JPH0635946B2 - 光波反射像測定装置 - Google Patents

光波反射像測定装置

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JPH0635946B2
JPH0635946B2 JP30016990A JP30016990A JPH0635946B2 JP H0635946 B2 JPH0635946 B2 JP H0635946B2 JP 30016990 A JP30016990 A JP 30016990A JP 30016990 A JP30016990 A JP 30016990A JP H0635946 B2 JPH0635946 B2 JP H0635946B2
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直弘 丹野
勉 市村
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J9/00Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
    • G01J9/04Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by beating two waves of a same source but of different frequency and measuring the phase shift of the lower frequency obtained

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、部分的コヒーレント光を例えば生体の組織
構造等の被測定物体に照射し、被測定物体中からの反射
光波の振幅像を検出する装置に係わり、特に、ヘテロダ
イン検波受光系を用いる光波反射像測定装置に関する。
(従来の技術) 従来のX線CT(Computered Tomography)技術は、X
線源を被測定物体に透過し、X線ビーム断面内の物体の
吸収を透過経路全体に亘る積分値として測定し、被測定
物体に対して多数の方位より同様の測定を行う。これら
測定結果をもとにコンピュータによって処理し、被測定
物体内の各点の吸収量を解読して表示し、断層像を得る
ものである。したがって、この方法では被測定物体を全
方位から測定する必要があり、位置と解読点の面積の分
解能はX線ビームの断面積と測定点数に依存する。
一方、X線源の代わりにコヒーレントなレーザビームを
用い同様の手法でレーザビームを照射し、透過光を光ヘ
テロダイン法で高感度検出してCTを得る方法が開示さ
れている(1989年秋季第50回応用物理学会学術講演会講
演予稿集第3分冊、講演番号29a-ZF-7,8,9,P.788,198
9)。しかし、このレーザビームによる透過吸収測定法
の場合も、被測定物体内の各点の位置を特定するため
に、被測定物体に対して全方位から測定する必要を有し
ており、測定や演算処理に多大な時間を必要とするもの
であった。
(発明が解決しようとする課題) この発明は、上記従来の課題を解決するものであり、そ
の目的とするところは、被測定物体に対して全方位から
測定することなく、被測定物体内の点を特定することが
可能であり、測定および演算処理を簡単化することがで
きる光波反射像測定装置を提供しようとするものであ
る。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) この発明は、上記課題を解決するため、部分的コヒーレ
ント光を照射光として屈折率の異なる層からなる散乱物
体に照射する照射手段と、前記照射光の周波数をシフト
させた参照光を生成する生成手段と、前記散乱物体内部
の奥行き方向の屈折率の異なる地点からの反射光と、参
照光とを合成する合成手段と、この合成された光を光電
変換する変換手段と、この変換手段から出力されるビー
ト成分を検出することにより、散乱物体の奥行き方向の
屈折率の異なる地点の反射振幅情報を検出する検出手段
とを設けている。
(作用) すなわち、この発明は、散乱物体の一方向より部分的コ
ヒーレント光を散乱成分が多く含んでいる生体等の散乱
物体に照射し、この散乱物体の奥行き方向の各地点から
反射される散乱成分を多く含む反射光と部分的コヒーレ
