JPH06333353A - 浮上型磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 - Google Patents
浮上型磁気ヘッドスライダ及びその製造方法Info
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- JPH06333353A JPH06333353A JP11714493A JP11714493A JPH06333353A JP H06333353 A JPH06333353 A JP H06333353A JP 11714493 A JP11714493 A JP 11714493A JP 11714493 A JP11714493 A JP 11714493A JP H06333353 A JPH06333353 A JP H06333353A
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- Japan
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- head slider
- magnetic head
- resist
- flying
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 チャンファ部の表面形状を高精度に規定する
ことが出来、更に、前記チャンファ部の表面の面粗さを
小さくし、安定した浮上を得ることが出来る浮上型磁気
ヘッドスライダを提供する。 【構成】 スライダ本体１の磁気ディスク対向側の面に
表面が空気ベアリング面として作用するレール部２を備
え、該レール部２の空気流入側の稜角部に空気流入側に
向かって高さが低くなるテーパ状のチャンファ部５が形
成されている浮上型磁気ヘッドスライダにおいて、前記
チャンファ部５の表面形状がイオンビームエッチングに
よるＡｒイオンの照射により形成されていることを特徴
とする。
ことが出来、更に、前記チャンファ部の表面の面粗さを
小さくし、安定した浮上を得ることが出来る浮上型磁気
ヘッドスライダを提供する。 【構成】 スライダ本体１の磁気ディスク対向側の面に
表面が空気ベアリング面として作用するレール部２を備
え、該レール部２の空気流入側の稜角部に空気流入側に
向かって高さが低くなるテーパ状のチャンファ部５が形
成されている浮上型磁気ヘッドスライダにおいて、前記
チャンファ部５の表面形状がイオンビームエッチングに
よるＡｒイオンの照射により形成されていることを特徴
とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＨＤＤ（ハードディスク
ドライブ装置）等の高記録密度の磁気ディスク装置に使
用される浮上型磁気ヘッドスライダ及びその製造方法に
関する。
ドライブ装置）等の高記録密度の磁気ディスク装置に使
用される浮上型磁気ヘッドスライダ及びその製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、特開昭６４−２１７１３号公報等
に開示されているように、磁気ディスク装置には磁気デ
ィスクの走行によって生じる動圧を利用して、磁気ディ
スクとの間に微小な空気ベアリングによる間隔を保って
浮上する浮上型磁気ヘッドスライダが用いられる。
に開示されているように、磁気ディスク装置には磁気デ
ィスクの走行によって生じる動圧を利用して、磁気ディ
スクとの間に微小な空気ベアリングによる間隔を保って
浮上する浮上型磁気ヘッドスライダが用いられる。
【０００３】従来、この種の浮上型磁気ヘッドスライダ
は、図４に示すように、スライダ本体１の磁気ディスク
と対向するディスク対向面側に、表面が空気ベアリング
面として作用する１組のレール部２、２が所定の間隔を
空けて設けられており、該レール部２、２の空気流入側
（磁気ディスク進入側）の稜角部には面取りされたテー
パ状のチャンファ部３、３が夫々形成されている。ま
た、前記レール部２、２が形成されている部分の空気流
出側（磁気ディスク退出側）の端面４、４には、薄膜磁
気ヘッド（図示せず）が夫々形成されている。
は、図４に示すように、スライダ本体１の磁気ディスク
と対向するディスク対向面側に、表面が空気ベアリング
面として作用する１組のレール部２、２が所定の間隔を
空けて設けられており、該レール部２、２の空気流入側
（磁気ディスク進入側）の稜角部には面取りされたテー
パ状のチャンファ部３、３が夫々形成されている。ま
た、前記レール部２、２が形成されている部分の空気流
出側（磁気ディスク退出側）の端面４、４には、薄膜磁
気ヘッド（図示せず）が夫々形成されている。
