JPH063725B2 - ストロボ電子ビ−ム装置における電子ビ−ムの位置決め方法 - Google Patents
ストロボ電子ビ−ム装置における電子ビ−ムの位置決め方法Info
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- JPH063725B2 JPH063725B2 JP61116481A JP11648186A JPH063725B2 JP H063725 B2 JPH063725 B2 JP H063725B2 JP 61116481 A JP61116481 A JP 61116481A JP 11648186 A JP11648186 A JP 11648186A JP H063725 B2 JPH063725 B2 JP H063725B2
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 66
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明はＩＣに周期信号を供給した時に、特定の位相
におけるこのＩＣの表面の電位分布像などを測定するス
トロボ電子ビーム装置に関し、特に上記ストロボ電子ビ
ームの照射位置を正確に決める方法を実現しようとする
ものである。
におけるこのＩＣの表面の電位分布像などを測定するス
トロボ電子ビーム装置に関し、特に上記ストロボ電子ビ
ームの照射位置を正確に決める方法を実現しようとする
ものである。
「発明の背景」 第２図に上記ストロボ電子ビーム装置の概略図を示す。
これは、端子２０からＩＣ１６に供給する周期信号と同
期した信号を、端子１８よりブランキング偏向器１２に
供給する。そして電子銃１１から発生している電子ビー
ムを偏向して、絞り１３上を走査する。この時、一定の
時間間隔で、電子ビームは絞り１３の開口部２３を通過
する。絞り１３の開口部２３を通過した電子ビームを、
端子１９からビーム走査コイル１４に供給されている信
号により偏向し、ＩＣ１６の所定位置に照射する。この
時ＩＣ１６から反射する二次電子の強度を二次電子検出
器１５で検出し、端子２１より出力する。この出力電圧
を測定することにより、電子ビームの照射された位置に
おける電位を求めることができる。
これは、端子２０からＩＣ１６に供給する周期信号と同
期した信号を、端子１８よりブランキング偏向器１２に
供給する。そして電子銃１１から発生している電子ビー
ムを偏向して、絞り１３上を走査する。この時、一定の
時間間隔で、電子ビームは絞り１３の開口部２３を通過
する。絞り１３の開口部２３を通過した電子ビームを、
端子１９からビーム走査コイル１４に供給されている信
号により偏向し、ＩＣ１６の所定位置に照射する。この
時ＩＣ１６から反射する二次電子の強度を二次電子検出
器１５で検出し、端子２１より出力する。この出力電圧
を測定することにより、電子ビームの照射された位置に
おける電位を求めることができる。
例えば端子２０からＩＣ１６に第３図Ａに示す信号を供
給し、端子１８から第３図Ｂ及び第３図Ｃに示す信号を
供給する。第３図Ｂ及び第３図Ｃの信号は第３図Ａの信
号と同期している。第３図Ｂに示す、電圧が−ＶXとＶX
との間で変化する台形波の信号はブランキング偏向器１
２のＸ軸偏向板に供給される。第３図Ｃに示す、電圧が
０ （Ｖ）とＶYとの間で変化する矩形波の信号はブラ
ンキング偏向器１２のＹ軸偏向板に供給される。従って
第４図に示すように、絞り１３上での電子ビームの照射
位置は矢印の方向に変化する。そしてＹ軸偏向板に供給
される信号が０（Ｖ）で、Ｘ軸偏向板に供給される信号
が−ＶXからＶXに変化する時、Ｘ軸偏向板に供給される
信号が０（Ｖ）近傍で電子ビームは絞り１３の開口部２
３を通過する。第３図Ｄは開口部２３を通過した電子ビ
ームを示す。この電子ビームはＩＣ１６に供給される第
３図Ａに示す信号と同期しており、ビーム走査コイル１
４により偏向してＩＣ１６の表面を走査する。従って端
子２０からの周期信号の特定の位相におけるＩＣ１６の
表面の電位分布像などを測定することができる。
