JPH06342779A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH06342779A JPH06342779A JP15615393A JP15615393A JPH06342779A JP H06342779 A JPH06342779 A JP H06342779A JP 15615393 A JP15615393 A JP 15615393A JP 15615393 A JP15615393 A JP 15615393A JP H06342779 A JPH06342779 A JP H06342779A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄処理と並行して搬送する筐体へのパーテ
ィクル等の塵埃の付着を確実に防止する洗浄装置を提供
する。 【構成】 本洗浄装置は、半導体ウエハを洗浄する際
に、半導体ウエハの取り出された空のカセットＣを半導
体ウエハの洗浄と並行してカセット搬送機構３０により
搬送するもので、上記カセット搬送機構３０は、カセッ
トＣを載せる第１カセット台３１と、このこのカセット
台３１を搬送路３２に沿って往復移動させる搬送駆動機
構３３と、この搬送駆動機構３３及び搬送路３２を区画
し且つこれら両者を搬送路３２に沿って包囲するカバー
３４とを備え、このカバー３４に、その外部から内部に
空気を吸引する吸引口３４Ａを設けると共にその内部の
空気を外部へ排気するスリット３５Ａ、３５Ｂを設
け、、更に両スリット３５Ａ、３５Ｂからの空気を外部
へ排出する排気路を設けて構成されたものである。
ィクル等の塵埃の付着を確実に防止する洗浄装置を提供
する。 【構成】 本洗浄装置は、半導体ウエハを洗浄する際
に、半導体ウエハの取り出された空のカセットＣを半導
体ウエハの洗浄と並行してカセット搬送機構３０により
搬送するもので、上記カセット搬送機構３０は、カセッ
トＣを載せる第１カセット台３１と、このこのカセット
台３１を搬送路３２に沿って往復移動させる搬送駆動機
構３３と、この搬送駆動機構３３及び搬送路３２を区画
し且つこれら両者を搬送路３２に沿って包囲するカバー
３４とを備え、このカバー３４に、その外部から内部に
空気を吸引する吸引口３４Ａを設けると共にその内部の
空気を外部へ排気するスリット３５Ａ、３５Ｂを設
け、、更に両スリット３５Ａ、３５Ｂからの空気を外部
へ排出する排気路を設けて構成されたものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程では半導体装置の機能を
損なわないように半導体ウエハへのパーティクル等の汚
染物質の付着を最大限防止するとが重要であり、従来か
ら半導体ウエハの各処理工程で種々の汚染防止対策が講
じられている。特に洗浄装置は被処理体（例えば半導体
ウエハ）表面のパーティクル、有機汚染物、あるいは金
属不純物などのコンタミネーションを除去する目的で半
導体装置の製造工程において随所で反復して用いられて
いる。特にウェット洗浄装置はパーティクルを効果的に
除去できると共にバッチ処理ができるため重要な洗浄手
段として現在広く普及している。
損なわないように半導体ウエハへのパーティクル等の汚
染物質の付着を最大限防止するとが重要であり、従来か
ら半導体ウエハの各処理工程で種々の汚染防止対策が講
じられている。特に洗浄装置は被処理体（例えば半導体
ウエハ）表面のパーティクル、有機汚染物、あるいは金
属不純物などのコンタミネーションを除去する目的で半
導体装置の製造工程において随所で反復して用いられて
いる。特にウェット洗浄装置はパーティクルを効果的に
除去できると共にバッチ処理ができるため重要な洗浄手
段として現在広く普及している。
【０００３】このような洗浄装置は、通常、所定枚数の
半導体ウエハをカセット単位でロードするロード機構
と、このロード機構によってロードされたカセットから
半導体ウエハを所定枚数ずつ搬送するウエハ搬送機構及
び空のカセットを搬送するカセット搬送機構と、上記ウ
エハ搬送機構によって搬送された複数の半導体ウエハを
それぞれアルカリ処理、水洗処理及び酸処理などにより
一括して洗浄するように順次配列された複数種の洗浄処
理槽と、各洗浄処理槽によって洗浄された半導体ウエハ
をアンロードするアンロード機構とを備えて構成されて
いる。
半導体ウエハをカセット単位でロードするロード機構
と、このロード機構によってロードされたカセットから
半導体ウエハを所定枚数ずつ搬送するウエハ搬送機構及
び空のカセットを搬送するカセット搬送機構と、上記ウ
エハ搬送機構によって搬送された複数の半導体ウエハを
それぞれアルカリ処理、水洗処理及び酸処理などにより
一括して洗浄するように順次配列された複数種の洗浄処
理槽と、各洗浄処理槽によって洗浄された半導体ウエハ
をアンロードするアンロード機構とを備えて構成されて
いる。
【０００４】また、洗浄装置には半導体ウエハ及びカセ
ットを搬送するために種々の駆動機構が設けられてい
る。これらの駆動機構にはパーティクルの発生を抑制す
る対策が講じられているものの、これらの駆動機構から
のパーティクルの発生は皆無とは言えず、そのため、洗
浄装置内の空間には要所要所で清浄な空気を流して半導
体ウエハ及びカセットにパーティクル等の汚染物質が付
着しないようにしている。
ットを搬送するために種々の駆動機構が設けられてい
る。これらの駆動機構にはパーティクルの発生を抑制す
る対策が講じられているものの、これらの駆動機構から
のパーティクルの発生は皆無とは言えず、そのため、洗
浄装置内の空間には要所要所で清浄な空気を流して半導
体ウエハ及びカセットにパーティクル等の汚染物質が付
着しないようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
洗浄装置の場合には、空のカセットを搬送するカセット