【０００４】最近、この種の浮上型磁気ヘッドスライダ
は、高密度記録化及び磁気ディスクの高速移動に対応す
るために、小型化が図られている。そして、このような
小型化を図ることは、高密度記録を達成するために必要
であるスライダの浮上量の低下、及びスペーシングロス
の減少に有効である。また、小型化によるスライダの重
量の減少は、ジンバルを支持するアームのアクセス運動
の高速化にも適している。
は、高密度記録化及び磁気ディスクの高速移動に対応す
るために、小型化が図られている。そして、このような
小型化を図ることは、高密度記録を達成するために必要
であるスライダの浮上量の低下、及びスペーシングロス
の減少に有効である。また、小型化によるスライダの重
量の減少は、ジンバルを支持するアームのアクセス運動
の高速化にも適している。
【０００５】しかしながら、従来このような浮上型磁気
ヘッドスライダでは、スライダ自体はＡｌ2Ｏ3−ＴｉＣ
等の非磁性セラミックス等により形成されており、チャ
ンファ部３はこの非磁性セラミックスを平面研削装置等
を用いた機械加工により形成されており、前記チャンフ
ァ部３の寸法や傾斜角度を高精度に規定することが困難
である。また、チャンファ部３の表面の面粗さが１００
０Å程度と大きく、浮上量が０．１μｍ以下になると、
該チャンファ部３にゴミが付着し、空気流が乱れ、スラ
イダのピッチ角が安定せず、浮上が不安定になるという
問題が生じる。更に、上述したようなチャンファ部３を
機械加工により形成する場合、該機械加工を１ブロック
毎に行わなければならず、量産性に適していないという
問題もある。
ヘッドスライダでは、スライダ自体はＡｌ2Ｏ3−ＴｉＣ
等の非磁性セラミックス等により形成されており、チャ
ンファ部３はこの非磁性セラミックスを平面研削装置等
を用いた機械加工により形成されており、前記チャンフ
ァ部３の寸法や傾斜角度を高精度に規定することが困難
である。また、チャンファ部３の表面の面粗さが１００
０Å程度と大きく、浮上量が０．１μｍ以下になると、
該チャンファ部３にゴミが付着し、空気流が乱れ、スラ
イダのピッチ角が安定せず、浮上が不安定になるという
問題が生じる。更に、上述したようなチャンファ部３を
機械加工により形成する場合、該機械加工を１ブロック
毎に行わなければならず、量産性に適していないという
問題もある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来例の
欠点に鑑み為されたものであり、チャンファ部の寸法及
び傾斜角度を高精度に規定することが出来、且つ、チャ
ンファ部の表面の面粗さが小さく、浮上が安定し、しか
も、量産性に優れた浮上型磁気ヘッドスライダ及びその
製造方法を提供することを目的とするものである。
欠点に鑑み為されたものであり、チャンファ部の寸法及
び傾斜角度を高精度に規定することが出来、且つ、チャ
ンファ部の表面の面粗さが小さく、浮上が安定し、しか
も、量産性に優れた浮上型磁気ヘッドスライダ及びその
製造方法を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の浮上型磁気ヘッ
ドスライダは、スライダ本体の磁気ディスク対向側の面
に表面が空気ベアリング面として作用するレール部を備
え、該レール部の空気流入側の稜角部に空気流入側に向
かって高さが低くなるチャンファ部が形成されているも
のにおいて、前記チャンファ部の表面が不活性ガスイオ
ンの照射により形成されていることを特徴とする。
ドスライダは、スライダ本体の磁気ディスク対向側の面
に表面が空気ベアリング面として作用するレール部を備
え、該レール部の空気流入側の稜角部に空気流入側に向
かって高さが低くなるチャンファ部が形成されているも
のにおいて、前記チャンファ部の表面が不活性ガスイオ
ンの照射により形成されていることを特徴とする。
【０００８】更に、本発明の浮上型磁気ヘッドスライダ
は、前記不活性ガスイオンの照射がイオンビームエッチ
ングであることを特徴とする。
は、前記不活性ガスイオンの照射がイオンビームエッチ
ングであることを特徴とする。
【０００９】また、本発明の浮上型磁気ヘッドスライダ
の製造方法は、スライダ本体となる基板の上面にレジス
トを形成する第１の工程と、前記レジストのうちチャン
ファ部となる部分の上部に形成されたレジストをチャン
ファ部の形状に応じた条件で露光する第２の工程と、前
記レジストの露光された部分を除去し、チャンファ部と
なる部分の上部に残ったレジストの形状をチャンファ部
の表面形状と等しい形状にする第３の工程と、前記レジ
ストが形成されている基板の上面に不活性ガスイオンを
照射し、該基板の上面を前記レジストの形状に従って除
