JPH0640084B2 - 感湿素子の製造方法 - Google Patents
感湿素子の製造方法Info
- Publication number
- JPH0640084B2 JPH0640084B2 JP63184746A JP18474688A JPH0640084B2 JP H0640084 B2 JPH0640084 B2 JP H0640084B2 JP 63184746 A JP63184746 A JP 63184746A JP 18474688 A JP18474688 A JP 18474688A JP H0640084 B2 JPH0640084 B2 JP H0640084B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensitive element
- moisture
- humidity
- monomer
- polymer electrolyte
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 claims description 18
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 11
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 229920000867 polyelectrolyte Polymers 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 1-bromopropane Chemical compound CCCBr CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCCOC(=O)C(C)=C WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPUJEWVVTKLMQI-UHFFFAOYSA-N benzene;ethoxyethane Chemical compound CCOCC.C1=CC=CC=C1 WPUJEWVVTKLMQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 1-bromobutane Chemical compound CCCCBr MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QENRKQYUEGJNNZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(C)C(S(O)(=O)=O)NC(=O)C=C QENRKQYUEGJNNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUZXDTHZHJTTRO-UHFFFAOYSA-N 7-amino-4h-1,4-benzoxazin-3-one Chemical compound N1C(=O)COC2=CC(N)=CC=C21 RUZXDTHZHJTTRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- -1 LiCl Chemical class 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- DIUWKIIUUNWJHU-UHFFFAOYSA-N [4-(3-oxo-3-phenylprop-1-enyl)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 DIUWKIIUUNWJHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMEQKUYDQRWRMT-MDWZMJQESA-N [4-[(e)-3-phenylprop-2-enoyl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 XMEQKUYDQRWRMT-MDWZMJQESA-N 0.000 description 1
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULSIYEODSMZIPX-UHFFFAOYSA-N phenylethanolamine Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1 ULSIYEODSMZIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は感湿素子の製造方法に関するものである。
<従来の技術> 従来の感湿素子に用いられる材料には、1)Fe2O3、SnO2
などの金属酸化物、2)LiClなどの金属塩、3)吸湿性樹脂
に炭素など導電性固体を分散させた複数材料、4)高分子
電解質などがある。
などの金属酸化物、2)LiClなどの金属塩、3)吸湿性樹脂
に炭素など導電性固体を分散させた複数材料、4)高分子
電解質などがある。
金属酸化物を用いた感湿素子は、耐熱性に優れ、応答速
度が速いという特徴を有する反面、素子抵抗値の湿度依
存性が大きく、また金属酸化物からの水分の脱着が起こ
りにくいために、素子特性の経時変化が大きいなどの欠
点を有する。
度が速いという特徴を有する反面、素子抵抗値の湿度依
存性が大きく、また金属酸化物からの水分の脱着が起こ
りにくいために、素子特性の経時変化が大きいなどの欠
点を有する。
金属塩を用いた感湿素子は、検出できる湿度範囲が狭
く、特に高湿度域では金属塩の溶解、流失が起こるため
に長時間使用できないなどの欠点を有する。
く、特に高湿度域では金属塩の溶解、流失が起こるため
に長時間使用できないなどの欠点を有する。
吸湿性樹脂に導電性固体を分散させた複数材料を用いた
感湿素子は、高湿度域では急激な素子抵抗値の変化を生
じるが、低湿度域ではほとんど感度がなく広い湿度範囲
での測定に使用できない。
感湿素子は、高湿度域では急激な素子抵抗値の変化を生
じるが、低湿度域ではほとんど感度がなく広い湿度範囲
での測定に使用できない。
高分子電解質を用いた感湿素子は、感湿範囲が広い、応
答速度が速い、高分子電解質を基板上に薄膜化すること
により容易に作製できる、などの特徴を有する反面、高
湿度で長時間置かれたり素子が水にぬれると、特性の劣
化を起こす欠点を有していた。
答速度が速い、高分子電解質を基板上に薄膜化すること
により容易に作製できる、などの特徴を有する反面、高
湿度で長時間置かれたり素子が水にぬれると、特性の劣
化を起こす欠点を有していた。
橋かけを光橋かけモノマーをモノマーのまま配合し光重
合することによって、もしくはプレポリマーと光橋かけ
モノマーの加熱を必要とする反応によって、基板上に3
次元網状構造の高分子電解質膜を形成させた感湿素子
は、耐湿性を有し、感湿膜が高湿度雰囲気下で膨潤、溶
出するという欠点をもたないが、感湿膜中に光橋かけモ
ノマー等の未重合モノマーなど低分子の可溶性成分が残
るため、水にぬれた場合の特性劣化を避けることができ
なかった。
合することによって、もしくはプレポリマーと光橋かけ
モノマーの加熱を必要とする反応によって、基板上に3
次元網状構造の高分子電解質膜を形成させた感湿素子
は、耐湿性を有し、感湿膜が高湿度雰囲気下で膨潤、溶
出するという欠点をもたないが、感湿膜中に光橋かけモ
ノマー等の未重合モノマーなど低分子の可溶性成分が残
るため、水にぬれた場合の特性劣化を避けることができ
なかった。
<本発明の目的> 本発明は、以上に述べたような従来の感湿素子がもって
いた欠点を解消するものであって、光橋かけモノマーを
あらかじめ共重合成分として含有させた高分子電解質を
合成し、該高分子電解質を精製した後、基板上に薄膜化
し、光橋かけすることにより、耐水性の優れた感湿素子
を得るための製造方法を提供することを目的とする。
いた欠点を解消するものであって、光橋かけモノマーを
あらかじめ共重合成分として含有させた高分子電解質を
合成し、該高分子電解質を精製した後、基板上に薄膜化
し、光橋かけすることにより、耐水性の優れた感湿素子
を得るための製造方法を提供することを目的とする。
<問題点を解決するための手段> 橋かけを光橋かけモノマーをモノマーのまま配合し光重
合することによって、もしくはプレポリマーと光橋かけ
モノマーの加熱を必要とする反応によって、基板上に3
次元網状構造の高分子電解質膜を形成させた感湿素子
は、感湿膜中に残った未重合モノマーなど低分子の可溶
性成分が水にぬれたときに溶出し、特性劣化を起こす欠
点がある。
合することによって、もしくはプレポリマーと光橋かけ
モノマーの加熱を必要とする反応によって、基板上に3
次元網状構造の高分子電解質膜を形成させた感湿素子
は、感湿膜中に残った未重合モノマーなど低分子の可溶
性成分が水にぬれたときに溶出し、特性劣化を起こす欠
点がある。
これに対し、本発明では、橋かけ基を有する光橋かけモ
ノマーを共重合成分として含有する1次元線状高分子電
解質を合成し、十分精製して低分子の可溶性成分を除い
た後、製膜し橋かけするという方法により感湿素子を作
製することによって、水にぬれても特性の変化しない耐
水性の優れた感湿素子が得られる。
ノマーを共重合成分として含有する1次元線状高分子電
解質を合成し、十分精製して低分子の可溶性成分を除い
た後、製膜し橋かけするという方法により感湿素子を作
製することによって、水にぬれても特性の変化しない耐
水性の優れた感湿素子が得られる。
また、この際に反応に加熱を要さず、解重合を起こす恐
れのない近紫外光による光橋かけを用いれば、橋かけに
よる素材の性質の変化を最小限に抑えることができる。
れのない近紫外光による光橋かけを用いれば、橋かけに
よる素材の性質の変化を最小限に抑えることができる。
そのため、適当な吸湿性及びイオン伝導性を有する高分
子電解質を調製することにより、目的とする特性を有す
る感湿素子を作製することができる。
子電解質を調製することにより、目的とする特性を有す
る感湿素子を作製することができる。
以下、本発明について詳しく述べる。
本発明は通常のラジカルあるいはイオン共重合法等によ
ることができる。
ることができる。
本発明においては、光橋かけモノマーとして、4′−メ
タクリロイルオキシカルコン(4′MCと略す)、4-メタ
クリロイルオキシカルコン、シンナミルメタクリラート
などに、4-ビニルピリジン(4VPと略す)、2-ビニルピ
リジン、2-ジメチルアミノエチルメタクリラート(DMAE
Mと略す)、2-ジエチルアミノエチルメタクリラート、2
-ジメチルアミノプロピルメタクリラート、3-ジメチル
アミノプロピルメタクリラートなどの4級化できる窒素
原子を有するモノマー、またはスチレンスルホン酸ナト
リウム、アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸
などのイオン性モノマーを加え、共重合させることによ
ってコポリマーを得る。
タクリロイルオキシカルコン(4′MCと略す)、4-メタ
クリロイルオキシカルコン、シンナミルメタクリラート
などに、4-ビニルピリジン(4VPと略す)、2-ビニルピ
リジン、2-ジメチルアミノエチルメタクリラート(DMAE
Mと略す)、2-ジエチルアミノエチルメタクリラート、2
-ジメチルアミノプロピルメタクリラート、3-ジメチル
アミノプロピルメタクリラートなどの4級化できる窒素
原子を有するモノマー、またはスチレンスルホン酸ナト
リウム、アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸
などのイオン性モノマーを加え、共重合させることによ
ってコポリマーを得る。
この時n-ブチルメタクリラート(BMAと略す)、メチル
メタクリラート、n-プロピルメタクリラート、n-ペンチ
ルメタクリラートなどの疎水性モノマーを加え3元共重
合体とすることができる。
メタクリラート、n-プロピルメタクリラート、n-ペンチ
ルメタクリラートなどの疎水性モノマーを加え3元共重
合体とすることができる。
上記において、4級化できる窒素原子を有するモノマー
を使用した時は、さらにこのコポリマーを1-ブロモプロ
パン、ブロモエタン、1-ブロモブタンなどのハロゲン化
アルキルにより4級化し、光橋かけ基を有する高分子電
解質を調製する。
を使用した時は、さらにこのコポリマーを1-ブロモプロ
パン、ブロモエタン、1-ブロモブタンなどのハロゲン化
アルキルにより4級化し、光橋かけ基を有する高分子電
解質を調製する。
これらの高分子電解質の吸湿性及びイオン伝導性は、共
重合させるモノマーの組成、4級化反応に用いるハロゲ
ン化アルキルの種類及びその反応率などにより調節する
ことができる。
重合させるモノマーの組成、4級化反応に用いるハロゲ
ン化アルキルの種類及びその反応率などにより調節する
ことができる。
合成した高分子電解質は再沈殿などによって十分に精製
し、低分子の可溶性成分を除去しておくことが、この時
とりわけ重要である。
し、低分子の可溶性成分を除去しておくことが、この時
とりわけ重要である。
精製法としては、粗製高分子電解質を溶剤に溶解し、再
沈殿を繰り返す方法による。
沈殿を繰り返す方法による。
溶剤としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、メタノール、エタノール、クロロホルム、アセ
トニトリル等が使用でき、沈殿剤としては、ベンゼン、
トルエン、エチルエーテル、アセトン等が使用できる。
アミド、メタノール、エタノール、クロロホルム、アセ
トニトリル等が使用でき、沈殿剤としては、ベンゼン、
トルエン、エチルエーテル、アセトン等が使用できる。
上記の方法により得られた高分子電解質をN,N-ジメチ
ルホルムアミド(DMFと略す)、メタノール、エタノー
ル、クロロホルム、アセトニトリル、ジメチルアセトア
ミドなどの溶媒に溶かし、くし型金電極付アルミナ基板
上に塗布乾燥し、光照射、好ましくは近紫外光の照射を
行って感湿膜を形成する。
ルホルムアミド(DMFと略す)、メタノール、エタノー
ル、クロロホルム、アセトニトリル、ジメチルアセトア
ミドなどの溶媒に溶かし、くし型金電極付アルミナ基板
上に塗布乾燥し、光照射、好ましくは近紫外光の照射を
行って感湿膜を形成する。
本発明で得られる感湿素子は、抵抗−相対湿度特性の直
線性がよく、ヒステリシスが小さく、応答速度が速い特
徴をもつ。
線性がよく、ヒステリシスが小さく、応答速度が速い特
徴をもつ。
さらに、この感湿素子は30分間純水に浸せきし、ついで
1晩空気中で乾燥するというサイクルを繰り返したと
き、その抵抗値はほとんど変化せず、優れた耐水性を示
す。
1晩空気中で乾燥するというサイクルを繰り返したと
き、その抵抗値はほとんど変化せず、優れた耐水性を示
す。
[実施例1] 共重合させるモノマーとして、4VP及び4′MCをそれぞれ
3.42mL及び0.93g用い、開始剤としてアゾビスイソブチ
ロニトリル(AIBNと略す)を0.0144g用い、溶媒としてD
MFを8.65mL用いる。
3.42mL及び0.93g用い、開始剤としてアゾビスイソブチ
ロニトリル(AIBNと略す)を0.0144g用い、溶媒としてD
MFを8.65mL用いる。
以上の試薬または溶媒をアンプル中に入れ、脱気した後
に溶封し、時々振り混ぜながら1.5時間60℃で加熱す
る。
に溶封し、時々振り混ぜながら1.5時間60℃で加熱す
る。
この重合物をエタノールに溶解し2%溶液とし、20倍量の
ベンゼン中に攪拌しながら注ぐことにより2回再沈殿し
て精製する。
ベンゼン中に攪拌しながら注ぐことにより2回再沈殿し
て精製する。
得られたコポリマーをDMFに溶解し10%溶液とし、この溶
液に同体積の1-ブロモプロパンを加え、攪拌しながら2
時間60℃で加熱し、4級化反応を行う。
液に同体積の1-ブロモプロパンを加え、攪拌しながら2
時間60℃で加熱し、4級化反応を行う。
4級化されたコポリマーをエタノールに溶解し2%溶液と
し、20倍量のベンゼン中に攪拌しながら注ぐことによ
り、2回再沈殿して精製する。
し、20倍量のベンゼン中に攪拌しながら注ぐことによ
り、2回再沈殿して精製する。
上記の高分子電解質をDMFに溶解し約8%の溶液とし、く
し型金電極付アルミナ基板上に流廷し、60℃で1時間減
圧乾燥する。
し型金電極付アルミナ基板上に流廷し、60℃で1時間減
圧乾燥する。
次に、250w超高圧水銀灯でパイレックスガラスフィルタ
ーを通して基板を10分間照射し、感湿素子を得た。
ーを通して基板を10分間照射し、感湿素子を得た。
この感湿素子の抵抗−相対湿度特性を第1図に示す。
また、純水への浸せき回数と素子抵抗値の関係を第2図
に示す。
に示す。
1回目の浸せきにより生じるごくわずかの変化を除き、
ほとんど抵抗値の変化を示さず、優れた耐水性を示す。
ほとんど抵抗値の変化を示さず、優れた耐水性を示す。
[実施例2] 実施例1と同様の方法によって、4VP、4′MC、及びBMA
をそれぞれ1.08mL、0.584g、及び1.59mL用い、AIBNを0.
009g用い、DMFを5mL用い共重合を行い、得られたコポリ
マーをさらに4級化した。
をそれぞれ1.08mL、0.584g、及び1.59mL用い、AIBNを0.
009g用い、DMFを5mL用い共重合を行い、得られたコポリ
マーをさらに4級化した。
この際、重合時間は2.3時間とし、コポリマーの再沈殿
に用いる良溶媒と貧溶媒の組合せはベンゼン−エチルエ
ーテルとし、その他の手法及び条件は実施例1と同じに
した。
に用いる良溶媒と貧溶媒の組合せはベンゼン−エチルエ
ーテルとし、その他の手法及び条件は実施例1と同じに
した。
この高分子電解質から作製した感湿素子は、相対湿度52
%において830kΩ、91%において24kΩの抵抗値を示し、
また純水への浸せきによって素子抵抗値はほとんど変化
しなかった。
%において830kΩ、91%において24kΩの抵抗値を示し、
また純水への浸せきによって素子抵抗値はほとんど変化
しなかった。
[実施例3] 実施例1と同様の方法によって、DMAEM及び4′MCをそれ
ぞれ17.7mL及び3.3g用い、AIBNを0.102g用い、DMFを20m
L用い共重合を行い、得られたコポリマーをさらに4級
化した。
ぞれ17.7mL及び3.3g用い、AIBNを0.102g用い、DMFを20m
L用い共重合を行い、得られたコポリマーをさらに4級
化した。
この際、重合時間は8時間とし、コポリマーの再沈殿に
用いる良溶媒と貧溶媒の組合せはベンゼン−エチルエー
テルとし、その他の手法及び条件は実施例1と同じにし
た。
用いる良溶媒と貧溶媒の組合せはベンゼン−エチルエー
テルとし、その他の手法及び条件は実施例1と同じにし
た。
この高分子電解質から作製した感質素子の抵抗−相対湿
度特性を第1図に、純水への浸せき回数と素子抵抗値の
関係を第2図に示す。純水への浸せきを繰り返しても抵
抗値の変化はほとんどなく、優れた耐水性を示す。
度特性を第1図に、純水への浸せき回数と素子抵抗値の
関係を第2図に示す。純水への浸せきを繰り返しても抵
抗値の変化はほとんどなく、優れた耐水性を示す。
[実施例4] 実施例1と同様の方法によって、DMEAM、4′MC、及びBM
Aをそれぞれ2.86mL、0.99g、及び2.70mL用い、AIBNを0.
0153g用い、DMFを8.5mL用い共重合を行い、得られたコ
ポリマーをさらに4級化した。
Aをそれぞれ2.86mL、0.99g、及び2.70mL用い、AIBNを0.
0153g用い、DMFを8.5mL用い共重合を行い、得られたコ
ポリマーをさらに4級化した。
この際、重合時間は7時間とし、4級化反応時間は5時
間とし、コポリマーの再沈殿に用いる良溶媒と貧溶媒の
組合せはベンゼン−メタノールとし、その他の手法及び
条件は実施例1と同じにした。
間とし、コポリマーの再沈殿に用いる良溶媒と貧溶媒の
組合せはベンゼン−メタノールとし、その他の手法及び
条件は実施例1と同じにした。
この高分子電解質から作製した感湿素子は、相対湿度52
%において480kΩ、91%において7.0kΩの抵抗値を示し、
また純水への浸せきによって素子抵抗値はほとんど変化
しなかった。
%において480kΩ、91%において7.0kΩの抵抗値を示し、
また純水への浸せきによって素子抵抗値はほとんど変化
しなかった。
<本発明の効果> 本発明により共重合させるモノマーの組成、4級化反応
に用いるハロゲン化アルキルの種類及びその反応率など
を変え、適当な吸湿性及びイオン伝導性を有する高分子
電解質を用意することにより、目的とする特性を有する
感湿素子を再現性よく作製することができる。
に用いるハロゲン化アルキルの種類及びその反応率など
を変え、適当な吸湿性及びイオン伝導性を有する高分子
電解質を用意することにより、目的とする特性を有する
感湿素子を再現性よく作製することができる。
また本発明によって得た感湿素子は、抵抗−相対湿度特
性の直線性がよく、ヒステリシスが小さく、応答速度が
速い特徴をもち、また水ぬれによって特性の変化しない
優れた耐水性を有する。
性の直線性がよく、ヒステリシスが小さく、応答速度が
速い特徴をもち、また水ぬれによって特性の変化しない
優れた耐水性を有する。
そのため、これまで困難であった水滴の付きやすい環境
での湿度計測が可能となり、感湿素子の新しい用途を開
拓することができる。
での湿度計測が可能となり、感湿素子の新しい用途を開
拓することができる。
第1図は本発明の製造方法の実施例で作製した感湿素子
の抵抗を、25℃、信号レベル1V、及び周波数1KHzの条件
で測定することによって得られた感湿特性を示す図であ
る。 第2図は上記と同じ感湿素子を純水に浸せきした回数
と、同じ条件で測定した相対湿度66.4%におけるその抵
抗値の変化の関係を示す説明図である。
の抵抗を、25℃、信号レベル1V、及び周波数1KHzの条件
で測定することによって得られた感湿特性を示す図であ
る。 第2図は上記と同じ感湿素子を純水に浸せきした回数
と、同じ条件で測定した相対湿度66.4%におけるその抵
抗値の変化の関係を示す説明図である。
フロントページの続き 審査官 能美 知康 (56)参考文献 特開 昭55−10502(JP,A) 特開 昭61−56952(JP,A) 特開 昭62−83642(JP,A) 特開 昭62−52446(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】光橋かけモノマーを共重合成分として含有
する高分子電解質を合成し、該高分子電解質を精製した
後、基板上に薄膜化し光照射することにより感湿膜を形
成することを特徴とする、耐水性を有する感湿素子の製
造方法。 - 【請求項2】光橋かけモノマーと4級化できる窒素原子
を有するモノマーを共重合成分として含有するコポリマ
ーを合成し、該4級化できる窒素原子を4級化すること
により高分子電解質を合成することを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の感湿素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63184746A JPH0640084B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 感湿素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63184746A JPH0640084B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 感湿素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0236343A JPH0236343A (ja) | 1990-02-06 |
| JPH0640084B2 true JPH0640084B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=16158619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63184746A Expired - Lifetime JPH0640084B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 感湿素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0640084B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6814409B2 (en) * | 2001-04-12 | 2004-11-09 | A-Dec, Inc. | Hydraulic drive system |
-
1988
- 1988-07-26 JP JP63184746A patent/JPH0640084B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0236343A (ja) | 1990-02-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN117624669B (zh) | 离子凝胶薄膜制备方法、化学传感器及其制备方法 | |
| GB2113400A (en) | Moisture responsive electrical element | |
| Lee et al. | Humidity‐sensitive properties of new polyelectrolytes based on the copolymers containing phosphonium salt and phosphine function | |
| JPS6156952A (ja) | 感湿抵抗素子 | |
| JPS5899743A (ja) | 感湿素子及びその製造方法 | |
| JPH0640084B2 (ja) | 感湿素子の製造方法 | |
| JP2575235B2 (ja) | イオン感応膜の製造方法 | |
| JP7386317B2 (ja) | 電気化学センサー | |
| Gong et al. | Humidity-sensitive properties of gel polyelectrolyte based on cross-linked copolymers containing both ammonium salt and amine function | |
| SAKAI et al. | Humidity sensors using chemically modified polymer thin films | |
| JP2004301766A (ja) | 感湿材用組成物、感湿材料および湿度センサ素子 | |
| JPS58223739A (ja) | 湿度センサ用感湿材 | |
| JPS6082951A (ja) | 感湿抵抗体 | |
| JPS6319020B2 (ja) | ||
| JPH04215051A (ja) | 感湿素子 | |
| JPH07103252B2 (ja) | イオン感応膜の製造方法 | |
| JP2969547B2 (ja) | 湿度センサおよびその製造方法 | |
| JPS58223051A (ja) | 感湿素子 | |
| JPH02210253A (ja) | 感湿素子 | |
| JPS6152948B2 (ja) | ||
| JPS6052756A (ja) | 抵抗式湿度センサ− | |
| JPS6291847A (ja) | 感湿素子 | |
| JPS6236549A (ja) | 感湿素子 | |
| JPS61241643A (ja) | 感湿素子 | |
| JPS6252446A (ja) | 感湿素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |