JPH0634954A - 光変調素子及びその製造方法 - Google Patents
光変調素子及びその製造方法Info
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- JPH0634954A JPH0634954A JP21473792A JP21473792A JPH0634954A JP H0634954 A JPH0634954 A JP H0634954A JP 21473792 A JP21473792 A JP 21473792A JP 21473792 A JP21473792 A JP 21473792A JP H0634954 A JPH0634954 A JP H0634954A
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- Japan
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- liquid crystal
- light modulation
- composite film
- pva
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 パタ−ンコーティングを容易に行うことが出
来、又、電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画され
た複数の区画室内のみにコーテイングを容易に行うこと
が出来、その結果優れた特性を有する光変調素子及びそ
の製造方法を提供すること。 【構成】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散して
なる液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子において、
該複合膜が、液晶粒子と、重合度が300〜1,200
且つ鹸化度が50%〜85%のポリビニルアルコール
(PVA)と、シリカ超微粒子とからなり、PVA/液
晶の混合比(重量比)が5/95〜50/50である液
晶/高分子複合膜を用いることを特徴とする光変調素
子、及びその製造方法。
来、又、電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画され
た複数の区画室内のみにコーテイングを容易に行うこと
が出来、その結果優れた特性を有する光変調素子及びそ
の製造方法を提供すること。 【構成】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散して
なる液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子において、
該複合膜が、液晶粒子と、重合度が300〜1,200
且つ鹸化度が50%〜85%のポリビニルアルコール
(PVA)と、シリカ超微粒子とからなり、PVA/液
晶の混合比(重量比)が5/95〜50/50である液
晶/高分子複合膜を用いることを特徴とする光変調素
子、及びその製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電界や熱に対して応答
性を有し、各種情報の表示や記録を行うことが出来る液
晶/高分子複合膜を用いた光変調素子及びその製造方法
に関するものであり、本発明の光変調素子は、調光パネ
ル、ディスプレイ、記録媒体等に幅広く応用することが
出来る。
性を有し、各種情報の表示や記録を行うことが出来る液
晶/高分子複合膜を用いた光変調素子及びその製造方法
に関するものであり、本発明の光変調素子は、調光パネ
ル、ディスプレイ、記録媒体等に幅広く応用することが
出来る。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶ディスプレイは、低消費電
力、軽量、薄型等の特徴を有している為、文字や画像の
表示媒体として、腕時計、電卓、パソコン、テレビ等に
幅広く用いられている。一般的なTN及びSTN−液晶
ディスプレイは、透明電極を有するガラス板間に所定の
シール等が施された液晶セル中に液晶を封入し、更に両
面から偏光板でサンドイッチされたものである。しかし
ながら、(1)2枚の偏光板が必要である為、視野角が
狭く、又、輝度が不足している為、高消費電力のバック
ライトが必要である、(2)セル厚依存性が大きく、大
面積化が困難である、(3)構造が複雑で、セルへの液
晶の封入が困難な為、製造コストが高い等の問題があ
り、液晶ディスプレイの軽量化、薄型化、大面積化、低
消費電力化、低コスト化等には限界がある。
力、軽量、薄型等の特徴を有している為、文字や画像の
表示媒体として、腕時計、電卓、パソコン、テレビ等に
