JPH063419B2 - パタ−ン検知装置 - Google Patents
パタ−ン検知装置Info
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- JPH063419B2 JPH063419B2 JP3589087A JP3589087A JPH063419B2 JP H063419 B2 JPH063419 B2 JP H063419B2 JP 3589087 A JP3589087 A JP 3589087A JP 3589087 A JP3589087 A JP 3589087A JP H063419 B2 JPH063419 B2 JP H063419B2
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- linear light
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 本発明は、ブラックライン照明方式を用いたパターン検
知装置において、ブラックライン内への漏入光による悪
影響をなくし、光反射率の高いパターンに対しても正確
なパターン検知を可能にするために、ブラックライン照
明系内に補助的な線状遮光体を新たに配置することで、
上記漏入光を除去するようにしたものである。
知装置において、ブラックライン内への漏入光による悪
影響をなくし、光反射率の高いパターンに対しても正確
なパターン検知を可能にするために、ブラックライン照
明系内に補助的な線状遮光体を新たに配置することで、
上記漏入光を除去するようにしたものである。
本発明は、例えばプリント板の配線パターン等の被検知
パターンをブラックライン照明方式によって検知するパ
ターン検知装置に関する。
パターンをブラックライン照明方式によって検知するパ
ターン検知装置に関する。
各種の被検知パターンの中でも、特に上記配線パターン
は年々微細化してきており、より高精度かつ高信頼性の
パターン検知装置の開発が強く要求されている。
は年々微細化してきており、より高精度かつ高信頼性の
パターン検知装置の開発が強く要求されている。
ブラックライン照明方式を用いて配線パターンを検知す
る、従来のパターン検知装置を第２図に示す。同図中の
プリント板１には、ポリイミドやエポキシ等の樹脂でで
きた基材部１ａ上に、これとは光拡散性（すなわち入射
光が物体表面で完全に反射されずに物体内部へ拡散して
いく性質）の異なる材料である銅箔等でできた導体部１
ｂによって配線パターンが形成されている。
る、従来のパターン検知装置を第２図に示す。同図中の
プリント板１には、ポリイミドやエポキシ等の樹脂でで
きた基材部１ａ上に、これとは光拡散性（すなわち入射
光が物体表面で完全に反射されずに物体内部へ拡散して
いく性質）の異なる材料である銅箔等でできた導体部１
ｂによって配線パターンが形成されている。
上記配線パターンを検知するには、まず線状光源２の光
を、線状遮光体３を介しブラックライン結像用レンズ４
によって、プリント板１の表面に結像させる。するとそ
こには、上記線状遮光体３と対応した暗黒領域であるブ
ラックラインＢと、その周囲の明部Ａとが形成される。
このとき、導体部１ｂは光拡散性が小さく、基材部１ａ
は光拡散性が大きいので、導体部１ｂ上のブラックライ
ンＢ１はそのまま保たれるが、基材部１ａ上では第５図
に示すように明部Ａからの拡散漏入光ＬＤがブラックラ
インＢ２に侵入するために、ブラックラインＢ２はほと
んど消えてしまう。すなわち、ブラックラインＢに沿っ
て、導体部１ｂ上は暗く、基材部１ａ上は明るくなり、
よってこれら両者の峻別が可能となる。
を、線状遮光体３を介しブラックライン結像用レンズ４
によって、プリント板１の表面に結像させる。するとそ
こには、上記線状遮光体３と対応した暗黒領域であるブ
ラックラインＢと、その周囲の明部Ａとが形成される。
このとき、導体部１ｂは光拡散性が小さく、基材部１ａ
は光拡散性が大きいので、導体部１ｂ上のブラックライ
ンＢ１はそのまま保たれるが、基材部１ａ上では第５図
に示すように明部Ａからの拡散漏入光ＬＤがブラックラ
インＢ２に侵入するために、ブラックラインＢ２はほと
んど消えてしまう。すなわち、ブラックラインＢに沿っ
て、導体部１ｂ上は暗く、基材部１ａ上は明るくなり、
よってこれら両者の峻別が可能となる。
そこで、そこから上方への反射光を、ミラー５，６を介
し反射光結像用レンズ７によって、ＣＣＤ等のラインセ