ント光の周波数をシフトさせた参照光とのビート成分を
検出することにより、散乱成分を確実に除去して、散乱
物体の奥行き方向の各地点から反射情報のみを確実に抽
出可能としている。
しかも、この発明によれば、散乱物体の一方向より部分
的コヒーレント光を照射することによって散乱物体の奥
行き方向の各地点から反射情報を得ることができるた
め、散乱物体の全方位から光を照射することなく、散乱
物体内部の各地点の情報を特定することができる。つま
り、散乱物体内部の各地点からの反射光としての多重遅
延位相反射光を時系列電気信号として再生し、数十ミク
ロンm以下の空間分解能で、比較的簡単なアルゴリズム
により短時間のうちに散乱物体の奥行き方向の各地点か
らの反射光を測定可能としている。したがって、光の照
射回数を減少することができるとともに、断層画像を生
成するための演算時間を従来に比べて短縮することがで
きるものである。
(実施例) 以下、この発明の一実施例について図面を参照して説明
する。
第1図において、発光素子1は部分的にコヒーレントな
光ビームを発生するものであり、例えば一個ないし複数
のスーパールミネッセントダイオードあるいは疑似白色
光源によって構成されている。この発光素子1から発生
される光ビームの光軸上には、集光レンズ2、ビームス
プリッター3、被測定物体4が順次配設されている。こ
の被測定物体4は例えばX,Y,Z軸方向に移動可能な
可動台5に載置されている。また、前記発光素子1から
発生された光ビームのうち、ビームスプリッター3によ
って分割された光ビームの光軸上には、周波数シフタと
しての可動ミラー6が設けられている。
一方、前記被測定物体4から反射された光ビームのう
ち、ビームスプリッター3によって分岐された光ビーム
の光軸上には、光電変換器としての光検出器7が設けら
れている。この光検出器7の出力端には信号処理器8が
接続されている。この信号処理器8は、例えば光検出器
7から出力される信号を増幅する増幅器(AMP)8
a、この増幅器8aによって増幅された信号の所定の帯
域の信号を取出す帯域通過フィルタ(BPF)8b、お
よびこの帯域通過フィルタ8bによって取出された信号
をディジタル信号に変換するA/D変換器8cによって
構成されている。このA/D変換器8cから出力される
ディジタル信号はコンピュータ9に供給される。このコ
ンピュータ9には信号処理器8から出力された信号を記
憶するメモリ10および各種情報を表示するディスプレ
イ装置11が接続されている。
上記構成において、発光素子1から発生された部分的な
コヒーレント光はレンズ2で平行光束とされ、ビームス
プリッター3によって2分割される。このうち一方の光
ビームは可動ミラー6によって反射される。この反射光
はその周波数がドップラーシフトを受け、且つ可動ミラ
ー6の移動距離に相当する位相遅れを持つ参照光波とな
る。
また、前記ビームスプリッター3によって分割された他
方の光ビームは、被測定物体4のY軸座標の一点より照
射され、この物体中を透過伝搬して行く。光学的層構
造、即ち屈折率の異なる多層物質より構成される被測定
物体中を伝搬する光ビームは、この層の境界毎に散乱さ
れ、一部は入射光ビームの方向に戻り反射光波を形成す
る。この反射光波の各々の位相は入射光ビームの入射位
置より奥行き方向(Y軸方向)にある境界の位置に従っ
てそれぞれ遅延する。さらに、この反射光波の各々の振
幅は光学的層構造と物性によって決まる境界層の反射率
と吸収率に依存する。
前記被測定物体4からの反射光波は、前記可動ミラー6
によって反射された参照光波とともにビームスプリッタ
ー3を介して光検出器7へ導かれ、この光検出器7にお
いて、合成された干渉した光波が光ヘテロダイン検波さ
れる。一般に、被測定物体4からの反射光は多くの空間
フーリエスペクトル成分を有している。しかし、この反
射光は平行光束であり、空間コヒーレント度の高い参照
光波の平面波成分と整合する成分のみが高効率でヘテロ
ダイン検波される。したがって、これを利用することに
より、被測定物体4の奥行き方向成分に対しても入射光
波の進行方向成分のみを高分解能で検出することができ
る。
すなわち、第2図に示すごとく、被測定物体4は雰囲気
等の屈折率がn0の散乱層(0層)中にあり、この被測
定物体4の内部に、X軸方向に厚みがr1、r2、r3
の媒質層(1層、2層、3層)があり、これらの層の屈
折率がn1、n2、n3である場合において、被測定物
体4に入射光が照射されると、この入射光は各層によっ
て減衰されるとともに、各層の境界において反射され、
被測定物体4から出力される。各層からの反射光は光が
媒質中を伝搬する距離に対応して指数関数的に吸収減衰
され、且つ、散乱のため、距離の2乗に反比例して減衰
する。
すなわち、第2図に示す被測定物体4に対する入射光と
反射光の関係を第3図に示すように表した場合、各層か
らの反射光は次のように表される。
(1)被測定物体4の表面からの反射光IR01は IR01=R01 (2)1,2層目からの反射光IR12但し、T01,T10は、0から1層,1から0層に入射し
た光の透過率、R12は、1層と2層での反射率 (3)2,3層目からの反射光IR23(4)3,4層目からの反射光IR34この被測定物体4から出力された各層の反射光を参照光
波と合成し、光検出器7によって光ヘテロダイン検波す
ると、第4図に示すような信号を得ることができる。
ここで、IR01は被測定物体4の表面からの反射光に対
応したビート信号、IR12は第1層、第2層目からの反
射光に対応したビート信号、IR23は第2層、第3層目
からの反射光に対応したビート信号、IR34は第3層、
第4層目からの反射光に対応したビート信号である。こ
れら各ビート信号は表面および各層の境界に対応した反
射光の直流成分DC1、DC2、DC3に重畳されてい
る。各ビート信号の時間幅t0は、部分的コヒーレント
光のスペクトル幅によって規定され、各ビート信号間の
位相遅れt1、t2、t3は各層の厚み等の条件によっ
て規定される。
このように、光検出器7で2乗検波され、光電変換出力
された電気信号には直流信号成分と交流信号成分が含ま
れている。このうち交流信号成分のみが信号処理器8に
設けられた帯域通過フィルタ8bによって抽出される。
その結果、時系列信号が得られる。この時系列信号は多
重反射光波の遅延位相の量に応じて、被測定物体4の奥
行きの距離に比例し、時間的に遅れた信号波形を形成す
る。この信号波形は基本的には、部分的なコヒーレント
光源のコヒーレント長を与える実効的スペクトル幅に依
存し、スペクトル線形に応じてsin(x)/xや指数関数型の
波形の連なりとして得られ、各々の振幅はこの多重反射
光波の振幅に依存する。したがって、奥行き方向即ちX
軸方向の空間分解能(ΔX)は該スペクトル幅によって
決まる。また、入射断面の空間分解能(ΔY)は入射光
の直径と光ヘテロダイン検波開口角ではほぼ決まる。
例えば本実施例で示すスペクトル幅4×1012Hzの一個
のスーパ−ルミネッセントダイオードを用いた場合、X
軸方向の空間分解能はおよそ14μmとなる。このとき
奥行き方向の測定可能距離は可動ミラー6の掃引可動距
離と光波の減衰を与える部分的なコヒーレント光源のス
ペクトル幅と強度に依存して定まる。この被測定物体の
奥行き方向のデータを含む信号波形は信号処理器8のA
/D変換器8cによって空間分解能に対応した時間毎に
1ラインづつアナログ/デジタル変換され、このディジ
タルデータはコンピュータ9を介してメモリ10に記憶
される。
次に、可動台5をY軸に沿って入射光の断面直径分移動
して同様の測定を実行し、さらに、被測定物体4のY軸
方向の全範囲に渡り逐次測定を実行する。
上記のようにして、メモリ10に記憶されたディジタル
データはコンピュータ9によって読出され、周知の画像
処理技術によって、被測定物体4の空間分解能(ΔX×
ΔY)の区画毎に、そのディジタル量に応じて濃淡画像
あるいは色別画像に処理される。この処理された濃淡画
像あるいは色別画像はディスプレイ装置11に供給され
表示される。
このように被測定物体4のXY平面全域のデータをディ
スプレイ装置11に表示することにより、一軸方向から
一方的な測定にも拘らず、奥行き方向のデータを含む高
分解能な断層像を得ることができる。
上記測定をZ軸方向についても実行すれば被測定物体4
の多層に渡る断層像を得ることが可能である。したがっ
て、このようにZ軸方向についても測定を実行した場
合、メモリ10には被測定物体4における三次元の奥行
き方向のデータが記憶されるため、このメモリ10の読
出し方向を変えることにより、被測定物体4の任意の方
位から切取った断層像を生成することができる。
上記光ヘテロダイン法では信号対雑音比を大きくするこ
とができるが、多重反射光波は指数関数的に減衰するた
め、被測定物体のX軸方向の測定長には限度がある。し
たがって、例えばメモリ10にデータを記憶する際、コ
ンピュータ9によって、散乱物体の振幅と遅延時間に対
応した時系列電気信号を被測定物体4の奥行き方向の距
離の関数として補正し、この補正値をメモリ10に記憶
することにより、X軸方向の測定深度を向上することが
可能であり、一層鮮明な画像を生成することができる。
次に、この発明の他の実施例について説明する。なお、
第1の実施例と同一部分には同一符号を付し、異なる部
分についてのみ説明する。
第5図はこの発明の第2の実施例に示すものである。こ
の実施例において、被測定物体20は例えば不定形微細
構造を有している。被測定物体20が不定形微細構造の
場合、入射光ビームは不定形微細構造の境界面で著しく
散乱される。その結果、多重反射光波は光検出器7の到
達面でほとんど球面波となり平行成分が著しく低減し、
光ヘテロダイン出力は極めて弱くなり検出不能になる場
合が生じる。そこで、この実施例においては、参照光波
光路、すなわちビームスプリッター3と可動ミラー6と
の相互間にレンズ21を配設することによって、参照光
波と多重反射光波との波面を整合し、光ヘテロダイン出
力の減少を防止している。
また、レンズ21の配設位置はビームスプリッター3と
可動ミラー6との相互間に限定されるものではなく、ビ
ームスプリッター3と光検出器7との交互間に設けても
同様の効果を得ることができる。
第6図はこの発明の第3の実施例を示すものである。
この実施例は、ビームスプリッター3と不定形微細構造
を有する被測定物体20の相互間に位置する多重反射光
路に、例えば直線偏光板31を配置したものである。こ
のような構成によって、部分的にコヒーレントな光波が
直線偏光している場合でも、被測定物体20から非偏光
解消成分のみを抽出検波することができる。
一般に、生体やガラス等の微細不定形状面からの2次反
射光波は、明確な偏光を示さなくなり、偏光解消する
が、入射光波の1次反射光波はミーあるいはレーリー散
乱であり、入射光波の偏光性を反映する。したがって、
ビームスプリッター3と被測定物体20の相互間に位置
する多重反射光路に、直線偏光板31配置し、入射光波
の直線位置より外れた部分からの反射光波を除去するこ
とにより、背景雑音を低減しかつ分解能を高めることが
できる。しかも、被測定物体20に対して高分解能で、
良好な信号対雑音(SN)比で断層像を得ることができ
るものである。
なお、第2の実施例で述べた構成をこの実施例に加える
ことにより、高効率の検波が可能なことが明かである。
第7図はこの発明の第4の実施例を示すものであり、上
記第3の実施例におけるビームスプリッター3を偏光ビ
ームスプリッター40に代え、この偏光ビームスプリッ
ター40とレンズ2の相互間、偏光ビームスプリッター
40と可動ミラー6の相互間、および偏光ビームスプリ
ッター40と直線偏光板31の相互間に4分の1波長板
41、42、43をそれぞれ配設したものである。
部分的にコヒーレントな発光素子1から出力される直線
偏光を4分の1波長板41を透過して、円偏光として、
偏光ビームスプリッター40を用いて互いに直交する直
線偏光に2分割する。このうち一方の図面に平行な直線
偏光成分は4分の1波長板42を透過して、可動ミラー
6で反射され、再度4分の1波長板42を透過して図面
に垂直な偏光となり、偏光ビームスプリッター40を透
過し光検出器7に導かれる。また、他方の図面に垂直な
直線偏光成分は4分の1波長板43と直線偏光板31を
透過し、被測定物体20に照射される。被測定物体20
からの多重反射光波は、直線偏光板31と4分の1波長
板43との適宜な角度の組合せにより図面に平行な直線
偏光とされ、偏光ビームスプリッター40を介して光検
出器7に導かれる。その結果、途中の光学的損失も最小
にでき、互いに平行な直線偏光として、この多重反射光
波と参照光波とは極めて効率よく干渉し検波される。
上記第1乃至第4の実施例において、部分的にコヒーレ
ントな発光素子としては、波長が0.85μmのスーパール
ミネッセントダイオードを使用し、その出力は5mWで、
実効的コヒーレントスペクトル幅は4×1012Hz、レン
ズ2を経た平行光束のビーム直径はおよそ1mm、X軸方
向空間分解能は14μmである。また、実効的なY軸方
向の分解能は光ヘテロダインの計測結果からおよそ80
μmである。Y軸方向の解像点数に限度は無いが試料可
動台の制約により、本実施例では400個である。さら
に、X軸方向の解像点数は、可動ミラーの移動距離に対
する制約とメモリの記憶容量の制約のため、600個で
ある。この程度の解像点数でも、被測定物体の物性にも
依るが最大奥行き地点からの反射光波に対してSN比1
0以上で効率よく検波可能である。また、各解像点にお
ける濃淡あるいは色別の階調は7とした。これら数値
は、何れもこれに限定されるものではなく、被測定物体
の寸法に応じて可変可能である。
さらに、参照光波を発生する周波数シフターとしては、
可動ミラーに限らず、超音波変調器等の超音波光回折を
用いたものや、波長板の組合せおよび回転格子のほか、
結晶の電気光学効果を利用することもできる。
また、部分的にコヒーレントな光源の波長域を種々変え
ることにより、物質の吸収反射が波長に依って異なるこ
とを利用し、被測定物体の構造組成物質を分離しつつ断
層像の測定が可能なことは明かである。
さらに、上記実施例においては、可動台5によって被測
定物体を移動して走査したが、例えば複数の発光素子を
被測定物体に対して直線状に配設し、これら発光素子を
複数のスイッチによって構成された制御手段によって順
次点灯する構成とすれば、被測定物体を移動することな
く、被測定物体を走査できる。
第8図は、この発明の第5の実施例を示すものであり、
この発明を電子走査プローブに適用した場合を示すもの
である。
電子走査プローブ本体50の内部には、複数のスーパー
ルミネッセントダイオードからなる発光素子1が直線状
に配設されている。これら発光素子1から発生された光
ビームはそれぞれレンズ2によってビームスプリンター
3に導かれ、このビームスプリッター3によって分割さ
れる。この分解された一方の光ビームは周波数シフタ5
1、反射鏡52によって参照光波とされ、分割された他
方の光ビームは被測定物体20に照射される。この被測
定物体20からの多重反射波はビームスプリッター3に
おいて、前記参照光波と合成され、複数の光検出器7に
導かれれる。この光検出器7において、光ヘテロダイン
検波された被測定物体の奥行き方向のデータを含む信号
は、図示せぬ前述した信号処理部に供給される。
この実施例によれば、複数の発光素子1および複数の光
検出器7を設けることにより、一度の光走査により、奥
行き方向の情報を含む1ライン分のデータを得ることが
でき、この電子走査プローブ本体50を発光素子1の配
列方向と直交する方向に移動することにより、容易に3
次元のデータを得ることができる。
なお、上記第1乃至第5の実施例においては、発光素子
としてスーパールミネッセントダイオードを使用した
が、これに限定されるものではなく、可視光線,紫外線
等の光波のみならずマイクロ波の領域でもこれら電磁波
の透過伝搬可能な物質であれば、この発明の原理を用い
ることにより、生体,結晶,半導体,複合物質等等の多
層断層像の観測を無侵襲で迅速に行うことができ、医療
診断をはじめ工学的材料構造測定などに適用することが
可能である。
その他、この発明の要旨を変えない範囲において、種々
変形実施可能なことは勿論である。
[発明の効果] 以上詳述したようにこの発明によれば、部分的コヒーレ
ントな光源からの光ビームを被測定物体に一方向から照
射されるのみで、被測定物体の奥行き方向の像を得るこ
とができるため、断層像を得るための走査回数を従来に
比べて削減することができるとともに、信号処理に要す
る時間短縮することが可能な光波反射測定装置を提供で
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第1の実施例を示す構成図、第2図
乃至第4図はそれぞれ第1図の動作を説明するために示
す図、第5図乃至第8図はそれぞれこの発明の第2乃至
第5の実施例を示す構成図である。 1……部分的にコヒーレントな発光素子、2……集光レ
ンズ、3……ビームスプリッター、4……被測定部材、
5……可動台、6……可動ミラー、7……光検出器、8
……信号処理器、9……コンピュータ、10……メモ
リ、11……ディスプレイ装置、20……不定形微細構
造の被測定物体、21……レンズ、31……直線偏光
板、40……偏光ビームスプリッター、41、42、4