幅広く用いられている。一般的なTN及びSTN−液晶
ディスプレイは、透明電極を有するガラス板間に所定の
シール等が施された液晶セル中に液晶を封入し、更に両
面から偏光板でサンドイッチされたものである。しかし
ながら、(1)2枚の偏光板が必要である為、視野角が
狭く、又、輝度が不足している為、高消費電力のバック
ライトが必要である、(2)セル厚依存性が大きく、大
面積化が困難である、(3)構造が複雑で、セルへの液
晶の封入が困難な為、製造コストが高い等の問題があ
り、液晶ディスプレイの軽量化、薄型化、大面積化、低
消費電力化、低コスト化等には限界がある。
【0003】この様な問題点を解決する液晶表示媒体と
して、液晶を高分子マトリックスに分散させた液晶/高
分子複合膜を用いた光散乱機構に基づく光変調素子の応
用が期待され、その研究開発が活発化してきた。既に、
液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子及びその製造方
法が多数開示されているが、その一つとして、液晶をポ
リビニルアルコール(PVA)水溶液で分散したエマル
ジョンから作製する方法(特公平3−52843号公
報)を挙げることが出来る。この方法で作製された光変
調素子は、二色性染料を添加することによってコントラ
スト比を向上させるが可能である、電圧OFF時の透過
率が低い等の特徴を有している。
して、液晶を高分子マトリックスに分散させた液晶/高
分子複合膜を用いた光散乱機構に基づく光変調素子の応
用が期待され、その研究開発が活発化してきた。既に、
液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子及びその製造方
法が多数開示されているが、その一つとして、液晶をポ
リビニルアルコール(PVA)水溶液で分散したエマル
ジョンから作製する方法(特公平3−52843号公
報)を挙げることが出来る。この方法で作製された光変
調素子は、二色性染料を添加することによってコントラ
スト比を向上させるが可能である、電圧OFF時の透過
率が低い等の特徴を有している。
【0004】
【発明が解決しようとしている問題点】上記の液晶のP
VA分散水溶液から作製された光変調素子は、上述した
様な特徴を有しているが、液晶のPVA分散水溶液は、
電極基板に対する濡れ性が悪く、光変調素子に用いるこ
とが出来る、均一な液晶/高分子複合膜を形成すること
が困難である。PVAとして、適度な重合度(300〜
1,200)及び鹸化度(85%〜50%)のものを用
いれば、電極基板の濡れ性に関しては、ブレ−ドコーテ
ィングによって問題ないレベルに成膜可能であるが、塗
膜エッジ、塗り始め及び塗り終わりの塗布ムラや、高価
な余分な分散液を使用するという問題がある。
VA分散水溶液から作製された光変調素子は、上述した
様な特徴を有しているが、液晶のPVA分散水溶液は、
電極基板に対する濡れ性が悪く、光変調素子に用いるこ
とが出来る、均一な液晶/高分子複合膜を形成すること
が困難である。PVAとして、適度な重合度(300〜
1,200)及び鹸化度(85%〜50%)のものを用
いれば、電極基板の濡れ性に関しては、ブレ−ドコーテ
ィングによって問題ないレベルに成膜可能であるが、塗
膜エッジ、塗り始め及び塗り終わりの塗布ムラや、高価
な余分な分散液を使用するという問題がある。
【0005】又、上記PVAの水溶液は粘度が低い為、
該水溶液に液晶を乳化させたエマルジョンで、電極基板
上の必要なところにのみ複合膜を形成するパタ−ンコー
ティングを行うには、従来の加工方法(ブレ−ドコーテ
ィング等)を適用することが出来ないという問題があ
り、又、メッシュのないスクリーン印刷や電極基板上に
形成した電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画され
た複数の区画室内のみにエマルジョンを充填し、乾燥
後、隔壁の高さよりも低い、区画室内に形成された液晶
/高分子複合膜と、対向電極基板との空間を導電性物質
で充填して導電性物質と電極とを接続する方法を用いて
も、同様に粘度が低い為、版の裏面への分散液の裏回り
や区画室内の中心部の膜へこみ等の問題点がある。
該水溶液に液晶を乳化させたエマルジョンで、電極基板
上の必要なところにのみ複合膜を形成するパタ−ンコー
ティングを行うには、従来の加工方法(ブレ−ドコーテ
ィング等)を適用することが出来ないという問題があ
り、又、メッシュのないスクリーン印刷や電極基板上に
形成した電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画され
た複数の区画室内のみにエマルジョンを充填し、乾燥
後、隔壁の高さよりも低い、区画室内に形成された液晶
/高分子複合膜と、対向電極基板との空間を導電性物質
で充填して導電性物質と電極とを接続する方法を用いて
も、同様に粘度が低い為、版の裏面への分散液の裏回り
や区画室内の中心部の膜へこみ等の問題点がある。
【0006】従って、本発明の目的は、上記従来技術の
問題点を解決し、パタ−ンコーティングを容易に行うこ
とが出来、又、電気絶縁性材料からなる隔壁によって区
画された複数の区画室内のみにコーテイングを容易に行
うことが出来、その結果優れた特性を有する光変調素子
及びその製造方法を提供することである。
問題点を解決し、パタ−ンコーティングを容易に行うこ
とが出来、又、電気絶縁性材料からなる隔壁によって区
画された複数の区画室内のみにコーテイングを容易に行
うことが出来、その結果優れた特性を有する光変調素子
及びその製造方法を提供することである。
【0007】
【問題点を解決する為の手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、液晶粒子が高分
子マトリックス中に分散してなる液晶/高分子複合膜を
用いた光変調素子において、該複合膜が、液晶粒子と、
重合度が300〜1,200且つ鹸化度が50%〜85
%のポリビニルアルコール(PVA)と、シリカ超微粒
子とからなり、PVA/液晶の混合比(重量比)が5/
95〜50/50である液晶/高分子複合膜を用いるこ
とを特徴とする光変調素子、及びその製造方法である。
によって達成される。即ち、本発明は、液晶粒子が高分
子マトリックス中に分散してなる液晶/高分子複合膜を
用いた光変調素子において、該複合膜が、液晶粒子と、
重合度が300〜1,200且つ鹸化度が50%〜85
%のポリビニルアルコール(PVA)と、シリカ超微粒
子とからなり、PVA/液晶の混合比(重量比)が5/
95〜50/50である液晶/高分子複合膜を用いるこ
とを特徴とする光変調素子、及びその製造方法である。
【0008】
【作用】液晶のPVA分散液の分散性は、加工適性、特
に電極基板に対する濡れ性だけでなく、電気光学特性に
も大きな影響を及ぼす。そこで、液晶の分散性を重合度
が300〜1,200且つ鹸化度が50%〜85%のP
VAの水溶液を用いて向上させ、液晶分散液の流動特性
を、適当なシリカ超微粒子、特に好ましくは疎水性シリ
カ超微粒子を添加して改善することによって、加工適性
及び電気光学特性に優れた液晶/高分子複合膜の作製が
可能になった。
に電極基板に対する濡れ性だけでなく、電気光学特性に
も大きな影響を及ぼす。そこで、液晶の分散性を重合度
が300〜1,200且つ鹸化度が50%〜85%のP
VAの水溶液を用いて向上させ、液晶分散液の流動特性
を、適当なシリカ超微粒子、特に好ましくは疎水性シリ
カ超微粒子を添加して改善することによって、加工適性
及び電気光学特性に優れた液晶/高分子複合膜の作製が
可能になった。
【0009】即ち、先ず、液晶を重合度300〜1,2
00且つ鹸化度50%〜85%のPVAの水溶液中に分
散させた後、そこに、適当なシリカ超微粒子、例えば、
疎水性シリカ超微粒子を1〜10重量%添加して作製さ
れた液晶のPVA分散液を用い、例えば、メッシュのな
いメタルスクリーン印刷及び電極基板上に形成した電気
絶縁性材料からなる隔壁によって区画された複数の区画
室内のみにエマルジョンを充填し、乾燥後、隔壁の高さ
よりも低い、区画室内に形成された液晶/高分子複合膜
と、対向電極基板との空間を導電性物質で充填して導電
性物質と電極とを接続することによって、必要なところ
だけに液晶/高分子複合膜を形成するパタ−ンコートが
可能になる。
00且つ鹸化度50%〜85%のPVAの水溶液中に分
散させた後、そこに、適当なシリカ超微粒子、例えば、
疎水性シリカ超微粒子を1〜10重量%添加して作製さ
れた液晶のPVA分散液を用い、例えば、メッシュのな
いメタルスクリーン印刷及び電極基板上に形成した電気
絶縁性材料からなる隔壁によって区画された複数の区画
室内のみにエマルジョンを充填し、乾燥後、隔壁の高さ
よりも低い、区画室内に形成された液晶/高分子複合膜
と、対向電極基板との空間を導電性物質で充填して導電
性物質と電極とを接続することによって、必要なところ
だけに液晶/高分子複合膜を形成するパタ−ンコートが
可能になる。
【0010】
【好ましい実施態様】次に好ましい実施態様を挙げて本
発明を更に詳細に説明する。下記表1と図1に示す様
に、PVAの重合度及び鹸化度によってその水溶液の表
面張力は異なってくる。即ち、PVAの重合度及び鹸化
度によって、PVAが液晶を分散する能力に差が生じ
る。この様に重合度が低い程、又、鹸化度が低い程、P
VAが液晶を分散する能力が高くなる。
発明を更に詳細に説明する。下記表1と図1に示す様
に、PVAの重合度及び鹸化度によってその水溶液の表
面張力は異なってくる。即ち、PVAの重合度及び鹸化
度によって、PVAが液晶を分散する能力に差が生じ
る。この様に重合度が低い程、又、鹸化度が低い程、P
VAが液晶を分散する能力が高くなる。
【0011】
【表1】 各種PVAの鹸化度と重合度
【0012】その結果、下記表2に示す各種PVAの水
溶液を用いて液晶(E−44)を分散したとき、各PV
Aによって液晶粒子の分散性は異なり、液晶粒子の粒子
径分布は、図2及び図3に示した様に変化する。
溶液を用いて液晶(E−44)を分散したとき、各PV
Aによって液晶粒子の分散性は異なり、液晶粒子の粒子
径分布は、図2及び図3に示した様に変化する。
【表2】 各種PVAの液晶(E−44)分散系におけ
るPVAの構造と加工適性
るPVAの構造と加工適性
【0013】一方、PVAの鹸化度が高いと、液晶粒子
の分散性が悪くなり、水相中に液晶が存在する割合が増
加すると共に、粒子径分布が広く、粒子径が大きくな
る。その結果、分散性の悪い場合、電極基板に対する濡
れ性が悪く、加工適性が低下すると共に(表2)、液晶
/高分子複合膜の粒子径分布が広く、粒子径が大きくな
る為(図4)、電気光学特性も低下する(図5)。又、
PVAの重合度が大きい場合も、液晶粒子の分散性が悪
く、粒子径分布が広く、粒子径も大きくなり、電気光学
特性は低下するが(図5)、粘度が高くなる為、加工適
性は良くなる。この様な中で、適度な重合度(300〜
1,200)及び鹸化度(85%〜50%)のPVAで
あれば、電極基板の濡れ性に関しては、問題のないレベ
ルに達するが、必要なところだけにパタ−ンコーティン
グするには、上記PVAでは粘度が低く、チキソトロピ
ック性を有していない為、従来の加工方法を適用するこ
とが出来ない。
の分散性が悪くなり、水相中に液晶が存在する割合が増
加すると共に、粒子径分布が広く、粒子径が大きくな
る。その結果、分散性の悪い場合、電極基板に対する濡
れ性が悪く、加工適性が低下すると共に(表2)、液晶
/高分子複合膜の粒子径分布が広く、粒子径が大きくな
る為(図4)、電気光学特性も低下する(図5)。又、
PVAの重合度が大きい場合も、液晶粒子の分散性が悪
く、粒子径分布が広く、粒子径も大きくなり、電気光学
特性は低下するが(図5)、粘度が高くなる為、加工適
性は良くなる。この様な中で、適度な重合度(300〜
1,200)及び鹸化度(85%〜50%)のPVAで
あれば、電極基板の濡れ性に関しては、問題のないレベ
ルに達するが、必要なところだけにパタ−ンコーティン
グするには、上記PVAでは粘度が低く、チキソトロピ
ック性を有していない為、従来の加工方法を適用するこ
とが出来ない。
【0014】とかろが、上述した様な電気光学特性に優
れた液晶のPVA分散液にシリカ微粒子を1〜10重量
%添加することによって、チキソトロピック性が付与さ
れ、加工適性と電気光学特性の両者を満足させることが
出来る。この加工適性を付与した分散液を用い、例え
ば、メッシュのないメタルスクリーン印刷及び電極基板
上に形成した電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画
された複数の区画室内のみに液晶エマルジョンを充填
し、乾燥後、隔壁の高さよりも低い、区画室内に形成さ
れた液晶/高分子複合膜と、対向電極基板との空間を導
電性物質で充填して導電性物質と電極とを接続すること
によって、必要なところだけに液晶/高分子複合膜を形
成するパタ−ンコートが可能になる。
れた液晶のPVA分散液にシリカ微粒子を1〜10重量
%添加することによって、チキソトロピック性が付与さ
れ、加工適性と電気光学特性の両者を満足させることが
出来る。この加工適性を付与した分散液を用い、例え
ば、メッシュのないメタルスクリーン印刷及び電極基板
上に形成した電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画
された複数の区画室内のみに液晶エマルジョンを充填
し、乾燥後、隔壁の高さよりも低い、区画室内に形成さ
れた液晶/高分子複合膜と、対向電極基板との空間を導
電性物質で充填して導電性物質と電極とを接続すること
によって、必要なところだけに液晶/高分子複合膜を形
成するパタ−ンコートが可能になる。
【0015】更に詳しく説明すると、先ず、電気光学特
性を満足させる様な、液晶を分散するPVAとしては、
重合度300〜1,200且つ鹸化度50%〜85%の
ものが用いられる。重合度300未満では、液晶/高分
子複合膜としてPVAの力学的強度が不足する。重合度
が1,200越えると、液晶の分散性が悪くなる。分散
条件としては、PVAの1〜15重量%水溶液に、液晶
をPVA/液晶=5/95〜50/50となる様に添加
して、膜乳化方法、機械的撹拌、超音波等によって分散
させるのが好ましい。特に膜乳化方法によって分散させ
ることによって、液晶滴の粒径が均一となり、形成され
る膜の電気光学特性に優れたものが得られる。PVAの
使用量が5/95未満では、膜としての強度が維持出来
ず、得られる素子の光散乱能が低下する。又、PVAの
使用量がPVA/液晶=50/50を越えると素子の駆
動電圧が高くなり、応答性が悪くなる。
性を満足させる様な、液晶を分散するPVAとしては、
重合度300〜1,200且つ鹸化度50%〜85%の
ものが用いられる。重合度300未満では、液晶/高分
子複合膜としてPVAの力学的強度が不足する。重合度
が1,200越えると、液晶の分散性が悪くなる。分散
条件としては、PVAの1〜15重量%水溶液に、液晶
をPVA/液晶=5/95〜50/50となる様に添加
して、膜乳化方法、機械的撹拌、超音波等によって分散
させるのが好ましい。特に膜乳化方法によって分散させ
ることによって、液晶滴の粒径が均一となり、形成され
る膜の電気光学特性に優れたものが得られる。PVAの
使用量が5/95未満では、膜としての強度が維持出来
ず、得られる素子の光散乱能が低下する。又、PVAの
使用量がPVA/液晶=50/50を越えると素子の駆
動電圧が高くなり、応答性が悪くなる。
【0016】次に、加工適性を向上させるシリカ微粒子
としては、表面が疎水性処理されている疎水性シリカ微
粒子が好ましく、かかる疎水性シリカ微粒子としては、
アエロジル(日本アエロジル社製商品名)として市販さ
れている。、例えば、粒子径7〜50μmのAEROS
IL 130、200、300、OX50等の商品名で
入手して本発明で使用することが出来る。添加量は1重
量%〜10重量%の範囲が好ましく、この範囲外では、
十分なチキソトロピック性を付与することが出来ない。
としては、表面が疎水性処理されている疎水性シリカ微
粒子が好ましく、かかる疎水性シリカ微粒子としては、
アエロジル(日本アエロジル社製商品名)として市販さ
れている。、例えば、粒子径7〜50μmのAEROS
IL 130、200、300、OX50等の商品名で
入手して本発明で使用することが出来る。添加量は1重
量%〜10重量%の範囲が好ましく、この範囲外では、
十分なチキソトロピック性を付与することが出来ない。
【0017】本発明で云う液晶とは、常温付近で液晶状
態を示す有機混合物であって、ネマチック液晶、コレス
テリック液晶、スメクチック液晶が含まれる。このうち
ネマチック液晶若しくはコレステリック液晶を添加した
ネマティック液晶が特性上好ましい。液晶中にコントラ
スト或いは色調を改善させる為に色素を含有させること
も出来る。二色性色素を添加した場合には、散乱−透過
型の複合膜としてばかりでなく、色素のゲスト−ホスト
効果により、光吸収(着色)−透明状態でスイッチング
する複合膜として使用することも出来る。前記PVA水
溶液に上記液晶を分散させる方法としては、超音波分散
機等の各種の撹拌装置による乳化方法や、膜乳化法(中
島忠夫・清水政高、PHARMTECH JAPAN
4巻、10号(1988)参照)等の乳化方法が有効で
ある。液晶エマルジョン粒子の大きさは、用いる分散方
法に依存するが、一般的には0.5〜7μmの範囲にあ
ることが好ましく、1〜4μmの範囲であることが更に
好ましい。
態を示す有機混合物であって、ネマチック液晶、コレス
テリック液晶、スメクチック液晶が含まれる。このうち
ネマチック液晶若しくはコレステリック液晶を添加した
ネマティック液晶が特性上好ましい。液晶中にコントラ
スト或いは色調を改善させる為に色素を含有させること
も出来る。二色性色素を添加した場合には、散乱−透過
型の複合膜としてばかりでなく、色素のゲスト−ホスト
効果により、光吸収(着色)−透明状態でスイッチング
する複合膜として使用することも出来る。前記PVA水
溶液に上記液晶を分散させる方法としては、超音波分散
機等の各種の撹拌装置による乳化方法や、膜乳化法(中
島忠夫・清水政高、PHARMTECH JAPAN
4巻、10号(1988)参照)等の乳化方法が有効で
ある。液晶エマルジョン粒子の大きさは、用いる分散方
法に依存するが、一般的には0.5〜7μmの範囲にあ
ることが好ましく、1〜4μmの範囲であることが更に
好ましい。
【0018】こうして得られた液晶粒子分散液から、液
晶/高分子複合膜を形成する本発明の方法は、適当な電
極基材上に通常の塗布方法で前記エマルジョンを塗布及
び乾燥する方法である。塗布方法としては、電極基板全
面に液晶高分子複合膜を形成する場合には、通常の塗布
方法でもよい。しかしながら、基板の所定位置又は所定
部分のみに均一な複合膜をパターン状の形成する場合に
は、メッシュのないメタルスクリーンを用いてコーティ
ングしたり、又、電極基板上に形成した電気絶縁性材料
からなる隔壁によって区画された区画室に液晶エマルジ
ョン充填する場合にはメッシュのないメタルスクリーン
版とスキージを用いる方法等を用いることが望ましい。
この様にして得られる複合膜の厚みは5〜15μm程度
が好適である。
晶/高分子複合膜を形成する本発明の方法は、適当な電
極基材上に通常の塗布方法で前記エマルジョンを塗布及
び乾燥する方法である。塗布方法としては、電極基板全
面に液晶高分子複合膜を形成する場合には、通常の塗布
方法でもよい。しかしながら、基板の所定位置又は所定
部分のみに均一な複合膜をパターン状の形成する場合に
は、メッシュのないメタルスクリーンを用いてコーティ
ングしたり、又、電極基板上に形成した電気絶縁性材料
からなる隔壁によって区画された区画室に液晶エマルジ
ョン充填する場合にはメッシュのないメタルスクリーン
版とスキージを用いる方法等を用いることが望ましい。
この様にして得られる複合膜の厚みは5〜15μm程度
が好適である。
【0019】本発明の別の好ましい実施態様では、前記
液晶エマルジョンを処理して、液晶を内包するマイクロ
カプセルを製造し、該マイクロカプセル分散液をそのま
ま或は分離後再度塗液を調製して上記の如き方法により
液晶/高分子複合膜を作製することが出来る。液晶の分
散したエマルジョンからマイクロカプセルを製造する方
法としては、化学的作製法及び物理化学的作製法の両者
を利用することが出来る。化学的作成法については合成
反応を用いる界面重合法、in situ重合法及び高
分子物性変化を生じさせる液中硬化被覆法がある。界面
重合法は重縮合或いは重付加反応する様な二種のモノマ
ーとして、水溶性のものと油溶性のものを選択し、いず
れかを分散させてその界面で反応させる方法である。i
n situ重合法は核材の内、又は外の一方からリア
クタント(モノマー及び開始剤)を供給し、カプセル壁
膜表面で反応させる方法である。
液晶エマルジョンを処理して、液晶を内包するマイクロ
カプセルを製造し、該マイクロカプセル分散液をそのま
ま或は分離後再度塗液を調製して上記の如き方法により
液晶/高分子複合膜を作製することが出来る。液晶の分
散したエマルジョンからマイクロカプセルを製造する方
法としては、化学的作製法及び物理化学的作製法の両者
を利用することが出来る。化学的作成法については合成
反応を用いる界面重合法、in situ重合法及び高
分子物性変化を生じさせる液中硬化被覆法がある。界面
重合法は重縮合或いは重付加反応する様な二種のモノマ
ーとして、水溶性のものと油溶性のものを選択し、いず
れかを分散させてその界面で反応させる方法である。i
n situ重合法は核材の内、又は外の一方からリア
クタント(モノマー及び開始剤)を供給し、カプセル壁
膜表面で反応させる方法である。
【0020】物理化学的作成法としては、相分離を利用
したコアセルベーション法、界面沈殿法、液中濃縮法、
液中乾燥法及び二次エマルジョン法等がある。溶解性の
減少により相分離を生じさせる単純コアセルベーション
法、電気的相互作用により相分離を生じさせる複合コア
セルベーション法も用いることが出来る。界面沈殿法は
激しい反応や急激なpH変化等が伴わない、温和な条件
でカプセル化が可能な方法であり、例えば、液晶核材を
分散したエマルジョンを疎水性高分子の溶剤溶液中に分
散させた後、更に保護コロイド水溶液に再分散させるも
のである。
したコアセルベーション法、界面沈殿法、液中濃縮法、
液中乾燥法及び二次エマルジョン法等がある。溶解性の
減少により相分離を生じさせる単純コアセルベーション
法、電気的相互作用により相分離を生じさせる複合コア
セルベーション法も用いることが出来る。界面沈殿法は
激しい反応や急激なpH変化等が伴わない、温和な条件
でカプセル化が可能な方法であり、例えば、液晶核材を
分散したエマルジョンを疎水性高分子の溶剤溶液中に分
散させた後、更に保護コロイド水溶液に再分散させるも
のである。
【0021】
【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に
具体的に説明する。 実施例1 KP−06(日本合成化学工業製、重合度:約600、
鹸化度:71.0〜75.0)の5重量%水溶液に、E
−44(メルク社製)をPVA/液晶の混合比が20/
80(w/w)となる様に添加して超音波で分散した。
この分散液にAEROSIL 380を5重量%添加し
て目的とするチキソトロピック性を有する液晶分散液を
作製した。上記液晶分散液を用い、メッシュのないメタ
ルスクリーン印刷で素子基板上に成膜を行なった結果良
好なパタ−ンコートが出来た。
具体的に説明する。 実施例1 KP−06(日本合成化学工業製、重合度:約600、
