JPH06339658A - 流体塗布装置 - Google Patents
流体塗布装置Info
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- JPH06339658A JPH06339658A JP5154412A JP15441293A JPH06339658A JP H06339658 A JPH06339658 A JP H06339658A JP 5154412 A JP5154412 A JP 5154412A JP 15441293 A JP15441293 A JP 15441293A JP H06339658 A JPH06339658 A JP H06339658A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/011—Apparatus therefor
- H10W72/0113—Apparatus for manufacturing die-attach connectors
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Die Bonding (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
容易にし、また、重ね塗りを可能にする。 【構成】 スロット116で一定の膜厚に揃えた塗布液
12a,12bを塗布対象物11の表面に供給する流体
塗布装置(スロット式粘液噴出塗布装置)において、異
なる塗布液12a,12bを塗布する2つの塗布ヘッド
55a,55bを設け、それぞれ独立して駆動できるよ
うにする。各塗布ヘッド55a,55bは単独で塗布す
ることもでき、同時に駆動して重ね塗りすることもでき
る。
Description
具体的にいうと、本発明は、塗布対象物の表面に均一な
膜厚で流体を塗布するためのスロット型の流体塗布装置
に関する。
学素子、半導体素子、半導体集積回路、プリント配線基
板等の製造工程においては、フォトレジストや絶縁材
料、はんだレジスト等の各種塗布液を塗布対象物(例え
ば、ガラス基板や半導体ウエハ等)の表面に塗布し、数
ミクロン程度の非常に薄い塗膜を形成する必要がある。
例えば、液晶ディスプレイの製造工程においては、ガラ
ス基板の表面に、乾燥時の厚みが約1〜3ミクロンの均
一なフォトレジストをコーティングする必要がある。
を形成する必要があり、しかも、高精度に膜厚を制御す
る必要があるため、従来においては、塗布装置としてス
ピンコ−タやロールコータ等が一般に用いられている。
例えば、スピンコ−タは、回転テーブルの上にセットさ
れた塗布対象物を一定の回転数で回転させながら吐出ノ
ズルから基層の上に塗布液を滴下し、遠心力によって塗
布液を薄く延ばし、塗布液の粘度や回転数等によって決
まる膜厚の塗膜を塗布対象物の表面に形成する。また、
ロールコータは、表面に塗布液を供給されたローラを塗
布対象物の表面に接触させ、ローラから塗布対象物の表
面へ塗布液を転写させるものである。
流体塗布装置はいずれも1度に1種類の塗布液しか塗る
ことができなかった。すなわち、従来のスピンコータで
は、1つの吐出ノズルしかなく、従来のロールコータで
は1本のローラしかなかった。このため、塗布液の種類
を変更するためには、スピンコータの塗布ノズルやロー
ルコータのローラ等を洗浄して塗布液を入れ替えなけれ
ばならず、段取替えに手間が掛かっていた。
置によって塗布液の重ね塗りを行なうことができなかっ
た。例えば、スピンコータの場合には、複数の吐出ノズ
ルを設ければ、第1の吐出ノズルによって塗布対象物の
表面に1層目の塗膜を形成した後、塗布対象物を回転さ
せながら第2の吐出ノズルから別な塗布液を吐出して1
層目の塗膜の上に2層目の塗膜を形成することが考えら
れる。しかしながら、2層目の塗布液が遠心力によって
全体に広がる際、未だ湿潤している1層目の塗膜と2層
目の塗膜とが混じり合うと共に1層目及び2層目の塗膜
の膜厚にバラツキが生じ、各層の塗膜の品質が損なわれ
るという問題があった。また、2層目の塗布液を塗布す
る際の遠心力によって1層目の塗膜が塗布対象物の表面
から剥がれる恐れがあった。
ロ−ラを設ければ、塗布液の重ね塗りができると考えら
れるが、2層目の塗布液を塗布する際には、1層目の塗