ンサ８の受光面上に結像させる。そして、ラインセンサ
８の検知信号（明るさレベル）を所定の閾値に基づいて
二値化することにより、導体部１ｂ上のブラックライン
Ｂ１を他の部分と区別して検知することができる。
し反射光結像用レンズ７によって、ＣＣＤ等のラインセ
ンサ８の受光面上に結像させる。そして、ラインセンサ
８の検知信号（明るさレベル）を所定の閾値に基づいて
二値化することにより、導体部１ｂ上のブラックライン
Ｂ１を他の部分と区別して検知することができる。
以上のような検知をプリント板１の全面について行え
ば、導体部１ｂの全体のパターン（配線パターン）を検
知することができる。
ば、導体部１ｂの全体のパターン（配線パターン）を検
知することができる。
上記従来のパターン検知装置におけるブラックライン照
明系では、線状遮光体３内の光透過、ブラックライン結
像用レンズ４のフレア、及び光の回折等の影響により、
第３図に示すように、照明光Ｌ内のブラックライン領域
ＬＢに、明領域ＬＡの光が例えば１〜２％程度漏入し、
その漏入光ＬＡ′の影響で、ブラックラインＢ１を完全
に暗黒にすることができなかった。例えば、ブラックラ
インＢ１の両側の明部Ａの程度が100万ルクス程度の場
合、ブラックラインＢ１の照度は１〜２万ルクスにもな
った そのため、以下のような問題が生じた。例えば導体部１
ｂの表面が粗化されたものや、種々の処理によりくすん
だもの、あるいは酸化されたものでは、その表面の光反
射率が比較的低くなっているが、そのような表面に傷等
ができた場合、その部分に上記の粗化や酸化のされてい
ない面が露出されるため、その箇所は他の部分よりも光
反射率が極めて高くなる。すると、その箇所がブラック
ラインＢ１内であるにもかかわらず、その箇所で上記の
漏入光ＬＡ′が反射され、検知系によって明部Ａとして
検知されてしまった。例えば第４図(a)に示すように、
ランド等の導体部１ｂの一部に光反射率の極めて高い部
分１ｂ′が存在する場合、検知して得られるパターン
（検知パターン）は、上記光反射率の高い部分１ｂ′と
対応する部分が第４図(b)に示すように欠けてしまうと
いう現象が生じた。また、導体部１ｂの表面の一部又は
全部が粗化、酸化されておらず、極めて平坦で鏡面のよ
うに非常に高い光反応率を持つものでは、たとえその表
面に傷等がなくとも、その光反射率の高い表面が第４図
の傷部分（光反射率の極めて高い部分１ｂ′）と同様に
欠け又は基材部１ａとして検知されてしまい、基材部１
ａと導体部１ｂの識別が不可能になってしまう。
明系では、線状遮光体３内の光透過、ブラックライン結
像用レンズ４のフレア、及び光の回折等の影響により、
第３図に示すように、照明光Ｌ内のブラックライン領域
ＬＢに、明領域ＬＡの光が例えば１〜２％程度漏入し、
その漏入光ＬＡ′の影響で、ブラックラインＢ１を完全
に暗黒にすることができなかった。例えば、ブラックラ
インＢ１の両側の明部Ａの程度が100万ルクス程度の場
合、ブラックラインＢ１の照度は１〜２万ルクスにもな
った そのため、以下のような問題が生じた。例えば導体部１
ｂの表面が粗化されたものや、種々の処理によりくすん
だもの、あるいは酸化されたものでは、その表面の光反
射率が比較的低くなっているが、そのような表面に傷等
ができた場合、その部分に上記の粗化や酸化のされてい
ない面が露出されるため、その箇所は他の部分よりも光
反射率が極めて高くなる。すると、その箇所がブラック
ラインＢ１内であるにもかかわらず、その箇所で上記の
漏入光ＬＡ′が反射され、検知系によって明部Ａとして
検知されてしまった。例えば第４図(a)に示すように、
ランド等の導体部１ｂの一部に光反射率の極めて高い部
分１ｂ′が存在する場合、検知して得られるパターン
（検知パターン）は、上記光反射率の高い部分１ｂ′と
対応する部分が第４図(b)に示すように欠けてしまうと
いう現象が生じた。また、導体部１ｂの表面の一部又は
全部が粗化、酸化されておらず、極めて平坦で鏡面のよ
うに非常に高い光反応率を持つものでは、たとえその表
面に傷等がなくとも、その光反射率の高い表面が第４図
の傷部分（光反射率の極めて高い部分１ｂ′）と同様に
欠け又は基材部１ａとして検知されてしまい、基材部１
ａと導体部１ｂの識別が不可能になってしまう。
このように、上記従来のパターン検知装置では、被検知
パターンに光反射率の極めて高い部分が存在する場合、
ブラックライン内への漏入光の影響で正確なパターン検
知が不可能になるという問題点があった。
パターンに光反射率の極めて高い部分が存在する場合、
ブラックライン内への漏入光の影響で正確なパターン検
知が不可能になるという問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑み、漏入光による悪影響等を
なくし、光反射率の高いパターンに対しても正確なパタ
ーン検知を可能にするパターン検知装置を提供すること
を目的とする。
なくし、光反射率の高いパターンに対しても正確なパタ
ーン検知を可能にするパターン検知装置を提供すること
を目的とする。
本発明のパターン検知装置は、ブラックライン照明系内
において、結像用レンズと被検知パターンとの間であっ
て、被検知パターン像に形成されたブラックラインと対
応した位置に、新たにもう１つの線状遮光体を配置した
ことを特徴とするものである。
において、結像用レンズと被検知パターンとの間であっ
て、被検知パターン像に形成されたブラックラインと対
応した位置に、新たにもう１つの線状遮光体を配置した
ことを特徴とするものである。
上記手段においては、ブラックライン照明系内に、結像
用レンズを挟んで第１、第２の線状遮光体が配置される
ことになる。すると光源から出た光は、先ず第１の線状
遮光体を介して結像用レンズを通過することにより、第
３図に示したような照明光Ｌ（明領域ＬＡ、ブラックラ
イン領域ＬＢ）内には、上述したように明領域ＬＡから
の漏入光ＬＡ′が存在する。ところが本発明では、上記
結像用レンズの後に第２の線状遮光体がブラックライン
に対応して配置されているので、上記照明光Ｌのブラッ
クライン領域ＬＢは上記第２の線状遮光体によって遮光
される。この時、ブラックライン領域ＬＢ内の上記漏入
光ＬＡ′が除去され、被検知パターン上には漏入光を殆
ど含まない暗黒のブラックラインが形成される。
用レンズを挟んで第１、第２の線状遮光体が配置される
ことになる。すると光源から出た光は、先ず第１の線状
遮光体を介して結像用レンズを通過することにより、第
３図に示したような照明光Ｌ（明領域ＬＡ、ブラックラ
イン領域ＬＢ）内には、上述したように明領域ＬＡから
の漏入光ＬＡ′が存在する。ところが本発明では、上記
結像用レンズの後に第２の線状遮光体がブラックライン
に対応して配置されているので、上記照明光Ｌのブラッ
クライン領域ＬＢは上記第２の線状遮光体によって遮光
される。この時、ブラックライン領域ＬＢ内の上記漏入
光ＬＡ′が除去され、被検知パターン上には漏入光を殆
ど含まない暗黒のブラックラインが形成される。
従って、被検知パターンに光反射率の極めて高い部分が
存在する場合であっても、ブラックライン内から反射さ
れる漏入光は極めて少なくなり、よって検知されるパタ
ーンは非常に正確なものとなる。
存在する場合であっても、ブラックライン内から反射さ
れる漏入光は極めて少なくなり、よって検知されるパタ
ーンは非常に正確なものとなる。
〔実 施 例〕 以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は、本発明の一実施例における光学系を示す構成
図である。本実施例は、第２図の構成におけるブラック
ライン結像用レンズ４とプリント板１との間に、新たに
もう１つの線状遮光体９を設けたものである。しかも線
状遮光体９は、プリント板１上に形成されるブラックラ
インＢと対応した位置に配置してある。
図である。本実施例は、第２図の構成におけるブラック
ライン結像用レンズ４とプリント板１との間に、新たに
もう１つの線状遮光体９を設けたものである。しかも線
状遮光体９は、プリント板１上に形成されるブラックラ
インＢと対応した位置に配置してある。
上記構成において、まず線状光源２からの光は、線状遮
光体３を介してブラックライン結像用レンズ４を通過
し、更にもう１つの線状遮光体９を介してプリント板１
上に結像される。
光体３を介してブラックライン結像用レンズ４を通過
し、更にもう１つの線状遮光体９を介してプリント板１
上に結像される。
この時、ブラックライン結像用レンズ４を出た照明光Ｌ
は、第３図に示したように明領域ＬＡとブラックライン
領域ＬＢとからなっており、ブラックライン領域ＬＢ内
には明領域ＬＡからの漏入光ＬＡ′が存在している。と
ころが、ブラックライン領域ＬＢは、プリント板１に到
達する直前に線状遮光体９によって遮光されるため、上
記漏入光ＬＡ′が除去される。従って、プリント板１上
には、漏入光をほとんど含まない（従来の１／２以下）
暗黒のブラックラインＢと、その周囲の明部Ａとが形成
される。
は、第３図に示したように明領域ＬＡとブラックライン
領域ＬＢとからなっており、ブラックライン領域ＬＢ内
には明領域ＬＡからの漏入光ＬＡ′が存在している。と
ころが、ブラックライン領域ＬＢは、プリント板１に到
達する直前に線状遮光体９によって遮光されるため、上
記漏入光ＬＡ′が除去される。従って、プリント板１上
には、漏入光をほとんど含まない（従来の１／２以下）
暗黒のブラックラインＢと、その周囲の明部Ａとが形成
される。
このようにして得られた明部ＡおよびブラックラインＢ
からの反射光は、第２図と同様に、ミラー５、６を介し
反射光結像用レンズ７によって、ラインセンサ８の受光
面上に結像される。ラインセンサ８の検知信号は、所定
の閾値に基づいて二値化されることにより、導体部１ｂ
上のブラックラインＢ１が他の部分と区別して検知され
る。
からの反射光は、第２図と同様に、ミラー５、６を介し
反射光結像用レンズ７によって、ラインセンサ８の受光
面上に結像される。ラインセンサ８の検知信号は、所定
の閾値に基づいて二値化されることにより、導体部１ｂ
上のブラックラインＢ１が他の部分と区別して検知され
る。
この時、上記ブラックライン領域ＬＢから漏入光ＬＡ′
が既に除去されているので、導体部１ｂに第４図(a)の
ような光反射率の極めて高い部分１ｂ′が存在する場合
であっても、ブラックラインＢ１内から検知系へ反射さ
れる漏入光は極めて少なくなる。従って、ラインセンサ
８の検出信号を二値化して得られる検知パターンには、
第４図(b)のような欠けが生じるようなことはなくな
り、非常に正確なパターン検知が可能になる。
が既に除去されているので、導体部１ｂに第４図(a)の
ような光反射率の極めて高い部分１ｂ′が存在する場合
であっても、ブラックラインＢ１内から検知系へ反射さ
れる漏入光は極めて少なくなる。従って、ラインセンサ
８の検出信号を二値化して得られる検知パターンには、
第４図(b)のような欠けが生じるようなことはなくな
り、非常に正確なパターン検知が可能になる。
なお、線状遮光体３，９は、光を遮断できる線状の不透
明体であればどのようなものであってもよく、これらの
幅は互いにほぼ同一であることが望ましい。また、線状
遮光体９の位置は、プリント板１から数mmの高さが適当
である。更に、線状遮光体９をブラックラインＢと対応
する位置に正確に合わせることができるように、線状遮
光体９に対して位置の微調整手段を設けてもよい。
明体であればどのようなものであってもよく、これらの
幅は互いにほぼ同一であることが望ましい。また、線状
遮光体９の位置は、プリント板１から数mmの高さが適当
である。更に、線状遮光体９をブラックラインＢと対応
する位置に正確に合わせることができるように、線状遮
光体９に対して位置の微調整手段を設けてもよい。
また、上記実施例ではプリント板上の配線パターンの検
知について説明したが、本発明はこれに限らず、基材部
とは光拡散性の異なる材料からなる各種のパターンの検
知に適用できる。なお、被検知パターンの光拡散性が基
材部よりも大きい場合、上記実施例の場合とは逆に、ブ
ラックラインＢが被検知パターン上で明るく基材部上で
暗くなるが、これら明暗の違いにより両者を識別可能な
ので、本発明を上記実施例の場合と同様に適用可能であ
る。
知について説明したが、本発明はこれに限らず、基材部
とは光拡散性の異なる材料からなる各種のパターンの検
知に適用できる。なお、被検知パターンの光拡散性が基
材部よりも大きい場合、上記実施例の場合とは逆に、ブ
ラックラインＢが被検知パターン上で明るく基材部上で
暗くなるが、これら明暗の違いにより両者を識別可能な
ので、本発明を上記実施例の場合と同様に適用可能であ
る。
本発明のパターン検知装置によれば、ブラックライン内
の漏入光を除去して、光反射率の極めて高いパターンに
対しても非常に正確なパターン検知を行うことが可能に
なる。
の漏入光を除去して、光反射率の極めて高いパターンに
対しても非常に正確なパターン検知を行うことが可能に
なる。
第１図は本発明の一実施例における光学系を示す構成
図、 第２図は従来のパターン検知装置における光学系を示す
構成図、 第３図は第２図におけるブラックライン結像部分を示す
拡大図、 第４図(a),(b)はそれぞれ、原配線パターンと、漏入光
ＬＡ′の影響を受けた検知パターンを示す図、 第５図は基材部１ａでの拡散漏入光ＬＤの作用を示す図
である。 ２・・・線状光源、 ３・・・線状遮光体、 ４・・・ブラックライン結像用レンズ、 ９・・・線状遮光体、 Ｂ・・・ブラックライン。
図、 第２図は従来のパターン検知装置における光学系を示す
構成図、 第３図は第２図におけるブラックライン結像部分を示す
拡大図、 第４図(a),(b)はそれぞれ、原配線パターンと、漏入光
ＬＡ′の影響を受けた検知パターンを示す図、 第５図は基材部１ａでの拡散漏入光ＬＤの作用を示す図
である。 ２・・・線状光源、 ３・・・線状遮光体、 ４・・・ブラックライン結像用レンズ、 ９・・・線状遮光体、 Ｂ・・・ブラックライン。
Claims (3)
- 【請求項１】基材部上に該基材部とは光拡散性の異なる
材料からなる被検知パターンを有する被検知対象面上
に、光源（２）からの光を線状遮光体（３）を介し結像
用レンズ（４）で結像することによって、前記被検知対
象面上に前記線状遮光体に対応したブラックライン
（Ｂ）を形成するブラックライン照明系と、 前記照明に伴う前記被検知対象面からの反射光を検知す
る反射光検知系とを備えるパターン検知装置において、 前記ブラックライン照明系内の前記結像用レンズ（４）
と前記被検知対象面との間であって、前記ブラックライ
ン（Ｂ）に対応した位置に、もう１つの線状遮光体
（９）を配置したことを特徴とするパターン検知装置。 - 【請求項２】前記線状遮光体（３）と前記もう１つの線
状遮光体（９）とは略同一の幅を有することを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のパターン検知装置。 - 【請求項３】前記もう１つの線状遮光体（９）は、前記
被検知パターンから数mmの高さに配置されることを特徴
とする特許請求の範囲第１項または第２項記載のパター
ン検知装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3589087A JPH063419B2 (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | パタ−ン検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3589087A JPH063419B2 (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | パタ−ン検知装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63205547A JPS63205547A (ja) | 1988-08-25 |
| JPH063419B2 true JPH063419B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=12454615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3589087A Expired - Lifetime JPH063419B2 (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | パタ−ン検知装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063419B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001311693A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Nitto Kogyo Co Ltd | 検査装置 |
| JP4522570B2 (ja) * | 2000-11-06 | 2010-08-11 | イビデン株式会社 | パターン検査用照明装置 |
| JP2017207126A (ja) | 2016-05-18 | 2017-11-24 | 株式会社ジェイテクト | 自在継手ヨークおよびインターミディエイトシャフト |
-
1987
- 1987-02-20 JP JP3589087A patent/JPH063419B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63205547A (ja) | 1988-08-25 |
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