去することによりチャンファ部を形成する第４の工程と
を有することを特徴とする。
の製造方法は、スライダ本体となる基板の上面にレジス
トを形成する第１の工程と、前記レジストのうちチャン
ファ部となる部分の上部に形成されたレジストをチャン
ファ部の形状に応じた条件で露光する第２の工程と、前
記レジストの露光された部分を除去し、チャンファ部と
なる部分の上部に残ったレジストの形状をチャンファ部
の表面形状と等しい形状にする第３の工程と、前記レジ
ストが形成されている基板の上面に不活性ガスイオンを
照射し、該基板の上面を前記レジストの形状に従って除
去することによりチャンファ部を形成する第４の工程と
を有することを特徴とする。
【００１０】更に、本発明の浮上型磁気ヘッドスライダ
の製造方法は、前記第２の工程において、前記基板を移
動させながら露光を行うことを特徴とする。
の製造方法は、前記第２の工程において、前記基板を移
動させながら露光を行うことを特徴とする。
【００１１】更に、本発明の浮上型磁気ヘッドスライダ
の製造方法は、前記第４の工程における不活性ガスイオ
ンの照射をイオンビームエッチングにより行うことを特
徴とする。
の製造方法は、前記第４の工程における不活性ガスイオ
ンの照射をイオンビームエッチングにより行うことを特
徴とする。
【００１２】
【作用】上記構成の浮上型磁気ヘッドスライダによれ
ば、チャンファ部の形状をドライエッチングの条件によ
り高精度に規定することが出来、しかも前記チャンファ
部の表面の面粗さは小さくなる。
ば、チャンファ部の形状をドライエッチングの条件によ
り高精度に規定することが出来、しかも前記チャンファ
部の表面の面粗さは小さくなる。
【００１３】また、上記製造方法によれば、上記構成に
よる作用を有する浮上型磁気ヘッドスライダを製造する
ことが出来ると共に、一度の製造工程により多数の基板
を同時に加工することが出来る。
よる作用を有する浮上型磁気ヘッドスライダを製造する
ことが出来ると共に、一度の製造工程により多数の基板
を同時に加工することが出来る。
【００１４】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００１５】図１は本実施例の浮動ヘッドスライダの斜
視図であり、図４と同一部分には同一符合を付し、その
説明は割愛する。
視図であり、図４と同一部分には同一符合を付し、その
説明は割愛する。
【００１６】本実施例の浮上型磁気ヘッドスライダで
は、レール部２、２の空気流入側の稜角部に形成されて
いるチャンファ部５、５はイオンビームエッチングによ
るＡｒイオンの照射により面取りされ、テーパ状に形状
加工されており、その表面の面粗さは３００Å程度であ
る。
は、レール部２、２の空気流入側の稜角部に形成されて
いるチャンファ部５、５はイオンビームエッチングによ
るＡｒイオンの照射により面取りされ、テーパ状に形状
加工されており、その表面の面粗さは３００Å程度であ
る。
【００１７】次に、本実施例の浮上型磁気ヘッドスライ
ダの製造方法について説明する。
ダの製造方法について説明する。
【００１８】まず、図２（ａ）に示すように、スライダ
本体を構成するＡｌ2Ｏ3−ＴｉＣの基板６上にポジ型の
レジスト７を形成する。尚、この時、前記基板６の上面
には、既に機械加工によりレール部２が形成されてい
る。
本体を構成するＡｌ2Ｏ3−ＴｉＣの基板６上にポジ型の
レジスト７を形成する。尚、この時、前記基板６の上面
には、既に機械加工によりレール部２が形成されてい
る。
【００１９】次に、図２（ｂ）に示すように、基板６上
のレジスト７の上方にマスク８を配置した状態で、前記
基板を矢印Ａ方向に移動させながら露光を行う。具体的
には、まず最初の露光時間ｔ＝０の時、レジスト７の端
部ａをマスク８の着色部８ａと無着色部８ｂとの境界部
８ｃの真下に位置させ、次いで、前記基板６を一定速度
ｖで矢印Ａ方向、即ち、マスク８の着色部８ａから無着
色部８ｂの方向に移動させながら露光を行う。そして、
露光時間ｔが経過し、マスク８の境界部８ｃの真下にレ
ジスト７の地点ｂが位置する時点で露光を終了する。
尚、図２（ｂ）は、この露光終了時点での図面である。
即ち、この露光工程では、前記レジスト７は地点ａで露
光時間がｔと最も長く、端部ａから長さｌ（＝ｖ・ｔ）
だけ離れた地点ｂで露光時間が０となるように、地点ａ
から地点ｂに向かって露光時間が徐々に短くなり、前記
レジスト７は破線９よりも上方の部分が露光されたこと
になる。
のレジスト７の上方にマスク８を配置した状態で、前記
基板を矢印Ａ方向に移動させながら露光を行う。具体的
には、まず最初の露光時間ｔ＝０の時、レジスト７の端
部ａをマスク８の着色部８ａと無着色部８ｂとの境界部
８ｃの真下に位置させ、次いで、前記基板６を一定速度
ｖで矢印Ａ方向、即ち、マスク８の着色部８ａから無着
色部８ｂの方向に移動させながら露光を行う。そして、
露光時間ｔが経過し、マスク８の境界部８ｃの真下にレ
ジスト７の地点ｂが位置する時点で露光を終了する。
尚、図２（ｂ）は、この露光終了時点での図面である。
即ち、この露光工程では、前記レジスト７は地点ａで露
光時間がｔと最も長く、端部ａから長さｌ（＝ｖ・ｔ）
だけ離れた地点ｂで露光時間が０となるように、地点ａ
から地点ｂに向かって露光時間が徐々に短くなり、前記
レジスト７は破線９よりも上方の部分が露光されたこと
になる。
【００２０】次に、図２（ｃ）に示すように、前記レジ
スト７の現像を行うことにより、該レジスト７の露光さ
れた部分、即ち、図２（ａ）における破線９よりも上方
の部分を除去する。これにより、レジスト７の上面には
斜面７ａが形成される。尚、この時の斜面７ａの長さｌ
及び傾斜角度θは、露光時間ｔ及び基板の移動速度ｖに
より高精度に規定される。
スト７の現像を行うことにより、該レジスト７の露光さ
れた部分、即ち、図２（ａ）における破線９よりも上方
の部分を除去する。これにより、レジスト７の上面には
斜面７ａが形成される。尚、この時の斜面７ａの長さｌ
及び傾斜角度θは、露光時間ｔ及び基板の移動速度ｖに
より高精度に規定される。
【００２１】次に、図２（ｄ）に示すように、図２
（ｃ）に示す基板６に上方よりＡｒイオンを照射するイ
オンビームエッチングを行うことにより、基板６の上面
をレジスト７の形状に従って除去する。これにより、前
記基板６の上面には上記レジスト７の斜面７ａと同形状
の斜面６ａが形成される。そして、この斜面６ａが図１
のレール部２上に形成されるチャンファ部５となる。
尚、Ａｒイオン以外でも不活性ガスイオンであれば、Ｈ
ｅイオン、Ｎｅイオン等でもよい。
（ｃ）に示す基板６に上方よりＡｒイオンを照射するイ
オンビームエッチングを行うことにより、基板６の上面
をレジスト７の形状に従って除去する。これにより、前
記基板６の上面には上記レジスト７の斜面７ａと同形状
の斜面６ａが形成される。そして、この斜面６ａが図１
のレール部２上に形成されるチャンファ部５となる。
尚、Ａｒイオン以外でも不活性ガスイオンであれば、Ｈ
ｅイオン、Ｎｅイオン等でもよい。
【００２２】以後は、特に図示しないが、残りのレジス
ト７を除去して、本実施例の浮上型磁気ヘッドスライダ
が完成する。
ト７を除去して、本実施例の浮上型磁気ヘッドスライダ
が完成する。
【００２３】以上のような、本実施例の浮上型磁気ヘッ
ドスライダでは、チャンファ部５の長さｌ及び傾斜角度
θは、イオンビームエッチングを行う際のレジスト７の
斜面７ａの形状により決定する。そして、このレジスト
７の斜面７ａの形状は、レジスト７を露光する時の基板
６の移動速度ｖ及び露光時間ｔにより高精度に規定され
るため、チャンファ部５の形状も高精度に規定すること
が出来る。例えば、チャンファ部５の長さｌの目標寸法
を３００μｍ、傾斜角度θの目標値を６０’とした時、
従来の機械加工によりチャンファ部を形成した場合、長
さｌの寸法精度は３００±５０μｍ、傾斜角度θの精度
は６０±１０’であるのに対して、本実施例のようにイ
オンビームエッチングによりチャンファ部を形成した場
合、長さｌの寸法精度は３００±５μｍ、傾斜角度θの
精度は６０±５’となる。
ドスライダでは、チャンファ部５の長さｌ及び傾斜角度
θは、イオンビームエッチングを行う際のレジスト７の
斜面７ａの形状により決定する。そして、このレジスト
７の斜面７ａの形状は、レジスト７を露光する時の基板
６の移動速度ｖ及び露光時間ｔにより高精度に規定され
るため、チャンファ部５の形状も高精度に規定すること
が出来る。例えば、チャンファ部５の長さｌの目標寸法
を３００μｍ、傾斜角度θの目標値を６０’とした時、
従来の機械加工によりチャンファ部を形成した場合、長
さｌの寸法精度は３００±５０μｍ、傾斜角度θの精度
は６０±１０’であるのに対して、本実施例のようにイ
オンビームエッチングによりチャンファ部を形成した場
合、長さｌの寸法精度は３００±５μｍ、傾斜角度θの
精度は６０±５’となる。
【００２４】また、前記チャンファ部５はレール部２を
イオンビームエッチングにより除去することにより形成
されるので、その表面の面粗さは３００Å程度となり、
浮上量を小さくしても、チャンファ部５の表面にはゴミ
が付着しにくく、安定した浮上が得られる。
イオンビームエッチングにより除去することにより形成
されるので、その表面の面粗さは３００Å程度となり、
浮上量を小さくしても、チャンファ部５の表面にはゴミ
が付着しにくく、安定した浮上が得られる。
【００２５】また、本実施例のようなイオンビームエッ
チングによりチャンファ部５を形成する製造方法では、
上述のような基板６を多数並べて、図２に示す加工を一
度に行うことにより、１回の製造工程で多数のスライダ
を製造することが出来、量産性に優れている。
チングによりチャンファ部５を形成する製造方法では、
上述のような基板６を多数並べて、図２に示す加工を一
度に行うことにより、１回の製造工程で多数のスライダ
を製造することが出来、量産性に優れている。
【００２６】次に、本発明の他の実施例の浮上型磁気ヘ
ッドスライダの製造方法について説明する。
ッドスライダの製造方法について説明する。
【００２７】まず、図３（ａ）に示すように、基板６の
上面にレジスト７を形成した後、図３（ｂ）に示すよう
に、マスク８の境界部８ｃの真下にレジスト７の端部ａ
から長さｍだけ離れた地点ｃ位置するようにマスク８の
位置合わせを行った後、１回目の露光を行う。
上面にレジスト７を形成した後、図３（ｂ）に示すよう
に、マスク８の境界部８ｃの真下にレジスト７の端部ａ
から長さｍだけ離れた地点ｃ位置するようにマスク８の
位置合わせを行った後、１回目の露光を行う。
【００２８】次に、図３（ｃ）に示すように、マスク８
の境界部８ｃの真下にレジスト７の地点ｃから長さｎだ
け離れた地点ｄが位置するようにマスク８の位置合わせ
を行った後、２回目の露光を行う。
の境界部８ｃの真下にレジスト７の地点ｃから長さｎだ
け離れた地点ｄが位置するようにマスク８の位置合わせ
を行った後、２回目の露光を行う。
【００２９】次に、図３（ｄ）に示すように、前記レジ
スト７の現像を行うことにより、該レジスト７の露光さ
れた部分を除去する。これにより、レジスト７の上面に
は第１段差面７ｂ、第２段差面７ｃが形成される。尚、
この時の第１、第２段差面７ｂ、７ｃの長さｍ、ｎ、及
び高さ（深さ）は、露光する際のマスク８の位置及び露
光時間により高精度に規定される。
スト７の現像を行うことにより、該レジスト７の露光さ
れた部分を除去する。これにより、レジスト７の上面に
は第１段差面７ｂ、第２段差面７ｃが形成される。尚、
この時の第１、第２段差面７ｂ、７ｃの長さｍ、ｎ、及
び高さ（深さ）は、露光する際のマスク８の位置及び露
光時間により高精度に規定される。
【００３０】次に、図３（ｅ）に示すように、前記基板
６の上方よりイオンビームエッチングを施すことによ
り、該基板６の上面を上記レジスト７の表面形状に従っ
て除去することにより、前記基板７の上面に第１段差面
１０ｂ、及び第２段差面１０ｃを有するチャンファ部１
０を形成する。
６の上方よりイオンビームエッチングを施すことによ
り、該基板６の上面を上記レジスト７の表面形状に従っ
て除去することにより、前記基板７の上面に第１段差面
１０ｂ、及び第２段差面１０ｃを有するチャンファ部１
０を形成する。
【００３１】この上記他の実施例の浮上型磁気ヘッドス
ライダにおいても、チャンファ部１０の形状は露光を行
う際の条件により高精度に規定することが出来、また、
チャンファ部１０の第１段差面１０ｂ、第２段差面１０
ｃの表面の面粗さが小さくなるため、ゴミが付着しにく
く、安定した浮上を得ることが出来る。
ライダにおいても、チャンファ部１０の形状は露光を行
う際の条件により高精度に規定することが出来、また、
チャンファ部１０の第１段差面１０ｂ、第２段差面１０
ｃの表面の面粗さが小さくなるため、ゴミが付着しにく
く、安定した浮上を得ることが出来る。
【００３２】尚、上述の実施例では、基板６の上面に機
械加工によりレール部２を形成した後、図２に示す工
程、あるいは図３に示す工程を行っているが、逆に、図
２に示す工程、あるいは図３に示す工程を行った後、機
械加工によりレール部２を形成しても良い。
械加工によりレール部２を形成した後、図２に示す工
程、あるいは図３に示す工程を行っているが、逆に、図
２に示す工程、あるいは図３に示す工程を行った後、機
械加工によりレール部２を形成しても良い。
【００３３】また、本発明の浮上型磁気ヘッドスライダ
のチャンファ部の形状は、上述した実施例の形状に限ら
れるものではなく、例えば、断面円弧状のような形状で
も良く、露光を行う際の条件を変えることにより、様々
な形状のチャンファ部が形成される。
のチャンファ部の形状は、上述した実施例の形状に限ら
れるものではなく、例えば、断面円弧状のような形状で
も良く、露光を行う際の条件を変えることにより、様々
な形状のチャンファ部が形成される。
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、チャンファ部の形状を