膜の表面にローラを押し付けて2層目の塗膜を形成する
ので、十分に乾燥していない1層目の塗膜の場合には、
ローラの圧力で1層目の塗膜が押し潰されて1層目と2
層目の塗膜とが混じり合うと共に各塗膜の膜厚が均一に
ならず、塗膜の品質が低下するという欠点があった。こ
のため、従来より複数の吐出ノズルを備えたスピンコー
タや、複数のローラを備えたロールコータ等の流体塗布
装置は存在していなかった。
造工程においては、図12に示すように、ガラス基板の
表面にブラックマトリックスを形成するための塗布装置
141aを含む塗布ライン142Aと、赤色フィルタを
形成するための塗布装置141bを含む塗布ライン14
2Bと、緑色フィルタを形成するための塗布装置141
cを含む塗布ライン142Cと、青色フィルタを形成す
るための塗布装置141dを含む塗布ライン142Dと
をそれぞれ並列に配置しており、各塗布ライン142A
〜142Dにおいてブラックマトリックスもしくは各色
のフイルタを順次形成している。このため、各塗布ライ
ン142A〜142D毎に洗浄装置やマスクアライナ等
が必要となり、設備コストが高くつくと共に設備の占有
面積も大きくなるという問題があった。
されたものであって、その目的とするところは、塗布液
の切り替えを容易に行なえ、また、重ね塗りの可能な流
体塗布装置を提供することにある。
は、流体を注入するための流体注入口と、該流体注入口
から注入された流体を幅方向に拡散させるための空洞部
と、該空洞部内の流体を一定の厚みにして流出させるた
めのスロットとを塗布ヘッドに形成された流体塗布装置
であって、前記塗布ヘッドを少なくとも2個以上備えた
ことを特徴としている。
いるので、各塗布ヘッドへ異なる流体を供給しておけ
ば、使用する塗布ヘッドを選択することにより流体の種
類を簡単に変更することができる。従って、流体を変更
する度に塗布ヘッドを洗浄する手間が省け、流体の種類
変更の際の段取り替えの手間を省くことができる。
ので、塗布対象物の表面へ異なる塗布ヘッドにより異な
る種類の流体を順次塗布することにより流体の重ね塗り
も可能になる。
ト法による塗布方式の塗布ヘッドであって、スピンコー
タやロールコータ等のように塗布対象物の表面で流体の
膜厚を所望の厚みに揃えるものでなく、塗布ヘッド内の
スロットで一定の膜厚に整えた流体を塗布対象物の表面
へ供給するものであるので、流体を重ね塗りしても塗膜
の品質を損ねることがなく、良好な品質の多重塗膜等を
得ることができる。
Aの外観を示す斜視図である。この流体塗布装置Aは、
扉3を有するキャビネット部2と装置本体1とからな
り、キャビネット部2内には塗布液を溜めたタンクやコ
ントローラが収納されており、装置本体1はキャビネッ
ト部2の上に設置されている。装置本体1は、主とし
て、塗布対象物を水平に送る送り機構部21と、送り機
構部21によって送られる塗布対象物の表面に塗布液を
コーティングする2つの塗布機構部51a,51bと、
塗布対象物の板厚を塗布直前に計測する測定ヘッド81
とから構成されている。また、装置本体1の前面には表
示パネルやダイアル、メータ、各種スイッチ等を集中さ
せた操作部4が設けられている。装置本体1の上方は開
閉可能なカバー5によって覆うことができるようになっ
ている。
な塗布対象物11を吸着して一定速度で水平に搬送する
ものであって、その構造を図2の断面図により詳細に説
明する。ベース22の上面には1対の平行なガイドレー
ル23が設けられ、テーブル24の下面に設けられた4
つのスライダー25がガイドレール23によってスライ
ド自在に支持されており、テーブル24はガイドレール
23に沿って滑らかに走行する。また、ベース22内の
中央部には、雄ねじシャフト26がガイドレール23と
平行に配設されており、雄ねじシャフト26の両端部は
アンギュラベアリング27を介してベース22に回転自
在に支持され、テーブル24の下面部分に固定された雌
ねじ管28と雄ねじシャフト26とを互いに螺合させて
ボールねじ機構を構成している。ベース22の端部には
サーボモータ29が固定されており、サーボモータ29
の出力軸は継手30を介して雄ねじシャフト26と連結
されている。従って、サーボモータ29によって雄ねじ
シャフト26を一定の回転数で回転させることによりテ
ーブル24をガイドレール23に沿って定速で移動させ
ることができる。なお、この実施例では、テーブル24
を移動させるための動力としてサーボモータ29を用い
たが、可燃性の塗布液を用いる場合には、エア機構等の
非電気的な手段によってテーブル24を移動させるよう
にしてもよい。
1を穿孔された吸着盤32をテーブル本体33の上に載
置したものであって、吸着盤32とテーブル本体33と
の間にはバキュームチャンバ34が形成されている。し
かして、バキュームチャンバ34内のエアを排出してバ
キュームチャンバ34内を真空ないし負圧にすることに
より、吸着盤32の上に置かれたガラス基板等の塗布対
象物11の下面を吸着することができ、テーブル24と
共に塗布対象物11を定速送りすることができる。この
ときテーブル24は塗布対象物11を吸着することによ
り塗布対象物11の反りを矯正する効果もある。また、
テーブル24内には着脱ピンとアライメントピン(案内
ピン)〔いずれも図示せず〕が納められており、バキュ
ームチャンバ34内を常圧に開放した後、吸着盤32の
ピン突出し孔35から着脱ピンを突出させることによ
り、塗布対象物11の下面を押し上げ、塗布対象物11
をテーブル24から強制的に剥離することができる。
独立して駆動されるようになっており、図1に示すよう
に、塗布対象物11の搬送経路を跨ぐようにして送り機
構部21の上方に設けられている。図3はこの塗布機構
部51a,51bを側面から詳細に示す図である。いず
れの塗布機構部51a,51bにおいても、昇降ホルダ
ー52によって上下スライド自在に保持された1対の昇
降ロッド53の上端間に塗布アーム54a,54bが横
架されており、塗布アーム54a,54bの前面もしく
は背面に塗布ヘッド55a,55bが固定されている。
昇降ホルダー52はベース22から側方へ張り出した棚
部56に固定されており、昇降ロッド53の真下にはエ
アシリンダ57a,57bが設置され、エアシリンダ5
7a,57bの出力軸58の上端面が昇降ロッド53の
下端面と対向している。60は昇降ロッド53を覆うベ
ローズである。従って、エアシリンダ57a,57bの
出力軸58を上方へ突出させ、昇降ロッド53の下端面
を押し上げると、塗布アーム54a,54bと共に塗布
ヘッド55a,55bが上昇する。また、エアシリンダ
57a,57bの出力軸58を下方へ後退させると、塗
布ヘッド55a,55bは自重によって出力軸58と共
に下降する。
塗布アーム54a,54bの真下には、それぞれ数値制
御形のリニアアクチュエータ61が設置されている。こ
のリニアアクチュエータ61は、ジョイント62を介し
てサーボモータ、パルスモータ等のモータ63と接続さ
れており、モータ63によって底面の入力軸64を回転
させると、上面のストッパーロッド65が上方へ突出す
る。しかも、各リニアアクチュエータ61は内部にねじ
機構を有していて、入力軸64の回転数に比例した距離
だけストッパーロッド65が突出する。しかして、リニ
アアクチュエータ61のストッパーロッド65が突出す
ると、エアシリンダ57a,57bの出力軸58を後退
させて塗布ヘッド55a,55bを下降させたとき、塗
布ヘッド55a,55bもしくは塗布アーム54a,5
4bの下面がストッパーロッド65の上端に当接した瞬
間、昇降ロッド53の下端面がエアシリンダ57a,5
7bの出力軸58から離れ、その位置で各塗布ヘッド5
5a,55bがリニアアクチュエータ61により支持さ
れ、位置決めされる。
ーロッド65の突出距離は、測定ヘッド81の出力によ
って制御される。すなわち、測定ヘッド81が塗布対象
物11の板厚を計測すると、塗布ヘッド55a,55b
と塗布対象物11とのギャップが最適距離(例えば、数
10ミクロン〜数100ミクロン)となる位置に塗布ヘ
ッド55a,55bを支持及び位置決めするよう、各リ
ニアアクチュエータ61のストッパーロッド65の突出
長が決められる。
めの測定ヘッド81は、塗布アーム54a,54bと平
行に配設された測定アーム82の中央部に設けられてい
る。測定ヘッド81としては、エアーマイクロメータの
ように非接触式で非電気的な測定手段が好ましいが、リ
ニアスケールでもよく、引火性でない塗布液を用いる場
合などには電気的なセンサを用いてもよく、また、塗布
対象物11によっては光学式センサや接触式のセンサ等
を用いても差し支えない。
断面図を示してある。これは中央部で薄く、幅方向両端
部で厚い膜厚の塗膜となるのを防止するための構造を有
している。この塗布ヘッド55a,55bは、2つの分
割ヘッド101,102と1枚のシム103とから構成
されており、これらの内面側からの正面図及び分解斜視
図を図5及び図6に示している。一方の分割ヘッド10
1の内壁面には、図5に示すように、左右にわたって空
洞状をした流体リザーバ104が設けられている。流体
リザ−バ104は、分割ヘッド101の内壁面から内方
へ向けて水平に凹設されており、分割ヘッド101の上
面から流体リザーバ104の中央部に向けて塗布液注入
口105が穿設されており、また、分割ヘッド101の
上面から流体リザーバ104の両端部に向けて塗布液排
出口106が穿設されている。他方の分割ヘッド102
は、内壁面の上端縁から位置決め用の突部107が突設
されており、この突部107を対向する分割ヘッド10
1の上面に当設させることにより、塗布ヘッド55a,
55bの組立時に両分割ヘッド101,102同志を位
置合わせできるようにしている。また、この分割ヘッド
102の内壁面は、通孔108を除いて平らに形成され
ている。また、両分割ヘッド101,102の下面の内
壁面側の縁には左右全幅にわたって断面三角形状のテー
パ部109を突出させてあり、下面全体にポリテトラフ
ルオロエチレン(PTFE)等のフッ素樹脂110をコ
−ティングしてある。シム103は、金属製の薄板であ
って、両側端に脚片111を有していて脚片111間に
切欠状凹部112を形成されている。
シム103を挟み込むようにして両分割ヘッド101,
102を組み合わせ、分割ヘッド102及びシム103
の通孔108,113に挿通させたボルト114を分割
ヘッド101のねじ孔115に螺合させ、ボルト114
を強く締め付けることによって図4のような塗布ヘッド
55a,55bが構成されている。こうして組み立てら
れた塗布ヘッド55a,55bにおいては、シム103
の切欠状凹部112によって分割ヘッド101,102
の内壁面間に塗布液整形用のスロット116が形成さ
れ、スロット116の下端は塗布ヘッド55a,55b
下面でノズル口117として開口し、流体リザーバ10
4の開口はスロット116の上端部に臨み、スロット1
16内部と連通している。
布液12a,12bを供給するための塗布液供給手段を
示す図である。各塗布液12a,12bはそれぞれ気密
型のタンク119a,119b内に溜められており、塗
布ヘッド55a,55bの塗布液注入口105とタンク
119a,119b内下部との間は液供給パイプ121
によって接続されており、液供給パイプ121には開閉
弁122と流量調整バルブ123が設けられている。あ
るいは、流量調整バルブ123に代えて、ポンプ120
の排気側にエアーレギュレータ124を設けてもよい。
タンク119a,119b内はポンプ120によって加
圧されているので、開閉弁122を開閉することによ
り、各塗布液12a,12bの塗布を開始させ、あるい
は、停止させることができる。また、塗布液12a,1
2bの塗布ヘッド55a,55bへの供給量は、流量調
整バルブ123もしくはエアーレギュレータ124によ
って調整することができる。しかして、開閉弁122を
開成すると、タンク119a,119b内の塗布液12
a,12bが塗布液注入口105から流体リザーバ10
4内に供給され、塗布液12a,12bが流体リザーバ
104内に充満して流体リザーバ104内の全幅に広が
る。さらに、塗布液12a,12bは供給圧によって流
体リザーバ104からスロット116内へ流れ出し、ス
ロット116で均一な膜厚に整えられて下端のノズル口
117から均一な膜厚の塗布液12a,12bとして流
出し、塗布対象物11の表面に成膜される。ここで、塗
布液12の流量と塗布対象物11の送り速度との間には
一定の関係があり、塗布対象物11の送り速度は塗布液
12の流量(吐出速度)よりも大きくなっている。この
ため、ノズル口117から吐出された均一な膜厚の塗布
液12は塗布対象物11の表面へ塗布される際に薄く引
き延され、スロット116で付与された膜厚よりもさら
に薄い膜厚の塗膜が塗布対象物11の表面に形成され
る。
排出口106は、液排出パイプ127により回収用タン
ク128に接続されており、液排出パイプ127には開
閉弁125及び流量調整バルブ126が設けられてい
る。しかして、ポンプ124を稼働させた状態で開閉弁
125を開くと、塗布液排出口106から流体リザーバ
104内の塗布液12a,12bが強制的に排出され、
流体リザーバ104から排出された塗布液12a,12
bは液回収用タンク128内に回収される。また、塗布
液12a,12bの排出速度は流量調整バルブ126に
よって調整することができる。これによって、流体リザ
ーバ104内の両端部における塗布液12a,12bの
液圧が低くなるので、スロット116の中央部で圧力損
失が発生することによって実質的に液圧の分布はほぼ均
一となり、塗布液排出口106からの塗布液12a,1
2bの排出速度を調整することにより、塗布ヘッド55
a,55bから塗布対象物11の表面に塗布される塗膜
の膜厚を幅方向にわたって均一にすることができる。
られている各塗布ヘッド乾燥防止器91a,91bの構
造を図8に示す。この塗布ヘッド乾燥防止器91a,9
1bは、一対の回動アーム92間に乾燥防止用ビーム9
3を架設したものであって、乾燥防止用ビーム93の上
面には塗布ヘッド55a,55bのノズル口117を納
めるための断面V字状をした湿潤化溝94が凹設されて
おり、湿潤化溝94の底面には1個ないし複数個の吹出
し口95が設けられている。この塗布ヘッド乾燥防止器
91a,91bは、回動アーム92の基端部を乾燥防止
器支持部96によって回動自在に支持されており、塗布
ヘッド乾燥防止器91a,91bは略180度の角度で
回動できるようになっている。また、塗布ヘッド乾燥防
止器91a,91bの各吹出し口95と密閉タンク97
とはフレキシブルチューブ98によって接続されてお
り、密閉タンク97内にはシンナー等の有機溶剤100
を溜めた容器99が納められ、密閉タンク97内にはエ
アが送り込まれている。しかして、密閉タンク97内に
エアを送り込むと、容器99内の有機溶剤100から揮
発した気化ガスがエアに乗って塗布ヘッド乾燥防止器9
1a,91bへ搬送され、吹出し口95から有機溶剤1
00の気化ガスが吹出される。従って、待機中の塗布ヘ
ッド55a,55bのノズル口117を塗布ヘッド乾燥
防止器91a,91bで覆っておくことにより、塗布液
12a,12bの乾燥を防止することができる。
塗布装置Aによる塗布動作を示す説明図である。まず、
塗布対象物11がテーブル24上に供給されると、塗布
対象物11はテーブル24に吸着され、テーブル24の
上面に固定される。図9(a)に示すように、テーブル
24に固定された塗布対象物11が送り機構部21によ
って測定ヘッド81の下方へ送られてくると、測定ヘッ
ド81によって塗布対象物11の板厚(あるいは、板厚
のばらつき)が計測される。板厚が計測されると、塗布
ヘッド55a,55bの下降位置が決められ、塗布ヘッ
ド55a,55bを当該位置に停止させるための各スト
ッパーロッド65の突出長が演算される。ついで、各リ
ニアアクチュエータ61のストッパーロッド65が演算
量だけ突出すると共に、エアシリンダ57a,57bの
出力軸58が引っ込んで両塗布ヘッド55a,55bが
下降し、下降した塗布ヘッド55a,55bがストッパ
ーロッド65によって静止させられ、図9(b)に示す
ように、塗布ヘッド55a,55bのノズル口117が
塗布対象物11の表面とそれぞれ微小距離を隔てて対向
する位置で位置決めされる。塗布対象物11の塗布開始
点がノズル口117に達すると、各々の塗布ノズル55
a,55bについて、開閉弁122,125を開いて流
体リザーバ104内に塗布液12a,12bを供給する
と同時に流体リザーバ104内の塗布液12a,12b
の一部を塗布液排出口106から回収し、各スロット1
16により一定の膜厚に整えられた塗布液12a,12
bをノズル口117から流出させ、定速で送られている
塗布対象物11の表面に塗布液12a,12bをコーテ
ィングする。すなわち、図9(c)に示すように、塗布
対象物11の表面に1層目の塗布液12aが塗布され、
続けて1層目の塗布液12aの上に2層目の塗布液12
bが塗布される。このとき、塗布ヘッド55bは1層目
の塗膜に接触することなく、スロット116によって一
定の膜厚に調整された塗布液12aを1層目の塗布液1
2aの上に載せるだけであるので、湿潤な塗布液12
a,12b同志でも混じり合ったりせず、1層目の塗膜
が押し潰されたりすることもなく、均一な2層塗膜を得
ることができる。こうして、塗布終了すると、図9
(d)に示すように、再び塗布ヘッド55a,55bが
エアシリンダ57a,57bによって上昇させられ、テ
ーブル24上の塗布対象物11は着脱ピンによってテー
ブル24から剥離され、搬出される。
5a,55bを同時に用いたが、図10(a)(b)に
示すように、塗布ヘッド55aもしくは55bのうちい
ずれか一方の塗布ヘッドのみを降下させて塗布動作させ
れば、塗布液12aもしくは12bのうちいずれか一方
の塗布液のみを塗布対象物11に塗布させることもでき
る。よって、塗布液の種類を変更する際には、塗布ヘッ
ド55a,55bの洗浄等の段取り替え作業を省くこと
ができる。さらに、1層目の塗布液12aを塗布対象物
11に塗布し、乾燥させた後、乾燥した1層目の塗膜の
上に2層目の塗布液12bを塗布すれば、2回の工程に
分けて2層塗膜を形成することができる。
によって塗布された塗膜をフォトリソグラフィー技術を
用いて所定パタ−ンに形成するための塗布ラインBを示
す概略平面図であって、洗浄機131、流体塗布装置
A、プリベーク装置132、マスクアライナ133、現
像・リンス処理装置134、ポストベーク装置135が
環状に配置されており、塗布対象物11の搬入・出位置
にはローダ136及びアンローダ137が設置されてい
る。しかして、例えば、塗布対象物11にフォトレジス
ト等の塗布液12a,12bを2色塗りする場合には、
ローダ136によって塗布対象物11を洗浄機131に
送り、塗布対象物11の表面を溶剤や純水等によって洗
浄し、表面の塵やほこりを除く。ついで、図9に示した
ようにして塗布対象物11の表面に塗布液12a及び1
2bを塗布する。塗布した塗布液12a,12bはプリ
ベーク装置132によってプリベークして乾燥させた
後、マスクアライナ133により所定パターンに露光処
理する。この後、露光された塗膜を現像・リンス処理装
置134により現像及びリンスし、1層目及び2層目の
塗膜を所定パターンにパターニングし、ポストベーク装
置135によってポストベーキングして硬化させる。こ
うして、処理が終了すると、塗布対象物11はアンロー
ダ137によって外部へ搬出される。
ッチングパターンが異なる場合には、まず、洗浄機13
1で洗浄された塗布対象物11に流体塗布装置Aの塗布
ヘッド55aによって1層目の塗布液12aを塗り、プ
リベークした後、マスクアライナ133及び現像・リン
ス処理装置134で1層目の塗膜をパターニングし、さ
らにポストベークする。こうして1層目の塗膜を形成さ
れた塗布対象物11を再び洗浄機131で洗浄した後、
流体塗布装置Aの塗布ヘッド55bによって1層目の塗
膜の上に2層目の塗布液12bを塗布する。ついで、こ
の塗布対象物11をプリベークした後、マスクアライナ
133及び現像・リンス処理装置134により2層目の
塗膜をパターニングし、ポストベークして2層目の塗膜
を乾燥させ、アンローダ137によって外部へ搬出す
る。ここでは、流体塗布装置Aが2個の塗布ヘッド55
a,55bを備え、各塗布ヘッド55a,55bによっ
て塗布対象物11の表面に2層の塗膜を形成する場合に
ついて説明したが、塗布ヘッドを4個設け、各塗布ヘッ
ドによりブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フ
ィルタ、青色フィルタを形成するようにすれば、コンパ
クトなカラー液晶表示パネル製造工程の一部を構成する
ことができる。
実施例に限定されるものでなく、上記実施例以外にも種
々の実施例が可能である。例えば、上記実施例では、水
平に搬送されている塗布対象物の上面に塗布液を塗布す
る構造としているが、塗布対象物の下面側や側面側に塗
布ヘッドを配置し、塗布対象物の下面や側面に塗布液を
塗布するようにしてもよい。また、塗布対象物の両面に
それぞれ塗布ヘッドを配置し、塗布対象物の例えば上面
及び下面に同時に塗布液を塗布するようにしても差し支
えない。また塗布対象物の種類も特に限定されるもので
なく、特に表面が平滑なものに限らず、銅パターン配線
を形成されたプリント配線基板などの塗布対象物であっ
ても本発明の流体塗布装置を用いることができる。塗布
する流体の種類も液体に限るものでなく、スラリー、粉
