JPH0641059A - 2β位に置換基を有するビタミンD誘導体 - Google Patents

2β位に置換基を有するビタミンD誘導体

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JPH0641059A
JPH0641059A JP33344192A JP33344192A JPH0641059A JP H0641059 A JPH0641059 A JP H0641059A JP 33344192 A JP33344192 A JP 33344192A JP 33344192 A JP33344192 A JP 33344192A JP H0641059 A JPH0641059 A JP H0641059A
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Katsuhito Miyamoto
勝仁 宮本
Noboru Kubodera
登 久保寺
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 (式中Rは水素原子または水酸基を表す。Rは直鎖
あるいは分岐の低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基を表し、これらは水酸基、ハロゲン原
子、シアノ基、低級アルコキシ基、アミノ基、アシルア
ミノ基で置換されていてもよい。)で示される1α−ヒ
ドロキシビタミンD誘導体。 【効果】この化合物は、カルシウム代謝調節作用や分化
誘導作用を有し、骨粗粒症や骨軟化症等のカルシウム代
謝異常に基づく疾患の治療薬または抗腫瘍剤としての用
途が期待される。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、生体内カルシウムの調
節作用および腫瘍細胞等の分化誘導作用を有し、医薬例
えば骨粗鬆症、骨軟化症等のカルシウム代謝異常に基づ
く疾患の治療薬または抗腫瘍剤として有用な新規ビタミ
ンD誘導体、具体的には2β位に置換もしくは非置換の
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基
を有するビタミンD誘導体に関するものである。 【0002】 【従来の技術】従来公知のビタミンD類としては、2
5−ヒドロキシビタミンD、1α,25−ジヒドロキ
シビタミンD等の代謝産物である天然型のものとこれ
らの合成類縁体である1α−ヒドロキシビタミンD
1α,24−ジヒドロキシビタミンD、種々のフッ素
ビタミンD等数多くの化合物がある。これらのビタミ
ンD類のなかで、1α,25−ジヒドロキシビタミン
や26,27−ヘキサフルオロ−1α,25−ジヒ
ドロキシビタミンD等の化合物が強いカルシウム代謝
調節作用を有し、種々の骨病変に有用であることは知ら
れている。 【0003】また2β位に置換基を有するビタミンD
誘導体としては、例えば、特公平3−14303号公告
記載の1α,25−ジヒドロキシ−2β−フルオロビタ
ミンDや特開昭61−267549号公報記載の2β
位に置換低級アルコキシ基を有するビタミンDが知ら
れているが、2β位に置換あるいは非置換の、低級アル
キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基が導入さ
れたビタミンD類は知られいない。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】従来公知の活性代謝物
等の天然型ビタミンD類は、体内での代謝経路が確立
されていて、医薬として用いる場合投与量等の制限が生
じる。また、フッ素化された非天然型ビタミンD
は、フッ素を導入するという製造上の煩雑さがあるうえ
に、生体内で代謝を受けづらくなることが予想され、貯
留しやすいために副作用が心配される。2β位に置換低
級アルコキシ基を有するビタミンD類は、置換基がエ
ーテル結合で導入されているため、生体内での代謝によ
り切断される可能性がある。 【0005】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、グリニヤール試薬、有機リチウムなどの
有機金属化合物の反応によりビタミンDの2β位に置換
あるいは非置換の、低級アルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基を炭素−炭素結合で導入できるこ
とを見いだし、これらは製造法も簡便であった。この知
見に基づいて本発明をなすに至った。 【0006】すなわち、本発明は一般式(I) 【化2】 (式中Rは水素原子は水酸基を表す。Rは直鎖ある
いは分岐の低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基を表し、これらは水酸基、ハロゲン原子、シ
アノ基、低級アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基
で置換されていてもよい。)で表されるビタミンD
導体を提供するものである。 【0007】本発明で低級アルキル基とは、CからC
の直鎖または分岐状の炭素鎖を表し、具体的にはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、i−ブチ
ル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等を表す。低級
アルケニル基とは、CらCの直鎖または分岐状の、
1つ以上の2重結合を有する炭素鎖を表し、たとえば、
ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基などが
あげられる。低級アルキニル基とは、CからCの直
鎖または分岐状の、1つ以上の3重結合を有する炭素鎖
を表し、たとえば、エチニル基、プロピニル基、ブチニ
ル基、ペンチニル基などがあげられる。これらはそれぞ
れ、ヒドロキシアルキル基、ハロアルキル基、アミノア
ルキル基、ヒドロキシアルケニル基、ハロアルケニル
基、アミノアルケニル基、ヒドロキシアルキニル基、ハ
ロアルキニル基、アミノアルキニル基等の置換基を有す
るアルキル基、アルケニル基、アルキニル基でもよい。 【0008】本発明の化合物は、文献未載の新規化合物
であり、例えば一般式 【化3】 (式中Rは、水素原子または水酸基を表し、水酸基は
保護されていてもよい。R、R、R、R、はR
とR、RとRがそれぞれ二重結合を形成してい
るか、RとRで二重結合を形成し、RとRで4
−フェニル−1,2,4−トリアゾリン−3,5−ジオ
ン、マレイン酸ジエチルなど共役二重結合を保護し得る
ジェノファイルと結合していることを表す。)で表され
るエポキシ化合物と、一般式 【化4】 【0009】(式中Rは、直鎖あるいは分岐の低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基を表
し、これらは水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、低級ア
ルコキシ基、アミノ基で置換されていてもよい。置換基
のうち水酸基、アミノ基は保護基をともなってもよい。
Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子
を表す。)で示される化合物、あるいは一般式 【化5】 【0010】(式中Rは、直鎖あるいは分岐の低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基を表
し、これらは水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、低級ア
ルコキシ基、アミノ基で置換されていてもよい。置換基
のうち水酸基、アミノ基は保護基をともなってもよ
い。)で示される化合物を反応させることによって一般
式 【化6】 【0011】(式中R10は、直鎖あるいは分岐の低級
アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基を表
し、これらは水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、低級ア
ルコキシ基、アミノ基で置換されていてもよい。置換基
のうち水酸基、アミノ基は保護基をともなってもよい。
11は水素原子または水酸基を表し、水酸基は保護さ
れていてもよい。)で示されるプロビタミンD誘導体
とし、続いて例えば特開昭50−84555号公報記載
の光照射反応、熱異性化反応に付すことにより製造され
る。 【0012】化3の化合物と化4の化合物との反応に用
いる溶媒としては、反応に不活性であればよく、好まし
くはテトラヒドロフラン(THF)やジエチルエーテル
等のエーテル系溶媒が用いられる。反応温度は、原料の
種類、溶媒の種類、その他の条件により必ずしも一定し
ないが通常は−80℃から80℃の間を選択する。 【0013】反応に用いる化3の化合物は、例えばコレ
ステロールまたは25−ヒドロキシコレステロールから
特開昭50−84555号および50−84560号公
報記載の方法にしたがって得られる。反応に用いる化4
の化合物は、市販のグリニヤール試薬を用いても、置換
もしくは非置換の、アルキルハライド、アルケニルハラ
イド、アルキニルハライドと、金属マグネシウムから調
製してもよい。化5の化合物は、市販の有機リチウム試
薬を用いても、置換もしくは非置換の、アルキルハライ
ド、アルケニルハライド、アルキニルハライドと、金属
リチウムから調製してもよい。 【0014】 【発明の効果】本発明の化合物は、生体内カルシウムの
調節作用および腫瘍細胞等の分化誘導作用を有し、医薬
例えば骨粗鬆症、骨軟化症等のカルシウム代謝異常に基
づく疾患の治療薬または抗腫瘍剤として有用である。 【0015】 【実施例】次に、実施例および参考例によって本発明を
さらに詳しく説明するが、これにより本発明が限定され
るものではない。 【0016】 【実施例1】2β−エチル−1α,3β−ジヒドロキシ−9,10−
セココレスタ−5,7,10(19)−トリエンの合成
i)2β−エチル−1α,3β−ジヒドロキシ−5,7
−コレスタジエンの合成 【0017】アルゴン雰囲気下、1α,2α−エポキシ
−5α,8α−(3,5−ジオキソ−4−フェニル−
1,2,4−トリアゾリジノ)−6−コレステン−3β
−オール100mgをTHF3mlに溶解し、エチルマ
グネシウムブロミドのTHF溶液(1.01mol/
l)2mlを加えて室温で19.5時間撹拌後、4時間
加熱還流した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を塩化アンモニウム水溶液、続いて食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。
残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー
に付し、n−ヘキサン:酢酸エチル=3:2の混合溶媒
で溶出して、無色結晶性の標記化合物51.2mg(収
率69%)を得た。 【0018】H−NMR(CDCl)δ:0.62
(3H,s),0.85(3H,s),0.88(3
H,s),0.94(3H,d,J=6.1Hz),
1.01(3H,s),3.80(1H,m),4.1
2−4.28(1H,m),5.30−5.38(1
H,m),5.60−5.70(1H,m).UVλ
max(EtOH)nm:293,282,272,2
63(sh).MS m/z:428(M),41
0,342(100%). 【0019】ii)2β−エチル−1α,3β−ジヒド
ロキシ−9,10−セココレスタ−5,7,10(1
9)−トリエンの合成 【0020】2β−エチル−1α,3β−ジヒドロキシ
−5,7−コレスタジエン32.6mgをエタノール3
50mlに溶解し、氷冷下アルゴンガスを通気しなが
ら、バイコールフィルターを通して400W高圧水銀灯
で180秒光照射した。エタノールを減圧下留去した残
渣をTHF5mlに溶解して、窒素雰囲気下1.5時間
加熱還流し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッ
シュカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン:
酢酸エチル=7:3の混合溶媒で溶出した。さらに分取
用薄層クロマトグラフィー(シリカゲル;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=7:3で2回展開、塩化メチレン:エ
タノール=9:1で2回展開)で精製して標記化合物
0.59mgを得た。 【0021】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.85(3H,s),0.88(3
H,s),0.92(3H,d,J=5.9Hz),
0.99(3H,s),5.03(1H,s),5.3
9(1H,s),6.02(1H,d,J=11.4H
z),6.35(1H,d,J=11.4Hz).UV
λmax(EtOH)263nm. λmin229n
m. 【0022】 【実施例2】2β−(4−ヒドロキシブチル)−1α,3β−ジヒド
ロキシ−9,10−セココレスタ−5,7,10(1
9)−トリエンの合成法 i)2β−(4−ヒドロキシブチル)−1α,3β−ジ
ヒドロキシ−5,7−コレスタジエンの合成 【0023】窒素雰囲気下、−20〜−25℃に冷却し
たエチルマグネシウムブロミドのTHF溶液(1.01
mol/l)4.3mlに4−クロロ−1−ブタノール
400μlを加え、同温度で15分撹拌後、室温に戻し
た。この溶液にマグネシウム90mgを加えて、窒素雰
囲気下、13.5時間加熱還流した。室温に戻した反応
混合物に、1α,2α−エポキシ−5α,8α−(3,
5−ジオキソ−4−フェニル−1,2,4−トリアゾリ
ジノ)−6−コレステン−3β−オール100mgをT
HF3mlに溶解して加え、窒素雰囲気下、1時間加熱
還流した。反応混合物を塩化アンモニウム水溶液に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリ
カゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーに付し、酢
酸エチルで溶出して、無色結晶性の標記化合物36.8
mg(収率45%)を得た。 【0024】H−NMR(CDCl)δ:0.63
(3H,s),0.85(3H,s),0.89(3
H,s),0.95(3H,d,J=6.1Hz),
1.00(3H,s),5.30.5.40(1H,
m),5.58−5.68(1H,m). UVλmax(EtOH)nm:293,282,27
2,263(sh).MS m/z:436(100
%,M−2HO). 【0025】ii)2β−(4−ヒドロキシブチル)−
1α,3β−ジヒドロキシ−9,10,セココレスタ−
5,7,10(19)−トリエンの合成 【0026】2β−(4−ヒドロキシブチル)−1α,
3β−ジヒドロキシ−5,7−コレスタジエン18mg
をTHF300mlに溶解し、氷冷下アルゴンガスを通
気しながら、バイコールフィルターを通して400W高
圧水銀灯で25秒光照射した。続いて、窒素雰囲気下1
時間加熱還流し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィーに付し、塩化メチレ
ン:エタノール=9:1で溶出して、標記化合物5.3
mg(収率29%)を得た。 【0027】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.85(3H,s),0.88(3
H,s),5.00(1H,s),5.38(1H,
s),6.01(1H,d,J=11.6Hz),6.
34(1H,d,J=11.6Hz).UVλ
max(EtOH)263nm. λmin228n
m. 【0028】 【実施例3】1α,3β−ジヒドロキシ−2β−(6−
ヒドロキシヘキシル)−9,10−セココレスタ−5,
7,10(19)−トリエンの合成法 i)1α,3β−ジヒドロキシ−2β−(6−ヒドロキ
シヘキシル)−コレスタ−5,7−ジエンの合成 【0029】アルゴン雰囲気下、−45〜−55℃で、
エチルマグネシウムブロミドのジェチルエーテル溶液
(3mol/l)4.3mlのTHF(5ml)懸濁液
に6−クロロ−1−ヘキサノール1.51g(11.0
mmol)のTHF(5ml)溶液を徐々に滴下し、−
15〜−45℃で20分間攪拌後、さらに室温で20分
間攪拌した。マグネシウム271mg(11.2mmo
l)を加え、17時間加熱還流した。放冷後、1α,2
α−エポキシ−5α,8α−(3,5−ジオキソ−4−
フェニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−コレス
テン−3β−オール150mg(261μmol)のT
HF(4.5ml)溶液を5分間かけて滴下し、1.5
時間加熱還流した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム
水溶液に注ぎ、Hyflo Super−Cellで濾
過後、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液
で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧下留去して得られる残渣を、分取用薄層クロマトグラ
フィー(シリカゲル;エタノール:ジクロロメタン=1
2:100)で粗精製後、フラッシュカラムクロマトグ
ラフィー(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキサン=
6:1)で精製して、白色粉末状の標記化合物87mg
(収率66%)を得た。 【0030】H−NMR(CDCl)δ:0.62
(3H,s),0.87(6H,d,J=6.6H
z),0.94(3H,d,J=6.1Hz),0.9
8(3H,s),3.41(2H,t,J=6.6H
z),3.73(1H,brs),4.08−4.21
(1H,m),5.28−5.36(1H,m),5.
63(1H,brd,J=4.9Hz) IR(neat,cm−1):3330(br),29
45,2870 UVλmax(EtOH)nm:293,282,27
1 MS m/z:500(M),43(100%) 【0031】ii)1α,3β−ジヒドロキシ−2β−
(6−ヒドロキシヘキシル)−9,10−セココレスタ
−5,7,10(19)−トリエンの合成 【0032】1α,3β−ジヒドロキシ−2β−(6−
ヒドロキシヘキシル)−コレスタ−5,7−ジエン4
7.1mg(94.1μmol)をエタノール200m
lに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしなが
ら、400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い、3分45秒間光照射後、2時間加熱還流した。溶媒
を減圧留去して得られる残渣を分取用薄層クロマトグラ
フィー(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキサン=5:
1)で精製し、白色粉末状の標記化合物11.1mg
(収率24%)を得た。 【0033】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.87(6H,d,J=6.6H
z),0.92(3H,d,J=6.1Hz),3.6
4(2H,t,J=6.6Hz),4.04(1H,b
rd,J=7.8Hz),4.15(1H,brs),
5.01(1H,s),5.37(1H,s),6.0
3(1H,d,J=10.8Hz),6.34(1H,
d,J=10.8Hz) IR(neat,cm−1):3345(br),29
20,2855 UVλmax(EtOH):263nm. λmin
29nm MS m/z=500(M),43(100%) 【0034】 【実施例4】2β−(6−ヒドロキシヘキシル)−1
α,3β,25−トリヒドロキシ−9,10−セココレ
スタ−5,7,10(19)−トリエンの合成法 i)2β−(6−ヒドロキシヘキシル)−1α,3β,
25−トリヒドロキシ−コレスタ−5,7−ジエンの合
【0035】アルゴン雰囲気下、−20℃以下でエチル
マグネシウムブロミド(3mol/l)のジエチルエー
テル溶液4.3mlのTHF(15ml)懸濁液に、6
−クロロ−1−ヘキサノール1.51g(11.0mm
ol)のTHF(5ml)溶液を徐々に滴下し、同温度
で15分間攪拌後さらに室温で15分間攪拌した。マグ
ネシウム271mg(11.2mmol)を加え、14
時間加熱還流した。放冷後、1α,2α−エポキシ−5
α,8α−(3,5−ジオキソ−4−フェニル−1,
2,4−トリアゾリジノ)−6−コレステン−3β,2
5−ジオール100mg(170μmol)のTHF
(5ml)溶液を徐々に滴下し、2時間加熱還流した。
反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、Hy
flo Super−Cellで濾過後、酢酸エチルで
抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して得られ
る残渣を、フラッシュカラムクロマトグラフィー(シリ
カゲル;酢酸エチル:n−ヘキサン=5:1)で粗精製
後、分取用薄層クロマトグラフィー(シリカゲル;エタ
ノール:ジクロロメタン=13:100で2回展開)で
精製して、無色油状の標記化合物41mg(収率47
%)を得た。 【0036】H−NMR(CDCl)δ:0.62
(3H,s),0.96(3H,d,J=6.6H
z),0.99(3H,s),1.21(6H,s),
3.61(2H,t,J=6.3Hz),3.75(1
H,brs),4.09−4.23(1H,m),5.
29−5.37(1H,m),5.65(1H,br
d,J=5.1Hz) IR(neat,cm−1):3355(br),29
35,2860 UVλmax(EtOH)nm:294,282,27
2 MS m/z:516(M),43(100%) 【0037】ii)2β−(6−ヒドロキシヘキシル)
−1α,3β,25−トリヒドロキシ−9,10−セコ
コレスタ−5,7,10(19)−トリエンの合成 【0038】2β−(6−ヒドロキシヘキシル)−1
α,3β,25−トリヒドロキシ−コレスタ−5,7−
ジエン36.8mg(71.2μmol)をエタノール
200mlに溶解し、氷冷下アルゴンガスをバブリング
しながら、400W高圧水銀灯−バイコールフィルター
を用い、3分10秒間光照射後、2.5時間加熱還流し
た。溶媒を減圧留去して得られる残渣を分取用薄層クロ
マトグラフィー(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキサ
ン=7:1)で精製し、白色粉末状の標記化合物7.9
mg(収率21%)を得た。 【0039】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.94(3H,d,J=6.1H
z),1.22(6H,s),3.64(2H,t,J
=6.6Hz),3.99−4.09(1H,m),
4.15(1H,brs),5.02(1H,s),
5.37(1H,s)6.03(1H,d,J=10.
7Hz),6.34(1H,d,J=10.7Hz) IR(neat,cm−1):3410(br),29
70,2865 UVλmax(EtOH):262nm. λmim
28nm MS m/z:516(M),59(100%) 【0040】 【実施例5】2β−(4−ヒドロキシブチル)−1α,
3β,25−トリヒドロキシ−9,10−セココレスタ
−5,7,10(19)−トリエンの合成法 i)2β−(4−ヒドロキシブチル)−1α,3β,2
5−トリヒドロキシコレスタ−5,7−ジエンの合成 【0041】アルゴン雰囲気下、−35〜−45℃でエ
チルマグネシウムブロミド(3mol/lエーテル溶
液)4.3ml(12.9mmol)のTHF(15m
l)懸濁液に4−クロロ−1−ブタノール1.20g
(11.0mmol)のTHF(5ml)溶液を20分
間かけて滴下し、−20℃以下で15分間攪拌後、さら
に室温で30分間攪拌。マグネシウム271mg(1
1.2mmol)を加え、13.5時間加熱還流。放冷
後、1α,2α−エポキシ−5α,8α−(3,5−ジ
オキソ−4−フェニル−1,2,4−トリアゾリジノ)
−6−コレステン−3β,25−ジオール100mg
(170μmol)のTHF(5ml)溶液を10分間
かけて滴下し、2時間加熱還流。反応混合物を飽和塩化
アンモニウム水溶液に注ぎ、Hyflo Super−
Cellで濾過後、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナト
リウム水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧下留去して得られる残渣を、フラッシュ
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル;エタノール:
酢酸エチル=1:50)で粗精製後、分取用薄層クロマ
トグラフィー(シリカゲル;エタノール:ジクロロメタ
ン=15:100)で精製して、白色粉末状の標記化合
物27mg(収率33%)を得た。 【0042】H−NMR(dmso−d+CDCl
)δ:0.62(3H,s),0.95(3H,d,
J=6.3Hz),0.99(3H,s),1.20
(6H,s),3.46(2H,t,J=6.1H
z),3.72(1H,brs),4.11−4.26
(1H,m),5.28−5.35(1H,m),5.
57−5.64(1H,m) IR(neat,cm−1):3390(br),29
45,2875 UVλmax(EtOH)nm:294,282,27
2 MS m/z:488(M),59(100%) 【0043】ii)2β−(4−ヒドロキシブチル)−
1α,3β,25−トリヒドロキシ−9,10−セココ
レスタ−5,7,10(19)−トリエンの合成 【0044】2β−(4−ヒドロキシブチル)−1α,
3β,25−トリヒドロキシコレスタ−5,7−ジエン
16.7mg(34.2μmol)をエタノール200
mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしな
がら、400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い、2分間光照射後、2時間加熱還流。溶媒を減圧下留
去して得られる残渣を分取用薄層クロマトグラフィー
(シリカゲル;エタノール:ジクロロメタン=1:7)
で粗精製後、分取用薄層クロマトグラフィー(シリカゲ
ル;エタノール:酢酸エチル=1:100)で精製し
て、白色粉末状の標記化合物4.0mg(収率24%)
を得た。 【0045】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.94(3H,d,J=5.9H
z),1.22(6H,s),3.68(2H,t,J
=6.1Hz),4.01−4.12(1H,m),
4.16(1H,brs),5.02(1H,s),
5.37(1H,s),6.03(1H,d,J=1
1.3Hz),6.34(1H,d,J=11.3H
z) IR(neat,cm−1):3385(br),29
45,2875 UVλmax(EtOH):264nm. λ
mim229nmMS m/z:488(M),13
3(100%) 【0046】 【実施例6】2β−メチル−1α,3β,25−トリヒ
ドロキシ−9,10−セココレスタ−5,7,10(1
9)−トリエンの合成法 i)2β−メチル−1α,3β,25−トリヒドロキシ
コレスタ−5,7−ジエンの合成 【0047】メチルマグネシウムブロミド(1mol/
l THF溶液)2ml(2.0mmol)に1α,2
α−エポキシ−5α,8α−(3,5−ジオキソ−4−
フェニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−コレス
テン−3β,25−ジオール100mg(170μmo
l)のTHF(3ml)溶液を加え、アルゴン雰囲気下
2時間加熱還流。放冷後反応混合物を飽相塩化アンモニ
ウム水溶液に注ぎ、Hyflo Super−cell
で濾過後、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水
溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を減圧下留去して得られる残渣を、分取用薄層クロマト
グラフィー(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキサン=
9:1)で粗精製後、分取用薄層クロマトグラフィー
(シリカゲル;エタノール:ジクロロメタン=12:1
00)で精製して、白色粉末状の標記化合物17mg
(収率23%)を得た。 【0048】H−NMR(CDCl)δ:0.63
(3H,s),0.96(3H,d,J=6.3H
z),1.01(3H,s),1.11(3H,d,J
=7.8Hz),1.22(6H,s),3.67(1
H,brs),4.06−4.25(1H,m),5.
33−5.43(1H,m),5.66−5.73(1
H,m) IR(neat,cm−1):3380(br),29
40,2905 UVλmax(EtOH)nm=293,282,27
2 MS m/z:430(M),59(100%) 【0049】ii)2β−メチル−1α,3β,25−
トリヒドロキシ−9,10−セココレスタ−5,7,1
0(19)−トリエンの合成 【0050】2β−メチル−1α,3β,25−トリヒ
ドロキシコレスタ−5,7−ジエン17.2mg(3
9.9μmol)をエタノール200mlに溶解し、氷
冷下、アルゴンガスをバブリングしながら、400W高
圧水銀灯一バイコールフィルターを用い、2分間光照射
後、2時間加熱還流。溶媒を減圧下留去して得られる渣
を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカゲル;酢酸エ
チル:n−ヘキサン=5:1)で精製して、白色泡状の
標記化合物4.1mg(収率24%)を得た。 【0051】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.94(3H.d,J=6.1H
z),1.15(3H,d,J=6.8Hz),1.2
2(6H,s),3.95−4.03(1H,m),
4.04(1H,brs),5.02(1H,s),
5.37(1H,s),6.03(1H,d,J=1
1.7Hz),6.35(1H,d,J=11.7H
z) IR(neat,cm−1):3375(br),29
30,2870 UVλmax(EtOH)=264nm. λmim
228nm MS m/z:430(M),59(100%) 【0052】 【実施例7】1α,3β−ジヒドロキシ−2β−メチル
−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−ト
リエンの合成法 i)1α,3β−ジヒドロキシ−2β−メチルコレスタ
−5,7−ジエンの合成 【0053】メチルマグネシウムブロミド(1mol/
l THF溶液)2ml(2.0mmol)に1α,2
α−エポキシ−5α,8α−(3,5−ジオキソ−4−
フェニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−コレス
テン−3β−オール100mg(174μmol)のT
HF(4ml)溶液を加え、アルゴン雰囲気下2時間加
熱還流。放冷後反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶
液に注ぎ、HyfloSuper−Cellで濾過後、
酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留
去して得られる残渣を、分取用薄層クロマトグラフィー
(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキサン=3:1)で
精製して、淡黄色粉末状の標記化合物17mg(収率2
4%)を得た。 【0054】H−NMR(CDCl)δ:0.62
(3H,s),0.87(6H,d,J=6.6H
z),0.94(3H,d,J=6.3Hz),100
(3H,s),1.10(3H,d,J=7.9H
z),3.65(1H,brs),4.13−4.26
(1H,m),5.32−5.41(1H,m),5.
69(1H,brd,J=5.6Hz) IR(neat,cm−1):3345(br),29
45,2870 UVλmax(EtOH)nm:293,282,27
1 MS m/z:414(M,43(100%) 【0055】ii)1α,3β−ジヒドロキシ−2β−
メチル−9,10−セココレスタ−5,7,10(1
9)−トリエンの合成 【0056】1α,3β−ジヒドロキシ−2β−メチル
コレスタ−5,7−ジエン13.0mg(31.4μm
ol)をエタノール200mlに溶解し、氷冷下、アル
ゴンガスをバブリングしながら、400W高圧水銀灯−
バイコールフィルターを用い、1分55秒間光照射後、
2時間加熱還流。溶媒を減圧下留去して得られる残渣を
分取用薄層クロマトグラフィー(シリカゲル;酢酸エチ
ル:n−ヘキサン=2:1)で精製して、無色油状の標
記化合物3.6mg(収率28%)を得た。 【0057】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.87(6H,d,J=6.6H
z),0.92(3H,d,J=5.9Hz),1.1
5(3H,d,J=6.8Hz),3.95−4.02
(1H,m),4.03(1H,brs),5.02
(1H,s),5.37(1H,s),6.03(1
H,d,J=11.7Hz),6.35(1H,d,J
=11.7Hz) IR(neat,cm−1):3390(br),29
45,2930,2870 UVλmax(EtOH):262nm. λmim
227nm MS m/z:414(M),148(100%) 【0058】 【実施例8】2β−エチル−1α,3β,25−トリヒ
ドロキシ−9,10−セココレスタ−5,7,10(1
9)−トリエンの合成法 i)2β−エチル−1α,3β,25−トリヒドロキシ
コレスタ−5,7−ジエンの合成 【0059】アルゴン雰囲気下、THF5mlにエチル
マグネシウムブロミドのTHF溶液(1.04mol/
l)を2.4ml加えた後、1α,2α−エポキシ−5
α,8α−(3,5−ジオキソ−4−フェニル−1,
2,4−トリアゾリジノ)−6−コレステン−3β,2
5−ジオール100mgのTHF(5ml)溶液を加
え、2.5時間加熱還流。反応液に水を加え、酢酸エチ
ルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して得
られる残渣を、分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ
ゲル;ジクロロメタン:エタノール=10:1)で精製
して、無色油状の標記化合物22.7mg(収率30
%)を得た。 【0060】H−NMR(CDCl)δ:0.63
(3H,s),0.96(3H,d,J=6.6H
z),1.01(3H,s),1.05(3H,t,J
=7.4Hz),1.22(6H,s),3.80(1
H,brs),4.13−4.27(1H,m),5.
30−5.40(1H,m),5.68(1H,br
d,J=4.3Hz) IR(neat,cm−1) :3400(br),2
955,2870 UVλmax(EtOH)nm:283,272 MS m/z:444(M),59(100%) 【0061】ii)2β−エチル−1α,3β,25−
トリヒドロキシ−9,10−セココレスタ−5,7,1
0(19)−トリエンの合成 【0062】2β−エチル−1α,3β,25−トリヒ
ドロキシコレスタ−5,7−ジエン22.7mgをエタ
ノール200mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバ
ブリングしながら、400W高圧水銀灯−バイコールフ
ィルターを用い、110秒間光照射後、3時間加熱還
流。溶媒を減圧下留去して得られる残渣を分取用薄層ク
ロマトグラフィー(シリカゲル;ジクロロメタン:エタ
ノール=20:1)で精製して、標記化合物3.56m
g(収率16%)を得た。 【0063】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.94(3H,d,J=6.3H
z),0.99(3H,t,J=7.0Hz),1.2
2(6H,s),4.00−4.10(1H,m),
4.17(1H,brs),5.02(1H,s),
5.38(1H,s),6.04(1H−d,J=1
1.0Hz),6.34(1H,d,J=11.0H
z) IR(neat,cm−1):3410(br),29
40,2870 UVλmax(EtOH):263nm. λmim
228nm MS m/z:444(M),133(100%) 【0064】 【実施例9】1α,3β−ジヒドロキシ−2β−(4−
ペンテニル)−9,10−セココレスタ−5,7,10
(19)−トリエンの合成法 i)1α,3β−ジヒドロキシ−2β−(4−ペンテニ
ル)コレスタ−5,7−ジエンの合成 【0065】アルゴン雰囲気下、THF5mlにマグネ
シウム122mgを加えた後に、5−ブロモ−1−ペン
テン595μl及びヨウ素を少量加え、室温で2.5時
間攪拌した。この反応混合物に1α,2α−エポキシ−
3β−ヒドロキシ−5,7−コレスタジエン100mg
のTHF(2ml)溶液を加え、アルゴン雰囲気下2時
間加熱還流。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液
を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶
液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
減圧下留去して得られる残渣を、分取用薄層クロマトグ
ラフィー(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキサン=
1:1)で精製して、無色油状の標記化合物67.4m
g(収率59%)を得た。 【0066】H−NMR(CDCl)δ:0.62
(3H,s),0.87(6H,d,J=6.6H
z),0.94(3H,d,J=6.3Hz),1.0
0(3H,s),3.76(1H,brs),4.07
−4.21(1H,m),4.85−5.01(2H,
m),5.30−5.40(1H,m),5.60−
5.69(1H,m),5.70−5.95(1H,
m) IR(neat,cm−1):3480(br),29
70,2880 UVλmax(EtOH)nm:293,282,27
1 MS m/z:468(M),55(100%) 【0067】ii)1α,3β−ジヒドロキシ−2β−
(4−ペンテニル)−9,10−セココレスタ−5,
7,10(19)−トリエンの合成 【0068】1α,3β−ジヒドロキシ−2β−(4−
ペンテニル)コレスタ−5,7−ジエン20mgをエタ
ノール200mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバ
ブリングしながら、400W高圧水銀灯−バイコールフ
ィルターを用い、110秒間光照射後、2.5時間加熱
還流した。溶媒を減圧下留去して得られる残渣を分取用
薄層クロマトグラフィー(シリカゲル;酢酸エチル:n
−ヘキサン=1:1)で精製して、標記化合物5.06
mg(収率25.3%)を得た。 【0069】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.87(6H,d,J=6.6H
z),0.92(3H,d,J=5.8Hz),4.0
4−4.13(1H,m),4.15(1H,br
s),4.88−5.08(3H,m),5.37(1
H,s),5.70−5.94(1H,m),6.03
(1H,d,J=11.0Hz),6.35(1H,
d,J=11.0Hz) IR(neat,cm−1):3480,2950,2
930,2880 UVλmax(EtOH):263nm. λmim
229nm MS m/z:468(M),147(100%) 【0070】 【実施例10】2β−(4−ペンテニル)−1α,3
β,25−トリヒドロキシ−9,10−セココレスタ−
5,7,10(19)−トリエンの合成法 i)2β−(4−ペンテニル)−1α,3β,25−ト
リヒドロキシコレスタ−5,7−ジエンの合成 【0071】アルゴン雰囲気下、THF5mlにマグネ
シウム146mgを加えた後に、5−ブロモ−1−ペン
テン713μl及びヨウ素を少量加え、室温で2時間攪
拌した。この反応混合物に、3β,25−ジヒドロキシ
−1α,2α−エポキシ−5,7−コレスタジエン10
0mgのTHF(5ml)溶液を加え、アルゴン雰囲気
下、2時間加熱還流。反応液に飽和塩化アンモニウム水
溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム
水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を減圧下留去して得られる残渣を、分取用薄層クロマ
トグラフィー(シリカケル;ジクロロメタン:エタノー
ル=20:1)で精製して、無色油状の標記化合物3
2.8mg(収率28%)を得た。 【0072】H−NMR(CDCl)δ:0.62
(3H,s),0.96(3H,d,J=6.3H
z),1.01(3H,s),1.22(6H,s),
3.76(1H,brs),4.17−4.18(1
H,m),4.92−5.08(2H,m),5.31
−5.39(1H,m),5.65−5.72(1H,
m),5.74−5.91(1H,m) IR(neat,cm−1):3400(br),29
40,2870 UVλmax(EtOH)nm:294,281,27
1 MS m/z:485(M),55(100%) 【0073】ii)2β−(4−ペンテニル)−1α,
3β,25−トリヒドロキシ−9,10−セココレスタ
−5,7,10(19)−トリエンの合成 【0074】2β−(4−ペンテニル)−1α,3β,
25−トリヒドロキシコレスタ−5,7−ジエン32.
8mgをエタノール200mlに溶解し、氷冷下、アル
ゴンガスをバブリングしながら、400W高圧水銀灯−
バイコールフィルターを用い、150秒間光照射後、3
時間加熱還流。溶媒を減圧下留去して得られる残渣を分
取用薄層クロマトグラフィー(シリカゲル;ジクロロメ
タン:エタノール=20:1)で精製して、標記化合物
8.08mg(収率25%)を得た。 【0075】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.94(3H,d,J=6.3H
z),1.22(6H,s),4.01−4.10(1
H,m),4.16(1H,brs),4.91−5.
09(3H,m),5.37(1H,s),5.75−
5.92(1H,m),6.03(1H,d,J=1
1.2Hz),6.34(1H,d,J=11.2H
z) IR(neat,cm−1):3400(br),29
50,2980 UVλmax(EtOH):263nm. λmim
228nm MS m/z:485(M),133(100%) 【0076】 【実施例11】2β−ブチル−1α,3β−ジヒドロキ
シ−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−
トリエンの合成法 i)2β−ブチル−1α,3β−ジヒドロキシコレスタ
−5,7−ジエンの合成 【0077】アルゴン雰囲気下、−70℃に冷却したT
HF5mlにノルマルブチルリチウムのヘキサン溶液
(1.61mol/l)808μlを加え、同温度でし
ばらく攪拌後、この溶液に1α,2α−エポキシ−3β
−ヒドロキシ−5,7−コレスタジエン100mgのT
HF(10ml)溶液を−70℃で加えた。次いで、3
ふっ化ホウ素ジエチルエーテル57.5μlを加え、−
70℃で20分攪拌した。さらに氷冷下30分攪拌し
た。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を注ぎ、
酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留
去して得られる残渣を、分取用薄層クロマトグラフィー
(シリカゲル;ジクロロメタン:エタノール=35:
1)で精製して、無色油状の標記化合物14mg(収率
12%)を得た。 【0078】H−NMR(CDCl)δ:0.62
(3H,s),0.87(6H,d,J=6.6H
z),0.90−0.95(6H,m),1.02(3
H,s),3.78(1H,brs),4.13−4.
27(1H,m),5.32−5.40(1H,m),
5.62−5.71(1H,m) IR(neat,cm−1):3400(br),29
50,2930,2870 UVλmax(EtOH)nm:294,282,27
1 MS m/z:456(M),55(100%) 【0079】ii)2β−ブチル,1α,3β−ジヒド
ロキシ−9,10−セココレスタ−5,7,10(1
9),トリエンの合成 【0080】2β−ブチル−1α,3β−ジヒドロキシ
コレスタ−5,7−ジエン14mgをエタノール200
mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしな
がら、400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い、80秒間光照射後次いで40秒間光照射し、3時間
加熱還流した。溶媒を減圧下留去して得られる残渣を分
取用薄層クロマトグラフィー(シリカゲル;ジクロロメ
タン:エタノール=40:1)で精製して、標記化合物
1.52mg(収率11%)を得た。 【0081】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3Hs),0.87(6H,d,J=6.6Hz),
0.91−0.98(6Hm),4.01−4.10
(1H,m),4.17(1H,brs),5.02
(1H,s),5.37(1H,s),6.03(1
H,d,J=11.5Hz),6.34(1H,d,J
=11.5Hz) IR(neat,cm−1):3400(br),29
60,2930,2870 UVλmax(EtOH):263nm. λmim
228nm MS m/z:456(M),57(100%) 【0082】 【実施例12】2β−ブチル−1α,3β,25−トリ
ヒドロキシ−9,10−セココレスタ−5,7,10
(19)−トリエンの合成法 i)2β−ブチル−1α,3β,25−トリヒドロキシ
コレスタ−5,7−ジエンの合成 【0083】アルゴン雰囲気下、−70℃に冷却したT
HF5mlにノルマルブチルリチウムのヘキサン溶液
(1.61mol/l)1.94mlを加え、同温度で
しばらく攪拌後、この溶液に3β,25−ジヒドロキシ
−1α,2α−エポキシ−5,7−コレスタジエン10
0mgのTHF(5ml)溶液を−70℃で加えた。次
いで、3ふっ化ホウ素ジエチルエーテル55.2μlを
加え、−70℃で30分攪拌した。さらに氷冷下30分
攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を
注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液
で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧下留去して得られる残渣を、分取用薄層クロマトグラ
フィー(シリカゲル;ジクロロメタン:エタノール=1
0:1)で粗精製後、再度分取用薄層クロマトグラフィ
ー(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)
で精製後して、無色油状の標記化合物9.5mg(収率
8%)を得た。 【0084】H−NMR(CDCl)δ:0.63
(3H,s),0.89−0.98(6H,m),1.
02(3H,s),1.22(6H,s),3.78
(1H,brs),4.11−4.16(1H,m),
5.32−5.31(1H,m),5.65−5.74
(1H,m) IR(neat,cm−1):3400(br),29
70,2890 UVλmax(EtOH)nm:294,282,27
1 MS m/z:472(M),59(100%) 【0085】ii)2β−ブチル−1α,3β,25−
トリヒドロキシ−9,10−セココレスタ−5,7,1
0(19)−トリエンの合成 【0086】2β−ブチル−1α,3β,25−トリヒ
ドロキシコレスタ−5,7−ジエン9.5mgをエタノ
ール200mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブ
リングしながら、400W高圧水銀灯−バイコールフィ
ルターを用い、80秒間光照射後、3時間加熱還流し
た。溶媒を減圧下留去して得られる残渣を分取用薄層ク
ロマトグラフィー(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキ
サン=1:1)で精製して、標記化合物1.36mg
(収率14%)を得た。 【0087】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.92(3H,t,J=6.8H
z),0.94(3H,d,J=6.3Hz),1.2
2(6H,s),4.01−4.10(1H,m),
4.15(1H,brs),5.02(1H,s),
5.38(1H,s),6.04(1H,d,J=1
0.9Hz),6.35(1H,d,J=10.9H
z) IR (neat,cm−1):3400(br),2
930,2880 UVλmax(EtOH):264nm. λmim
228nm MS m/z:472(M),55(100%) 【0088】 【実施例13】1α,3β,ジヒドロキシ−2β−ペン
チル−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)
−トリエンの合成法 i)1α,3β−ジヒドロキシ−2β−ペンチルコレス
タ−5,7−ジエンの合成 【0089】アルゴン雰囲気下、THF5mlにマグネ
シウム127mg及びヨウ素を少量加え、ヨウ素の色が
消えるまで攪拌後、1−ブロモペンタン674μlを加
え、室温で1.5時間攪拌した。この反応混合物に1
α,2α−エポキシ−5α,8α−(3,5−ジオキソ
−4−フェニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−
コレステン−3β−オール100mgのTHF(5m
l)溶液を加え、2時間加熱還流。反応混合物に飽和塩
化アンモニウム水溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽
和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して得られる残渣を、
分取用薄層クロマトグラフィー(シリカゲル;ジクロロ
メタン:エタノール=20:1)で粗精製後、分取用薄
層クロマトグラフィー(シリカゲル;酢酸エチル:n−
ヘキサン=1:2)で精製して、無色油状の標記化合物
18.8mg(収率23%)を得た。 【0090】H−NMR(CDCl)δ:0.62
(3H,s),0.87(6H,d,J=6.6H
z),0.94(3H,d,J=6.3Hz),1.0
1(3H,s),3.77(1H,brs),4.10
−4.22(1H,m),5.32−5.40(1H,
m),5.67(1H,brd,J=5.6Hz) IR(neat,cm−1):3400(br),29
40,2920,2870 UVλmax(EtOH)nm:292,282,27
1 MS m/z:470(M),55(100%) 【0091】ii)1α,3β−ジヒドロキシ−2β−
ペンチル−9,10−セココレスタ−5,7,10(1
9)−トリエンの合成 【0092】1α,3β−ジヒドロキシ−2β−ペンチ
ルコレスタ−5,7−ジエン18.8mgをエタノール
200mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリン
グしながら、400W高圧水銀灯−バイコールフィルタ
ーを用い、110秒間光照射後、3時間加熱還流した。
溶媒を減圧下留去して得られる残渣を分取用薄層クロマ
トグラフィー(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキサン
=1:3)で粗精製後、分取用薄層クロマトグラフィー
(シリカゲル;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:3)で
精製して、標記化合物3.38mg(収率18%)を得
た。 【0093】H−NMR(CDCl)δ:0.55
(3H,s),0.87(6H,d,J=6.6H
z),0.92(3H,d,J=6.0Hz),4.0
1−4.10(1H,m),4.15(1H,br
s),5.02(1H,s),5.37(1H,s),
6.03(1H,d,J=11.1Hz),6.34
(1H,d,J=11.1Hz) IR(neat,cm−1):3400(br),29
60,2940,2880 UVλmax(EtOH):264nm. λmim
228nm MS m/z:470(M),133(100%) 【0094】 【参考例】卵巣摘出ラットの骨塩量減少抑制効果 日本チャールズ・リバー社製のSD系雌性ラット(8カ
月齢)にエーテル麻酔下卵巣摘除術(OVX)を施し、
傷がほぼ回復した術後2週目より実施例2の化合物を
0.1μg/kgの投与量にて週2回、3カ月間経口投
与を行った。薬剤は、日清製油社製の食用油脂(O.
D.O)に溶解して用いた。他に、無処置群(OVXし
ないでO.D.Oを投与する群)とOVX群(OVX後
O.D.Oのみを投与する群)を作製した。 【0095】骨密度は、投与開始後1カ月毎に、ラット
をフェノバルビタール麻酔下、仰向けに固定して、第2
腰椎から第5腰椎までの平均骨密度を、アロカ社製二重
X線骨塩量測定装眉DCS−600を用いて測定した。
薬物投与群および無処置群、OVX群の骨密度の変化を
図1に示した。 【0096】 【図1】明らかに実施例2の化合物は、骨塩童の減少を
抑制した。
【図面の簡単な説明】 【図1】薬物投与群および無処置群、OVX群の骨密度
の変化を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 (1) 【化1】 (式中Rは水素原子または水酸基を表す。R直鎖あ
    るいは分岐の低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
    アルキニル基を表し、これらは水酸基、イハロゲン原
    子、シアノ基、低級アルコキシ基、アミノ基、アシルア
    ミノ基で置換されていてもよい。)で示される1α−ヒ
    ドロキシビタミンD誘導体。
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