搬送機構などに駆動機構が用いられているため、その駆
動機構から発生したパーティクル等の塵埃がカセットの
搬送路内に進入して浮遊し、搬送路の内部を移動するカ
セットに浮遊した塵埃が付着し、このカセットに洗浄後
の半導体ウエハを収納すると、カセットに付着した塵埃
で洗浄後の半導体ウエハを汚染するという課題があっ
た。
洗浄装置の場合には、空のカセットを搬送するカセット
搬送機構などに駆動機構が用いられているため、その駆
動機構から発生したパーティクル等の塵埃がカセットの
搬送路内に進入して浮遊し、搬送路の内部を移動するカ
セットに浮遊した塵埃が付着し、このカセットに洗浄後
の半導体ウエハを収納すると、カセットに付着した塵埃
で洗浄後の半導体ウエハを汚染するという課題があっ
た。
【０００６】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、洗浄処理と並行して搬送する筐体へのパー
ティクル等の塵埃の付着を防止する洗浄装置を提供する
ことを目的としている。
れたもので、洗浄処理と並行して搬送する筐体へのパー
ティクル等の塵埃の付着を防止する洗浄装置を提供する
ことを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の洗浄装置は、被処理体を洗浄する際に、被処理体を筐
体から取り出して洗浄機構で洗浄すると共に、被処理体
の取り出された筐体を被処理体の洗浄と並行して筐体搬
送機構により搬送する洗浄装置において、上記筐体搬送
機構は、上記筐体を支承する支承体と、この支承体を搬
送路に沿って往復移動させる搬送駆動機構と、この搬送
駆動機構及び上記搬送路を区画し且つこれら両者を上記
搬送路に沿って包囲する包囲体とを備え、上記包囲体
に、その外部からその内部に空気を吸引する吸引口を設
けると共に上記その内部の空気を外部へ排気する排気口
を設け、更にこの排気口からの空気を外部へ排出する排
気路を設けて構成されたものである。
の洗浄装置は、被処理体を洗浄する際に、被処理体を筐
体から取り出して洗浄機構で洗浄すると共に、被処理体
の取り出された筐体を被処理体の洗浄と並行して筐体搬
送機構により搬送する洗浄装置において、上記筐体搬送
機構は、上記筐体を支承する支承体と、この支承体を搬
送路に沿って往復移動させる搬送駆動機構と、この搬送
駆動機構及び上記搬送路を区画し且つこれら両者を上記
搬送路に沿って包囲する包囲体とを備え、上記包囲体
に、その外部からその内部に空気を吸引する吸引口を設
けると共に上記その内部の空気を外部へ排気する排気口
を設け、更にこの排気口からの空気を外部へ排出する排
気路を設けて構成されたものである。
【０００８】また、本発明の請求項２に記載の洗浄装置
は、請求項１に記載の発明において、上記搬送路内で帯
電した静電気を除去する除電手段を設けて構成されたも
のである。
は、請求項１に記載の発明において、上記搬送路内で帯
電した静電気を除去する除電手段を設けて構成されたも
のである。
【０００９】
【作用】本発明の請求項１に記載の発明によれば、被処
理体の洗浄と並行して筐体搬送機構で筐体を搬送する
際、包囲体の吸引口から搬送路内へ外部の空気を吸引
し、この空気を排気口、排気路を介して外部へ排気する
ことによって搬送路内に空気流を形成し、この空気流に
より搬送路内に進入するパーティクル等の塵埃を外部へ
除去することができ、しかも筐体に塵埃が付着してもこ
の空気流によってその塵埃を吹き飛ばし、塵埃の筐体へ
の付着を防止することができる。
理体の洗浄と並行して筐体搬送機構で筐体を搬送する
際、包囲体の吸引口から搬送路内へ外部の空気を吸引
し、この空気を排気口、排気路を介して外部へ排気する
ことによって搬送路内に空気流を形成し、この空気流に
より搬送路内に進入するパーティクル等の塵埃を外部へ
除去することができ、しかも筐体に塵埃が付着してもこ
の空気流によってその塵埃を吹き飛ばし、塵埃の筐体へ
の付着を防止することができる。
【００１０】また、本発明の請求項２に記載の発明によ
れば、請求項１に記載の発明において、包囲体で包囲さ
れた搬送路にしたがって筐体を搬送する間に、筐体と空
気流との摩擦により筐体に静電気が帯電しても、除電手
段により筐体の静電気を除き、静電気による筐体への塵
埃の吸着を防止することができる。
れば、請求項１に記載の発明において、包囲体で包囲さ
れた搬送路にしたがって筐体を搬送する間に、筐体と空
気流との摩擦により筐体に静電気が帯電しても、除電手
段により筐体の静電気を除き、静電気による筐体への塵
埃の吸着を防止することができる。
【００１１】
【実施例】以下、図１〜図４に示す実施例に基づいて本
発明を説明する。本実施例の洗浄装置は、図１に示すよ
うに、被処理体（例えば半導体ウエハ）を筐体（例えば
カセットＣ）に収納した状態で搬入する搬入機構１０
と、この搬入機構１０から半導体ウエハＷを取り出して
洗浄処理する洗浄機構２０と、この洗浄機構２０の沿っ
てその上方に配設され且つ空になったカセットＣを搬送
するカセット搬送機構３０と、このカセット搬送機構３
０から搬送されて来たカセットＣに上記洗浄機構２０か
らの半導体ウエハを収納して外部へ搬出する搬出機構４
０とを備えて構成されている。
発明を説明する。本実施例の洗浄装置は、図１に示すよ
うに、被処理体（例えば半導体ウエハ）を筐体（例えば
カセットＣ）に収納した状態で搬入する搬入機構１０
と、この搬入機構１０から半導体ウエハＷを取り出して
洗浄処理する洗浄機構２０と、この洗浄機構２０の沿っ
てその上方に配設され且つ空になったカセットＣを搬送
するカセット搬送機構３０と、このカセット搬送機構３
０から搬送されて来たカセットＣに上記洗浄機構２０か
らの半導体ウエハを収納して外部へ搬出する搬出機構４
０とを備えて構成されている。
【００１２】上記搬入機構１０は、搬入口１１から搬入
された半導体ウエハを後述するカセットリフタ１２によ
りカセット単位で受け取った後、ローダ１３でカセット
Ｃから半導体ウエハを取り出す一方、空のカセットＣを
カセットローダ１４により上記カセット搬送機構３０へ
引き渡すように構成されている。また、上記洗浄機構２
０は、例えば、薬液処理により半導体ウエハ表面の有機
汚染物、金属不純物あるいはパーティクル等の不要物質
を除去した後、水洗処理し、更に乾燥処理して上記搬出
機構４０へ半導体ウエハを引き渡すように構成されてい
る。また、また、上記搬出機構４０は、搬送されて来た
カセットＣをカセット搬送機構１４からカセットローダ
４１で受け取り、カセットリフタ４２により下方のアン
ローダ４３へ搬送し、このアンローダ４１により洗浄機
構２０の半導体ウエハをカセットＣ内に収納した後、カ
セットリフタ４２によりカセット単位で半導体ウエハを
一時的に保管４４へ保管し、その後搬出口４５から半導
体ウエハをカセット単位で適宜を搬出するように構成さ
れている。
された半導体ウエハを後述するカセットリフタ１２によ
りカセット単位で受け取った後、ローダ１３でカセット
Ｃから半導体ウエハを取り出す一方、空のカセットＣを
カセットローダ１４により上記カセット搬送機構３０へ
引き渡すように構成されている。また、上記洗浄機構２
０は、例えば、薬液処理により半導体ウエハ表面の有機
汚染物、金属不純物あるいはパーティクル等の不要物質
を除去した後、水洗処理し、更に乾燥処理して上記搬出
機構４０へ半導体ウエハを引き渡すように構成されてい
る。また、また、上記搬出機構４０は、搬送されて来た
カセットＣをカセット搬送機構１４からカセットローダ
４１で受け取り、カセットリフタ４２により下方のアン
ローダ４３へ搬送し、このアンローダ４１により洗浄機
構２０の半導体ウエハをカセットＣ内に収納した後、カ
セットリフタ４２によりカセット単位で半導体ウエハを
一時的に保管４４へ保管し、その後搬出口４５から半導
体ウエハをカセット単位で適宜を搬出するように構成さ
れている。
【００１３】そして、上記カセット搬送機構３０は、カ
セットＣを例えば２個ずつ載せた状態で搬送し、その間
に上面から清浄な空気を吸引してカセットＣに吹付けて
塵埃のカセットＣへの付着を防止すると共に帯電した静
電気を除去して塵埃のカセットＣへの付着を防止するよ
うに構成されている。即ち、このカセット搬送機構３０
は、図２に示すように、上記搬入機構１０から受け取っ
たカセットＣを支承する支承体としての第１カセット台
３１と、この第１カセット台３１を搬送路３２に沿って
往復移動させる搬送駆動機構３３と、これらを搬送路３
２に沿って搬送路３３を包囲する包囲体としてのカバー
３４とを備えて構成されている。上記第１カセット台３
１は、細長い矩形状のプレート３１Ａ、３１Ａによって
構成されている。これらのプレート３１Ａ、３１Ａ間に
は隙間が形成され、この隙間に後述する上記カセットロ
ーダ１４の第２カセット台１４Ａが後述のように進入し
てカセットＣを２個ずつ第１カセット台３１Ａ、３１Ａ
へ引き渡すように構成されている。
セットＣを例えば２個ずつ載せた状態で搬送し、その間
に上面から清浄な空気を吸引してカセットＣに吹付けて
塵埃のカセットＣへの付着を防止すると共に帯電した静
電気を除去して塵埃のカセットＣへの付着を防止するよ
うに構成されている。即ち、このカセット搬送機構３０
は、図２に示すように、上記搬入機構１０から受け取っ
たカセットＣを支承する支承体としての第１カセット台
３１と、この第１カセット台３１を搬送路３２に沿って
往復移動させる搬送駆動機構３３と、これらを搬送路３
２に沿って搬送路３３を包囲する包囲体としてのカバー
３４とを備えて構成されている。上記第１カセット台３
１は、細長い矩形状のプレート３１Ａ、３１Ａによって
構成されている。これらのプレート３１Ａ、３１Ａ間に
は隙間が形成され、この隙間に後述する上記カセットロ
ーダ１４の第２カセット台１４Ａが後述のように進入し
てカセットＣを２個ずつ第１カセット台３１Ａ、３１Ａ
へ引き渡すように構成されている。
【００１４】そして、上記搬送駆動機構３３は、例えば
図２に示すように、上記搬送路３２の上流側に配設され
たモータ３３Ａと、このモータ３３Ａの下方でチェーン
により連結されたスプロケット３３Ｂと、このスプロケ
ット３３Ｂと上記搬送路３２の上流側に配設されたスプ
ロケット（図示せず）に掛け渡されたチェーン３３Ｃと
を備えて構成されている。また、上記搬送路３２の両側
の下方には、この搬送路３２に沿って上記チェーン３３
Ｃを収納するチェーン収納空間３５、３５がそれぞれ形
成されている。そして、このチェーン収納空間３５の内
側面にはその上流から下流に亘ってスリット３５Ａが形
成され、このスリット３５Ａを介して上記第１カセット
台３１と上記チェーン３３Ｃが連結板３３Ｄによって連
結されている（図３参照）。
図２に示すように、上記搬送路３２の上流側に配設され
たモータ３３Ａと、このモータ３３Ａの下方でチェーン
により連結されたスプロケット３３Ｂと、このスプロケ
ット３３Ｂと上記搬送路３２の上流側に配設されたスプ
ロケット（図示せず）に掛け渡されたチェーン３３Ｃと
を備えて構成されている。また、上記搬送路３２の両側
の下方には、この搬送路３２に沿って上記チェーン３３
Ｃを収納するチェーン収納空間３５、３５がそれぞれ形
成されている。そして、このチェーン収納空間３５の内
側面にはその上流から下流に亘ってスリット３５Ａが形
成され、このスリット３５Ａを介して上記第１カセット
台３１と上記チェーン３３Ｃが連結板３３Ｄによって連
結されている（図３参照）。
【００１５】また、図１に示すように上記カバー３４の
上流側及び下流側の双方には吸引口３４Ａがそれぞれ形
成され、これらの吸引口３４Ａからクリーンルームの清
浄な空気を吸引するように構成されている。一方、上記
チェーン収納空間３５、３５のうち、背面側（図２では
奥側）のチェーン収納空間３５の外側面に上記スリット
３５Ａと同様のスリット３５Ｂが上記スリット３５Ａに
対向して図３に示すように形成され、これらの両スリッ
ト３５Ａ、３５Ｂが上記吸引口３４Ａから搬送路３２内
に吸引された空気の排気口として形成されている。ま
た、上記チェーン収納空間３５の外側には上記スリット
３５Ｂが形成された外側面を隔壁とした排気路としての
排気ダクト３６が形成され、この排気ダクト３６に配設
された吸引手段により上記搬送路３２からの空気を外部
へ排出するように構成されている。従って、このカセッ
ト搬送機構３０は、第１カセット台３１に２個のカセッ
トＣを載せた状態で搬送路３２内を搬送駆動機構３３に
よって搬送する間にカバー３４の吸引口３４Ａから清浄
な空気を吸引し、この空気を排気口となるスリット３５
Ａ、３５Ｂ及び排気路３６を介して外部へ排気して搬送
路３２内で空気流を作るように構成されている。即ち、
このカセット搬送機構３０は搬送路３２内の空気流によ
ってチェーン３３Ｃなどの摩擦により発生したパーティ
クル等の塵埃をスリット３５Ａ、３５Ｂ及び排気ダクト
３６を介して外部へ排出するように構成されている。
尚、上記吸引口３４Ａ及びスリット３５Ａ、３５Ｂは除
塵フィルターを設けたものであっても良い。
上流側及び下流側の双方には吸引口３４Ａがそれぞれ形
成され、これらの吸引口３４Ａからクリーンルームの清
浄な空気を吸引するように構成されている。一方、上記
チェーン収納空間３５、３５のうち、背面側（図２では
奥側）のチェーン収納空間３５の外側面に上記スリット
３５Ａと同様のスリット３５Ｂが上記スリット３５Ａに
対向して図３に示すように形成され、これらの両スリッ
ト３５Ａ、３５Ｂが上記吸引口３４Ａから搬送路３２内
に吸引された空気の排気口として形成されている。ま
た、上記チェーン収納空間３５の外側には上記スリット
３５Ｂが形成された外側面を隔壁とした排気路としての
排気ダクト３６が形成され、この排気ダクト３６に配設
された吸引手段により上記搬送路３２からの空気を外部
へ排出するように構成されている。従って、このカセッ
ト搬送機構３０は、第１カセット台３１に２個のカセッ
トＣを載せた状態で搬送路３２内を搬送駆動機構３３に
よって搬送する間にカバー３４の吸引口３４Ａから清浄
な空気を吸引し、この空気を排気口となるスリット３５
Ａ、３５Ｂ及び排気路３６を介して外部へ排気して搬送
路３２内で空気流を作るように構成されている。即ち、
このカセット搬送機構３０は搬送路３２内の空気流によ
ってチェーン３３Ｃなどの摩擦により発生したパーティ
クル等の塵埃をスリット３５Ａ、３５Ｂ及び排気ダクト
３６を介して外部へ排出するように構成されている。
尚、上記吸引口３４Ａ及びスリット３５Ａ、３５Ｂは除
塵フィルターを設けたものであっても良い。
【００１６】また、上記搬送路３２の下流側近傍には搬
送路３２内を搬送されて来るカセットＣでの静電気の帯
電量を計測する測定装置（本実施例では静電気測定プレ
ート）３７が配設され、この静電気測定プレート３７に
よって搬送路を通過する間に内部の空気流との摩擦によ
りカセットＣに帯電した静電気量を測定するように構成
されている。更に、この静電気測定プレート３７の下流
側の上方には除電装置３８が配設され、その下方を通過
するカセットＣに除電装置３８によってイオンシャワー
を吹付けて除電するように構成されている。従って、カ
セット搬送機構３０では、その搬送路３２内をカセット
Ｃが通過する間に空気流との摩擦により帯電して空気流
中の塵埃を吸着することがあっても、静電気測定プレー
ト３７によってその帯電量を計測し、この計測値に応じ
て除電装置３８からイオンシャワーを吹付けてカセット
Ｃの静電気を除電し、更に空気流によってカセットＣ表
面の塵埃を吹き飛ばすように構成されている。
送路３２内を搬送されて来るカセットＣでの静電気の帯
電量を計測する測定装置（本実施例では静電気測定プレ
ート）３７が配設され、この静電気測定プレート３７に
よって搬送路を通過する間に内部の空気流との摩擦によ
りカセットＣに帯電した静電気量を測定するように構成
されている。更に、この静電気測定プレート３７の下流
側の上方には除電装置３８が配設され、その下方を通過
するカセットＣに除電装置３８によってイオンシャワー
を吹付けて除電するように構成されている。従って、カ
セット搬送機構３０では、その搬送路３２内をカセット
Ｃが通過する間に空気流との摩擦により帯電して空気流
中の塵埃を吸着することがあっても、静電気測定プレー
ト３７によってその帯電量を計測し、この計測値に応じ
て除電装置３８からイオンシャワーを吹付けてカセット
Ｃの静電気を除電し、更に空気流によってカセットＣ表
面の塵埃を吹き飛ばすように構成されている。
【００１７】また、上記搬送路３２下流端の第１カセッ
ト台３１の停止位置には第１、第２、第３フォトセンサ
３９Ａ、３９Ｂ、３９Ｃが上流側から下流側へ順次配設
されている。そして、第１フォトセンサ３９Ａによるカ
セットＣの検出信号によりモータ３３Ａの回転速度を低
下させて第１カセット台３２の移動速度をスローダウン
させ、第２フォトセンサ３９ＢによるカセットＣの検出
信号によりモータ３３Ａの回転を停止させるように構成
され、また、仮に第２フォトセンサ３９Ｂの検出でモー
タ３３Ａが停止せずカセットＣがオーバーランした場合
でも、第３フォトセンサ３９ＣによるカセットＣの検出
信号に基づいてモータ３３Ａを確実に停止させ、カセッ
トローダ４１に対してカセットＣを引き渡せるように構
成されている。
ト台３１の停止位置には第１、第２、第３フォトセンサ
３９Ａ、３９Ｂ、３９Ｃが上流側から下流側へ順次配設
されている。そして、第１フォトセンサ３９Ａによるカ
セットＣの検出信号によりモータ３３Ａの回転速度を低
下させて第１カセット台３２の移動速度をスローダウン
させ、第２フォトセンサ３９ＢによるカセットＣの検出
信号によりモータ３３Ａの回転を停止させるように構成
され、また、仮に第２フォトセンサ３９Ｂの検出でモー
タ３３Ａが停止せずカセットＣがオーバーランした場合
でも、第３フォトセンサ３９ＣによるカセットＣの検出
信号に基づいてモータ３３Ａを確実に停止させ、カセッ
トローダ４１に対してカセットＣを引き渡せるように構
成されている。
【００１８】一方、上記搬入機構１０を構成するカセッ
トリフタ１２は、図４（ａ）に示すように、２個のカセ
ットＣを吊持するアーム１２Ａ、１２Ａと、これら両者
１２Ａ、１２ＡをＦ方向で拡縮駆動するアーム駆動機構
１２Ｂと、このアーム駆動機構１２Ｂを上下方向（Ｚ方
向）で駆動するボールネジなどから構成された昇降機構
１２Ｃと、この昇降機構１２Ｃを左右方向（Ｘ方向）で
駆動するように連結したボールネジなどから構成された
水平駆動機構１２Ｄとを備えて構成されている。また、
上記昇降機構１２Ｃの背面には昇降機構１２Ｃの左右の
駆動に追随する排気ダクト１２Ｅが連結され、この排気
ダクト１２Ｅを介して図示しない排気装置により常時内
部で発生するパーティクル等の塵埃を除去するように構
成されている。また、上記水平駆動機構１２Ｄにも排気
ダクト１２Ｆが連結され、この排気ダクト１２Ｆを介し
て図示しない排気装置により常時内部で発生するパーテ
ィクル等の塵埃を除去するように構成されている。上記
排気ダクト１２Ｅは、図４（ｂ）に示すようにガイド部
材１２Ｇ内に収納され、水平駆動機構１２ＤによってＸ
方向へ移動する昇降機構１２Ｃに追随するように構成さ
れている。尚、上記搬出機構４０にも同様の図示しない
カセットリフタが配設されている。
トリフタ１２は、図４（ａ）に示すように、２個のカセ
ットＣを吊持するアーム１２Ａ、１２Ａと、これら両者
１２Ａ、１２ＡをＦ方向で拡縮駆動するアーム駆動機構
１２Ｂと、このアーム駆動機構１２Ｂを上下方向（Ｚ方
向）で駆動するボールネジなどから構成された昇降機構
１２Ｃと、この昇降機構１２Ｃを左右方向（Ｘ方向）で
駆動するように連結したボールネジなどから構成された
水平駆動機構１２Ｄとを備えて構成されている。また、
上記昇降機構１２Ｃの背面には昇降機構１２Ｃの左右の
駆動に追随する排気ダクト１２Ｅが連結され、この排気
ダクト１２Ｅを介して図示しない排気装置により常時内
部で発生するパーティクル等の塵埃を除去するように構
成されている。また、上記水平駆動機構１２Ｄにも排気
ダクト１２Ｆが連結され、この排気ダクト１２Ｆを介し
て図示しない排気装置により常時内部で発生するパーテ
ィクル等の塵埃を除去するように構成されている。上記
排気ダクト１２Ｅは、図４（ｂ）に示すようにガイド部
材１２Ｇ内に収納され、水平駆動機構１２ＤによってＸ
方向へ移動する昇降機構１２Ｃに追随するように構成さ
れている。尚、上記搬出機構４０にも同様の図示しない
カセットリフタが配設されている。
【００１９】また、上記カセットリフタ１２と上記カセ
ット搬送機構３０の下流側との間にはカセットローダ１
４が配設され、このカセットローダ１４を介して上記カ
セットリフタ１２のカセットＣをカセット搬送機構３０
へ引き渡すように構成されている。このカセットローダ
１４は上記搬出機構４０を構成するカセットローダ４１
と同様に構成されている。このカセットローダ１４は、
図１に示すように、２個のカセットＣを支承する、細長
で矩形状の第２カセット台１４Ａと、このカセット台１
４Ａを下流端に位置する上記第１カセット台３１の隙間
に対して進退動させ且つこの隙間で第２カセット台１４
Ａを下降させて第１カセット台３１に２個のカセットＣ
を同時に引き渡す図示しない駆動機構とを備えて構成さ
れている。また、これらのカセット台１４Ａ、３１上の
カセットＣは、第４フォトセンサ１５Ａ及び第５フォト
センサ１５Ｂによって光学的に検出されるように構成さ
れている。そして、上記カセットローダ１４及び上記カ
セット搬送機構３０の駆動機構はこれらのフォトセンサ
１５Ａ、１５ＢによるカセットＣの検出にしたがって駆
動するように構成されている。
ット搬送機構３０の下流側との間にはカセットローダ１
４が配設され、このカセットローダ１４を介して上記カ
セットリフタ１２のカセットＣをカセット搬送機構３０
へ引き渡すように構成されている。このカセットローダ
１４は上記搬出機構４０を構成するカセットローダ４１
と同様に構成されている。このカセットローダ１４は、
図１に示すように、２個のカセットＣを支承する、細長
で矩形状の第２カセット台１４Ａと、このカセット台１
４Ａを下流端に位置する上記第１カセット台３１の隙間
に対して進退動させ且つこの隙間で第２カセット台１４
Ａを下降させて第１カセット台３１に２個のカセットＣ
を同時に引き渡す図示しない駆動機構とを備えて構成さ
れている。また、これらのカセット台１４Ａ、３１上の
カセットＣは、第４フォトセンサ１５Ａ及び第５フォト
センサ１５Ｂによって光学的に検出されるように構成さ
れている。そして、上記カセットローダ１４及び上記カ
セット搬送機構３０の駆動機構はこれらのフォトセンサ
１５Ａ、１５ＢによるカセットＣの検出にしたがって駆
動するように構成されている。
【００２０】次に、本実施例の洗浄装置の動作について
説明する。例えば２５枚単位でカセットＣに収納された
半導体ウエハＷを搬入口１１から搬入機構１０内へ搬入
すると、カセットリフタ１２が駆動して搬入されたカセ
ットＣを２個単位でローダ１３へ移載する。ローダ１３
では２個のカセットＣが供給されると、ローダ１３で２
個のカセットＣ内の半導体ウエハのオリエンテーション
フラットを一方向に揃えて５０枚の半導体ウエハＷを位
置決めした後、洗浄機構２０へ半導体ウエハを引き渡
し、この洗浄機構２０により上述した所定の洗浄処理を
行なう。
説明する。例えば２５枚単位でカセットＣに収納された
