経て連結される。導管50iは入口ポート63
を介してノズル17iを再循環装置60にポート43
(図5)を介して連結する。スロットノズル17jは再
循環装置60に導管50jとポート41(図5)を介す
る入口ポート41cとを経て連結され、スロットノズル
17kは再循環装置60に導管50kとポート42(図
5)を介する入口ポート42cとを経て連結される。ス
ロットノズル17lは再循環装置60に導管50lとポ
ート43(図5)を介する入口ポート43cとを経て連
結される。センサ52が容器11に連結されセンサ52
は処理溶液の液面高さ235を導管51に対し保持する
のに用いられる。余分の処理溶液は溢流導管51によっ
て取除かれる。材料21は上向き通路入口100に入
り、ついでローラ30と31の間で通路25の通路部分
24を通過しそしてノズル17gと17jを通って移動
する。それから材料21はローラ22と23の間を移動
しノズル17h,17k,17l及び17iを通って移
動する。この時材料21はローラ32と33の間を移動
しそして処理通路25を出る。
9iを再循環装置60にポート44(図5)を介して連
結しまた導管48jがポート45cを介して間隙49k
を再循環装置60にポート45(図5)を介して連結す
る。導管48kがポート46cを介して間隙49lを再
循環装置60に連結しまた導管48lがポート47cを
介して間隙49jを再循環装置60にポート47(図
5)を介して連結する。スロットノズル17gは再循環
装置60にポート41(図5)を介する導管50gを経
て連結される。スロットノズル17hは再循環装置60
に導管50hとポート42(図5)を介する入口ポート
62とを経て連結される。導管50iは入口ポート63
を介してノズル17iを再循環装置60にポート43
(図5)を介して連結する。スロットノズル17jは再
循環装置60に導管50jとポート41(図5)を介す
る入口ポート41cとを経て連結され、スロットノズル
17kは再循環装置60に導管50kとポート42(図
5)を介する入口ポート42cとを経て連結される。ス
ロットノズル17lは再循環装置60に導管50lとポ
ート43(図5)を介する入口ポート43cとを経て連
結される。センサ52が容器11に連結されセンサ52
は処理溶液の液面高さ235を導管51に対し保持する
のに用いられる。余分の処理溶液は溢流導管51によっ
て取除かれる。材料21は上向き通路入口100に入
り、ついでローラ30と31の間で通路25の通路部分
24を通過しそしてノズル17gと17jを通って移動
する。それから材料21はローラ22と23の間を移動
しノズル17h,17k,17l及び17iを通って移
動する。この時材料21はローラ32と33の間を移動
しそして処理通路25を出る。
【0039】導管48iはポート44cを介して間隙4
9iを再循環装置60にポート44(図5)を介して連
結し、導管48jはポート45cを介して間隙49kを
再循環装置60にポート45(図5)を介して連結す
る。導管48kはポート46cを介して間隙49lを再
循環装置60にポート46(図5)を介して連結し、導
管48lはポート47cを介して間隙49jを再循環装
置60にポート47(図5)を介して連結する。センサ
52が容器11に連結され、センサ52は処理溶液の液
面高さを導管51に対し保持するのに用いられる。余分
の処理溶液は溢流導管51によって取除かれる。
9iを再循環装置60にポート44(図5)を介して連
結し、導管48jはポート45cを介して間隙49kを
再循環装置60にポート45(図5)を介して連結す
る。導管48kはポート46cを介して間隙49lを再
循環装置60にポート46(図5)を介して連結し、導
管48lはポート47cを介して間隙49jを再循環装
置60にポート47(図5)を介して連結する。センサ
52が容器11に連結され、センサ52は処理溶液の液
面高さを導管51に対し保持するのに用いられる。余分
の処理溶液は溢流導管51によって取除かれる。
【0040】織成された表面200又は205が処理通
路25に対面するスロットノズル17g,17h,17
i,17j,17k及び17lの表面に取付けられる。
路25に対面するスロットノズル17g,17h,17
i,17j,17k及び17lの表面に取付けられる。
【0041】図5は本発明の装置の処理溶液再循環装置
60の概略図である。モジュール10は通路25の容量
を最小にするように設計されている。モジュール10の
出口44,45,46及び47が再循環ポンプ80に導
管85を介して連結される。再循環ポンプ80はマニホ
ルド64に導管63を介して連結されマニホルド64は
ろ過器65に導管66を介して連結される。ろ過器65
は熱交換器86に連結され熱交換器86は通路25に導
管4を介して連結される。熱交換器86はさらに制御論
理回路にワイヤ68を介して連結される。制御論理回路
67は熱交換器86にワイヤ70を介して連結されまた
センサ52が制御論理回路67にワイヤ71を介して連
結される。計量ポンプ72,73及び74がマニホルド
64に導管75,76及び77を介してそれぞれ連結さ
れる。したがって、処理溶液が直接出口通路から入口ポ
ートに貯蔵器を用いることなくポンプで送られることが
わかる。
60の概略図である。モジュール10は通路25の容量
を最小にするように設計されている。モジュール10の
出口44,45,46及び47が再循環ポンプ80に導
管85を介して連結される。再循環ポンプ80はマニホ
ルド64に導管63を介して連結されマニホルド64は
ろ過器65に導管66を介して連結される。ろ過器65
は熱交換器86に連結され熱交換器86は通路25に導
管4を介して連結される。熱交換器86はさらに制御論
理回路にワイヤ68を介して連結される。制御論理回路
67は熱交換器86にワイヤ70を介して連結されまた
センサ52が制御論理回路67にワイヤ71を介して連
結される。計量ポンプ72,73及び74がマニホルド
64に導管75,76及び77を介してそれぞれ連結さ
れる。したがって、処理溶液が直接出口通路から入口ポ
ートに貯蔵器を用いることなくポンプで送られることが
わかる。
【0042】写真溶液を含む写真処理化学薬品が計量ポ
ンプ72,73及び74の中に置かれる。ポンプ72,
73及び74は、感光材料センサ210が材料21の通
路25に入っているのを検知した時適切な量の化学薬品
をマニホルド64の中に置くのに用いられる。センサ2
10は信号をポンプ72,73及び74にライン211
と制御論理回路67とを介して伝達する。マニホルド6
4は写真処理溶液を導管66に導入する。
ンプ72,73及び74の中に置かれる。ポンプ72,
73及び74は、感光材料センサ210が材料21の通
路25に入っているのを検知した時適切な量の化学薬品
をマニホルド64の中に置くのに用いられる。センサ2
10は信号をポンプ72,73及び74にライン211
と制御論理回路67とを介して伝達する。マニホルド6
4は写真処理溶液を導管66に導入する。
【0043】写真処理溶液はろ過器65に導管66を介
して流入する。ろ過器65は写真処理溶液に含有される
汚染物質とくずとを取除く。写真処理溶液がろ過された
後、溶液は熱交換器86に入る。
して流入する。ろ過器65は写真処理溶液に含有される
汚染物質とくずとを取除く。写真処理溶液がろ過された
後、溶液は熱交換器86に入る。
【0044】センサ52は溶液面の高さを検知しセンサ
8は溶液の温度を検知しそしてそれぞれ溶液面の高さと
溶液の温度とを制御論理回路67にワイヤ71と7を介
して伝達する。例えば、制御論理回路67は1オメガド
ライブ、スタンフォード、コネチカット06907のオ
メガエンジニアリング会社によって製造されたシリーズ
CN310ソリッドステート温度制御器である。論理回
路67はセンサ8により検知された溶液の温度と熱交換
器86が論理回路67にワイヤ70を介して伝達した温
度とを比較する。論理回路67は熱交換器86に情報を
送り溶液に熱を加え又は溶液から熱を取去るようにす
る。したがって、論理回路67と熱交換器86は溶液の
温度を変更し溶液の温度を所望の高さに維持する。
8は溶液の温度を検知しそしてそれぞれ溶液面の高さと
溶液の温度とを制御論理回路67にワイヤ71と7を介
して伝達する。例えば、制御論理回路67は1オメガド
ライブ、スタンフォード、コネチカット06907のオ
メガエンジニアリング会社によって製造されたシリーズ
CN310ソリッドステート温度制御器である。論理回
路67はセンサ8により検知された溶液の温度と熱交換
器86が論理回路67にワイヤ70を介して伝達した温
度とを比較する。論理回路67は熱交換器86に情報を
送り溶液に熱を加え又は溶液から熱を取去るようにす
る。したがって、論理回路67と熱交換器86は溶液の
温度を変更し溶液の温度を所望の高さに維持する。
【0045】センサ52は通路25の中の溶液面高さを
検知しそして検知した溶液面高さを制御論理回路67に
ワイヤ71を介して伝達する。論理回路67はセンサ5
2によりワイヤ71を介して検知された溶液面高さを論
理回路67に設定された溶液面高さと比較する。論理回
路67はポンプ72,73及び74にワイヤ83を介し
て情報を送り溶液面高さが低かったならば追加の溶液を
加えるようにする。溶液面高さが所望の設定点になる
と、制御論理回路67はポンプ72,73及び74に情
報を送り追加の溶液を加えるのを停止する。
検知しそして検知した溶液面高さを制御論理回路67に
ワイヤ71を介して伝達する。論理回路67はセンサ5
2によりワイヤ71を介して検知された溶液面高さを論
理回路67に設定された溶液面高さと比較する。論理回
路67はポンプ72,73及び74にワイヤ83を介し
て情報を送り溶液面高さが低かったならば追加の溶液を
加えるようにする。溶液面高さが所望の設定点になる
と、制御論理回路67はポンプ72,73及び74に情
報を送り追加の溶液を加えるのを停止する。
【0046】余分の溶液は全てモジュール10からポン
プで送り出されるか液面高さ排出溢流口84を通り導管
81を介して容器82の中に取出される。
プで送り出されるか液面高さ排出溢流口84を通り導管
81を介して容器82の中に取出される。
【0047】この時溶液はモジュール10に入口41,
42及び43を介して入る。モジュール10が溶液を過
剰に含んでいた時は、余分の溶液は溢流導管51、排出
溢流口84及び導管81によって取除かれ貯蔵器82に
流入する。貯蔵器82の溶液面高さはセンサ212によ
り監視される。センサ212は制御論理回路67にライ
ン213を介して連結される。センサ212が貯蔵器8
2の中に溶液が存在するのを検知すると、信号が論理回
路67にライン213を介して伝達され、論理回路67
はポンプ214を作動する。それによりポンプ214は
溶液をマニホルド64に送り込む。センサ212が溶液
の存在を検知しなかった時は、ポンプ214がライン2
13と論理回路67とを介して伝達された信号によって
不作動とされる。貯蔵器82の中の溶液が溢流口215
に到達すると、溶液は導管216を通って貯蔵器217
の中に送られる。残りの溶液は通路25を通って循環し
出口ライン44,45,46及び47に到達する。それ
により、溶液は出口ライン44,45,46及び47か
ら導管ライン85へそして再循環ポンプ80へと流れ
る。本発明の装置に含まれる写真溶液は、感光材料にさ
らされた時、写真処理溶液が少ないため、従来技術の装
置よりもさらに迅速に熟成された状態に達する。
42及び43を介して入る。モジュール10が溶液を過
剰に含んでいた時は、余分の溶液は溢流導管51、排出
溢流口84及び導管81によって取除かれ貯蔵器82に
流入する。貯蔵器82の溶液面高さはセンサ212によ
り監視される。センサ212は制御論理回路67にライ
ン213を介して連結される。センサ212が貯蔵器8
2の中に溶液が存在するのを検知すると、信号が論理回
路67にライン213を介して伝達され、論理回路67
はポンプ214を作動する。それによりポンプ214は
溶液をマニホルド64に送り込む。センサ212が溶液
の存在を検知しなかった時は、ポンプ214がライン2
13と論理回路67とを介して伝達された信号によって
不作動とされる。貯蔵器82の中の溶液が溢流口215
に到達すると、溶液は導管216を通って貯蔵器217
の中に送られる。残りの溶液は通路25を通って循環し
出口ライン44,45,46及び47に到達する。それ
により、溶液は出口ライン44,45,46及び47か
ら導管ライン85へそして再循環ポンプ80へと流れ
る。本発明の装置に含まれる写真溶液は、感光材料にさ
らされた時、写真処理溶液が少ないため、従来技術の装
置よりもさらに迅速に熟成された状態に達する。
【0048】図6はスロットノズル17の斜面図であ
る。スロット105がスロットノズル17の表面106
を横切って延びている。導管107がスロット105を
入口41a,41b,41c,42a,42b,42
c,43a,43b,43c,61,62及び63に連
結する。ノズル17のフランジ108が、処理溶液の容
器11から漏れるのを防止する任意の公知の手段、例え
ばガスケット、ねじ等によって容器11に取付けられ
る。処理溶液は入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に入り、狹い導管107を流れ増加する速度が
スロット105の全長にわたって均一の流れの処理溶液
をもたらすようにする。処理溶液流出スロット105の
幅Xは感光材料21の幅に及ぶのに十分となっている。
スロット105の深さ又は厚さYはY/X(100)が
1より小さいような大きさである。
る。スロット105がスロットノズル17の表面106
を横切って延びている。導管107がスロット105を
入口41a,41b,41c,42a,42b,42
c,43a,43b,43c,61,62及び63に連
結する。ノズル17のフランジ108が、処理溶液の容
器11から漏れるのを防止する任意の公知の手段、例え
ばガスケット、ねじ等によって容器11に取付けられ
る。処理溶液は入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に入り、狹い導管107を流れ増加する速度が
スロット105の全長にわたって均一の流れの処理溶液
をもたらすようにする。処理溶液流出スロット105の
幅Xは感光材料21の幅に及ぶのに十分となっている。
スロット105の深さ又は厚さYはY/X(100)が
1より小さいような大きさである。
【0049】図7はスロットノズル17の他の実施態様
の斜面図である。スロット109がスロットノズル17
の表面106を横切って延びている。スロット109の
方向は角度ZとZ′によって決定される。角度ZとZ′
は0とプラスマイナス89度との間である。導管111
はスロット109を入口41a,41b,41c,42
a,42b,42c,43a,43b,43c,61,
62及び63に連結する。ノズル17のフランジ108
が、容器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の
公知の手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11
に取付けられる。処理溶液は入口41a,41b,41
c,42a,42b,42c,43a,43b,43
c,61,62及び63に入り増大した速度で狹い導管
11を流れスロット109の全長にわたって均一に処理
溶液が流れ出るようにする。処理溶液流出スロット10
9の幅Xは感光材料21の幅に及ぶのに十分となってい
る。スロット109の深さ又は厚さYはY/X(10
0)が1より小さいような大きさである。
の斜面図である。スロット109がスロットノズル17
の表面106を横切って延びている。スロット109の
方向は角度ZとZ′によって決定される。角度ZとZ′
は0とプラスマイナス89度との間である。導管111
はスロット109を入口41a,41b,41c,42
a,42b,42c,43a,43b,43c,61,
62及び63に連結する。ノズル17のフランジ108
が、容器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の
公知の手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11
に取付けられる。処理溶液は入口41a,41b,41
c,42a,42b,42c,43a,43b,43
c,61,62及び63に入り増大した速度で狹い導管
11を流れスロット109の全長にわたって均一に処理
溶液が流れ出るようにする。処理溶液流出スロット10
9の幅Xは感光材料21の幅に及ぶのに十分となってい
る。スロット109の深さ又は厚さYはY/X(10
0)が1より小さいような大きさである。
【0050】図8はスロットノズル17の他の実施態様
の斜面図である。スロット115がスロット17の表面
116を横切って延びている。スロット115の方向は
角度ZとZ′によって決定される。角度ZとZ′は0と
プラスマイナス89度との間である。導管118が入口
41a,41b,41c,42a,42b,42c,4
3a,43b,43c,61,62及び63に連結さ
れ、導管118は導管117に連結される。ノズル17
のフランジ108が容器11から処理溶液が漏れるのを
防止する任意の公知の手段、例えばガスケット、ねじ等
により容器11に取付けられる。処理溶液は入口41
a,41b,41c,42a,42b,42c,43
a,43b,43c,61,62及び63に入り導管1
18を流れる。処理溶液はついで狹い導管117に入り
そして処理溶液が導管117を流れるのにつれて速度が
増すようになる。これはスロット115の全長にわたっ
て均一の処理溶液が流れ出るようにする。処理溶液流出
スロット115の幅Xは感光材料21の幅に充当するの
に十分となっている。スロット115の深さ又は厚さY
はY/X(100)が1より小さくなるようにされてい
る。
の斜面図である。スロット115がスロット17の表面
116を横切って延びている。スロット115の方向は
角度ZとZ′によって決定される。角度ZとZ′は0と
プラスマイナス89度との間である。導管118が入口
41a,41b,41c,42a,42b,42c,4
3a,43b,43c,61,62及び63に連結さ
れ、導管118は導管117に連結される。ノズル17
のフランジ108が容器11から処理溶液が漏れるのを
防止する任意の公知の手段、例えばガスケット、ねじ等
により容器11に取付けられる。処理溶液は入口41
a,41b,41c,42a,42b,42c,43
a,43b,43c,61,62及び63に入り導管1
18を流れる。処理溶液はついで狹い導管117に入り
そして処理溶液が導管117を流れるのにつれて速度が
増すようになる。これはスロット115の全長にわたっ
て均一の処理溶液が流れ出るようにする。処理溶液流出
スロット115の幅Xは感光材料21の幅に充当するの
に十分となっている。スロット115の深さ又は厚さY
はY/X(100)が1より小さくなるようにされてい
る。
【0051】図9はスロットノズル17の他の実施態様
の斜面図である。スロット120と121がスロットノ
ズル17の表面122を横切って延びている。スロット
120と121の方向は角度Z及びZ′によって決定さ
れる。角度ZとZ′は0と89度との間である。狹い導
管124がスロット120に連結されまた導管124が
マニホルド125に連結される。マニホルド125は入
口41a,41b,41c,42a,42b,42c,
43a,43b,43c,61,62及び63に連結さ
れる。導管127がマニホルド125を狹い導管126
に連結する。ノズル17のフランジ108が容器11か
ら処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の手段、例
えばガスケット、ねじ等によって容器11に取付けられ
る。処理溶液は入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に入り、マニホルド125を通って流れ、そし
て同時に狹い導管124と導管127とを通って流れ
る。導管124の中を流れる処理溶液は処理溶液が導管
124を流れるにつれて増大する速度を有するようにな
る。これはスロット120の全長にわたって流出する処
理溶液の均一の流れをもたらす。導管127の中を流れ
る処理溶液は導管126を通って流れ処理溶液が導管1
26を流れるにつれて増大する速度の流れとなる。これ
はスロット121の全長にわたって流れ出る処理溶液の
均一の流れをもたらす。処理溶液流出スロット120と
121の幅Xは感光材料21の幅に充当するのに十分と
なっている。スロット120と121の深さ又は厚さY
はY/X(100)が1より小さくなるようになってい
る。
の斜面図である。スロット120と121がスロットノ
ズル17の表面122を横切って延びている。スロット
120と121の方向は角度Z及びZ′によって決定さ
れる。角度ZとZ′は0と89度との間である。狹い導
管124がスロット120に連結されまた導管124が
マニホルド125に連結される。マニホルド125は入
口41a,41b,41c,42a,42b,42c,
43a,43b,43c,61,62及び63に連結さ
れる。導管127がマニホルド125を狹い導管126
に連結する。ノズル17のフランジ108が容器11か
ら処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の手段、例
えばガスケット、ねじ等によって容器11に取付けられ
る。処理溶液は入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に入り、マニホルド125を通って流れ、そし
て同時に狹い導管124と導管127とを通って流れ
る。導管124の中を流れる処理溶液は処理溶液が導管
124を流れるにつれて増大する速度を有するようにな
る。これはスロット120の全長にわたって流出する処
理溶液の均一の流れをもたらす。導管127の中を流れ
る処理溶液は導管126を通って流れ処理溶液が導管1
26を流れるにつれて増大する速度の流れとなる。これ
はスロット121の全長にわたって流れ出る処理溶液の
均一の流れをもたらす。処理溶液流出スロット120と
121の幅Xは感光材料21の幅に充当するのに十分と
なっている。スロット120と121の深さ又は厚さY
はY/X(100)が1より小さくなるようになってい
る。
【0052】図10はスロットノズル17の他の実施態
様の斜面図である。スロット135はスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管137はス
ロット135を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り、狹い導管137又は真直ぐの
導管137を流れスロット135の全長にわたって流れ
出る処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
様の斜面図である。スロット135はスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管137はス
ロット135を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り、狹い導管137又は真直ぐの
導管137を流れスロット135の全長にわたって流れ
出る処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
【0053】図11はスロットノズル17の他の実施態
様の斜面図である。スロット138がスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管137がス
ロット135を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り狹い導管139又は真直ぐの導
管139を流れスロット138の全長にわたって流れ出
る処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
様の斜面図である。スロット138がスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管137がス
ロット135を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り狹い導管139又は真直ぐの導
管139を流れスロット138の全長にわたって流れ出
る処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
【0054】図12はスロットノズル17の他の実施態
様の斜面図である。スロット140がスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管141がス
ロット140を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り、狹い導管141又は真直ぐの
導管141を流れスロット140の全長にわたって流出
する処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
様の斜面図である。スロット140がスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管141がス
ロット140を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り、狹い導管141又は真直ぐの