3……4分の1波長板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市村 勉 宮城県仙台市太白区向山1丁目1―20― 301 (72)発明者 佐伯 昭雄 宮城県仙台市太白区向山3丁目9―2 (56)参考文献 特開 昭63−274848(JP,A) 特開 昭63−243839(JP,A) 特開 平2−110346(JP,A) 特開 平1−145545(JP,A)

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】部分的コヒーレント光を照射光として屈折
    率の異なる層からなる散乱物体に照射する照射手段と、 前記照射光の周波数をシフトさせた参照光を生成する生
    成手段と、 前記散乱物体内部の奥行き方向の屈折率の異なる地点か
    らの反射光と、参照光とを合成する合成手段と、 この合成された光を光電変換する変換手段と、 この変換手段から出力されるビート成分を検出すること
    により、散乱物体の奥行き方向の屈折率の異なる地点の
    反射振幅情報を検出する検出手段と、 を具備したことを特徴とする光波反射像測定装置。
  2. 【請求項2】前記散乱物体と照射光の位置関係を変化さ
    せ、照射光を散乱物体に走査させる手段と、 走査方向に対し奥行き方向の反射振幅情報を求め、二次
    元の反射振幅断層像を求める手段と、 を具備したことを特徴とする請求項1記載の光波反射像
    測定装置。
  3. 【請求項3】前記参照光を球面波に変換するレンズを具
    備したことを特徴とする請求項1記載の光波反射像測定
    装置。
  4. 【請求項4】前記合成された光を球面波に変換するレン
    ズを具備したことを特徴とする請求項1記載の光波反射
    像測定装置。
  5. 【請求項5】前記散乱物体から反射された光より、非偏
    光解消成分のみを抽出する直線偏光手段を具備したこと
    を特徴とする請求項1記載の光波反射像測定装置。
  6. 【請求項6】前記照射光は4分の1波長板を介して円偏
    光とされ、前記合成手段は偏光ビームスプリッターによ
    って構成され、参照光路および反射光路に4分の1波長
    板を具備し、散乱物体からの非偏光解消成分のみを抽出
    することを特徴とする請求項1記載の光波反射像測定装
    置。
  7. 【請求項7】前記照射手段は直線状に配列され部分的コ
    ヒーレント光を散乱物体に照射する複数の発光素子と、
    これら発光素子を順次点灯する制御手段とを具備したこ
    とを特徴とする請求項1記載の光波反射像測定装置。
  8. 【請求項8】前記照射手段は直線状に配列され部分的コ
    ヒーレント光を散乱物体に照射する複数の発光素子を有
    し、変換手段は散乱物体からの反射光および前記参照光
    が合成された光を光電変換する複数の光電変換素子を有
    することを特徴とする請求項1記載の光波反射像測定装
    置。
  9. 【請求項9】前記検出手段は前記変換手段から出力され
    る散乱物体の振幅と遅延時間に対応した時系列電気信号
    の大きさを、散乱物体の奥行き方向の距離の関数として
    補正し、この補正値を散乱物体の反射振幅情報として求
    めるように構成したことを特徴とする請求項1記載の光
    波反射像測定装置。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001212086A (ja) * 2000-02-07 2001-08-07 Japan Science & Technology Corp 断層像形成方法及びそのための装置
JP2001272603A (ja) * 2000-03-24 2001-10-05 Olympus Optical Co Ltd 光学装置
JP2009000544A (ja) * 2008-08-11 2009-01-08 J Morita Tokyo Mfg Corp 歯科光診断装置用プローブ
JP2009006155A (ja) * 2008-08-04 2009-01-15 J Morita Tokyo Mfg Corp 歯科光診断装置
JP2009018172A (ja) * 2008-08-04 2009-01-29 J Morita Tokyo Mfg Corp 歯科光診断装置
WO2009019847A1 (ja) * 2007-08-06 2009-02-12 Kabushiki Kaisha Topcon 光画像計測装置
WO2011074051A1 (ja) 2009-12-14 2011-06-23 東洋ガラス株式会社 側方出射装置及びその製造方法
WO2011108087A1 (ja) 2010-03-03 2011-09-09 東洋ガラス株式会社 側方出射装置及びその製造方法
WO2014155584A1 (ja) 2013-03-27 2014-10-02 東洋製罐グループホールディングス株式会社 側方出射装置
US8950566B2 (en) 1996-05-13 2015-02-10 Cummins Allison Corp. Apparatus, system and method for coin exchange

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69227902T3 (de) * 1991-04-29 2010-04-22 Massachusetts Institute Of Technology, Cambridge Vorrichtung für optische abbildung und messung
JP3582311B2 (ja) * 1996-08-04 2004-10-27 松下電器産業株式会社 媒質の測定方法および測定装置
JP5052116B2 (ja) * 2006-12-19 2012-10-17 富士フイルム株式会社 光断層画像化装置
JP5043488B2 (ja) 2007-03-30 2012-10-10 キヤノン株式会社 検出装置、及びイメージング装置
JP4916573B2 (ja) 2010-01-28 2012-04-11 パナソニック株式会社 光干渉計測方法および光干渉計測装置
JP6685553B2 (ja) 2014-10-08 2020-04-22 国立研究開発法人理化学研究所 光応答計測装置および光応答計測方法
KR102284115B1 (ko) * 2019-07-05 2021-07-30 한국광기술원 안구의 혼탁도 감쇄를 위한 접촉형 광 변조 장치 및 방법

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8950566B2 (en) 1996-05-13 2015-02-10 Cummins Allison Corp. Apparatus, system and method for coin exchange
JP2001212086A (ja) * 2000-02-07 2001-08-07 Japan Science & Technology Corp 断層像形成方法及びそのための装置
JP2001272603A (ja) * 2000-03-24 2001-10-05 Olympus Optical Co Ltd 光学装置
WO2009019847A1 (ja) * 2007-08-06 2009-02-12 Kabushiki Kaisha Topcon 光画像計測装置
JP2009041946A (ja) * 2007-08-06 2009-02-26 Topcon Corp 光画像計測装置
JP2009006155A (ja) * 2008-08-04 2009-01-15 J Morita Tokyo Mfg Corp 歯科光診断装置
JP2009018172A (ja) * 2008-08-04 2009-01-29 J Morita Tokyo Mfg Corp 歯科光診断装置
JP2009000544A (ja) * 2008-08-11 2009-01-08 J Morita Tokyo Mfg Corp 歯科光診断装置用プローブ
WO2011074051A1 (ja) 2009-12-14 2011-06-23 東洋ガラス株式会社 側方出射装置及びその製造方法
WO2011108087A1 (ja) 2010-03-03 2011-09-09 東洋ガラス株式会社 側方出射装置及びその製造方法
WO2014155584A1 (ja) 2013-03-27 2014-10-02 東洋製罐グループホールディングス株式会社 側方出射装置

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