JPH06345728A - Ｎ−置換アゾール誘導体の製造方法 - Google Patents
Ｎ−置換アゾール誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH06345728A JPH06345728A JP5166374A JP16637493A JPH06345728A JP H06345728 A JPH06345728 A JP H06345728A JP 5166374 A JP5166374 A JP 5166374A JP 16637493 A JP16637493 A JP 16637493A JP H06345728 A JPH06345728 A JP H06345728A
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- JP
- Japan
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- formyl
- halogen atom
- substituent
- acyl
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- Pending
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 医農薬等の中間体として有用なＮ−置換ア
ゾール誘導体の製造方法を提供する。 【構成】 アゾール誘導体（１）〔Ｒ1 、Ｒ2 は各々
同一または相異なってもよく、水素等を表し、Ａは窒素
あるいはＣ−Ｒ3 を、Ｂは窒素あるいはＣ−Ｒ4を表
す。〕を、触媒量のハロゲン化物存在下に、アルコール
誘導体（２）〔Ｒ5は置換されていてもよい炭素数１〜
６のアルキル基等を表す。〕と反応させることを特徴と
するＮ−置換アゾール誘導体（３）の製造方法。 【化１】
ゾール誘導体の製造方法を提供する。 【構成】 アゾール誘導体（１）〔Ｒ1 、Ｒ2 は各々
同一または相異なってもよく、水素等を表し、Ａは窒素
あるいはＣ−Ｒ3 を、Ｂは窒素あるいはＣ−Ｒ4を表
す。〕を、触媒量のハロゲン化物存在下に、アルコール
誘導体（２）〔Ｒ5は置換されていてもよい炭素数１〜
６のアルキル基等を表す。〕と反応させることを特徴と
するＮ−置換アゾール誘導体（３）の製造方法。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアゾール誘導体を触媒量
のハロゲン化物存在下、アルコール誘導体と脱水反応を
行ないＮ−置換アゾール誘導体を得る製造方法に関する
ものである。Ｎ−置換アゾール誘導体は医農薬等の生理
活性物質をはじめとする種々のファインケミカル中間体
として用いられる化合物群である。
のハロゲン化物存在下、アルコール誘導体と脱水反応を
行ないＮ−置換アゾール誘導体を得る製造方法に関する
ものである。Ｎ−置換アゾール誘導体は医農薬等の生理
活性物質をはじめとする種々のファインケミカル中間体
として用いられる化合物群である。
【０００２】
【従来の技術】従来、アゾール誘導体からＮ−置換アゾ
ール誘導体を得る一般的な合成法としては、アゾール誘
導体を、量論量の塩基存在下、ハロゲン化アルキルに代
表される活性アルキル化剤と反応させる方法が主に知ら
れている。最も基本的なアルキル化反応であるハロゲン
化メチルと硫酸ジアルキルを用いたメチル化反応につい
てみると、ピロール環に関しては、アンゲバンテ・ヘミ
ー（Angew.Chem.Int.Ed.Engl. ）２７巻、９号、１１７
０頁、１９８８年、等が報告されている。イミダゾール
環に関しては、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー（J.Org.Chem. ）４９巻、１６号、２８８７
頁、１９８４年、等が報告されている。ピラゾール環に
関しては、特開平４ー２１１６６３号公報、ジャーナル
・オブ・オーガニック・ケミストリー（J.Org.Chem. ）
４９巻、２４号、４６８７頁、１９８４年、あるいはジ
ャーナル・オブ・メジシナル・ケミストリー（J.Med.Ch
em. ）２７巻、４号、５３９頁、１９８４年、等が報告
されている。インドール環に関しては、オーガニック・
シンセシス・コレクト・ボリューム（Org.Synth.Coll.V
ol. ）５巻、７６９頁、１９７３年、等が報告されてい
る。ベンツイミダゾール環に関しては、シンセシス（Sy
nthesis.）１２４頁、１９８１年、あるいはアンナーレ
ン・ヘミー（Ann.Chem. ）１０７８頁、１９８３年、等
が報告されている。ピラゾリン環に関しては、ブルテン
・ケミカル・ソシエティ・オブ・ジャパン（Bull.Chem.
Soc.Jpn.）５６巻、９１８頁、１９８３年、等が報告さ
れている。プリン環に関しては、ケミッシェ・ベリヒテ
（Chem.Ber.）８２巻、２０１頁、１９５０年、等が報
告されている。
ール誘導体を得る一般的な合成法としては、アゾール誘
導体を、量論量の塩基存在下、ハロゲン化アルキルに代
表される活性アルキル化剤と反応させる方法が主に知ら
れている。最も基本的なアルキル化反応であるハロゲン
化メチルと硫酸ジアルキルを用いたメチル化反応につい
てみると、ピロール環に関しては、アンゲバンテ・ヘミ
ー（Angew.Chem.Int.Ed.Engl. ）２７巻、９号、１１７
０頁、１９８８年、等が報告されている。イミダゾール
環に関しては、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー（J.Org.Chem. ）４９巻、１６号、２８８７
頁、１９８４年、等が報告されている。ピラゾール環に
関しては、特開平４ー２１１６６３号公報、ジャーナル
・オブ・オーガニック・ケミストリー（J.Org.Chem. ）
４９巻、２４号、４６８７頁、１９８４年、あるいはジ
ャーナル・オブ・メジシナル・ケミストリー（J.Med.Ch
em. ）２７巻、４号、５３９頁、１９８４年、等が報告
されている。インドール環に関しては、オーガニック・
シンセシス・コレクト・ボリューム（Org.Synth.Coll.V
ol. ）５巻、７６９頁、１９７３年、等が報告されてい
る。ベンツイミダゾール環に関しては、シンセシス（Sy
nthesis.）１２４頁、１９８１年、あるいはアンナーレ
ン・ヘミー（Ann.Chem. ）１０７８頁、１９８３年、等
が報告されている。ピラゾリン環に関しては、ブルテン
・ケミカル・ソシエティ・オブ・ジャパン（Bull.Chem.
Soc.Jpn.）５６巻、９１８頁、１９８３年、等が報告さ
れている。プリン環に関しては、ケミッシェ・ベリヒテ
（Chem.Ber.）８２巻、２０１頁、１９５０年、等が報
告されている。
【０００３】また、アルキル化剤の種類として、ベンジ
ルアルコール誘導体を用いた、ケミストリー・アンド・
インダストリー（Chem.Ind. ）８５頁、１９８０年、炭
酸エステルを用いた、シンセシス（Synthesis.）３８２
頁、１９８６年、リン酸エステルを用いた、ブルテン・
ケミカル・ソシエティ・オブ・ジャパン（Bull.Chem.So
c.Jpn.）５０巻、１５１０頁、１９７７年、アミドアセ
タールを用いたジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー（J.Org.Chem. ）４９巻、９号、１５４９頁、
１９８４年、硫黄イリドを用いたジャーナル・オブ・オ
ーガニック・ケミストリー（J.Org.Chem. ）３５巻、３
９１８頁、１９７０年、メアバイン試薬を用いたケミッ
シェ・ベリヒテ（Chem.Ber. ）１１８巻、８号、３４２
４頁、１９８５年、等が報告されている。
ルアルコール誘導体を用いた、ケミストリー・アンド・
インダストリー（Chem.Ind. ）８５頁、１９８０年、炭
酸エステルを用いた、シンセシス（Synthesis.）３８２
頁、１９８６年、リン酸エステルを用いた、ブルテン・
ケミカル・ソシエティ・オブ・ジャパン（Bull.Chem.So
c.Jpn.）５０巻、１５１０頁、１９７７年、アミドアセ
タールを用いたジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー（J.Org.Chem. ）４９巻、９号、１５４９頁、
１９８４年、硫黄イリドを用いたジャーナル・オブ・オ
ーガニック・ケミストリー（J.Org.Chem. ）３５巻、３
９１８頁、１９７０年、メアバイン試薬を用いたケミッ
シェ・ベリヒテ（Chem.Ber. ）１１８巻、８号、３４２
４頁、１９８５年、等が報告されている。
【０００４】また、金属触媒を使用する方法として、Ｅ
Ｐ５１６９８２Ａ１が報告されている。
Ｐ５１６９８２Ａ１が報告されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】アンゲバンテ・ヘミー
（Angew.Chem.Int.Ed.Engl. ）２７巻、９号、１１７０
頁、１９８８年、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケ
ミストリー（J.Org.Chem. ）４９巻、１６号、２８８７
頁、１９８４年、特開平４ー２１１６６３号公報、ジャ
ーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（J.Org.Ch
em. ）４９巻、２４号、４６８７頁、１９８４年、ジャ
ーナル・オブ・メジシナル・ケミストリー（J.Med.Che
m. ）２７巻、４号、５３９頁、１９８４年、オーガニ
ック・シンセシス・コレクト・ボリューム（Org.Synth.