導管141を流れスロット140の全長にわたって流出
する処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
【0055】図13はスロットノズル17の他の実施態
様の斜面図である。スロット142がスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管143がス
ロット142を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り狹い導管143又は真直ぐな導
管143を流れスロット142の全長にわたって流出す
る処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
様の斜面図である。スロット142がスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管143がス
ロット142を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り狹い導管143又は真直ぐな導
管143を流れスロット142の全長にわたって流出す
る処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
【0056】図14はスロットノズル17の他の実施態
様の斜面図である。スロット144がスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管145がス
ロット144を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り、狹い導管145又は真直ぐな
導管145を流れスロット144の全長にわたって流出
する処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
様の斜面図である。スロット144がスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管145がス
ロット144を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り、狹い導管145又は真直ぐな
導管145を流れスロット144の全長にわたって流出
する処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
【0057】図15はスロットノズル17の他の実施態
様の斜面図である。スロット146はスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管147がス
ロット146を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り、狹い導管147又は真直ぐの
導管147を流れスロット146の全長にわたって流出
する処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
様の斜面図である。スロット146はスロットノズル1
7の表面106を横切って延びている。導管147がス
ロット146を入口41a,41b,41c,42a,
42b,42c,43a,43b,43c,61,62
及び63に連結する。ノズル17のフランジ108が容
器11から処理溶液の漏れるのを防止する任意の公知の
手段、例えばガスケット、ねじ等により容器11に取付
けられる。処理溶液は入口41a,41b,41c,4
2a,42b,42c,43a,43b,43c,6
1,62及び63に入り、狹い導管147又は真直ぐの
導管147を流れスロット146の全長にわたって流出
する処理溶液の均一の流れが得られるようにする。
【0058】図16はスロットノズル17の他の実施態
様の斜面図である。開口150がスロットノズル17の
表面151を横切って延びている。導管152が開口1
50を入口41a,41b,41c,42a,42b,
42c,43a,43b,43c,61,62及び63
に連結する。開口150の間の間隔は開口150の直径
の2分の1又は2分の1より小さくなっている。ノズル
17のフランジ108が容器11から処理溶液の漏れる
のを防止する任意の公知の手段、例えばガスケット、ね
じ等により容器11に取付けられる。処理溶液は入口4
1a,41b,41c,42a,42b,42c,43
a,43b,43c,61,62及び63に入り、狹い
導管152又は真直ぐな導管152を流れ開口150の
全長にわたって流出する処理溶液の均一の流れが得られ
るようにする。
様の斜面図である。開口150がスロットノズル17の
表面151を横切って延びている。導管152が開口1
50を入口41a,41b,41c,42a,42b,
42c,43a,43b,43c,61,62及び63
に連結する。開口150の間の間隔は開口150の直径
の2分の1又は2分の1より小さくなっている。ノズル
17のフランジ108が容器11から処理溶液の漏れる
のを防止する任意の公知の手段、例えばガスケット、ね
じ等により容器11に取付けられる。処理溶液は入口4
1a,41b,41c,42a,42b,42c,43
a,43b,43c,61,62及び63に入り、狹い
導管152又は真直ぐな導管152を流れ開口150の
全長にわたって流出する処理溶液の均一の流れが得られ
るようにする。
【0059】図17はスロットノズル17の他の実施態
様の斜面図である。開口153がスロットノズル17の
表面154を横切って延びている。導管155が開口1
53を入口41a,41b,41c,42a,42b,
42c,43a,43b,43c,61,62及び63
に連結する。開口153の間の間隔は開口153の直径
の2分の1又はそれより小さくなっている。ノズル17
のフランジ108が容器11から処理溶液の漏れるのを
防止する任意の公知の手段、例えばガスケット、ねじ等
により容器11に取付けられる。処理溶液は入口41
a,41b,41c,42a,42b,42c,43
a,43b,43c,61,62及び63に入り狹い導
管155又は真直ぐの導管155を流れ開口153の全
長にわたって流出する処理溶液の均一の流れが得られる
ようにする。
様の斜面図である。開口153がスロットノズル17の
表面154を横切って延びている。導管155が開口1
53を入口41a,41b,41c,42a,42b,