高精度に規定することが出来、且つチャンファ部の表面
の面粗さが小さく、安定した浮上を得ることが出来る磁
気ヘッドスライダを提供し得る。
高精度に規定することが出来、且つチャンファ部の表面
の面粗さが小さく、安定した浮上を得ることが出来る磁
気ヘッドスライダを提供し得る。
【００３５】更に、本発明によれば、上述の効果を有す
る浮上型磁気ヘッドスライダを量産性良く製造すること
が出来る浮上型磁気ヘッドスライダの製造方法を提供し
得る。
る浮上型磁気ヘッドスライダを量産性良く製造すること
が出来る浮上型磁気ヘッドスライダの製造方法を提供し
得る。
【図１】本発明の浮上型磁気ヘッドスライダの斜視図で
ある。
ある。
【図２】本発明の浮上型磁気ヘッドスライダの製造方法
を示す図である。
を示す図である。
【図３】本発明の他の実施例の浮上型磁気ヘッドスライ
ダの製造方法を示す図である。
ダの製造方法を示す図である。
【図４】従来の浮上型磁気ヘッドスライダの斜視図であ
る。
る。
１ スライダ本体 ２ レール部 ５ チャンファ部 ６ 基板 ７ レジスト １０ チャンファ部
Claims (5)
- 【請求項１】 スライダ本体の磁気ディスク対向側の面
に表面が空気ベアリング面として作用するレール部を備
え、該レール部の空気流入側の稜角部に空気流入側に向
かって高さが低くなるチャンファ部が形成されている浮
上型磁気ヘッドスライダにおいて、前記チャンファ部の
表面形状が不活性ガスイオンの照射により形成されてい
ることを特徴とする浮上型磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項２】 前記不活性ガスの照射がイオンビームエ
ッチングであることを特徴とする請求項１記載の浮上型
磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項３】 スライダ本体となる基板の上面にレジス
トを形成する第１の工程と、前記レジストのうちチャン
ファ部となる部分の上部に形成されたレジストをチャン
ファ部の形状に応じた条件で露光する第２の工程と、前
記レジストの露光された部分を除去し、チャンファ部と
なる部分の上部に残ったレジストの形状をチャンファ部
の表面形状と等しい形状にする第３の工程と、前記レジ
ストが形成されている基板の上面に不活性ガスイオンを
照射し、該基板の上面を前記レジストの形状に従って除
去することによりチャンファ部を形成する第４の工程と
を有することを特徴とする浮上型磁気ヘッドスライダの
製造方法。 - 【請求項４】 前記第２の工程において、前記基板を移
動させながら露光を行うことを特徴とする請求項３記載
の浮上型磁気ヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項５】 前記第４の工程における不活性ガスイオ
ンの照射をイオンビームエッチングにより行うことを特
徴とする請求項３または４記載の浮上型磁気ヘッドスラ
イダの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11714493A JPH06333353A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 浮上型磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11714493A JPH06333353A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 浮上型磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06333353A true JPH06333353A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=14704554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11714493A Pending JPH06333353A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 浮上型磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06333353A (ja) |
-
1993
- 1993-05-19 JP JP11714493A patent/JPH06333353A/ja active Pending
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