給し、端子１８から第３図Ｂ及び第３図Ｃに示す信号を
供給する。第３図Ｂ及び第３図Ｃの信号は第３図Ａの信
号と同期している。第３図Ｂに示す、電圧が−ＶXとＶX
との間で変化する台形波の信号はブランキング偏向器１
２のＸ軸偏向板に供給される。第３図Ｃに示す、電圧が
０ （Ｖ）とＶYとの間で変化する矩形波の信号はブラ
ンキング偏向器１２のＹ軸偏向板に供給される。従って
第４図に示すように、絞り１３上での電子ビームの照射
位置は矢印の方向に変化する。そしてＹ軸偏向板に供給
される信号が０（Ｖ）で、Ｘ軸偏向板に供給される信号
が−ＶXからＶXに変化する時、Ｘ軸偏向板に供給される
信号が０（Ｖ）近傍で電子ビームは絞り１３の開口部２
３を通過する。第３図Ｄは開口部２３を通過した電子ビ
ームを示す。この電子ビームはＩＣ１６に供給される第
３図Ａに示す信号と同期しており、ビーム走査コイル１
４により偏向してＩＣ１６の表面を走査する。従って端
子２０からの周期信号の特定の位相におけるＩＣ１６の
表面の電位分布像などを測定することができる。
また走査コイル１４によりストロボ電子ビームをＩＣ１
６の表面上の所定位置に偏向する。そしてＩＣ１６に供
給される信号の位相に対する、電子ビームの開口部２３
を通過する時間を順次ずらしていくことにより、ＩＣ１
６の上記位置における電位波形を測定することができ
る。
６の表面上の所定位置に偏向する。そしてＩＣ１６に供
給される信号の位相に対する、電子ビームの開口部２３
を通過する時間を順次ずらしていくことにより、ＩＣ１
６の上記位置における電位波形を測定することができ
る。
ところが第２図に示す装置において、電子ビームが絞り
１３の開口部２３を通過する時、ブランキング偏向器１
２のＸ軸偏向板に供給される電圧は−ＶXからＶXに変化
している。電子ビームがブランキング偏向器１２を通過
する時間は無視できず、その間に電子ビームの軌道が曲
げられる。即ち、絞り１３の開口部２３を通過してきた
電子ビームは、電子銃１１から絞り１３に垂直に照射し
たものではなく、ブランキング偏向器１２でその軌道が
曲げられて、開口部２３を通過してきたものである。従
ってこの電子ビームをビーム走査コイル１４で偏向して
ＩＣ１６上に照射した時、実際に指定した位置からずれ
ているという問題がある。この問題は、特にＩＣ１６の
表面上の所定位置に電子ビームを照射して電位波形を測
定する時に、致命的となる。また上記のずれは電子銃１
１でのビームの加速電圧が低い程大きい。
１３の開口部２３を通過する時、ブランキング偏向器１
２のＸ軸偏向板に供給される電圧は−ＶXからＶXに変化
している。電子ビームがブランキング偏向器１２を通過
する時間は無視できず、その間に電子ビームの軌道が曲
げられる。即ち、絞り１３の開口部２３を通過してきた
電子ビームは、電子銃１１から絞り１３に垂直に照射し
たものではなく、ブランキング偏向器１２でその軌道が
曲げられて、開口部２３を通過してきたものである。従
ってこの電子ビームをビーム走査コイル１４で偏向して
ＩＣ１６上に照射した時、実際に指定した位置からずれ
ているという問題がある。この問題は、特にＩＣ１６の
表面上の所定位置に電子ビームを照射して電位波形を測
定する時に、致命的となる。また上記のずれは電子銃１
１でのビームの加速電圧が低い程大きい。
「問題点を解決するための手段」 この発明による電子ビームの位置決め方法は、校正用マ
ークを例えばステージ上に付加する。そして電子ビーム
を絞りに垂直に照射して開口部を通過させ、この電子ビ
ームを連続的に走査して正確なマーク位置を検出する。
次にブランキング制御器に所定の信号を供給してストロ
ボ電子ビームを得、このストロボ電子ビームを走査して
マーク位置を検出する。この２つのマーク位置から補正
量を求める。ＩＣの所定位置における電位波形などを測
定する時、上記補正量を用いて電子ビームの照射位置を
正確に決めるようにしたものである。
ークを例えばステージ上に付加する。そして電子ビーム
を絞りに垂直に照射して開口部を通過させ、この電子ビ
ームを連続的に走査して正確なマーク位置を検出する。