体、液体エマルジョンなど流動性を有するものであれば
差し支えない。
流体を供給しておけば、使用する塗布ヘッドを選択する
ことにより塗膜の種類を簡単に変更することができる。
従って、流体の種類を変更する度に塗布ヘッドを洗浄す
る手間が省け、流体の種類変更の際の段取り替えの手間
を省くことができる。また、2個以上の塗布ヘッドを備
えているので、塗布対象物の表面へ順次異なる塗布ヘッ
ドから異なる流体を塗布することにより流体の多重塗り
や多色塗りも可能になる。
ト法による塗布方式の塗布ヘッドであって、スピンコー
タやロールコータ等のように塗布対象物の表面で流体の
膜厚を所望の厚みに揃えるものでなく、塗布ヘッド内の
スロットで一定の膜厚に整えた流体を塗布対象物の表面
へ供給するものであるので、流体を重ね塗りしても塗膜
の品質を損ねることがなく、良好な品質の多重塗膜を得
ることができる。
塗りが可能になるので、例えばカラー液晶表示パネル向
けのような多重塗りのための設備を簡略にすることがで
き、設備コストを低廉にすることができる。また、塗布
設備を集約化できるので、設置スペースもコンパクト化
でき、特に小規模ラインにおいて効果的な流体塗布装置
を製作することができる。
観斜視図である。
断面図である。
定ヘッドを示す側面図である。
である。
ある。
す概略図である。
である。
置の動作説明図である。
作を示す説明図である。
概略平面図である。
一部を示す概略平面図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 流体を注入するための流体注入口と、該
流体注入口から注入された流体を幅方向に拡散させるた
めの空洞部と、該空洞部内の流体を一定の厚みにして流
出させるためのスロットとを塗布ヘッドに形成された流
体塗布装置であって、 前記塗布ヘッドを少なくとも2個以上備えたことを特徴
とする流体塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15441293A JP3236703B2 (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 流体塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15441293A JP3236703B2 (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 流体塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06339658A true JPH06339658A (ja) | 1994-12-13 |
| JP3236703B2 JP3236703B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=15583592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15441293A Expired - Lifetime JP3236703B2 (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 流体塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3236703B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001252609A (ja) * | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Toray Ind Inc | 塗布方法および塗布装置並びにカラーフィルタの製造方法および製造装置 |
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-
1993
- 1993-05-31 JP JP15441293A patent/JP3236703B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3236703B2 (ja) | 2001-12-10 |
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