JPH063671A - 液晶表示パネル用配向膜の洗浄方法 - Google Patents
液晶表示パネル用配向膜の洗浄方法Info
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- JPH063671A JPH063671A JP15970192A JP15970192A JPH063671A JP H063671 A JPH063671 A JP H063671A JP 15970192 A JP15970192 A JP 15970192A JP 15970192 A JP15970192 A JP 15970192A JP H063671 A JPH063671 A JP H063671A
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- liquid crystal
- cleaning
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】液晶表示パネルに形成した配向膜を低下させな
いことを目的とする。 【構成】カラーフィルタ側の基板の表面に形成した配向
膜や、基板の表面にＴＦＴなどを形成し、その上に形成
した配向膜の表面を洗浄するに当たり、洗浄液として純
水を用いて洗浄し、その後、スピンドライ方式、エアー
ナイフ方式など物理的乾燥方法で乾燥することを特徴と
する。 【効果】配向力が低下せず、従って、幅広く液晶材料が
使え、熱処理の程度が軽く済み、熱ダメージによる不
良、配向力不足による不良を防ぐことができる。
いことを目的とする。 【構成】カラーフィルタ側の基板の表面に形成した配向
膜や、基板の表面にＴＦＴなどを形成し、その上に形成
した配向膜の表面を洗浄するに当たり、洗浄液として純
水を用いて洗浄し、その後、スピンドライ方式、エアー
ナイフ方式など物理的乾燥方法で乾燥することを特徴と
する。 【効果】配向力が低下せず、従って、幅広く液晶材料が
使え、熱処理の程度が軽く済み、熱ダメージによる不
良、配向力不足による不良を防ぐことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液晶表示パネルを構
成する基板の表面に形成された配向膜の洗浄方法に関す
るものである。
成する基板の表面に形成された配向膜の洗浄方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば、ＴＦＴ型液晶表示パネル
を製作するに当たり、カラーフィルタ側のパネル（以
下、単に「ワークＡ」と記す）も、ＴＦＴなどの制御素
子、電極などを形成するパネル（以下、単に「ワーク
Ｂ」と記す）も、それらの、例えば、ガラス、プラスチ
ックなどの基板を洗浄し、その表面に、例えば、ポリイ
ミドのような高分子薄膜をロールコート法などで塗布
し、その高分子薄膜をラビングして配向膜にしている。
を製作するに当たり、カラーフィルタ側のパネル（以
下、単に「ワークＡ」と記す）も、ＴＦＴなどの制御素
子、電極などを形成するパネル（以下、単に「ワーク
Ｂ」と記す）も、それらの、例えば、ガラス、プラスチ
ックなどの基板を洗浄し、その表面に、例えば、ポリイ
ミドのような高分子薄膜をロールコート法などで塗布
し、その高分子薄膜をラビングして配向膜にしている。
【０００３】通常、このラビング処理を行うと、基板上
にその場合に生じたダストなどの異物が付着し、このよ
うな異物を除去するためにラビング処理後、洗浄を行っ
ている。
にその場合に生じたダストなどの異物が付着し、このよ
うな異物を除去するためにラビング処理後、洗浄を行っ
ている。
【０００４】現在、この配向処理後の洗浄液としては、
イソプロピルアルコール（以下、単に「ＩＰＡ」と記
す）と水とで行われている。通常、ＩＰＡによる洗浄
は、基板上の有機系不純物を除去することを目的とする
他、基板表面のぬれ性を向上させるために行われてい
る。そして更に、基板の洗浄後の乾燥には、ＩＰＡ蒸気
乾燥が一般的に多用されている。
イソプロピルアルコール（以下、単に「ＩＰＡ」と記
す）と水とで行われている。通常、ＩＰＡによる洗浄
は、基板上の有機系不純物を除去することを目的とする
他、基板表面のぬれ性を向上させるために行われてい
る。そして更に、基板の洗浄後の乾燥には、ＩＰＡ蒸気
乾燥が一般的に多用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このＩＰＡと水により
洗浄を行うと、配向膜の配向力が低下することが知られ
ている。この発明者等はこの原因を究明したところ、こ
の洗浄液であるＩＰＡが配向力の低下に大いに係わりが
あることを実験で確かめた。配向状態の良否は、リタデ
ーション値と配向ムラなどで良否を判別することができ
る。
洗浄を行うと、配向膜の配向力が低下することが知られ
ている。この発明者等はこの原因を究明したところ、こ
の洗浄液であるＩＰＡが配向力の低下に大いに係わりが
あることを実験で確かめた。配向状態の良否は、リタデ
ーション値と配向ムラなどで良否を判別することができ
る。
【０００６】リタデーション値に関しては、〔表１〕に
記した条件の内、条件１によりワークをＩＰＡ洗浄した
ところ、〔表２〕に示したように、前記条件に対応した
条件番号に示されているようなリタデーション減少率に
止まった。また、配向ムラに関しては、現行（ＩＰＡ及
び水）による洗浄を行った結果、〔表３〕に示したよう
に、配向ムラが１００％発生していることが認められ
た。これはＩＰＡが配向膜を膨潤させることによる。こ
の発明は前記問題点を解決することを課題とするもので
ある。
記した条件の内、条件１によりワークをＩＰＡ洗浄した
ところ、〔表２〕に示したように、前記条件に対応した
条件番号に示されているようなリタデーション減少率に
止まった。また、配向ムラに関しては、現行（ＩＰＡ及
び水）による洗浄を行った結果、〔表３〕に示したよう
に、配向ムラが１００％発生していることが認められ
た。これはＩＰＡが配向膜を膨潤させることによる。こ
の発明は前記問題点を解決することを課題とするもので
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そのため、この発明で
は、基板に形成した配向膜の表面を洗浄するに当たり、
洗浄液として純水を用いて洗浄し、その後、スピンドラ
イ方式、エアーナイフ方式の物理的乾燥方法を用いて乾
燥するようにした。この発明はこのような洗浄方法で前
記課題を解決した。
は、基板に形成した配向膜の表面を洗浄するに当たり、
洗浄液として純水を用いて洗浄し、その後、スピンドラ
イ方式、エアーナイフ方式の物理的乾燥方法を用いて乾
燥するようにした。この発明はこのような洗浄方法で前
記課題を解決した。
【０００８】
【作用】従って、配向膜は膨潤することが減少し、従っ
て、リタデーション値や配向ムラが改善されるので配向
力が低下しない。
て、リタデーション値や配向ムラが改善されるので配向