Coll.Vol. ）５巻、７６９頁、１９７３年、シンセシス
（Synthesis.）１２４頁、１９８１年、アンナーレン・
ヘミー（Ann.Chem. ）１０７８頁、１９８３年、ブルテ
ン・ケミカル・ソシエティ・オブ・ジャパン（Bull.Che
m.Soc.Jpn.）５６巻、９１８頁、１９８３年、ケミッシ
ェ・ベリヒテ（Chem.Ber. ）８２巻、２０１頁、１９５
０年、シンセシス（Synthesis.）３８２頁、１９８６
年、ブルテン・ケミカル・ソシエティ・オブ・ジャパン
（Bull.Chem.Soc.Jpn.）５０巻、１５１０頁、１９７７
年、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
（J.Org.Chem. ）４９巻、９号、１５４９頁、１９８４
年、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
（J.Org.Chem. ）３５巻、３９１８頁、１９７０年、ケ
ミッシェ・ベリヒテ（Chem.Ber. ）１１８巻、８号、３
４２４頁、１９８５年、及びケミストリー・アンド・イ
ンダストリー（Chem.Ind. ）８５頁、１９８０年の合成
法は、比較的高価なアルキル剤を用い、かつ、ほとんど
の場合、当量以上の塩基あるいは縮合剤を必要とし、し
ばしば問題となる塩類等の副生物を生じる。また、アル
キル化剤自身が禁水性化合物のため取扱いに注意を要す
るものや、一般に反応自身が水分を嫌うものが多い。ま
た、ＥＰ５１６９８２Ａ１の合成法は、高価な金属触媒
を使用する。従って種々の置換基を有するＮ−置換アゾ
ール誘導体合成に適用可能な安価かつ安全で工業的にも
実施可能なＮ−置換アゾール誘導体の製造方法が求めら
れている。
（Angew.Chem.Int.Ed.Engl. ）２７巻、９号、１１７０
頁、１９８８年、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケ
ミストリー（J.Org.Chem. ）４９巻、１６号、２８８７
頁、１９８４年、特開平４ー２１１６６３号公報、ジャ
ーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（J.Org.Ch
em. ）４９巻、２４号、４６８７頁、１９８４年、ジャ
ーナル・オブ・メジシナル・ケミストリー（J.Med.Che
m. ）２７巻、４号、５３９頁、１９８４年、オーガニ
ック・シンセシス・コレクト・ボリューム（Org.Synth.
Coll.Vol. ）５巻、７６９頁、１９７３年、シンセシス
（Synthesis.）１２４頁、１９８１年、アンナーレン・
ヘミー（Ann.Chem. ）１０７８頁、１９８３年、ブルテ
ン・ケミカル・ソシエティ・オブ・ジャパン（Bull.Che
m.Soc.Jpn.）５６巻、９１８頁、１９８３年、ケミッシ
ェ・ベリヒテ（Chem.Ber. ）８２巻、２０１頁、１９５
０年、シンセシス（Synthesis.）３８２頁、１９８６
年、ブルテン・ケミカル・ソシエティ・オブ・ジャパン
（Bull.Chem.Soc.Jpn.）５０巻、１５１０頁、１９７７
年、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
（J.Org.Chem. ）４９巻、９号、１５４９頁、１９８４
年、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
（J.Org.Chem. ）３５巻、３９１８頁、１９７０年、ケ
ミッシェ・ベリヒテ（Chem.Ber. ）１１８巻、８号、３
４２４頁、１９８５年、及びケミストリー・アンド・イ
ンダストリー（Chem.Ind. ）８５頁、１９８０年の合成
法は、比較的高価なアルキル剤を用い、かつ、ほとんど
の場合、当量以上の塩基あるいは縮合剤を必要とし、し
ばしば問題となる塩類等の副生物を生じる。また、アル
キル化剤自身が禁水性化合物のため取扱いに注意を要す
るものや、一般に反応自身が水分を嫌うものが多い。ま
た、ＥＰ５１６９８２Ａ１の合成法は、高価な金属触媒
を使用する。従って種々の置換基を有するＮ−置換アゾ
ール誘導体合成に適用可能な安価かつ安全で工業的にも
実施可能なＮ−置換アゾール誘導体の製造方法が求めら
れている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果本発明を完成するに
至った。即ち、本発明は式（１）
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果本発明を完成するに
至った。即ち、本発明は式（１）
【０００７】
【化４】
【０００８】〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は各々同一または相
異なってもよく、水素原子、アシル基、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、ト
リアルキルシリル基、置換されていてもよい炭素数１〜
６のアルコキシカルボニル基（この置換基としては水酸
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル
基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ
基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイ
ル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェ
ニル基、低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フェ
ノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換され
ていてもよい炭素数１〜６のアルキルカルボニルオキシ
基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルスル
ホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニル
チオ基を示す。）、置換されていてもよい炭素数１〜６
のアルコキシ基（この置換基としては水酸基、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アル
コキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級
アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級
アルキルスルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もし
くはフェニルチオ基を示す。）、置換されていてもよい
各々炭素数１〜６のジアルキルアミノ基（この置換基と
しては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級ア
ルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル
基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アル
キルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示
す。）、置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル
チオ基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級
アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキル
アミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキル
スルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェ
ニルチオ基を示す。）、置換されていてもよい炭素数１
〜６のアルキルスルフェニル基（この置換基としては水
酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾ
イル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフ
ェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フ
ェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換さ
れていてもよい炭素数１〜６のアルキルスルホニル基
（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルスル
ホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニル
チオ基を示す。）、置換されていてもよい炭素数１〜６
のアルキルスルホニルオキシ基（この置換基としては水
酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾ
イル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフ
ェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フ
ェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換さ
れていてもよい炭素数１〜６のアルキル基（この置換基
としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
カルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級
アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル
基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アル
キルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示
す。）、置換されていてもよい炭素数２〜６のアルケニ
ル基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級ア
ルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカル
ボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルア
ミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルス
ルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニ
ルチオ基を示す。）、置換されていてもよい炭素数２〜
６のアルキニル基（この置換基としては水酸基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミ
ル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低
級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低
級アルキルスルホニル基、フェニル基、フェノキシ基も
しくはフェニルチオ基を示す。）または、置換されてい
てもよいフェニル基（この置換基としては水酸基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホル
ミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級
アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ
低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、
低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フェノキシ基
もしくはフェニルチオ基を示す。）を表し、Ａは窒素原
子あるいはＣ−Ｒ3 を、Ｂは窒素原子あるいはＣ−Ｒ4
を表し、Ｒ3 及びＲ4 は各々同一または相異なってもよ
く、Ｒ1 及びＲ2 と独立にＲ1 及びＲ2 と同様の意味を
表す。〕で表されるアゾール誘導体を、触媒量のハロゲ
ン化物存在下に、式（２）
異なってもよく、水素原子、アシル基、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、ト
リアルキルシリル基、置換されていてもよい炭素数１〜
６のアルコキシカルボニル基（この置換基としては水酸
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル
基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ
基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイ
ル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェ
ニル基、低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フェ
ノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換され
ていてもよい炭素数１〜６のアルキルカルボニルオキシ
基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルスル
ホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニル
チオ基を示す。）、置換されていてもよい炭素数１〜６
のアルコキシ基（この置換基としては水酸基、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アル
コキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級
アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級
アルキルスルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もし
くはフェニルチオ基を示す。）、置換されていてもよい
各々炭素数１〜６のジアルキルアミノ基（この置換基と
しては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級ア
ルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル
基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アル
キルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示
す。）、置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル
チオ基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級
アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキル
アミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキル
スルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェ
ニルチオ基を示す。）、置換されていてもよい炭素数１
〜６のアルキルスルフェニル基（この置換基としては水
酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾ
イル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフ
ェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フ
ェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換さ
れていてもよい炭素数１〜６のアルキルスルホニル基
（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルスル
ホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニル
チオ基を示す。）、置換されていてもよい炭素数１〜６
のアルキルスルホニルオキシ基（この置換基としては水
酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾ
イル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフ
ェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フ
ェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換さ
れていてもよい炭素数１〜６のアルキル基（この置換基
としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
カルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級
アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル
基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アル
キルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示
す。）、置換されていてもよい炭素数２〜６のアルケニ
ル基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級ア
ルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカル
ボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルア
ミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルス
ルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニ
ルチオ基を示す。）、置換されていてもよい炭素数２〜
６のアルキニル基（この置換基としては水酸基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミ
ル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低
級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低
級アルキルスルホニル基、フェニル基、フェノキシ基も
しくはフェニルチオ基を示す。）または、置換されてい
てもよいフェニル基（この置換基としては水酸基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホル
ミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級
アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ
低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、
低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フェノキシ基
もしくはフェニルチオ基を示す。）を表し、Ａは窒素原
子あるいはＣ−Ｒ3 を、Ｂは窒素原子あるいはＣ−Ｒ4
を表し、Ｒ3 及びＲ4 は各々同一または相異なってもよ
く、Ｒ1 及びＲ2 と独立にＲ1 及びＲ2 と同様の意味を
表す。〕で表されるアゾール誘導体を、触媒量のハロゲ
ン化物存在下に、式（２）
【０００９】
【化５】
【００１０】〔式中、Ｒ5 は置換されていてもよい炭素
数１〜６のアルキル基（この置換基としては水酸基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホ
ルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低
級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、
ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル
基、低級アルキルスルホニル基、トリアルキルシリル
基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基
を示す。）、置換されていてもよい炭素数２〜６のアル
ケニル基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低
級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ
カルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキ
ルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキ
ルスルホニル基、トリアルキルシリル基、フェニル基、
フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換
されていてもよい炭素数２〜６のアルキニル基（この置
換基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、ア
シル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
アルキルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、
トリアルキルシリル基、フェニル基、フェノキシ基もし
くはフェニルチオ基を示す。）または、置換されていて
もよいアラルキル基（この置換基としては水酸基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホル
ミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級
アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ
低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、
低級アルキルスルホニル基、トリアルキルシリル基、フ
ェニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示
す。）を表す。〕で表されるアルコール誘導体と反応さ
せることを特徴とする式（３）
数１〜６のアルキル基（この置換基としては水酸基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホ
ルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低
級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、
ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル
基、低級アルキルスルホニル基、トリアルキルシリル
基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基
を示す。）、置換されていてもよい炭素数２〜６のアル
ケニル基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低
級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ
カルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキ
ルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキ
ルスルホニル基、トリアルキルシリル基、フェニル基、
フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換
されていてもよい炭素数２〜６のアルキニル基（この置
換基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、ア
シル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
アルキルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、
トリアルキルシリル基、フェニル基、フェノキシ基もし
くはフェニルチオ基を示す。）または、置換されていて
もよいアラルキル基（この置換基としては水酸基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホル
ミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級
アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ
低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、
低級アルキルスルホニル基、トリアルキルシリル基、フ
ェニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示
す。）を表す。〕で表されるアルコール誘導体と反応さ
せることを特徴とする式（３）
【００１１】
【化６】
【００１２】〔式中、Ａ、Ｂ、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ5 は前
記に同じ。〕で表されるＮ−置換アゾール誘導体の新規
な製造方法である。式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 で示
されるアシル基としては、アセチル基、プロパノイル
基、ブタノイル基、アリルカルボニル基、プロパギルカ
ルボニル基、シクロプロピルカルボニル基、ヘキサノイ
ル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ト
ルオイル基、ベンジルカルボニル基等が挙げられる。
記に同じ。〕で表されるＮ−置換アゾール誘導体の新規
な製造方法である。式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 で示
されるアシル基としては、アセチル基、プロパノイル
基、ブタノイル基、アリルカルボニル基、プロパギルカ
ルボニル基、シクロプロピルカルボニル基、ヘキサノイ
ル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ト
ルオイル基、ベンジルカルボニル基等が挙げられる。
【００１３】ハロゲン原子としては、フッソ原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。トリアルキ
ルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチル
シリル基等が挙げられる。置換されていてもよい炭素数
１〜６のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎープロポキシカ
ルボニル基、i-プロポキシカルボニル基、トリフルオル
メトキシカルボニル基、シアノエトキシカルボニル基、
ニトロメトキシカルボニル基、メトキシエトキシカルボ
ニル基、メチルチオメチルオキシカルボニル基、メトキ
シカルボニルメトキシカルボニル基、アセチルメトキシ
カルボニル基、ベンゾイルオキシカルボニル基、ジメチ
ルアミノエチルオキシカルボニル基、メタンスルホキシ
エトキシカルボニル基、メタンスルホニルメトキシカル
ボニル基、フェノキシカルボニル基、フェノキシエトキ
シカルボニル基、フェニルチオエトキシカルボニル基等
が挙げられる。
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。トリアルキ
ルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチル
シリル基等が挙げられる。置換されていてもよい炭素数
１〜６のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎープロポキシカ
ルボニル基、i-プロポキシカルボニル基、トリフルオル
メトキシカルボニル基、シアノエトキシカルボニル基、
ニトロメトキシカルボニル基、メトキシエトキシカルボ
ニル基、メチルチオメチルオキシカルボニル基、メトキ
シカルボニルメトキシカルボニル基、アセチルメトキシ
カルボニル基、ベンゾイルオキシカルボニル基、ジメチ
ルアミノエチルオキシカルボニル基、メタンスルホキシ
エトキシカルボニル基、メタンスルホニルメトキシカル
ボニル基、フェノキシカルボニル基、フェノキシエトキ
シカルボニル基、フェニルチオエトキシカルボニル基等
が挙げられる。
【００１４】置換されていてもよい炭素数１〜６のアル
キルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、
プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、アリルカ
ルボニルオキシ基、プロパギルカルボニルオキシ基、シ
クロプロピルカルボニルオキシ基、ヘキサノイルオキシ
基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオ
キシ基、トルオイルオキシ基、ベンジルカルボニルオキ
シ基、トリフルオロボニルオキシ基、シアノエトキシカ
ルボニルオキシ基、ニトロメトキシカルボニルオキシ
基、メトキシエトキシカルボニルオキシ基、メチルチオ
メチルオキシカルボニルオキシ基、メトキシカルボニル
メトキシカルボニルオキシ基、アセチルメトキシカルボ
ニルオキシ基、ベンゾイルオキシカルボニルオキシ基、
ジメチルアミノエチルオキシカルボニルオキシ基、メタ
ンスルホキシエトキシカルボニルオキシ基、メタンスル
ホニルメトキシカルボニルオキシ基、フェノキシメチル
カルボニルオキシ基、フェノキシエトキシカルボニルオ
キシ基、フェニルチオエトキシカルボニルオキシ基等が
挙げられる。
キルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、
プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、アリルカ
ルボニルオキシ基、プロパギルカルボニルオキシ基、シ
クロプロピルカルボニルオキシ基、ヘキサノイルオキシ
基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオ
キシ基、トルオイルオキシ基、ベンジルカルボニルオキ
シ基、トリフルオロボニルオキシ基、シアノエトキシカ
ルボニルオキシ基、ニトロメトキシカルボニルオキシ
基、メトキシエトキシカルボニルオキシ基、メチルチオ
メチルオキシカルボニルオキシ基、メトキシカルボニル
メトキシカルボニルオキシ基、アセチルメトキシカルボ
ニルオキシ基、ベンゾイルオキシカルボニルオキシ基、
ジメチルアミノエチルオキシカルボニルオキシ基、メタ
ンスルホキシエトキシカルボニルオキシ基、メタンスル
ホニルメトキシカルボニルオキシ基、フェノキシメチル
カルボニルオキシ基、フェノキシエトキシカルボニルオ
キシ基、フェニルチオエトキシカルボニルオキシ基等が
挙げられる。
【００１５】置換されていてもよい炭素数１〜６のアル
コキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基、アミルオキシ基、ヘキシルオキシ
基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、
ヒドロキシエトキシ基、シアノエトキシ基、ニトロエト
キシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エ
トキシメトキシ基、メチルチオメトキシ基、エチルチオ
メトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、ベンゾイ
ルメトキシ基、ジメチルアミノメトキシ基、メチルスル
フィニルメトキシ基、メタンスルホニルメトキシ基、ベ
ンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェニルチオ
エトキシ基等が挙げられる。
コキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基、アミルオキシ基、ヘキシルオキシ
基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、
ヒドロキシエトキシ基、シアノエトキシ基、ニトロエト
キシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エ
トキシメトキシ基、メチルチオメトキシ基、エチルチオ
メトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、ベンゾイ
ルメトキシ基、ジメチルアミノメトキシ基、メチルスル
フィニルメトキシ基、メタンスルホニルメトキシ基、ベ
ンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェニルチオ
エトキシ基等が挙げられる。
【００１６】置換されていてもよい各々炭素数１〜６の
ジアルキルアミノ基としては、N,N-ジメチルアミノ基、
N,N-ジエチルアミノ基、N-メチル-N- メトキシ基、N-メ
チル-N- メトキシカルボニルメチルアミノ基、N-メチル
-N- フェニルアミノ基、N-メチル-N- アシルアミノ基、
N-メチル-N- ベンゾイルアミノ基、N-メチル-N- メタン
スルホニルアミノ基等が挙げられる。
ジアルキルアミノ基としては、N,N-ジメチルアミノ基、
N,N-ジエチルアミノ基、N-メチル-N- メトキシ基、N-メ
チル-N- メトキシカルボニルメチルアミノ基、N-メチル
-N- フェニルアミノ基、N-メチル-N- アシルアミノ基、
N-メチル-N- ベンゾイルアミノ基、N-メチル-N- メタン
スルホニルアミノ基等が挙げられる。
【００１７】置換されていてもよい炭素数１〜６のアル
キルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プ
ロピルチオ基、ブチルチオ基、アミルチオ基、ヘキシル
チオ基、トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチル
チオ基、シアノエチルチオ基、ニトロエチルチオ基、メ
トキシメチルチオ基、メトキシエチルチオ基、エトキシ
メチルチオ基、メチルチオメチルチオ基、エチルチオメ
チルチオ基、メトキシカルボニルメチルチオ基、ベンゾ
イルメチルチオ基、ジメチルアミノメチルチオ基、メチ
ルスルフィニルメチルチオ基、メタンスルホニルメチル
チオ基、ベンジルチオ基、フェノキシエチルチオ基、フ
ェニルチオエチルチオ基等が挙げられる。
キルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プ
ロピルチオ基、ブチルチオ基、アミルチオ基、ヘキシル
チオ基、トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチル
チオ基、シアノエチルチオ基、ニトロエチルチオ基、メ
トキシメチルチオ基、メトキシエチルチオ基、エトキシ
メチルチオ基、メチルチオメチルチオ基、エチルチオメ
チルチオ基、メトキシカルボニルメチルチオ基、ベンゾ
イルメチルチオ基、ジメチルアミノメチルチオ基、メチ
ルスルフィニルメチルチオ基、メタンスルホニルメチル
チオ基、ベンジルチオ基、フェノキシエチルチオ基、フ
ェニルチオエチルチオ基等が挙げられる。
【００１８】置換されていてもよい炭素数１〜６のアル
キルスルフェニル基としては、メチルスルフェニル基、
エチルスルフェニル基、プロピルスルフェニル基、ブチ
ルスルフェニル基、アミルスルフェニル基、ヘキシルス
ルフェニル基、トリフルオロメチエチルスルフェニル
基、メトキシメチルスルフェニル基、メトキシエチルス
ルフェニル基、エトキシメチルスルフェニル基、メトキ
シカルボニルメチルスルフェニル基、ベンゾイルメチル
スルフェニル基、フェノキシエチルスルフェニル基等が
挙げられる。
キルスルフェニル基としては、メチルスルフェニル基、
エチルスルフェニル基、プロピルスルフェニル基、ブチ
ルスルフェニル基、アミルスルフェニル基、ヘキシルス
ルフェニル基、トリフルオロメチエチルスルフェニル
基、メトキシメチルスルフェニル基、メトキシエチルス
ルフェニル基、エトキシメチルスルフェニル基、メトキ
シカルボニルメチルスルフェニル基、ベンゾイルメチル
スルフェニル基、フェノキシエチルスルフェニル基等が
挙げられる。
【００１９】置換されていてもよい炭素数１〜６のアル
キルスルホニル基としては、メタンスルホニル基、エタ
ンスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホ
ニル基、アミルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、
トリフルオロメチルスルホニル基、シアノエチルスルホ
ニル基、ニトロエチルスルホニル基、メトキシメチルス
ルホニル基、メトキシエチルスルホニル基、エトキシメ
チルスルホニル基、メトキシカルボニルメチルスルホニ
ル基、ジメチルアミノメチルスルホニル基、メタンスル
ホニルメチルスルホニル基、ベンジルスルホニル基、フ
ェノキシエチルスルホニル基等が挙げられる。
キルスルホニル基としては、メタンスルホニル基、エタ
ンスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホ
ニル基、アミルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、
トリフルオロメチルスルホニル基、シアノエチルスルホ
ニル基、ニトロエチルスルホニル基、メトキシメチルス
ルホニル基、メトキシエチルスルホニル基、エトキシメ
チルスルホニル基、メトキシカルボニルメチルスルホニ
ル基、ジメチルアミノメチルスルホニル基、メタンスル
ホニルメチルスルホニル基、ベンジルスルホニル基、フ
ェノキシエチルスルホニル基等が挙げられる。
【００２０】置換されていてもよい炭素数１〜６のアル
キルスルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオ
キシ基、エタンスルホニルオキシ基、プロピルスルホニ
ルオキシ基、ブチルスルホニルオキシ基、アミルスルホ
ニルオキシ基、ヘキシルスルホニルオキシ基、トリフル
オロメチルスルホニルオキシ基、シアノエチルスルホニ
ルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、トルエンス
ルホニルオキシ基等が挙げられる。
キルスルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオ
キシ基、エタンスルホニルオキシ基、プロピルスルホニ
ルオキシ基、ブチルスルホニルオキシ基、アミルスルホ
ニルオキシ基、ヘキシルスルホニルオキシ基、トリフル
オロメチルスルホニルオキシ基、シアノエチルスルホニ
ルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、トルエンス
ルホニルオキシ基等が挙げられる。
【００２１】置換されていてもよい炭素数１〜６のアル
キル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル
基、n-アミル基、iso-アミル基、sec-アミル基、ネオペ
ンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、モノフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、クロルメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、
シアノメチル基、ニトロメチル基、メトキシカルボニル
メチル基、エトキシカルボニルメチル基、ヒドロキシカ
ルボニルメチル基、ヒドロキシメチル基、ホルミルメチ
ル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メチルチ
オメチル基、エチルチオメチル基、アセチルメチル基、
ベンゾイルメチル基、N,N-ジメチルアミノメチル基、メ
タンスルフェニルメチル基、メタンスルホニルメチル
基、フェニルメチル基、フェネチル基、フェノキシメチ
ル基、フェニルチオメチル基等が挙げられる。
キル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル
基、n-アミル基、iso-アミル基、sec-アミル基、ネオペ
ンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、モノフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、クロルメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、
シアノメチル基、ニトロメチル基、メトキシカルボニル
メチル基、エトキシカルボニルメチル基、ヒドロキシカ
ルボニルメチル基、ヒドロキシメチル基、ホルミルメチ
ル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メチルチ
オメチル基、エチルチオメチル基、アセチルメチル基、
ベンゾイルメチル基、N,N-ジメチルアミノメチル基、メ
タンスルフェニルメチル基、メタンスルホニルメチル
基、フェニルメチル基、フェネチル基、フェノキシメチ
ル基、フェニルチオメチル基等が挙げられる。
【００２２】置換されていてもよい炭素数２〜６のアル
ケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、3,3,3-ト
リフルオロメチルプロペニル基、ブテニル基、2,2-ジメ
チルビニル基、2,2-ジクロロビニル基、2,2-ジフルオロ
ビニル基、2,2-ジシアノビニル基、2,2-ジトリフルオロ
メチルビニル基、2,2-ジメトキシビニル基、2,2-ジメチ
ルチオビニル基、2-メトキシカルボニルビニル基、2-フ
ェニルビニル基等が挙げられる。
ケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、3,3,3-ト
リフルオロメチルプロペニル基、ブテニル基、2,2-ジメ
チルビニル基、2,2-ジクロロビニル基、2,2-ジフルオロ
ビニル基、2,2-ジシアノビニル基、2,2-ジトリフルオロ
メチルビニル基、2,2-ジメトキシビニル基、2,2-ジメチ
ルチオビニル基、2-メトキシカルボニルビニル基、2-フ
ェニルビニル基等が挙げられる。
【００２３】置換されていてもよい炭素数２〜６のアル
キニル基としては、エチニル基、プロピニル基、フェニ
ルエチニル基、トリフルオロメチルエチニル基等が挙げ
られる。置換されていてもよいフェニル基としては、ヒ
ドロキシフェニル基、トルイル基、クロロフェニル基、
ジメチルフェニル基、トリクロロフェニル基、ジメトキ
シフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、シアノフェニル基、フェノキシフ
ェニル基、フェニルチオフェニル基等が挙げられる。
キニル基としては、エチニル基、プロピニル基、フェニ
ルエチニル基、トリフルオロメチルエチニル基等が挙げ
られる。置換されていてもよいフェニル基としては、ヒ
ドロキシフェニル基、トルイル基、クロロフェニル基、
ジメチルフェニル基、トリクロロフェニル基、ジメトキ
シフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、シアノフェニル基、フェノキシフ
ェニル基、フェニルチオフェニル基等が挙げられる。
【００２４】式中、Ｒ5 である、置換されていてもよい
炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、iso-ブ
チル基、sec-ブチル基、シクロブチル基、アミル基、ヘ
キシル基、シクロヘキシル基、トリフルオロエチル基、
シアノメチル基、シアノエチル基、ニトロメチル基、ニ
トロエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキシ
カルボニルエチル基、エトキシカルボニルメチル基、エ
トキシカルボニルエチル基、ヒドロキシカルボニルメチ
ル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ホル
ミルメチル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、
エトキシメチル基、エトキシエチル基、メチルチオメチ
ル基、メチルチオエチル基、エチルチオメチル基、エチ
ルチオエチル基、アセチルメチル基、アセチルエチル
基、ベンゾイルメチル基、ベンゾイルエチル基、N,N-ジ
メチルアミノメチル基、メタンスルフェニルメチル基、
メタンスルホニルメチル基、フェニルメチル基、フェネ
チル基、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、フ
ェニルチオメチル基、フェニルチオエチル基等が挙げら
れる。
炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、iso-ブ
チル基、sec-ブチル基、シクロブチル基、アミル基、ヘ
キシル基、シクロヘキシル基、トリフルオロエチル基、
シアノメチル基、シアノエチル基、ニトロメチル基、ニ
トロエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキシ
カルボニルエチル基、エトキシカルボニルメチル基、エ
トキシカルボニルエチル基、ヒドロキシカルボニルメチ
ル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ホル
ミルメチル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、
エトキシメチル基、エトキシエチル基、メチルチオメチ
ル基、メチルチオエチル基、エチルチオメチル基、エチ
ルチオエチル基、アセチルメチル基、アセチルエチル
基、ベンゾイルメチル基、ベンゾイルエチル基、N,N-ジ
メチルアミノメチル基、メタンスルフェニルメチル基、
メタンスルホニルメチル基、フェニルメチル基、フェネ
チル基、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、フ
ェニルチオメチル基、フェニルチオエチル基等が挙げら
れる。
【００２５】置換されていてもよい炭素数２〜６のアル
ケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、4,4,4-ト
リフルオロメチル-2- ブテニル基、3,3-ジメチル-2- プ
ロペニル基、3,3-ジクロロ-2- プロペニル基、3,3-ジフ
ルオロ-2- プロペニル基、3,3-ジシアノ-2- プロペニル
基、3,3-ジトリフルオロメチル-2- プロペニル基、3,3-
ジメトキシ-2- プロペニル基、3,3-ジメチルチオ-2- プ
ロペニル基、3-メトキシカルボニル-2- プロペニル基、
3-フェニル-2- プロペニル基等が挙げられる。
ケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、4,4,4-ト
リフルオロメチル-2- ブテニル基、3,3-ジメチル-2- プ
ロペニル基、3,3-ジクロロ-2- プロペニル基、3,3-ジフ
ルオロ-2- プロペニル基、3,3-ジシアノ-2- プロペニル
基、3,3-ジトリフルオロメチル-2- プロペニル基、3,3-
ジメトキシ-2- プロペニル基、3,3-ジメチルチオ-2- プ
ロペニル基、3-メトキシカルボニル-2- プロペニル基、
3-フェニル-2- プロペニル基等が挙げられる。
【００２６】置換されていてもよい炭素数２〜６のアル
キニル基としては、2-プロピニル基、3-フェニル-2- プ
ロピニル基、3-メトキシカルボニル-2- プロピニル基、
2-ブチニル基、3-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-2-
ブチニル基等が挙げられる。置換されていてもよいアラ
ルキル基としては、ベンジル基、ヒドロキシベンジル
基、o-メチルベンジル基、m-メチルベンジル基、p-メチ
ルベンジル基、o-クロロベンジル基、m-クロロベンジル
基、p-クロロベンジル基、ジメチルベンジル基、トリク
ロロベンジル基、ジメトキシベンジル基、ペンタフルオ
ロベンジル基、メトキシカルボニルベンジル基、シアノ
ベンジル基、フェノキシベンジル基、フェニルチオベン
ジル基、1-フェネチル基、2-フェネチル基等が挙げられ
る。
キニル基としては、2-プロピニル基、3-フェニル-2- プ
ロピニル基、3-メトキシカルボニル-2- プロピニル基、
2-ブチニル基、3-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-2-
ブチニル基等が挙げられる。置換されていてもよいアラ
ルキル基としては、ベンジル基、ヒドロキシベンジル
基、o-メチルベンジル基、m-メチルベンジル基、p-メチ
ルベンジル基、o-クロロベンジル基、m-クロロベンジル
基、p-クロロベンジル基、ジメチルベンジル基、トリク
ロロベンジル基、ジメトキシベンジル基、ペンタフルオ
ロベンジル基、メトキシカルボニルベンジル基、シアノ
ベンジル基、フェノキシベンジル基、フェニルチオベン
ジル基、1-フェネチル基、2-フェネチル基等が挙げられ
る。
【００２７】これら置換基の例は一例であって本発明の
反応に直接関与しないものであれば上記例のみに限定さ
れるものではない。反応に用いるハロゲン化物として
は、臭化水素、ヨウ化水素等のハロゲン化水素、臭化メ
チル、臭化エチル、臭化プロピル、臭化イソプロピル、
臭化ブチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロ
ピル、ヨウ化イソプロピル、ヨウ化ブチル、臭化ベンジ
ル等のハロゲン化アルキル、テトラブチルアンモニウム
ブロマイド、テトラメチルアンモニウムアイオダイド等
のハロゲン化４級アンモニウム塩、テトラメチルホスホ
ニウムブロミド、テトラメチルホスホニウムアイオダイ
ド、テトラエチルホスホニウムブロミド、テトラエチル
ホスホニウムアイオダイド等のハロゲン化４級ホスホニ
ウム塩、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等のアルカ
リ金属のハロゲン化物が挙げられる。
反応に直接関与しないものであれば上記例のみに限定さ
れるものではない。反応に用いるハロゲン化物として
は、臭化水素、ヨウ化水素等のハロゲン化水素、臭化メ
チル、臭化エチル、臭化プロピル、臭化イソプロピル、
臭化ブチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロ
ピル、ヨウ化イソプロピル、ヨウ化ブチル、臭化ベンジ
ル等のハロゲン化アルキル、テトラブチルアンモニウム
ブロマイド、テトラメチルアンモニウムアイオダイド等
のハロゲン化４級アンモニウム塩、テトラメチルホスホ
ニウムブロミド、テトラメチルホスホニウムアイオダイ
ド、テトラエチルホスホニウムブロミド、テトラエチル
ホスホニウムアイオダイド等のハロゲン化４級ホスホニ
ウム塩、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等のアルカ
リ金属のハロゲン化物が挙げられる。
【００２８】反応に用いるハロゲン化物の量は、通常式
（１）のアゾール誘導体に対して０．１〜５０モル％、
好ましくは１〜２０モル％が使用される。反応に用いる
式（２）のアルコール誘導体の量は反応量論量以上であ
れば過剰量を用いても問題なく進行し、溶媒としても使
用できる。通常式（１）のアゾール誘導体に対して１．
０〜５０倍モル、好ましくは１．０〜５．０倍モルが使
用される。
（１）のアゾール誘導体に対して０．１〜５０モル％、
好ましくは１〜２０モル％が使用される。反応に用いる
式（２）のアルコール誘導体の量は反応量論量以上であ
れば過剰量を用いても問題なく進行し、溶媒としても使
用できる。通常式（１）のアゾール誘導体に対して１．
０〜５０倍モル、好ましくは１．０〜５．０倍モルが使
用される。
【００２９】反応は常圧から２００気圧の範囲で行なう
ことが可能であるが、使用する原料および溶媒等の沸点
から加圧下で行うことにより、反応時間が短縮し、反応
性が向上する。好ましくは１〜１５０気圧で行なうこと
が望ましい。本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応
じて式（１）に不活性な溶媒を使用することもできる。
使用される溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル
等のエステル類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１、４ージオキサン、エチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の
エーテル類、ベンゼン、トルエン、クロルベンゼン、ア
ニソール、キシレン等の芳香族溶媒類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルイミダゾリジノン、アセトニトリル、水等
が挙げられる。また式（２）を溶媒として使用すること
もできる。上記溶媒の２種以上を混合または分散しても
使用することができる。
ことが可能であるが、使用する原料および溶媒等の沸点
から加圧下で行うことにより、反応時間が短縮し、反応
性が向上する。好ましくは１〜１５０気圧で行なうこと
が望ましい。本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応
じて式（１）に不活性な溶媒を使用することもできる。
使用される溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル
等のエステル類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１、４ージオキサン、エチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の
エーテル類、ベンゼン、トルエン、クロルベンゼン、ア
ニソール、キシレン等の芳香族溶媒類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルイミダゾリジノン、アセトニトリル、水等
が挙げられる。また式（２）を溶媒として使用すること
もできる。上記溶媒の２種以上を混合または分散しても
使用することができる。
【００３０】反応温度は、通常室温から５００℃程度の
範囲で可能であるが、好ましくは５０〜２５０℃の範囲
で行なうことが望ましい。反応時間は、用いられる基質
に応じて選ばれるが、通常０．５〜１００時間、好まし
くは１〜３０時間の範囲で行なうことが望ましい。反応
終了後の処理方法としては、必用に応じて溶媒を蒸留等
で除去した後に、減圧蒸留、再結晶、クロマトグラフィ
ー精製等の手段により、置換アミンをフリー、鉱酸塩と
して単離することができ、場合によっては、アルカリ金
属塩、アルカリ土類金属塩、または、アンモニウム塩と
して単離することができる。
範囲で可能であるが、好ましくは５０〜２５０℃の範囲
で行なうことが望ましい。反応時間は、用いられる基質
に応じて選ばれるが、通常０．５〜１００時間、好まし
くは１〜３０時間の範囲で行なうことが望ましい。反応
終了後の処理方法としては、必用に応じて溶媒を蒸留等
で除去した後に、減圧蒸留、再結晶、クロマトグラフィ
ー精製等の手段により、置換アミンをフリー、鉱酸塩と
して単離することができ、場合によっては、アルカリ金
属塩、アルカリ土類金属塩、または、アンモニウム塩と
して単離することができる。
【００３１】
【発明の効果】本発明の方法に従えばアゾール誘導体か
ら極めて穏和な反応条件下で目的とするＮ−置換アゾー
ル誘導体を高収率で得ることができる。特にアルキル化
剤としてアルコール誘導体を使用することで、反応を中
性条件下で行うことができるため、酸・塩基に対して不
安定な基質に対しても充分に使用することができるとい
う特徴を有している。また本方法では原料のアルコール
誘導体も安価なこと、さらに従来法でしばしば問題とな
った塩類などの副生物を全く生じない等の点から工業的
にも非常に有用な方法である。
ら極めて穏和な反応条件下で目的とするＮ−置換アゾー
ル誘導体を高収率で得ることができる。特にアルキル化
剤としてアルコール誘導体を使用することで、反応を中
性条件下で行うことができるため、酸・塩基に対して不
安定な基質に対しても充分に使用することができるとい
う特徴を有している。また本方法では原料のアルコール
誘導体も安価なこと、さらに従来法でしばしば問題とな
った塩類などの副生物を全く生じない等の点から工業的
にも非常に有用な方法である。
【００３２】
【実施例】以下、実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 〔実施例１〕内容量２０ｍｌのステンレス製オートクレ
ーブに、４−メチルピラゾール０．５ｇ（６．１０ミリ
モル）、メタノール０．７８ｇ（２４．４ミリモル）、
ヨウ化メチル４３ｍｇ（０．３０ミリモル）及びジオキ
サン１０ｍｌを仕込み、窒素置換した後密閉し、温度を
１５０℃まで上げて３〜４kg／cm2 の自圧下、２０時間
反応させた。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 〔実施例１〕内容量２０ｍｌのステンレス製オートクレ
ーブに、４−メチルピラゾール０．５ｇ（６．１０ミリ
モル）、メタノール０．７８ｇ（２４．４ミリモル）、
ヨウ化メチル４３ｍｇ（０．３０ミリモル）及びジオキ
サン１０ｍｌを仕込み、窒素置換した後密閉し、温度を
１５０℃まで上げて３〜４kg／cm2 の自圧下、２０時間
反応させた。
【００３３】反応液を液体クロマトグラフィーで分析し
た結果、４−メチルピラゾールの転化率は９６．３％で
あり、１，４−ジメチルピラゾールの収率は９０．６％
であった。 〔実施例２〜８〕アルコールの種類並びに量、溶媒及び
温度を代えた他は、実施例１と同様にして反応及び操作
を行なった。結果を第１表に示す。
た結果、４−メチルピラゾールの転化率は９６．３％で
あり、１，４−ジメチルピラゾールの収率は９０．６％
であった。 〔実施例２〜８〕アルコールの種類並びに量、溶媒及び
温度を代えた他は、実施例１と同様にして反応及び操作
を行なった。結果を第１表に示す。
【００３４】
【表１】 第１表 ─────────────────────────────────── 実施例 アルコール 溶媒 温度 (℃) 転化率(%) 収率(%) ─────────────────────────────────── ２ MeOH(0.78g) ジオキサン 200 97.9 90.2 ３ MeOH(0.78g) t-BuOMe 150 99.0 87.5 ４ MeOH(0.78g) MeCO2Me 150 86.7 74.0 ５ MeOH(7.91g) − 150 54.5 45.1 ６ MeOH(0.39g) ジオキサン 150 94.3 83.7 ７ MeOH(0.20g) ジオキサン 150 71.8 57.5 ８ EtOH(1.12g) ジオキサン 150 20.9 18.5 ─────────────────────────────────── 〔実施例９〕内容量５０ｍｌのガラス製反応フラスコ
に、３，５−ジメチルピラゾール０．４８ｇ（５．００
ミリモル）、メタノール０．３２ｇ（１０．００ミリモ
ル）、ヨウ化メチル０．３５５ｇ（２．５ミリモル）及
びジグライム１０ｍｌを仕込み、大気圧下１５０℃で４
時間反応させた。
に、３，５−ジメチルピラゾール０．４８ｇ（５．００
ミリモル）、メタノール０．３２ｇ（１０．００ミリモ
ル）、ヨウ化メチル０．３５５ｇ（２．５ミリモル）及
びジグライム１０ｍｌを仕込み、大気圧下１５０℃で４
時間反応させた。
【００３５】反応液を液体クロマトグラフィーで分析し
た結果、３，５−ジメチルピラゾールの転化率は１００
％であり、１，３，５−トリメチルピラゾールの収率は
９９．４％であった。 〔実施例１０〜１２〕アルコールの種類並びに量、ハロ
ゲン化物、溶媒、温度及び反応時間を代えた他は、実施
例９と同様に反応及び操作を行なった。結果を第２表に
示す。
た結果、３，５−ジメチルピラゾールの転化率は１００
％であり、１，３，５−トリメチルピラゾールの収率は
９９．４％であった。 〔実施例１０〜１２〕アルコールの種類並びに量、ハロ
ゲン化物、溶媒、温度及び反応時間を代えた他は、実施
例９と同様に反応及び操作を行なった。結果を第２表に
示す。
【００３６】
【表２】 第２表 ─────────────────────────────────── 実施例 アルコール ハロゲン化物 溶媒 温度 時間 転化率 収率 (℃) (hr) (%) (%) ─────────────────────────────────── 10 MeOH 57%HI (EtOC2H4)2O 150 4 25.4 25.4 (20mmol) (0.25mmol) 11 PhCH2OH 57%HI − 150 6 100.0 99.0 (10ml) (0.25mmol) 12 n-BuOH 57%HI (BuOC2H4)2O 190 12 55.0 54.3 (20mmol) (0.25mmol) ─────────────────────────────────── 〔実施例１３〕内容量２０ｍｌのステンレス製オートク
レーブに３，５−ジメチルピラゾール０．４８ｇ（５．
００ミリモル）、メタノール７．９１ｇ（０．２４７モ
ル）及び４７％ＨＢｒ水溶液４３．１ｍｇ（０．２５ミ
リモル）を仕込み、窒素置換した後密閉し、温度を１５
０℃まで上げて４〜５kg／cm2 の自圧下、２０時間反応
させた。
レーブに３，５−ジメチルピラゾール０．４８ｇ（５．
００ミリモル）、メタノール７．９１ｇ（０．２４７モ
ル）及び４７％ＨＢｒ水溶液４３．１ｍｇ（０．２５ミ
リモル）を仕込み、窒素置換した後密閉し、温度を１５
０℃まで上げて４〜５kg／cm2 の自圧下、２０時間反応
させた。
【００３７】反応液を液体クロマトグラフィーで分析し
た結果、３，５−ジメチルピラゾールの転化率は５３．
０％であり、１，３，５−トリメチルピラゾールの収率
は５２．４％であった。 〔実施例１４〜１９〕アルコールの量、ハロゲン化物、
溶媒及び温度を代えた他は、実施例１３と同様に反応及
び操作を行なった。結果を第３表に示す。
た結果、３，５−ジメチルピラゾールの転化率は５３．
０％であり、１，３，５−トリメチルピラゾールの収率
は５２．４％であった。 〔実施例１４〜１９〕アルコールの量、ハロゲン化物、
溶媒及び温度を代えた他は、実施例１３と同様に反応及
び操作を行なった。結果を第３表に示す。
【００３８】
【表３】 第３表 ─────────────────────────────────── 実施例 アルコール ハロゲン化物 溶媒 温度 転化率 収率 (℃) (%) (%) ─────────────────────────────────── 14 MeOH 47%HBr − 180 71.0 70.5 (0.247mol) (0.25mmol) 15 MeOH 57%HI − 150 49.0 48.2 (0.247mol) (0.25mmol) 16 MeOH 57%HI − 180 63.4 62.2 (0.247mol) (0.25mmol) 17 MeOH MeBr − 150 30.5 29.9 (0.247mol) (0.25mmol) 18 MeOH Me4NI ジオキサン 150 2.0 2.0 (0.020mol) (0.25mmol) 19 MeOH PhCH2Br − 150 11.3 11.2 (0.247mol) (0.25mmol) ─────────────────────────────────── 〔実施例２０〕４−メチルピラゾールをイミダゾール
０．４１５ｇ（６．１０ミリモル）に代えた他は、実施
例１と同様に反応及び操作を行なった。
０．４１５ｇ（６．１０ミリモル）に代えた他は、実施
例１と同様に反応及び操作を行なった。
【００３９】イミダゾールの転化率は５１．８％であ
り、１−メチルイミダゾールの収率は５１．１％であっ
た。 〔実施例２１〕４−メチルピラゾールを１，２，４−ト
リアゾール０．４２１ｇ（６．１０ミリモル）に代えた
他は、実施例１と同様に反応及び操作を行なった。
り、１−メチルイミダゾールの収率は５１．１％であっ
た。 〔実施例２１〕４−メチルピラゾールを１，２，４−ト
リアゾール０．４２１ｇ（６．１０ミリモル）に代えた
他は、実施例１と同様に反応及び操作を行なった。
【００４０】１，２，４−トリアゾールの転化率は９
２．４％であり、Ｎ−メチルー１、２、４ートリアゾー
ルの収率は９０．４％であった。
２．４％であり、Ｎ−メチルー１、２、４ートリアゾー
ルの収率は９０．４％であった。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (5)
- 【請求項１】 式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は各々同一または相異なってもよ
く、水素原子、アシル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、カルボキシル基、ホルミル基、トリアルキルシ
リル基、置換されていてもよい炭素数１〜６のアルコキ
シカルボニル基（この置換基としては水酸基、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アル
コキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級
アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級
アルキルスルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もし
くはフェニルチオ基を示す。）、置換されていてもよい
炭素数１〜６のアルキルカルボニルオキシ基（この置換
基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、ア
シル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
アルキルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、
フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示
す。）、置換されていてもよい炭素数１〜６のアルコキ
シ基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級ア
ルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカル
ボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルア
ミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルス
ルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニ
ルチオ基を示す。）、置換されていてもよい各々炭素数
１〜６のジアルキルアミノ基（この置換基としては水酸
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル
基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ
基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイ
ル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェ
ニル基、低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フェ
ノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換され
ていてもよい炭素数１〜６のアルキルチオ基（この置換
基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、ア
シル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
アルキルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、
フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示
す。）、置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル
スルフェニル基（この置換基としては水酸基、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アル
コキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級
アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級
アルキルスルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もし
くはフェニルチオ基を示す。）、置換されていてもよい
炭素数１〜６のアルキルスルホニル基（この置換基とし
ては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カル
ボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アル
キルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、
ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキル
スルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェニル
基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、
置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキルスルホニ
ルオキシ基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アル
コキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級
アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級
アルキルスルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もし
くはフェニルチオ基を示す。）、置換されていてもよい
炭素数１〜６のアルキル基（この置換基としては水酸
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル
基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ
基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイ
ル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェ
ニル基、低級アルキルスルホニル基、フェニル基、フェ
ノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換され
ていてもよい炭素数２〜６のアルケニル基（この置換基
としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
カルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級
アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル
基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アル
キルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示
す。）、置換されていてもよい炭素数２〜６のアルキニ
ル基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級ア
ルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカル
ボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルア
ミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルス
ルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニ
ルチオ基を示す。）または、置換されていてもよいフェ
ニル基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級
アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキル
アミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキル
スルホニル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェ
ニルチオ基を示す。）を表し、Ａは窒素原子あるいはＣ
−Ｒ3 を、Ｂは窒素原子あるいはＣ−Ｒ4 を表し、Ｒ3
及びＲ4 は各々同一または相異なってもよく、Ｒ1 及び
Ｒ2 と独立にＲ1 及びＲ2 と同様の意味を表す。〕で表
されるアゾール誘導体を、触媒量のハロゲン化物存在下
に、 式（２） 【化２】 〔式中、Ｒ5 は置換されていてもよい炭素数１〜６のア
ルキル基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低
級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ
カルボニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキ
ルアミノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキ
ルスルホニル基、トリアルキルシリル基、フェニル基、
フェノキシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）、置換
されていてもよい炭素数２〜６のアルケニル基（この置
換基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、ア
シル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
アルキルスルフェニル基、低級アルキルスルホニル基、
トリアルキルシリル基、フェニル基、フェノキシ基もし
くはフェニルチオ基を示す。）、置換されていてもよい
炭素数２〜６のアルキニル基（この置換基としては水酸
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル
基、ホルミル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ
基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ベンゾイ
ル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルスルフェ
ニル基、低級アルキルスルホニル基、トリアルキルシリ
ル基、フェニル基、フェノキシ基もしくはフェニルチオ
基を示す。）または、置換されていてもよいアラルキル
基（この置換基としては水酸基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、アシル基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルスル
ホニル基、トリアルキルシリル基、フェニル基、フェノ
キシ基もしくはフェニルチオ基を示す。）を表す。〕で
表されるアルコール誘導体と反応させることを特徴とす
る 式（３） 【化３】 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ5 は前記に同じ。〕
で表されるＮ−置換アゾール誘導体の製造方法。 - 【請求項２】 ハロゲン化物がハロゲン化水素、ハロ
ゲン化アルキル、ハロゲン化４級アンモニウム塩、ハロ
ゲン化４級ホスホニウム塩及びアルカリ金属のハロゲン
化物から選ばれることを特徴とする請求項１のＮ−置換
アゾール誘導体の製造方法。 - 【請求項３】 ハロゲン化物が臭化物及びヨウ化物か
ら選ばれることを特徴とする請求項２のＮ−置換アゾー
ル誘導体の製造方法。 - 【請求項４】 ハロゲン化物が臭化アルキル及びヨウ
化アルキルから選ばれることを特徴とする請求項３のＮ
−置換アゾール誘導体の製造方法。 - 【請求項５】 式（１）に対してハロゲン化物が０．
１から５０モル％であることを特徴とする請求項１のＮ
−置換アゾール誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5166374A JPH06345728A (ja) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | Ｎ−置換アゾール誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5166374A JPH06345728A (ja) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | Ｎ−置換アゾール誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06345728A true JPH06345728A (ja) | 1994-12-20 |
Family
ID=15830230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5166374A Pending JPH06345728A (ja) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | Ｎ−置換アゾール誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06345728A (ja) |
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-
1993
- 1993-06-11 JP JP5166374A patent/JPH06345728A/ja active Pending
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