鹸化度:71.0〜75.0)の5重量%水溶液に、E
−44(メルク社製)をPVA/液晶の混合比が20/
80(w/w)となる様に添加して超音波で分散した。
この分散液にAEROSIL 380を5重量%添加し
て目的とするチキソトロピック性を有する液晶分散液を
作製した。上記液晶分散液を用い、メッシュのないメタ
ルスクリーン印刷で素子基板上に成膜を行なった結果良
好なパタ−ンコートが出来た。
【0022】比較例1 KP−06の10重量%水溶液にE−44をKP−06
/E−44=20/80(w/w)となる様に添加し、
超音波分散して得られた分散液を用いて、素子基板上に
メッシュのないパタ−ンコートを行ったが、粘度が極め
て低い為、版の裏への分散液の裏回りやスキ−ジで印刷
したときの膜厚の均一性等に問題があった。
/E−44=20/80(w/w)となる様に添加し、
超音波分散して得られた分散液を用いて、素子基板上に
メッシュのないパタ−ンコートを行ったが、粘度が極め
て低い為、版の裏への分散液の裏回りやスキ−ジで印刷
したときの膜厚の均一性等に問題があった。
【0023】
【発明の効果】本発明により、基板素子上の必要なとこ
ろだけに、液晶/高分子複合膜を形成することが出来、
パタ−ンニングされた、従来にない光変調素子を作製す
ることが出来るだけでなく、素子のコスト低減を達成す
ることが出来る。又、液晶分散液の塗布ムラによる視認
性の低下や対向電極基板の貼り合せ不良等も改善するこ
とが出来る。一方、超微粒子シリカを用いる為、液晶/
高分子複合膜の力学的強度が向上し、電気光学特性の安
定化にも効果がある。
ろだけに、液晶/高分子複合膜を形成することが出来、
パタ−ンニングされた、従来にない光変調素子を作製す
ることが出来るだけでなく、素子のコスト低減を達成す
ることが出来る。又、液晶分散液の塗布ムラによる視認
性の低下や対向電極基板の貼り合せ不良等も改善するこ
とが出来る。一方、超微粒子シリカを用いる為、液晶/
高分子複合膜の力学的強度が向上し、電気光学特性の安
定化にも効果がある。
【0024】
【図1】PVAの鹸化度及び分子量とPVA水溶液の表
面張力との関係(4%PVA水溶液、測定温度20℃)
を説明する図。
面張力との関係(4%PVA水溶液、測定温度20℃)
を説明する図。
【図2】各種PVA中の液晶粒子の粒子径分布を説明す
る図。
る図。
【図3】各種PVA中の液晶粒子の粒子径分布を説明す
る図。
る図。
【図4】液晶/各種PVA複合膜の構造を説明する図。
【図5】液晶/各種PVA複合膜の電界応答性を説明す
る図。
る図。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年2月18日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】PVAの鹸化度及び分子量とPVA水溶液の表
面張力との関係(4%PVA水溶液、測定温度20℃)
を説明する図。
面張力との関係(4%PVA水溶液、測定温度20℃)
を説明する図。
【図2】各種PVA中の液晶粒子の粒子径分布を説明す
る図。
る図。
【図3】各種PVA中の液晶粒子の粒子径分布を説明す
る図。
る図。
【図4】液晶/各種PVA薄膜の構造を説明する写真。
【図5】液晶/各種PVA複合膜の電界応答性を説明す
る図。
る図。
Claims (6)
- 【請求項1】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散
してなる液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子におい
て、該複合膜が、液晶粒子と、重合度が300〜1,2
00且つ鹸化度が50%〜85%のポリビニルアルコー
ル(PVA)と、シリカ超微粒子とからなり、PVA/
液晶の混合比(重量比)が5/95〜50/50である
液晶/高分子複合膜を用いることを特徴とする光変調素
子。 - 【請求項2】 シリカ超微粒子が、疎水性シリカ超微粒
子である請求項1に記載の光変調素子。 - 【請求項3】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散
してなる液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子の製造
方法において、上記複合膜を、液晶を重合度が300〜
1,200且つ鹸化度が50%〜85%のPVA水溶液
中に、PVA/液晶の混合比(重量比)が5/95〜5
0/50となる様に添加分散させた後、シリカ超微粒子
を添加して得られる液晶エマルジョンを成膜する工程を
含むことを特徴とする光変調素子の製造方法。 - 【請求項4】 シリカ超微粒子が、疎水性シリカ超微粒
子である請求項1に記載の光変調素子の製造方法。 - 【請求項5】 液晶エマルジョンの成膜を、メッシュの
ないメタルスクリーン版とスキ−ジで電極基板上にパタ
−ン塗布した後、乾燥し、シ−ル材を形成した対向電極
基板を貼り合せて行う請求項3に記載の光変調素子の製
造方法。 - 【請求項6】 液晶エマルジョンを、電極基板上に形成
した電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画された複
数の区画室内のみに充填し、乾燥後、隔壁の高さよりも
低い、区画室内に形成された液晶/高分子複合膜と、対
向電極基板との空間を導電性物質で充填して導電性物質
と電極とを接続する請求項3に記載の光変調素子の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21473792A JPH0634954A (ja) | 1992-07-21 | 1992-07-21 | 光変調素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21473792A JPH0634954A (ja) | 1992-07-21 | 1992-07-21 | 光変調素子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0634954A true JPH0634954A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16660770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21473792A Pending JPH0634954A (ja) | 1992-07-21 | 1992-07-21 | 光変調素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0634954A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844233A1 (en) * | 1996-11-26 | 1998-05-27 | Dsm N.V. | Process for preparing alpha-amino acid amides, alpha-amino acids and derivatives thereof |
| JP2008074897A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Fuji Xerox Co Ltd | 液晶含有組成物、液晶含有組成物の製造方法、及び液晶表示素子 |
| JP2008536163A (ja) * | 2005-03-22 | 2008-09-04 | インダストリアル テクノロジー リサーチ インスティチュート | 改善された特性を有する高性能可撓性ディスプレイ |
-
1992
- 1992-07-21 JP JP21473792A patent/JPH0634954A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844233A1 (en) * | 1996-11-26 | 1998-05-27 | Dsm N.V. | Process for preparing alpha-amino acid amides, alpha-amino acids and derivatives thereof |
| BE1010768A3 (nl) * | 1996-11-26 | 1999-01-05 | Dsm Nv | Een werkwijze voor de bereiding van alpha-aminozuuramiden, alpha-aminozuren en derivaten ervan. |
| JP2008536163A (ja) * | 2005-03-22 | 2008-09-04 | インダストリアル テクノロジー リサーチ インスティチュート | 改善された特性を有する高性能可撓性ディスプレイ |
| JP2013011893A (ja) * | 2005-03-22 | 2013-01-17 | Ind Technol Res Inst | 改善された特性を有する高性能可撓性ディスプレイ |
| JP2008074897A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Fuji Xerox Co Ltd | 液晶含有組成物、液晶含有組成物の製造方法、及び液晶表示素子 |
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