次にブランキング制御器に所定の信号を供給してストロ
ボ電子ビームを得、このストロボ電子ビームを走査して
マーク位置を検出する。この２つのマーク位置から補正
量を求める。ＩＣの所定位置における電位波形などを測
定する時、上記補正量を用いて電子ビームの照射位置を
正確に決めるようにしたものである。
「実施例」 第１図にストロボ電子ビームをＩＣの所定位置に照射す
る時に用いる補正量の算出方法のフローチャートを示
す。この時、例えばステージ１７上に設けられた校正用
マーク２２は、ステージ１７を移動して電子銃１１の真
下にもってくる。この校正用マーク２２は、その中心位
置がビーム走査により求めることができるものであれ
ば、どのような形状のものでも良い。
る時に用いる補正量の算出方法のフローチャートを示
す。この時、例えばステージ１７上に設けられた校正用
マーク２２は、ステージ１７を移動して電子銃１１の真
下にもってくる。この校正用マーク２２は、その中心位
置がビーム走査により求めることができるものであれ
ば、どのような形状のものでも良い。
初めにステップ１で電子ビームを連続的に走査して正確
なマーク位置を求める。この時ブランキング偏向器１２
には信号が供給されないので、電子銃１１からの電子ビ
ームは絞り１３に垂直に照射し、そのまま開口部２３を
通過する。絞り１３の開口部２３を通過してきた電子ビ
ームを、ビーム走査コイル１４で偏向して校正用マーク
２２上を複数回走査する。例えば校正用マーク２２のエ
ッジが段状になっている場合、電子ビームがこのエッジ
を通過する時に二次電子検出器１５で検出される二次電
子の強度が急激に変化する。そこでしきい電圧を設定
し、二次電子検出器１５からの出力電圧がこのしきい電
圧と交差した時に、ビーム走査コイル１４に供給してい
る電圧から電子ビームの照射位置を求め、記憶手段に記
憶させる。複数回のビーム走査を終了した時に、記憶手
段に記憶されている複数個の電子ビームの照射位置を例
えば平均することにより、正確なマーク位置（Ｘ1、
Ｙ1）を求めておく。
なマーク位置を求める。この時ブランキング偏向器１２
には信号が供給されないので、電子銃１１からの電子ビ
ームは絞り１３に垂直に照射し、そのまま開口部２３を
通過する。絞り１３の開口部２３を通過してきた電子ビ
ームを、ビーム走査コイル１４で偏向して校正用マーク
２２上を複数回走査する。例えば校正用マーク２２のエ
ッジが段状になっている場合、電子ビームがこのエッジ
を通過する時に二次電子検出器１５で検出される二次電
子の強度が急激に変化する。そこでしきい電圧を設定
し、二次電子検出器１５からの出力電圧がこのしきい電
圧と交差した時に、ビーム走査コイル１４に供給してい
る電圧から電子ビームの照射位置を求め、記憶手段に記
憶させる。複数回のビーム走査を終了した時に、記憶手
段に記憶されている複数個の電子ビームの照射位置を例
えば平均することにより、正確なマーク位置（Ｘ1、
Ｙ1）を求めておく。
次にステップ２で端子１８を通じてブランキング偏向器
１２に例えば第３図Ｂ及び第３図Ｃに示す信号を供給す
る。このときブランキング偏向器１２のＸ軸偏向板に供
給される信号が負の電圧−ＶXから正の電圧ＶXに変化し
た時に絞り１３の開口部２３を通過する電子ビームをビ
ーム走査コイル１４で偏向して校正用マーク２２上を複
数回走査する。そしてステップ１と同じ方法でマーク位
置（Ｘ2、Ｙ2）を求める。
１２に例えば第３図Ｂ及び第３図Ｃに示す信号を供給す
る。このときブランキング偏向器１２のＸ軸偏向板に供
給される信号が負の電圧−ＶXから正の電圧ＶXに変化し
た時に絞り１３の開口部２３を通過する電子ビームをビ
ーム走査コイル１４で偏向して校正用マーク２２上を複
数回走査する。そしてステップ１と同じ方法でマーク位
置（Ｘ2、Ｙ2）を求める。
最後にステップ３でビームを連続走査して求めたマーク
位置（Ｘ1、Ｙ1）と、ブランキング偏向器１２に所定の
信号を供給してストロボ電子ビームを発生し、このスト
ロボ電子ビームを走査して求めたマーク位置（Ｘ2、
Ｙ2）との差を算出して補正量（ΔＸ、ΔＹ）を求め
る。
位置（Ｘ1、Ｙ1）と、ブランキング偏向器１２に所定の
信号を供給してストロボ電子ビームを発生し、このスト
ロボ電子ビームを走査して求めたマーク位置（Ｘ2、
Ｙ2）との差を算出して補正量（ΔＸ、ΔＹ）を求め
る。
ＩＣ１６に信号を供給し、該ＩＣ１６の表面にストロボ
電子ビームを照射して電位波形などを測定する時に、ビ
ームの照射位置（Ｘ、Ｙ）に補正量（ΔＸ、ΔＹ）を加
算し、この加算値に対応する信号を端子１９からビーム
走査コイル１４に供給することにより、電子ビームを指
定した位置に正確に照射することができる。
電子ビームを照射して電位波形などを測定する時に、ビ
ームの照射位置（Ｘ、Ｙ）に補正量（ΔＸ、ΔＹ）を加
算し、この加算値に対応する信号を端子１９からビーム
走査コイル１４に供給することにより、電子ビームを指
定した位置に正確に照射することができる。
ＩＣ１６の表面上のパターンの密度に応じて使用するス
トロボ電子ビームのパルス幅を変えるようにしても良
い。例えばパターン密度の高い領域で、所望の位置に電
子ビームを照射して電位波形などを測定する時は、パル
ス幅の小さい電子ビームを用いた方が良い。この電子ビ
ームのパルス幅を変えるには、例えば第３図Ｂに示す台
形波の電圧が−ＶXからＶXに変化する部分の勾配を変え
れば良い。あらかじめ使用する複数個のストロボ電子ビ
ームのパルス幅がわかっている場合は、ステップ２にお
いて、各々のパルス幅のストロボ電子ビームに対応する
第３図Ｂ及び第３図Ｃのような信号をブランキング偏向
器１２に供給する。その時得られたマーク位置（Ｘ2、
Ｙ2）から、ステップ３で補正量（ΔＸ、ΔＹ）を算出
して記憶手段に記憶させておく。そしてストロボ電子ビ
ームを用いて測定を行う時に、ビームの照射位置に使用
するストロボ電子ビームのパルス幅に対応する補正量を
加算して、この加算値に対応する信号をビーム走査コイ
ル１４に供給するようにしてもよい。
トロボ電子ビームのパルス幅を変えるようにしても良
い。例えばパターン密度の高い領域で、所望の位置に電
子ビームを照射して電位波形などを測定する時は、パル
ス幅の小さい電子ビームを用いた方が良い。この電子ビ
ームのパルス幅を変えるには、例えば第３図Ｂに示す台
形波の電圧が−ＶXからＶXに変化する部分の勾配を変え
れば良い。あらかじめ使用する複数個のストロボ電子ビ
ームのパルス幅がわかっている場合は、ステップ２にお
いて、各々のパルス幅のストロボ電子ビームに対応する
第３図Ｂ及び第３図Ｃのような信号をブランキング偏向
器１２に供給する。その時得られたマーク位置（Ｘ2、
Ｙ2）から、ステップ３で補正量（ΔＸ、ΔＹ）を算出
して記憶手段に記憶させておく。そしてストロボ電子ビ
ームを用いて測定を行う時に、ビームの照射位置に使用
するストロボ電子ビームのパルス幅に対応する補正量を
加算して、この加算値に対応する信号をビーム走査コイ
ル１４に供給するようにしてもよい。
「発明の効果」 以上説明したようにこの発明によるストロボ電子ビーム
装置における電子ビームの位置決め方法は、ブランキン
グ制御器に信号を供給しないで電子ビームを連続走査し
ながら求めたマーク位置（Ｘ1、Ｙ1）と、ブランキング
制御器に信号を供給してストロボ電子ビームを発生し、
このストロボ電子ビームを走査しながら求めたマーク位
置（Ｘ2、Ｙ2）とから補正量（ΔＸ、ΔＹ）を算出す
る。そしてストロボ電子ビームを用いて種々の測定を行
う時に、この補正量を用いて電子ビームの照射位置を補
正するように構成したので、電子ビームを指定した位置
に正確に照射することができ、精度良く測定することが
できる。
装置における電子ビームの位置決め方法は、ブランキン
グ制御器に信号を供給しないで電子ビームを連続走査し
ながら求めたマーク位置（Ｘ1、Ｙ1）と、ブランキング
制御器に信号を供給してストロボ電子ビームを発生し、
このストロボ電子ビームを走査しながら求めたマーク位
置（Ｘ2、Ｙ2）とから補正量（ΔＸ、ΔＹ）を算出す
る。そしてストロボ電子ビームを用いて種々の測定を行
う時に、この補正量を用いて電子ビームの照射位置を補
正するように構成したので、電子ビームを指定した位置
に正確に照射することができ、精度良く測定することが
できる。
第１図はこの発明に用いられるストロボ電子ビームを所
定位置に照射する時に用いる補正量の算出方法を示すフ
ローチャート、第２図はストロボ電子ビーム装置の概略
図、第３図は第２図に示した装置の動作を説明するため
のタイミングチャート、第４図は第２図に示した装置の
絞り１３上での電子ビームの動作を説明するための平面
図である。
定位置に照射する時に用いる補正量の算出方法を示すフ
ローチャート、第２図はストロボ電子ビーム装置の概略
図、第３図は第２図に示した装置の動作を説明するため
のタイミングチャート、第４図は第２図に示した装置の
絞り１３上での電子ビームの動作を説明するための平面
図である。
Claims (1)
- 【請求項１】ストロボ電子ビーム装置において、電子ビ
ームを照射できる所定位置に校正用マークを付加し、ブ
ランキング偏向器に信号を供給しないで連続電子ビーム
で上記校正用マーク上を走査して求めたマーク位置と、
ブランキング偏向器に所定信号を供給してストロボ電子
ビームを得、該ストロボ電子ビームで上記校正用マーク
上を走査して求めたマーク位置との差から補正量を算出
し、ストロボ電子ビームを用いて測定を行う時に電子ビ
ームの照射位置に対応する信号に上記補正量に対応する
信号を加算し、この加算された信号をビーム走査コイル
に供給して上記ストロボ電子ビームを偏向するようにし
たことを特徴とする電子ビーム位置決め方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61116481A JPH063725B2 (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | ストロボ電子ビ−ム装置における電子ビ−ムの位置決め方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61116481A JPH063725B2 (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | ストロボ電子ビ−ム装置における電子ビ−ムの位置決め方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62272442A JPS62272442A (ja) | 1987-11-26 |
| JPH063725B2 true JPH063725B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=14688175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61116481A Expired - Lifetime JPH063725B2 (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | ストロボ電子ビ−ム装置における電子ビ−ムの位置決め方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063725B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5345085A (en) * | 1993-03-26 | 1994-09-06 | Etec Systems, Inc. | Method and structure for electronically measuring beam parameters |
-
1986
- 1986-05-21 JP JP61116481A patent/JPH063725B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62272442A (ja) | 1987-11-26 |
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