42c,43a,43b,43c,61,62及び63
に連結する。開口153の間の間隔は開口153の直径
の2分の1又はそれより小さくなっている。ノズル17
のフランジ108が容器11から処理溶液の漏れるのを
防止する任意の公知の手段、例えばガスケット、ねじ等
により容器11に取付けられる。処理溶液は入口41
a,41b,41c,42a,42b,42c,43
a,43b,43c,61,62及び63に入り狹い導
管155又は真直ぐの導管155を流れ開口153の全
長にわたって流出する処理溶液の均一の流れが得られる
ようにする。
【0060】当業者にとって、図6〜15の導管10
7,111,117,124,137,141,14
3,145,147,152及び155がノズル17の
いずれの側にも位置することができまた図6〜15のフ
ランジ108がノズル17のいずれかの側に配置できる
ことが明らかであろう。
7,111,117,124,137,141,14
3,145,147,152及び155がノズル17の
いずれの側にも位置することができまた図6〜15のフ
ランジ108がノズル17のいずれかの側に配置できる
ことが明らかであろう。
【0061】本発明により構成された処理装置は処理溶
液を保持するための小さな容量部を提供する。処理溶液
の容量を制限する部分として、狹い処理通路25が設け
られる。写真印画紙のために用いられる処理装置にとっ
て処理通路25は、処理される紙の厚さの約50倍に等
しいかこれより小さい厚さt、好ましくは紙の厚さの約
10倍に等しいか又は10倍より小さい厚さtを有して
いなければならない。写真フィルムを処理する処理装置
においては、処理通路の厚さtは感光フィルムの厚さの
約100倍に等しいか100倍より小さく、好ましくは
写真フィルムの厚さの約18倍に等しいか18倍より小
さくすべきである。約0.008インチ(0.20mm)
の厚さを有する紙を処理する本発明によって構成された
処理装置の1つの実施例は約0.080インチ(2.0
3mm)の通路の厚さtを有し、また約0.0055イン
チ(0.14mm)の厚さを有するフィルムを処理する処
理装置は約0.10インチ(2.54mm)の通路の厚さ
tを有している。
液を保持するための小さな容量部を提供する。処理溶液
の容量を制限する部分として、狹い処理通路25が設け
られる。写真印画紙のために用いられる処理装置にとっ
て処理通路25は、処理される紙の厚さの約50倍に等
しいかこれより小さい厚さt、好ましくは紙の厚さの約
10倍に等しいか又は10倍より小さい厚さtを有して
いなければならない。写真フィルムを処理する処理装置
においては、処理通路の厚さtは感光フィルムの厚さの
約100倍に等しいか100倍より小さく、好ましくは
写真フィルムの厚さの約18倍に等しいか18倍より小
さくすべきである。約0.008インチ(0.20mm)
の厚さを有する紙を処理する本発明によって構成された
処理装置の1つの実施例は約0.080インチ(2.0
3mm)の通路の厚さtを有し、また約0.0055イン
チ(0.14mm)の厚さを有するフィルムを処理する処
理装置は約0.10インチ(2.54mm)の通路の厚さ
tを有している。
【0062】処理通路25と再循環装置60との内部の
処理溶液の全容量は従来の処理装置に比べて実質的に小
さい。特に、特定のモジュールのための処理装置全体の
処理溶液の全量は、処理通路の中の全容量がこの装置の
中の処理溶液の全容量の少なくとも40パーセントであ
るような量である。好ましくは、処理通路の容量は装置
の中の処理溶液の全容量の少なくとも約50パーセント
である。図示の特定実施態様では、処理通路25の容量
が処理溶液の全容量の約60パーセントである。
処理溶液の全容量は従来の処理装置に比べて実質的に小
さい。特に、特定のモジュールのための処理装置全体の
処理溶液の全量は、処理通路の中の全容量がこの装置の
中の処理溶液の全容量の少なくとも40パーセントであ
るような量である。好ましくは、処理通路の容量は装置
の中の処理溶液の全容量の少なくとも約50パーセント
である。図示の特定実施態様では、処理通路25の容量
が処理溶液の全容量の約60パーセントである。
【0063】典型的には装置が利用できる処理溶液の量
は処理装置の大きさによって、すなわち処理装置が処理
できる感光材料の量によって、変わる。例えば、典型的
な従来の小実験室処理装置である約5平方フィート/分
(0.47m2 /分)の感光材料を処理する処理装置
(一般に分当り約50インチ以下の輸送速度を有してい
る)は、本発明により構成された処理装置の約5リット
ルの処理溶液に比べて約17リットルの処理溶液を有し
ている。典型的な従来の小実験室に関し、5平方フィー
ト/分(0.47m2 /分)から約15平方フィート/
分(1.41m2/分)の感光材料を処理する処理装置
(一般に約50インチ/分から約120インチ/分の輸
送速度を有している)は本発明により構成した処理装置
の約10リットルの処理溶液に比べて約100リットル
の処理溶液を有している。50平方フィート/分(4.
7m2 /分)の感光材料を処理する従来の大きな実験室
処理装置(一般に約7から60フィート/分の輸送速度
を有している)に関しては典型的には本発明により構成
された大きな処理装置の約15から100リットルの処
理溶液に比べて約150から300リットルの処理溶液
を有している。分当り15平方フィート(1.41m2
/分)の感光材料を処理するような本発明により構成さ
れた小実験室処理装置においては典型的な従来の処理装
置の約17リットルの処理溶液に比べて約7リットルの
処理溶液を有している。
は処理装置の大きさによって、すなわち処理装置が処理
できる感光材料の量によって、変わる。例えば、典型的
な従来の小実験室処理装置である約5平方フィート/分
(0.47m2 /分)の感光材料を処理する処理装置
(一般に分当り約50インチ以下の輸送速度を有してい
る)は、本発明により構成された処理装置の約5リット
ルの処理溶液に比べて約17リットルの処理溶液を有し
ている。典型的な従来の小実験室に関し、5平方フィー
ト/分(0.47m2 /分)から約15平方フィート/
分(1.41m2/分)の感光材料を処理する処理装置
(一般に約50インチ/分から約120インチ/分の輸
送速度を有している)は本発明により構成した処理装置
の約10リットルの処理溶液に比べて約100リットル
の処理溶液を有している。50平方フィート/分(4.
7m2 /分)の感光材料を処理する従来の大きな実験室
処理装置(一般に約7から60フィート/分の輸送速度
を有している)に関しては典型的には本発明により構成
された大きな処理装置の約15から100リットルの処
理溶液に比べて約150から300リットルの処理溶液
を有している。分当り15平方フィート(1.41m2
/分)の感光材料を処理するような本発明により構成さ
れた小実験室処理装置においては典型的な従来の処理装
置の約17リットルの処理溶液に比べて約7リットルの
処理溶液を有している。
【0064】ある状態においては、導管48a−1及び
/又は間隙49a−1に液溜めを設けて処理溶液の渦流
が生じないようにするのが適当である。この液溜めの大
きさと形状はもちろん、処理溶液が再循環される速度と
再循環装置の一部を形成する連結通路の大きさとによっ
て決まる。この連結通路はできるだけ小さくし、しかも
例えば間隙49a−1からポンプへの導管48a−1に
おいて通路の大きさが小さくなるほど渦流の生じる可能
性が増すようにすることが望ましい。例えば毎分約3か
ら4ガロンの再循環速度を有する処理装置においては、
好ましくは再循環ポンプへのトレイの出口で約4インチ
(10.2cm)の水頭圧力が渦流を生じないで保持でき
るような液溜めが設けられる。液溜めはトレイの出口に
近接する局限された領域に設けられることだけが必要で
ある。したがって、処理装置の必要とされる流量に利用
できる処理溶液の低い容量を平衡させるようにすること
が重要である。
/又は間隙49a−1に液溜めを設けて処理溶液の渦流
が生じないようにするのが適当である。この液溜めの大
きさと形状はもちろん、処理溶液が再循環される速度と
再循環装置の一部を形成する連結通路の大きさとによっ
て決まる。この連結通路はできるだけ小さくし、しかも
例えば間隙49a−1からポンプへの導管48a−1に
おいて通路の大きさが小さくなるほど渦流の生じる可能
性が増すようにすることが望ましい。例えば毎分約3か
ら4ガロンの再循環速度を有する処理装置においては、
好ましくは再循環ポンプへのトレイの出口で約4インチ
(10.2cm)の水頭圧力が渦流を生じないで保持でき
るような液溜めが設けられる。液溜めはトレイの出口に
近接する局限された領域に設けられることだけが必要で
ある。したがって、処理装置の必要とされる流量に利用
できる処理溶液の低い容量を平衡させるようにすること
が重要である。
【0065】ノズルを通って処理通路に入る処理溶液の
効率的な流れを得るため、処理溶液を処理通路に分配す
るノズル及び開口が次の関係の形状を有していることが
望ましい。 1≦F/A≦40 ここで Fは分当りガロンで表わしたノズルを通過する溶液の流
量 Aは平方インチで与えられたノズルの断面積。
効率的な流れを得るため、処理溶液を処理通路に分配す
るノズル及び開口が次の関係の形状を有していることが
望ましい。 1≦F/A≦40 ここで Fは分当りガロンで表わしたノズルを通過する溶液の流
量 Aは平方インチで与えられたノズルの断面積。
【0066】上記の関係のノズルを設けることは感光材
料に対する処理溶液の適切な放出を保証する。
料に対する処理溶液の適切な放出を保証する。
【0067】上記の詳述は感光材料を処理するための新
規で改良された装置を記載している。上記の記載は当業
者に対し、本発明の原理がその精神から逸脱することな
く用いられる付加的な手段を示していることが理解され
る。したがって本発明は特許請求の範囲によってのみ限
定されることが意図されるものである。
規で改良された装置を記載している。上記の記載は当業
者に対し、本発明の原理がその精神から逸脱することな
く用いられる付加的な手段を示していることが理解され
る。したがって本発明は特許請求の範囲によってのみ限
定されることが意図されるものである。
【図1】モジュールの斜面図である。
【図2】材料がその一面にエマルジョンを有しノズルが
容器の底部分にあって材料のエマルジョン表面に対面し
ている、モジュールの一部切欠図である。
容器の底部分にあって材料のエマルジョン表面に対面し
ている、モジュールの一部切欠図である。
【図3】材料がその一面にエマルジョンを有しノズルが
容器の頂上部分にあって材料のエマルジョン面に対面し
ている、図2のモジュールの他の実施態様の一部切欠図
である。
容器の頂上部分にあって材料のエマルジョン面に対面し
ている、図2のモジュールの他の実施態様の一部切欠図
である。
【図4】材料がその両面にエマルジョンを有し、ノズル
が容器の頂上部分にあって材料の一方のエマルジョン面
に対面し他のノズルが容器の底部分にあって材料の他方
のエマルジョン面に対面している図2のモジュールの他
の実施態様の一部切欠図である。
が容器の頂上部分にあって材料の一方のエマルジョン面
に対面し他のノズルが容器の底部分にあって材料の他方
のエマルジョン面に対面している図2のモジュールの他
の実施態様の一部切欠図である。
【図5】本発明の装置の処理溶液再循環装置の概略図で
ある。
ある。
【図6】スロットノズルの斜面図である。
【図7】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図8】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図9】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図10】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図11】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図12】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図13】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図14】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図15】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図16】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
【図17】スロットノズルの他の実施態様の斜面図であ
る。
る。
4…導管 8…センサ 9…裏板 10…処理モジュール 11…容器 12,13,15…輸送ローラ組立体 16…駆動装置 17…ノズル 18…回転組立体 20…カバー 21…感光材料 22,23,30,31,32,33…ローラ 24…通路部分 25…処理通路 26…軸受ブラケット 28…噛合い歯車 41,42,43,44,45,46,47…ポート 48a−1…導管 49a−1…間隙 50a−1…導管 51…溢流導管 52…センサ 60…再循環装置 61…接近孔 62…引張りスプリング 63,66,75,76,77,81,85…導管 64…マニホルド 65…ろ過器 67…制御論理回路 72,73,74…計量ポンプ 80…再循環ポンプ 82…容器 84…排出溢流口 86…熱交換器 100…入口通路 101…出口通路 105,109,115,120,121,138,1
40…スロット 107,111,117,118,124,126,1
27,137,139…導管 108…フランジ 110,116,122,151,154…表面 125…マニホルド 130,131…ローラ 141,143,145,147,152,155,2
16…導管 153…開口 200,205…織成表面 210,212…センサ 211,213…ライン 214…ポンプ 215…溢流口 217…貯蔵器 235…溶液面高さ
40…スロット 107,111,117,118,124,126,1
27,137,139…導管 108…フランジ 110,116,122,151,154…表面 125…マニホルド 130,131…ローラ 141,143,145,147,152,155,2
16…導管 153…開口 200,205…織成表面 210,212…センサ 211,213…ライン 214…ポンプ 215…溢流口 217…貯蔵器 235…溶液面高さ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョセフ アンソニー マニコ アメリカ合衆国,ニューヨーク 14618, ロチェスター,ウエストランド アベニュ 98 (72)発明者 ラルフ レナード ピッチニーノ,ジュニ ア アメリカ合衆国,ニューヨーク 14543, ラッシュ,ファイブ ポインツ ロード 665
Claims (10)
- 【請求項1】 感光材料を処理する装置であって、 容器と、前記容器の中に置かれた少なくとも1つの処理
組立体と、前記少なくとも1つの処理組立体に近接して
配置された少なくとも1つの輸送組立体とを具備する処
理モジュールであって、前記少なくとも1つの処理組立
体と前記少なくとも1つの輸送組立体とが処理溶液の流
れる実質的に連続した通路を形成し、前記処理通路が、
処理モジュールが利用できる処理溶液の全容量の少なく
とも40%を含みかつ前記処理通路の中で処理される感
光材料の厚さの約100倍に等しいか100倍より小さ
い厚さを有し、少なくとも1つの放出開口が前記少なく
とも1つの輸送組立体又は前記少なくとも1つの処理組
立体に設けられ処理溶液を前記処理通路に導入するよう
にしている、処理モジュールと、 処理溶液を前記モジュールに設けられた前記小容量部か
ら直接前記少なくとも1つのスロットノズルに循環させ
る手段、 とを具備していることを特徴とする感光材料処理装置。 - 【請求項2】 前記処理通路が処理モジュールのための
処理溶液の全容量の少なくとも60%を含んでいる請求
項1に記載の装置。 - 【請求項3】 前記処理通路が感光材料の厚さの約10
倍に等しいか10倍より小さい厚さを有している請求項
1に記載の装置。 - 【請求項4】 前記スロットノズルの幅が、前記スロッ
トノズルを出る処理溶液が感光材料の幅より広くなるよ
うな大きさである請求項1に記載の装置。 - 【請求項5】 スロットノズルの幅に対する長さの割合
が、前記スロットノズルを処理溶液が迅速かつ均一に出
るような割合である請求項1に記載の装置。 - 【請求項6】 1つ又はそれ以上のスロットが1つのス
ロットノズルに含まれている請求項1に記載の装置。 - 【請求項7】 前記少なくとも1つの放出開口が次の関
係による形状を有している請求項6に記載の装置。 1≦F/A≦40 ここで Fは分当りのガロンで表わした放出開口を通る溶液の流
量 Aは平方インチで与えられたノズルの断面積 - 【請求項8】 感光材料を処理する装置であって、 容器と前記容器の中に置かれた少なくとも1つの処理組
立体とを具備する処理モジュールであって、前記少なく
とも1つの処理組立体が処理溶液の流れる処理通路を形
成し、前記処理通路が入口と出口とを有し、少なくとも
1つの放出開口が前記少なくとも1つの処理組立体に設
けられ処理溶液を前記処理通路に導入するようにしてい
る、処理モジュールと、 感光材料を処理通路入口から前記処理通路を通って処理
通路出口へと輸送する輸送手段であって、前記少なくと
も1つの処理組立体に近接して配置されかつ前記処理通
路の一部を形成し、前記処理通路が、処理モジュールが
利用できる処理溶液の全容量の少なくとも40%を含み
かつ前記処理通路の中で処理される感光材料の厚さの約
100倍に等しいか100倍より小さい厚さを有してい
る、輸送手段と、 処理溶液を前記処理モジュールに設けられた小容量部を
通って循環させる手段とを具備していることを特徴とす
る感光材料処理装置。 - 【請求項9】 感光材料を処理する装置であって、 内部に置かれた少なくとも1つの処理組立体を有する容
器と前記少なくとも1つの処理組立体に近接して配置さ
れた少なくとも1つの輸送手段とを具備する処理モジュ
ールであって、前記少なくとも1つの処理組立体と前記
少なくとも1つの輸送組立体とが、処理溶液が流れる実
質的に連続した処理通路を形成し、前記処理通路が、処
理モジュールが利用できる処理溶液の全容量の少なくと
も40%を含みかつ前記処理通路の中で処理される感光
材料の厚さの約100倍に等しいか100倍より小さい
厚さを有し、前記少なくとも1つの輸送組立体には処理
溶液を前記処理通路に導入するための少なくとも1つの
放出開口が設けられている、処理モジュールと、 処理溶液を前記モジュールに設けられた小容量部を通っ
て循環させる手段とを具備していることを特徴とする感
光材料処理装置。 - 【請求項10】 感光材料を処理する装置であって、 容器と前記容器の中に置かれた少なくとも1つの処理組
立体とを具備する処理モジュールであって、前記容器と
前記少なくとも1つの処理組立体とが処理溶液が流れる
処理通路を形成し、前記処理通路が入口と出口とを有
し、少なくとも1つの放出開口が前記少なくとも1つの
処理組立体に設けられ処理溶液を前記処理通路に導入す
るようにし、前記処理通路が、処理モジュールが利用で
きる処理溶液の全容量の少なくとも40%を含みかつ前
記処理通路の中で処理される感光材料の厚みの約100
倍に等しいか100倍より小さい厚さを有している、処
理モジュールと、 処理溶液を直接前記処理モジュールに設けられた前記小
容量部から前記放出開口へと循環させる手段とを具備し
ていることを特徴とする感光材料処理装置。
Applications Claiming Priority (4)
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|---|---|---|---|
| US209755 | 1980-11-24 | ||
| US08/056,649 US5355190A (en) | 1993-05-03 | 1993-05-03 | Slot impingement for an automatic tray processor |
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| US056649 | 1994-03-10 |
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