半導体ウエハＷを搬入口１１から搬入機構１０内へ搬入
すると、カセットリフタ１２が駆動して搬入されたカセ
ットＣを２個単位でローダ１３へ移載する。ローダ１３
では２個のカセットＣが供給されると、ローダ１３で２
個のカセットＣ内の半導体ウエハのオリエンテーション
フラットを一方向に揃えて５０枚の半導体ウエハＷを位
置決めした後、洗浄機構２０へ半導体ウエハを引き渡
し、この洗浄機構２０により上述した所定の洗浄処理を
行なう。
【００２１】一方、カセットリフタ１２は、そのアーム
１２Ａ、１２ＡをＦ方向で拡縮して空になった２個のカ
セットＣを掴み、昇降機構１２Ｂを駆動してカセットＣ
を持ち上げた後、水平移動機構１２Ｃによりアーム１２
Ａ、１２Ａをカセットローダ１４上へ水平移動させてカ
セットＣをその第２カセット台１４Ａに引き渡す。この
カセットＣを第４フォトセンサ１５Ａにより確認する
と、カセットローダ１４の駆動機構が駆動して搬送路３
２で待機する第１カセット台３１の隙間に第２カセット
台１４Ａを進入させると共に第１カセット台３１から下
降させ、カセットＣを第１カセット台３１へ引き渡し、
次いでその位置から元の位置へ第２カセット台１４Ａを
復帰させ、次のカセットＣを待機する。
１２Ａ、１２ＡをＦ方向で拡縮して空になった２個のカ
セットＣを掴み、昇降機構１２Ｂを駆動してカセットＣ
を持ち上げた後、水平移動機構１２Ｃによりアーム１２
Ａ、１２Ａをカセットローダ１４上へ水平移動させてカ
セットＣをその第２カセット台１４Ａに引き渡す。この
カセットＣを第４フォトセンサ１５Ａにより確認する
と、カセットローダ１４の駆動機構が駆動して搬送路３
２で待機する第１カセット台３１の隙間に第２カセット
台１４Ａを進入させると共に第１カセット台３１から下
降させ、カセットＣを第１カセット台３１へ引き渡し、
次いでその位置から元の位置へ第２カセット台１４Ａを
復帰させ、次のカセットＣを待機する。
【００２２】上記カセット搬送機構３０では、第１カセ
ット台３１上のカセットＣを第５フォトセンサ１５Ｂで
確認すると、その搬送駆動機構３３のモータ３３Ａが駆
動し、スプロケット３３Ｂ、チェーン３３Ｃを介して第
１カセット台３１を搬送路３２に沿って下流側へ所定の
速度で移動させる。この間搬送路３２ではカバー３４の
吸引口３４Ａからクリーンルームの清浄な空気を内部へ
吸引すると共に、その空気をスリット３５Ａ、３５Ｂを
介して排気ダクト３６へ排気して搬送路３２内に清浄な
空気流を形成している。この空気流との関係から、カセ
ットＣは、好ましくは５０〜５００mm／秒の速度で搬送
させる。この速度が５０mm／秒未満ではカセット搬送が
洗浄処理の律速段階になって洗浄処理速度を制約するこ
とになって好ましくなく、また、５００mm／秒を超える
と搬送路３２内で周囲からパーティクル等の塵埃を巻き
上げる虞があって好ましくない。従って、カセットＣを
上述の速度範囲で搬送すれば、搬送駆動機構３３のチェ
ーン３３Ｃなどの駆動部から塵埃が発生しても、搬送路
３２からチェーン収納空間３５を経由して排気ダクト３
６へ流れる空気流によって塵埃を排出し、搬送路３２内
への塵埃の進入を防止し、仮にスリット３５Ａから塵埃
が混入することがあっても、この空気流によって再びス
リット３５Ａ、３５Ｂを介して外部へ排出し、搬送路３
２内では極力清浄な雰囲気を形成して塵埃のカセットＣ
への付着を軽減することができる。
ット台３１上のカセットＣを第５フォトセンサ１５Ｂで
確認すると、その搬送駆動機構３３のモータ３３Ａが駆
動し、スプロケット３３Ｂ、チェーン３３Ｃを介して第
１カセット台３１を搬送路３２に沿って下流側へ所定の
速度で移動させる。この間搬送路３２ではカバー３４の
吸引口３４Ａからクリーンルームの清浄な空気を内部へ
吸引すると共に、その空気をスリット３５Ａ、３５Ｂを
介して排気ダクト３６へ排気して搬送路３２内に清浄な
空気流を形成している。この空気流との関係から、カセ
ットＣは、好ましくは５０〜５００mm／秒の速度で搬送
させる。この速度が５０mm／秒未満ではカセット搬送が
洗浄処理の律速段階になって洗浄処理速度を制約するこ
とになって好ましくなく、また、５００mm／秒を超える
と搬送路３２内で周囲からパーティクル等の塵埃を巻き
上げる虞があって好ましくない。従って、カセットＣを
上述の速度範囲で搬送すれば、搬送駆動機構３３のチェ
ーン３３Ｃなどの駆動部から塵埃が発生しても、搬送路
３２からチェーン収納空間３５を経由して排気ダクト３
６へ流れる空気流によって塵埃を排出し、搬送路３２内
への塵埃の進入を防止し、仮にスリット３５Ａから塵埃
が混入することがあっても、この空気流によって再びス
リット３５Ａ、３５Ｂを介して外部へ排出し、搬送路３
２内では極力清浄な雰囲気を形成して塵埃のカセットＣ
への付着を軽減することができる。
【００２３】また、このような雰囲気下ではカセットＣ
と空気流との摩擦によりカセットＣの表面に静電気が帯
電し、この静電気により僅に浮遊する塵埃をカセットＣ
表面に吸着する。この状態で搬送路３２を移動してカセ
ットＣが下流端近傍に達すると、このカセットＣの静電
気を静電気測定プレート３７によって計測し、その計測
値に応じて除電装置３８からイオンシャワーを吹付け、
その下方を通過する間にカセットＣの静電気を除去し、
またこの時空気流の作用と相俟ってカセットＣに付着し
た僅かな塵埃を吹き飛ばす。除電されたカセットＣを第
１フォトセンサ３９Ａで検出すると、この検出信号によ
りモータ３３Ａが減速回転するとカセットＣの移動速度
がスローダウンする。次いで第２フォトセンサ３９Ｂで
カセットＣを検出すると、その検出信号によりモータ３
３Ａが停止して所定の位置で第１カセット台３１を停止
させる。この時、仮に第１カセット台３１がオーバーラ
ンすることがあっても、第３フォトセンサ３９Ｃでカセ
ットＣを検出し、その検出信号に基づいて第１カセット
台３１が確実に停止する。
と空気流との摩擦によりカセットＣの表面に静電気が帯
電し、この静電気により僅に浮遊する塵埃をカセットＣ
表面に吸着する。この状態で搬送路３２を移動してカセ
ットＣが下流端近傍に達すると、このカセットＣの静電
気を静電気測定プレート３７によって計測し、その計測
値に応じて除電装置３８からイオンシャワーを吹付け、
その下方を通過する間にカセットＣの静電気を除去し、
またこの時空気流の作用と相俟ってカセットＣに付着し
た僅かな塵埃を吹き飛ばす。除電されたカセットＣを第
１フォトセンサ３９Ａで検出すると、この検出信号によ
りモータ３３Ａが減速回転するとカセットＣの移動速度
がスローダウンする。次いで第２フォトセンサ３９Ｂで
カセットＣを検出すると、その検出信号によりモータ３
３Ａが停止して所定の位置で第１カセット台３１を停止
させる。この時、仮に第１カセット台３１がオーバーラ
ンすることがあっても、第３フォトセンサ３９Ｃでカセ
ットＣを検出し、その検出信号に基づいて第１カセット
台３１が確実に停止する。
【００２４】次いで、搬出機構４０のカセットローダ４
１が駆動してその第３カセット台４１Ａを第２カセット
台１４Ａとは逆の動作で第１カセット台３１から２個の
カセットＣを受け取る。その後、カセットリフタ４２が
駆動してカセットローダ４１からカセットＣを受け取っ
てアンローダ４３へ移載すると、アンローダ４３では洗
浄後の半導体ウエハを洗浄機構２０から２個のカセット
Ｃ内へ収納する。その後、再びカセットリフタ４２のア
ームで２個のカセットＣを掴み、アームを移動させて保
管部１３Ｄの半導体ウエハをカセットＣに収納した状態
で一時的に保管する。そして、必要に応じて搬出口４５
から半導体ウエハを搬出して後工程へ搬送する。
１が駆動してその第３カセット台４１Ａを第２カセット
台１４Ａとは逆の動作で第１カセット台３１から２個の
カセットＣを受け取る。その後、カセットリフタ４２が
駆動してカセットローダ４１からカセットＣを受け取っ
てアンローダ４３へ移載すると、アンローダ４３では洗
浄後の半導体ウエハを洗浄機構２０から２個のカセット
Ｃ内へ収納する。その後、再びカセットリフタ４２のア
ームで２個のカセットＣを掴み、アームを移動させて保
管部１３Ｄの半導体ウエハをカセットＣに収納した状態
で一時的に保管する。そして、必要に応じて搬出口４５
から半導体ウエハを搬出して後工程へ搬送する。
【００２５】以上説明したように本実施例によれば、半
導体ウエハの洗浄と並行してカセット搬送機構３０によ
りでカセットＣを搬送する際、カバー３４の吸引口３４
Ａから搬送路３２内へ清浄な空気を吸引し、スリット３
５Ａ、３５Ｂ及び排気ダクト３６を介して搬送路３２内
の空気を外部へ排気し、その内部で空気流を形成して搬
送路３２内の空気を常に更新するようにしているため、
搬送駆動機構３３などの駆動部から発生するパーティク
ル等の塵埃が搬送路３２内へ進入する虞がなく、仮に塵
埃が搬送路３２内に混入することがあっても、その塵埃
を空気流によって既にカセットＣに付着した塵埃と共に
外部へ除去することができ、延いては、洗浄後の半導体
ウエハをカセットＣに収納しても半導体ウエハに対して
塵埃が付着することがなく、洗浄された清浄な状態のま
まで半導体ウエハを後工程へ引き渡すことができる。
導体ウエハの洗浄と並行してカセット搬送機構３０によ
りでカセットＣを搬送する際、カバー３４の吸引口３４
Ａから搬送路３２内へ清浄な空気を吸引し、スリット３
５Ａ、３５Ｂ及び排気ダクト３６を介して搬送路３２内
の空気を外部へ排気し、その内部で空気流を形成して搬
送路３２内の空気を常に更新するようにしているため、
搬送駆動機構３３などの駆動部から発生するパーティク
ル等の塵埃が搬送路３２内へ進入する虞がなく、仮に塵
埃が搬送路３２内に混入することがあっても、その塵埃
を空気流によって既にカセットＣに付着した塵埃と共に
外部へ除去することができ、延いては、洗浄後の半導体
ウエハをカセットＣに収納しても半導体ウエハに対して
塵埃が付着することがなく、洗浄された清浄な状態のま
まで半導体ウエハを後工程へ引き渡すことができる。
【００２６】また、本実施例によれば、搬送路３２の下
流端部で除電装置３８によりカセットＣに帯電した静電
気を除去するようにしてあるため、搬送路３２からカセ
ットＣを排出する直前に除電して静電気により付着した
塵埃を空気流によって吹き飛ばし、塵埃のカセットＣへ
の付着をより確実に防止することができる。
流端部で除電装置３８によりカセットＣに帯電した静電
気を除去するようにしてあるため、搬送路３２からカセ
ットＣを排出する直前に除電して静電気により付着した
塵埃を空気流によって吹き飛ばし、塵埃のカセットＣへ
の付着をより確実に防止することができる。
【００２７】尚、上記実施例ではカセット搬送機構３０
を洗浄機構２０の上部に配設したものについて説明した
が、カセット搬送機構３０の場所は上記実施例に制限さ
れるものでなく、必要に応じて適宜設置場所を変更する
ことができる。また、搬送路３２のカバー３４に形成す
る吸引口３４Ａ及びスリット３５Ａ、３５Ｂ（排気口）
並びに排気ダクト３６の形態も上記実施例に制限される
ものではない。また、本発明のおける除電手段は必要に
応じて公知のものの中から適宜選択することができる。
を洗浄機構２０の上部に配設したものについて説明した
が、カセット搬送機構３０の場所は上記実施例に制限さ
れるものでなく、必要に応じて適宜設置場所を変更する
ことができる。また、搬送路３２のカバー３４に形成す
る吸引口３４Ａ及びスリット３５Ａ、３５Ｂ（排気口）
並びに排気ダクト３６の形態も上記実施例に制限される
ものではない。また、本発明のおける除電手段は必要に
応じて公知のものの中から適宜選択することができる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項１に
記載の発明によれば、筐体の搬送路内の空気を吸引口、
排気口及び排気路を介して清浄な空気に更新するように
したため、洗浄処理と並行して搬送する筐体へのパーテ
ィクル等の塵埃の付着を確実に防止する洗浄装置を提供
することができる。
記載の発明によれば、筐体の搬送路内の空気を吸引口、
排気口及び排気路を介して清浄な空気に更新するように
したため、洗浄処理と並行して搬送する筐体へのパーテ
ィクル等の塵埃の付着を確実に防止する洗浄装置を提供
することができる。
【００２９】また、本発明の請求項２に記載に発明によ
れば、請求項１に記載の発明において、搬送路内で筐体
に帯電した静電気を除去するようにしたため、静電気に
よる筐体へのパーティクル等の塵埃の付着を防止する洗
浄装置を提供することができる。
れば、請求項１に記載の発明において、搬送路内で筐体
に帯電した静電気を除去するようにしたため、静電気に
よる筐体へのパーティクル等の塵埃の付着を防止する洗
浄装置を提供することができる。
【図１】本発明の洗浄装置の一実施例の全体を示す外観
図である。
図である。
【図２】図１に示す洗浄装置のカセット搬送機構を中心
に破断して示す要部斜視図である。
に破断して示す要部斜視図である。
【図３】図１に示すカセット搬送機構の排気路の一部を
拡大して要部斜視図である。
拡大して要部斜視図である。
【図４】図２に示すカセットリフタを取り出して示す斜
視図である。
視図である。
２０ 洗浄機構 ３０ カセット搬送機構 ３１ 第１カセット台 ３２ 搬送路 ３３ 搬送駆動機構 ３４ カバー（包囲体） ３５Ａ スリット（排気口） ３５Ｂ スリット（排気口） ３６ 排気ダクト（排気路） ３８ 除電装置（除電手段）
Claims (2)
- 【請求項１】 被処理体を洗浄する際に、被処理体を筐
体から取り出して洗浄機構で洗浄すると共に、被処理体
の取り出された筐体を被処理体の洗浄と並行して筐体搬
送機構により搬送する洗浄装置において、上記筐体搬送
機構は、上記筐体を支承する支承体と、この支承体を搬
送路に沿って往復移動させる搬送駆動機構と、この搬送
駆動機構及び上記搬送路を区画し且つこれら両者を上記
搬送路に沿って包囲する包囲体とを備え、上記包囲体
に、その外部からその内部に空気を吸引する吸引口を設
けると共に上記その内部の空気を外部へ排気する排気口
を設け、更にこの排気口からの空気を外部へ排出する排
気路を設けたことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 上記搬送路内で帯電した静電気を除去す
る除電手段を設けたことを特徴とする請求項１に記載の
洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15615393A JP3061339B2 (ja) | 1993-06-01 | 1993-06-01 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15615393A JP3061339B2 (ja) | 1993-06-01 | 1993-06-01 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06342779A true JPH06342779A (ja) | 1994-12-13 |
| JP3061339B2 JP3061339B2 (ja) | 2000-07-10 |
Family
ID=15621512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15615393A Expired - Fee Related JP3061339B2 (ja) | 1993-06-01 | 1993-06-01 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3061339B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002110768A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Daihen Corp | ウェハ搬送用ロボット |
| JP2013522930A (ja) * | 2010-03-24 | 2013-06-13 | ラム リサーチ コーポレーション | 処理ツールにおいて移動メカニズムによって生成される粒子汚染の削減 |
| CN111987027A (zh) * | 2019-05-23 | 2020-11-24 | 扬发实业有限公司 | 应用于清洗机台的防静电输送带 |
-
1993
- 1993-06-01 JP JP15615393A patent/JP3061339B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002110768A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Daihen Corp | ウェハ搬送用ロボット |
| JP2013522930A (ja) * | 2010-03-24 | 2013-06-13 | ラム リサーチ コーポレーション | 処理ツールにおいて移動メカニズムによって生成される粒子汚染の削減 |
| CN111987027A (zh) * | 2019-05-23 | 2020-11-24 | 扬发实业有限公司 | 应用于清洗机台的防静电输送带 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3061339B2 (ja) | 2000-07-10 |
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