力が低下しない。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。この発
明では、ワークＡ及びワークＢのいずれのワークを洗浄
する場合にも、この発明者らは、洗浄液として「純水」
を使用した。ここで言う「純水」とは、通常、半導体製
造工場で半導体集積回路装置を製造するために用いられ
ている「純水」で充分である。通常、そのような「純
水」はダストや不純物が極めて少ない水である。
明では、ワークＡ及びワークＢのいずれのワークを洗浄
する場合にも、この発明者らは、洗浄液として「純水」
を使用した。ここで言う「純水」とは、通常、半導体製
造工場で半導体集積回路装置を製造するために用いられ
ている「純水」で充分である。通常、そのような「純
水」はダストや不純物が極めて少ない水である。
【００１０】このような「純水」を用い、先ず、ワーク
Ａ（またはワークＢ）を槽の中でクイックダンプリンス
で１０μｍ以上の大きさのダストを除去し、次に、超音
波などを掛けながら洗浄し、そしてダストがワークに再
付着するのを防止するために、オバーフローリンスを行
う。そして、ワークを乾燥するのに、従来とは異なり、
スピンドライを掛けて乾燥させた。この乾燥にはエアー
ナイフ乾燥方式を用いてもよい。
Ａ（またはワークＢ）を槽の中でクイックダンプリンス
で１０μｍ以上の大きさのダストを除去し、次に、超音
波などを掛けながら洗浄し、そしてダストがワークに再
付着するのを防止するために、オバーフローリンスを行
う。そして、ワークを乾燥するのに、従来とは異なり、
スピンドライを掛けて乾燥させた。この乾燥にはエアー
ナイフ乾燥方式を用いてもよい。
【００１１】前記のような「純水」による洗浄を、〔表
１〕に記載の条件２の元で行った結果、それぞれの条件
に対応して〔表２〕の条件２に示したように、リタデー
ション減少率が格段に下がることが明確になった。ま
た、「純水」による洗浄をワークＢに対して行っても、
〔表３〕に示したように、ムラ発生率は２０％程度と大
幅に改善されることが判った。また、いずれの場合にお
いても「純水」による配向膜の膨潤は認められなかっ
た。
１〕に記載の条件２の元で行った結果、それぞれの条件
に対応して〔表２〕の条件２に示したように、リタデー
ション減少率が格段に下がることが明確になった。ま
た、「純水」による洗浄をワークＢに対して行っても、
〔表３〕に示したように、ムラ発生率は２０％程度と大
幅に改善されることが判った。また、いずれの場合にお
いても「純水」による配向膜の膨潤は認められなかっ
た。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【表２】
【００１４】
【表３】
【００１５】
【発明の効果】以上、説明したように、この発明によれ
ば、配向力が低下しないことから、 １．配向力不足で生じる不良が起こらない ２．幅広く液晶材料を使用できる ３．熱処理の程度が軽くて済み、熱ダメージによる不良
などが発生せず、またタクトタイムも向上する などの優れた効果が得られた。
ば、配向力が低下しないことから、 １．配向力不足で生じる不良が起こらない ２．幅広く液晶材料を使用できる ３．熱処理の程度が軽くて済み、熱ダメージによる不良
などが発生せず、またタクトタイムも向上する などの優れた効果が得られた。
Claims (3)
- 【請求項１】基板に形成した配向膜の表面を洗浄するに
当たり、洗浄液として純水を用いて洗浄し、その後、物
理的乾燥方法を用いて乾燥させることを特徴とする液晶
表示パネル用配向膜の洗浄方法。 - 【請求項２】前記物理的乾燥方法がスピンドライ方式で
行うことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル
用配向膜の洗浄方法。 - 【請求項３】前記物理的乾燥方法がエアーナイフ方式で
行うことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル
用配向膜の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15970192A JP3109693B2 (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 液晶表示パネル用配向膜の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15970192A JP3109693B2 (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 液晶表示パネル用配向膜の洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH063671A true JPH063671A (ja) | 1994-01-14 |
| JP3109693B2 JP3109693B2 (ja) | 2000-11-20 |
Family
ID=15699428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15970192A Expired - Fee Related JP3109693B2 (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 液晶表示パネル用配向膜の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3109693B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104570496A (zh) * | 2015-02-04 | 2015-04-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种形成有取向膜的基板的清洗方法 |
-
1992
- 1992-06-18 JP JP15970192A patent/JP3109693B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104570496A (zh) * | 2015-02-04 | 2015-04-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种形成有取向膜的基板的清洗方法 |
| CN104570496B (zh) * | 2015-02-04 | 2017-05-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种形成有取向膜的基板的清洗方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3109693B2 (ja) | 2000-11-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |