JPH0641214A - プラズマ開始重合法 - Google Patents
プラズマ開始重合法Info
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- JPH0641214A JPH0641214A JP21973292A JP21973292A JPH0641214A JP H0641214 A JPH0641214 A JP H0641214A JP 21973292 A JP21973292 A JP 21973292A JP 21973292 A JP21973292 A JP 21973292A JP H0641214 A JPH0641214 A JP H0641214A
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 モノマーを含む蒸気にイオン化ガスプラズマ
を発生させることにより該モノマーの重合を開始させ、
かつプラズマの非存在下で重合の大部分を完結させるプ
ラズマ開始重合法において、前記イオン化ガスプラズマ
の発生を0.2〜3気圧の圧力で行うことを特徴とする
プラズマ開始重合法を提供する。 【効果】 本発明によれば、出発モノマーの化学構造を
崩すことなく、かつ無触媒である等のプラズマ開始重合
法の諸特徴を損なうことなく高分子量重合体を得ること
ができ、また、減圧操作の必要がないのでモノマー溶液
の蒸発により組成変化を防ぐことができ、凍結操作等の
必要がなくなるためモノマー溶液の蒸発により組成変化
を防ぐことができ、凍結操作の必要もなくなり、工業化
の際にも処理コスト、設備費が安くなるという利点を有
する。
を発生させることにより該モノマーの重合を開始させ、
かつプラズマの非存在下で重合の大部分を完結させるプ
ラズマ開始重合法において、前記イオン化ガスプラズマ
の発生を0.2〜3気圧の圧力で行うことを特徴とする
プラズマ開始重合法を提供する。 【効果】 本発明によれば、出発モノマーの化学構造を
崩すことなく、かつ無触媒である等のプラズマ開始重合
法の諸特徴を損なうことなく高分子量重合体を得ること
ができ、また、減圧操作の必要がないのでモノマー溶液
の蒸発により組成変化を防ぐことができ、凍結操作等の
必要がなくなるためモノマー溶液の蒸発により組成変化
を防ぐことができ、凍結操作の必要もなくなり、工業化
の際にも処理コスト、設備費が安くなるという利点を有
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、モノマーの重合開始を
大気圧プラズマにより行うプラズマ開始重合法に関す
る。
大気圧プラズマにより行うプラズマ開始重合法に関す
る。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来の
プラズマ開始重合法は、液体、固体モノマー又はその水
溶液もしくは乳化液の蒸気に、減圧(0.01〜100
mmHg程度の圧力下)で10〜500Wの電圧を印加
することによってイオン化ガスプラズマを発生させ、こ
のイオン化ガスプラズマによって重合活性種を生成さ
せ、このプラズマ中に発生した重合活性種を液体表面又
は固体表面に接触せしめることにより、液体又は固体モ
ノマー中で重合の成長反応が開始し、所定時間経過後、
最終分子量に達する前の部分重合モノマーに対するイオ
ン化ガスプラズマの接触を停止せしめ、部分重合モノマ
ーをイオン化ガスプラズマの不存在下に後重合せしめる
ものである。即ち、重合の開始反応のみを気相中で行
い、その後の成長及び停止反応を凝縮相(液相又は固
相)内で行うものである。
プラズマ開始重合法は、液体、固体モノマー又はその水
溶液もしくは乳化液の蒸気に、減圧(0.01〜100
mmHg程度の圧力下)で10〜500Wの電圧を印加
することによってイオン化ガスプラズマを発生させ、こ
のイオン化ガスプラズマによって重合活性種を生成さ
せ、このプラズマ中に発生した重合活性種を液体表面又
は固体表面に接触せしめることにより、液体又は固体モ
ノマー中で重合の成長反応が開始し、所定時間経過後、
最終分子量に達する前の部分重合モノマーに対するイオ
ン化ガスプラズマの接触を停止せしめ、部分重合モノマ
ーをイオン化ガスプラズマの不存在下に後重合せしめる
ものである。即ち、重合の開始反応のみを気相中で行
い、その後の成長及び停止反応を凝縮相(液相又は固
相)内で行うものである。
【0003】このプラズマ開始重合法は、例えば「長田
ら;J.Polym.Sci,Polym.Lett.
Ed.,16,p309(1978)」、「D.ジョン
ソンら;マクロモレキュール,14,p118(198
1)、特公昭59−25807,同54−118483
号公報に記載されているように、プラズマを短時間接触
させた後、後重合がリビング的に起こることから、重合
反応のすべてがプラズマ中又はプラズマと接触しながら
進む一般的なプラズマ重合とは異なり、出発モノマーの
化学構造を維持したままで可溶性高分子重合体を得るこ
とができるため、反応解析が容易である。また、ラジカ
ル開始剤、無機塩などの不純物を含まない無触媒重合で
あるなどの特徴を有しているため、各種機能性高分子化
合物の開発が期待されている。
ら;J.Polym.Sci,Polym.Lett.
Ed.,16,p309(1978)」、「D.ジョン
ソンら;マクロモレキュール,14,p118(198
1)、特公昭59−25807,同54−118483
号公報に記載されているように、プラズマを短時間接触
させた後、後重合がリビング的に起こることから、重合
反応のすべてがプラズマ中又はプラズマと接触しながら
進む一般的なプラズマ重合とは異なり、出発モノマーの
化学構造を維持したままで可溶性高分子重合体を得るこ
とができるため、反応解析が容易である。また、ラジカ
ル開始剤、無機塩などの不純物を含まない無触媒重合で
あるなどの特徴を有しているため、各種機能性高分子化
合物の開発が期待されている。
【0004】上記従来のプラズマ重合法では、重合活性
種を生成するために低温プラズマ(非平衡プラズマ)を
用いているが、低温プラズマは通常10Torr以下の
減圧下で発生するので、従来のプラズマ重合法を工業的
に実施する場合、大型の真空装置が必要となり、このた
め設備費、処理コストが大きくなる。また、重合しよう
とするモノマーの溶液等に減圧下でプラズマを接触させ
るため、モノマー溶液等が蒸発してしまい、このため溶
液の組成に変化が起こり、目的とする重合体が得られな
くなる場合がある。そこで、上記溶液の変化を防止する
ため、液体窒素等を用いてモノマー溶液を凍結するなど
の操作が必要であり、製造工程が繁雑なものであった。
種を生成するために低温プラズマ(非平衡プラズマ)を
用いているが、低温プラズマは通常10Torr以下の
減圧下で発生するので、従来のプラズマ重合法を工業的
に実施する場合、大型の真空装置が必要となり、このた
め設備費、処理コストが大きくなる。また、重合しよう
とするモノマーの溶液等に減圧下でプラズマを接触させ
るため、モノマー溶液等が蒸発してしまい、このため溶
液の組成に変化が起こり、目的とする重合体が得られな
くなる場合がある。そこで、上記溶液の変化を防止する
ため、液体窒素等を用いてモノマー溶液を凍結するなど
の操作が必要であり、製造工程が繁雑なものであった。
【0005】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、製造が容易で、目的とする重合体を安価にかつ確実
に得ることができるプラズマ開始重合法を提供すること
を目的とする。
で、製造が容易で、目的とする重合体を安価にかつ確実
に得ることができるプラズマ開始重合法を提供すること
を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、モノマーを
含む蒸気にイオン化ガスプラズマを発生させることによ
り該モノマーの重合を開始させ、かつプラズマの非存在
下で重合の大部分を完結させるプラズマ開始重合法にお
いて、前記イオン化ガスプラズマの発生を0.2〜3気
圧の圧力、好ましくは1気圧程度の圧力で行うことによ
り、溶媒に可溶な超高分子量重合体を安全に、大量にか
つ効率的、経済的に省エネルギーで製造することができ
ることを知見し、本発明をなすに至った。
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、モノマーを
含む蒸気にイオン化ガスプラズマを発生させることによ
り該モノマーの重合を開始させ、かつプラズマの非存在
下で重合の大部分を完結させるプラズマ開始重合法にお
いて、前記イオン化ガスプラズマの発生を0.2〜3気
圧の圧力、好ましくは1気圧程度の圧力で行うことによ
り、溶媒に可溶な超高分子量重合体を安全に、大量にか
つ効率的、経済的に省エネルギーで製造することができ
ることを知見し、本発明をなすに至った。
【0007】以下、本発明を更に詳しく説明すると、本
発明のプラズマ開始重合法は、モノマーを含む蒸気にイ
オン化ガスプラズマを発生させることにより該モノマー
の重合を開始させ、かつプラズマの非存在下で重合の大
部分を完結させるものである。
発明のプラズマ開始重合法は、モノマーを含む蒸気にイ
オン化ガスプラズマを発生させることにより該モノマー
の重合を開始させ、かつプラズマの非存在下で重合の大
部分を完結させるものである。
【0008】ここで、本発明を適用し得るモノマーとし
ては、1個以上の二重結合又は三重結合を有する不飽和
有機化合物を挙げることができる。また、ジエン類及び
一層二重結合数が多いモノマーに対しても適用すること
ができるが、本発明を適用するモノマーとしてはモノエ
チレン型のモノマーが好ましく、そのなかでも特にビニ
ルモノマーが好ましい。ビニルモノマーとして、具体的
にはアクリル酸メチル,アクリル酸エチル,アクリル酸
ブチル,アクリル酸エチルヘキシル,アクリル酸ラウリ
ル,アクリル酸ドデシル,アクリル酸ステアリル,アク
リル酸シクロヘキシル,アクリル酸ベンジル及び同様の
メタクリル酸エステル等のアクリル酸及びメタクリル酸
のアルキルエステル、アクリル酸、アクリル酸2−ヒド
ロキシエチル,アクリル酸ヒドロキシプロピル,アクリ
ル酸ジメチルアミノエチル,アクリル酸ジエチルアミノ
エチル,アクリル酸グリシジル,アクリル酸テトラヒド
ロフルフリル,ジアクリル酸エチレングリコール,ジア
クリル酸1,3−ブチレングリコール,トリアクリル酸
トリメチロールプロパン,アクリル酸ジメチルアミノエ
チルメチルクロライド塩,アクリル酸アリル,アクリル
アミド,アクリルアミド2メチルプロパンスルホン酸,
イソプロピルアクリルアミド等のアクリル酸誘導体、メ
タクリル酸及びアクリル酸誘導体と同様のメタクリル酸
誘導体、上記モノマー同士の共重合体、上記モノマーと
他のビニルモノマーとの共重合体、上記モノマーと非ビ
ニルモノマーとの共重合体、スチレン及びその誘導体、
エチレン,プロピレン等のエチレン系不飽和モノマーな
どが挙げられる。
ては、1個以上の二重結合又は三重結合を有する不飽和
有機化合物を挙げることができる。また、ジエン類及び
一層二重結合数が多いモノマーに対しても適用すること
ができるが、本発明を適用するモノマーとしてはモノエ
チレン型のモノマーが好ましく、そのなかでも特にビニ
ルモノマーが好ましい。ビニルモノマーとして、具体的
にはアクリル酸メチル,アクリル酸エチル,アクリル酸
ブチル,アクリル酸エチルヘキシル,アクリル酸ラウリ
ル,アクリル酸ドデシル,アクリル酸ステアリル,アク
リル酸シクロヘキシル,アクリル酸ベンジル及び同様の
メタクリル酸エステル等のアクリル酸及びメタクリル酸
のアルキルエステル、アクリル酸、アクリル酸2−ヒド
ロキシエチル,アクリル酸ヒドロキシプロピル,アクリ
ル酸ジメチルアミノエチル,アクリル酸ジエチルアミノ
エチル,アクリル酸グリシジル,アクリル酸テトラヒド
ロフルフリル,ジアクリル酸エチレングリコール,ジア
クリル酸1,3−ブチレングリコール,トリアクリル酸
トリメチロールプロパン,アクリル酸ジメチルアミノエ
チルメチルクロライド塩,アクリル酸アリル,アクリル
アミド,アクリルアミド2メチルプロパンスルホン酸,
イソプロピルアクリルアミド等のアクリル酸誘導体、メ
タクリル酸及びアクリル酸誘導体と同様のメタクリル酸
誘導体、上記モノマー同士の共重合体、上記モノマーと
他のビニルモノマーとの共重合体、上記モノマーと非ビ
ニルモノマーとの共重合体、スチレン及びその誘導体、
エチレン,プロピレン等のエチレン系不飽和モノマーな
どが挙げられる。
【0009】上記モノマーは実質上純粋なモノマーの状
態(固体又は液体)又は溶液状、必要に応じて乳化液状
にして使用することができる。溶媒としてはモノマーを
完全に溶解し得るものであれば有機溶媒、無機溶媒のい
ずれも用いることができる。上記モノマーを溶解する有
機溶媒としてはベンゼン,アセトン等のケトン類、メチ
ルアルコール等のアルコール類を挙げることができる。
無機溶媒としては水、二硫化炭素などを挙げることがで
きる。溶液中のモノマー濃度は0.1〜100%(重量
%、以下同じ)、特に10〜60%とすることが好まし
い。
態(固体又は液体)又は溶液状、必要に応じて乳化液状
にして使用することができる。溶媒としてはモノマーを
完全に溶解し得るものであれば有機溶媒、無機溶媒のい
ずれも用いることができる。上記モノマーを溶解する有
機溶媒としてはベンゼン,アセトン等のケトン類、メチ
ルアルコール等のアルコール類を挙げることができる。
無機溶媒としては水、二硫化炭素などを挙げることがで
きる。溶液中のモノマー濃度は0.1〜100%(重量
%、以下同じ)、特に10〜60%とすることが好まし
い。
【0010】乳化液は、上記のモノマーのうち非水溶性
モノマーに乳化剤を含む水性媒体を混合して乳化させた
ものである。乳化剤としては上記モノマーを水性媒体中
で均一に乳化させ得るものであればよく、特に限定され
るものではないが、アルカリ石ケン、有機アミン石ケ
ン、高級アルコール又は芳香族アルコールの硫酸エステ
ルなどの界面活性剤やポリスチレンスルホン酸ソーダ、
部分ケン化ポリ酢酸ビニル、ポリエーテルなどの高分子
化合物が好ましい。また、メタクリル酸ヒドロキシエチ
ルなどのような1分子中に親水性基、疎水性基を含むモ
ノマーも用いることができる。
モノマーに乳化剤を含む水性媒体を混合して乳化させた
ものである。乳化剤としては上記モノマーを水性媒体中
で均一に乳化させ得るものであればよく、特に限定され
るものではないが、アルカリ石ケン、有機アミン石ケ
ン、高級アルコール又は芳香族アルコールの硫酸エステ
ルなどの界面活性剤やポリスチレンスルホン酸ソーダ、
部分ケン化ポリ酢酸ビニル、ポリエーテルなどの高分子
化合物が好ましい。また、メタクリル酸ヒドロキシエチ
ルなどのような1分子中に親水性基、疎水性基を含むモ
ノマーも用いることができる。
【0011】乳化剤の使用量は特に限定されないが、水
性媒体中で非水溶性モノマーを乳化するには、通常、全
仕込量に対し0.1%とすることが好ましい。
性媒体中で非水溶性モノマーを乳化するには、通常、全
仕込量に対し0.1%とすることが好ましい。
【0012】水性媒体としては水、水とメタノール,エ
タノール,ブタノール等のアルコール類との混合物、水
とアセトン,メチルエチルケトン等のケトン類などとの
混合物が挙げられるが、水を単独で用いることが好まし
い。水性媒体、特に水を使用した場合、重合速度は著し
く大となる。水性媒体中のモノマー濃度は0.1〜90
%、好ましくは1〜65%、更に好ましくは10〜60
%である。一般に水媒体の場合、モノマー濃度が50%
のとき、重合速度が極大となり、それ以下でもそれ以上
でも低下する傾向が見られる。
タノール,ブタノール等のアルコール類との混合物、水
とアセトン,メチルエチルケトン等のケトン類などとの
混合物が挙げられるが、水を単独で用いることが好まし
い。水性媒体、特に水を使用した場合、重合速度は著し
く大となる。水性媒体中のモノマー濃度は0.1〜90
%、好ましくは1〜65%、更に好ましくは10〜60
%である。一般に水媒体の場合、モノマー濃度が50%
のとき、重合速度が極大となり、それ以下でもそれ以上
でも低下する傾向が見られる。
【0013】本発明はモノマーを含む蒸気に0.2〜3
気圧の圧力、好ましくは1気圧程度の圧力でイオン化ガ
スプラズマを発生させることにより該モノマーの重合を
開始させるものであるが、大気圧プラズマを低電圧で安
定的に得るためには、大気圧で放電しやすいガスを用い
ることが好ましい。このようなガスとして具体的にはヘ
リウム,アルゴン,ネオンのような不活性ガス、窒素,
水素等の非重合性ガス、有機物のガスなどの1種又は2
種以上のガスの混合物を用いることができる。このうち
特にヘリウムが好ましく用いられる。更に必要に応じて
上記のガス以外のガスを混入することも可能である。
気圧の圧力、好ましくは1気圧程度の圧力でイオン化ガ
スプラズマを発生させることにより該モノマーの重合を
開始させるものであるが、大気圧プラズマを低電圧で安
定的に得るためには、大気圧で放電しやすいガスを用い
ることが好ましい。このようなガスとして具体的にはヘ
リウム,アルゴン,ネオンのような不活性ガス、窒素,
水素等の非重合性ガス、有機物のガスなどの1種又は2
種以上のガスの混合物を用いることができる。このうち
特にヘリウムが好ましく用いられる。更に必要に応じて
上記のガス以外のガスを混入することも可能である。
【0014】これらのガスは必ずしも常温でガス状であ
る必要はなく、供給の方法は放電領域の温度や、常温で
の状態(固体、液体、気体)などにより、選定される。
即ち、放電領域の温度や常温下においてガス状である場
合は、これをそのまま処理容器内へ流入させることがで
き、また、液状である場合には、蒸気圧が比較的高けれ
ばその蒸気をそのまま流入してもよいし、その液体を不
活性ガス等でバブリングして流入してもよい。一方、ガ
ス状でなく、しかも蒸気圧が比較的低い場合には、加熱
することによりガス状又は蒸気圧が高い状態にして用い
ることができる。
る必要はなく、供給の方法は放電領域の温度や、常温で
の状態(固体、液体、気体)などにより、選定される。
即ち、放電領域の温度や常温下においてガス状である場
合は、これをそのまま処理容器内へ流入させることがで
き、また、液状である場合には、蒸気圧が比較的高けれ
ばその蒸気をそのまま流入してもよいし、その液体を不
活性ガス等でバブリングして流入してもよい。一方、ガ
ス状でなく、しかも蒸気圧が比較的低い場合には、加熱
することによりガス状又は蒸気圧が高い状態にして用い
ることができる。
【0015】本発明に係る大気圧プラズマの発生方法と
しては、大気圧付近の圧力で放電させ得る方法であれ
ば、いかなる方法も採用することができる。電圧の印加
方法は、大きく分けて直流、交流の2通りある。
しては、大気圧付近の圧力で放電させ得る方法であれ
ば、いかなる方法も採用することができる。電圧の印加
方法は、大きく分けて直流、交流の2通りある。
【0016】交流放電の装置として内部電極型の装置を
採用した場合、安定した大気圧プラズマを容易に得るた
めに電極の少なくとも一方を絶縁体で被覆することが推
奨される。また、処理室がガラス等の絶縁体からなる場
合には外部電極方式を採用することもできる。また、コ
イル型方式による放電や導波管型方式による放電も可能
である。なお、直流放電の場合、電極からの直接の電子
流入により直流放電を形成、安定化させるため、高電圧
印加側電極及び接地側電極共に絶縁体で被覆しない方が
よい。
採用した場合、安定した大気圧プラズマを容易に得るた
めに電極の少なくとも一方を絶縁体で被覆することが推
奨される。また、処理室がガラス等の絶縁体からなる場
合には外部電極方式を採用することもできる。また、コ
イル型方式による放電や導波管型方式による放電も可能
である。なお、直流放電の場合、電極からの直接の電子
流入により直流放電を形成、安定化させるため、高電圧
印加側電極及び接地側電極共に絶縁体で被覆しない方が
よい。
【0017】本発明におけるプラズマ開始重合は、上述
の大気圧プラズマを用いて重合を開始させ、かつプラズ
マの不存在下で重合の大部分を完結させるものである。
この場合、プラズマが発生する系内は酸素が除去されて
いることが好ましく、酸素除去手段としては、系内から
酸素を除去し得る方法であればいかなる方法も採用する
ことができる。例えば凍結、脱気を行う、あるいはA
r,He等の不活性気体、N2等の汎用ガスでバブリン
グを行う方法などを用いることができる。
の大気圧プラズマを用いて重合を開始させ、かつプラズ
マの不存在下で重合の大部分を完結させるものである。
この場合、プラズマが発生する系内は酸素が除去されて
いることが好ましく、酸素除去手段としては、系内から
酸素を除去し得る方法であればいかなる方法も採用する
ことができる。例えば凍結、脱気を行う、あるいはA
r,He等の不活性気体、N2等の汎用ガスでバブリン
グを行う方法などを用いることができる。
【0018】上記モノマーに上記のイオン化ガスプラズ
マを接触させる際の入力エネルギーは、装置の形態など
により一概にはいえないが、一般に1〜3×104Jで
十分である。後重合は、プラズマに接触させた後に上記
乳化溶液を一定の温度下に数時間放置することにより行
う。プラズマ開始期間の重合率は後重合率に比べて著し
く小さく、通常2%を超えない。後重合時間はモノマー
の種類によって異なるので特に限定されない。また、後
重合温度もモノマーの種類によって異なるので限定され
ないが、通常0〜80℃、特に10〜60℃とすること
が好ましい。0℃未満の温度では前述の入力エネルギー
の範囲で後重合を進めることができない場合がある。
マを接触させる際の入力エネルギーは、装置の形態など
により一概にはいえないが、一般に1〜3×104Jで
十分である。後重合は、プラズマに接触させた後に上記
乳化溶液を一定の温度下に数時間放置することにより行
う。プラズマ開始期間の重合率は後重合率に比べて著し
く小さく、通常2%を超えない。後重合時間はモノマー
の種類によって異なるので特に限定されない。また、後
重合温度もモノマーの種類によって異なるので限定され
ないが、通常0〜80℃、特に10〜60℃とすること
が好ましい。0℃未満の温度では前述の入力エネルギー
の範囲で後重合を進めることができない場合がある。
【0019】本発明で使用するプラズマ重合装置として
は、特に限定されるものではないが、例えば図1に示す
ような装置を用いることができる。この装置において
は、大気圧プラズマを形成させる処理室1に重合させる
モノマー(又はモノマーの水溶液もしくはモノマーの乳
化液)2を収容し、ガス供給管3から上述のガスを供給
すると共に、交流電源4から導電性のパイプ状の電極5
に電圧を印加し、電極5,6間に放電領域を形成し、従
来のプラズマ開始重合法と同様の方法で重合を開始させ
るものである。電極6は接地されている。なお、電極
5,6は絶縁体で被覆した方が好ましい。所定時間プラ
ズマを発生させた後、ガス供給管3、排出管7を閉じ、
処理室1を恒温槽(不図示)に保持し、後重合を行う。
は、特に限定されるものではないが、例えば図1に示す
ような装置を用いることができる。この装置において
は、大気圧プラズマを形成させる処理室1に重合させる
モノマー(又はモノマーの水溶液もしくはモノマーの乳
化液)2を収容し、ガス供給管3から上述のガスを供給
すると共に、交流電源4から導電性のパイプ状の電極5
に電圧を印加し、電極5,6間に放電領域を形成し、従
来のプラズマ開始重合法と同様の方法で重合を開始させ
るものである。電極6は接地されている。なお、電極
5,6は絶縁体で被覆した方が好ましい。所定時間プラ
ズマを発生させた後、ガス供給管3、排出管7を閉じ、
処理室1を恒温槽(不図示)に保持し、後重合を行う。
【0020】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【0021】[実施例1]図1に示したのと同様の装置
を用いて大気圧プラズマを発生させた。パイレックスガ
ラス製の処理室1にアクリルアミドモノマー(AAM)
の50%水溶液20gを入れ、水溶液をヘリウムガスで
1時間バブリングし、溶存酸素を除去すると共に、処理
室1をガス置換した。
を用いて大気圧プラズマを発生させた。パイレックスガ
ラス製の処理室1にアクリルアミドモノマー(AAM)
の50%水溶液20gを入れ、水溶液をヘリウムガスで
1時間バブリングし、溶存酸素を除去すると共に、処理
室1をガス置換した。
【0022】ヘリウムガスを流したままの状態で直径6
mmの銅管からなる電極5,6間に周波数5kHz、電
圧3kVの交流電圧を印加して処理室1に大気圧プラズ
マを60秒間発生させ(入力エネルギー21J)、AA
M水溶液に接触させた。その後、供給管3、排気管7を
閉じ、処理室1を50℃の恒温水槽中に所定時間振とう
しながら入れ、後重合を2時間行ない、その後、容器を
液体窒素で冷却することにより重合を停止した。
mmの銅管からなる電極5,6間に周波数5kHz、電
圧3kVの交流電圧を印加して処理室1に大気圧プラズ
マを60秒間発生させ(入力エネルギー21J)、AA
M水溶液に接触させた。その後、供給管3、排気管7を
閉じ、処理室1を50℃の恒温水槽中に所定時間振とう
しながら入れ、後重合を2時間行ない、その後、容器を
液体窒素で冷却することにより重合を停止した。
【0023】得られた重合体を乾燥させ、重量を測定
し、収率(重合率)を求めた。また、GPC(東ソー
製)を用いて分子量を測定した。結果を表1に示す。な
お、表1においてプラズマ発生時の入力エネルギーは
(電力(W)×(時間(秒))から計算した値である。
また、収率は(得られたポリマーの重量)/(仕込んだ
モノマーの重量)から求めた。
し、収率(重合率)を求めた。また、GPC(東ソー
製)を用いて分子量を測定した。結果を表1に示す。な
お、表1においてプラズマ発生時の入力エネルギーは
(電力(W)×(時間(秒))から計算した値である。
また、収率は(得られたポリマーの重量)/(仕込んだ
モノマーの重量)から求めた。
【0024】[比較例1]実施例1と同様に準備し、
0.1Torrまで減圧した後、凍結のまま13.56
MHzのコントロールユニット付ラジオ波発振装置によ
り、50Wの出力で印加し、プラズマを30秒間発生さ
せた後、実施例1と同様の後重合を行い、同様の測定を
行った。結果を表1に示す。なお、実施例1と入力エネ
ルギーが異なるのは、放電方法が異なるために重合効率
も異なることによる。
0.1Torrまで減圧した後、凍結のまま13.56
MHzのコントロールユニット付ラジオ波発振装置によ
り、50Wの出力で印加し、プラズマを30秒間発生さ
せた後、実施例1と同様の後重合を行い、同様の測定を
行った。結果を表1に示す。なお、実施例1と入力エネ
ルギーが異なるのは、放電方法が異なるために重合効率
も異なることによる。
【0025】[実施例2]実施例1と同様の装置を用い
て処理室1にスチレン乳化液(スチレン22.%、DB
S3.8%)20gを入れ、実施例1と同様に操作し
た。周波数5kHz、電圧2.5kVの交流電圧を印加
し、処理室1に大気圧プラズマを300秒間発生させ
(入力エネルギー21J)、AAM水溶液に接触させ
た。その後、実施例1と同様の後重合を50℃で7時間
行い、同様の測定を行った。結果を表1に併記する。
て処理室1にスチレン乳化液(スチレン22.%、DB
S3.8%)20gを入れ、実施例1と同様に操作し
た。周波数5kHz、電圧2.5kVの交流電圧を印加
し、処理室1に大気圧プラズマを300秒間発生させ
(入力エネルギー21J)、AAM水溶液に接触させ
た。その後、実施例1と同様の後重合を50℃で7時間
行い、同様の測定を行った。結果を表1に併記する。
【0026】[比較例2]スチレン乳化液は実施例2と
同様に準備し、プラズマ発生は比較例1と同様の方法で
用い、プラズマを50Wで30秒間発生させ、後重合を
50℃で7時間行ってスチレンを重合し、同様の測定を
行った。結果を表1に併記する。
同様に準備し、プラズマ発生は比較例1と同様の方法で
用い、プラズマを50Wで30秒間発生させ、後重合を
50℃で7時間行ってスチレンを重合し、同様の測定を
行った。結果を表1に併記する。
【0027】
【表1】
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、出発モノマーの化学構
造を崩すことなく、かつ無触媒である等のプラズマ開始
重合法の諸特徴を損なうことなく高分子量重合体を得る
ことができ、また、減圧操作の必要がないのでモノマー
溶液の蒸発により組成変化を防ぐことができ、凍結操作
等の必要がなくなるためモノマー溶液の蒸発により組成
変化を防ぐことができ、凍結操作の必要もなくなり、工
業化の際にも処理コスト、設備費が安くなるという利点
を有する。
造を崩すことなく、かつ無触媒である等のプラズマ開始
重合法の諸特徴を損なうことなく高分子量重合体を得る
ことができ、また、減圧操作の必要がないのでモノマー
溶液の蒸発により組成変化を防ぐことができ、凍結操作
等の必要がなくなるためモノマー溶液の蒸発により組成
変化を防ぐことができ、凍結操作の必要もなくなり、工
業化の際にも処理コスト、設備費が安くなるという利点
を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明で用いる大気圧プラズマ重合装置の断面
図である。
図である。
1 処理室 2 モノマー 3 ガス供給管 4 交流電源 5 電極 6 電極 7 排出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉川 雅人 東京都小平市小川東町3−5−9 (72)発明者 田沼 逸夫 埼玉県狭山市柏原3405−181 (72)発明者 内藤 壽夫 神奈川県川崎市宮前区馬絹969−1 (72)発明者 草野 行弘 東京都国分寺市西恋ヶ窪1−50−15 (72)発明者 秋山 節夫 神奈川県相模原市宮下本町2の28の5 (72)発明者 岡崎 幸子 東京都杉並区高井戸東2−20−11 (72)発明者 小駒 益弘 埼玉県和光市下新倉843−15
Claims (1)
- 【請求項1】 モノマーを含む蒸気にイオン化ガスプラ
ズマを発生させることにより該モノマーの重合を開始さ
せ、かつプラズマの非存在下で重合の大部分を完結させ
るプラズマ開始重合法において、前記イオン化ガスプラ
ズマの発生を0.2〜3気圧の圧力で行うことを特徴と
するプラズマ開始重合法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21973292A JPH0641214A (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | プラズマ開始重合法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21973292A JPH0641214A (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | プラズマ開始重合法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0641214A true JPH0641214A (ja) | 1994-02-15 |
Family
ID=16740116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21973292A Pending JPH0641214A (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | プラズマ開始重合法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0641214A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001066823A1 (en) * | 2000-03-06 | 2001-09-13 | Lg Electronics Inc. | Supplying and exhausting system in plasma polymerizing apparatus |
-
1992
- 1992-07-27 JP JP21973292A patent/JPH0641214A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001066823A1 (en) * | 2000-03-06 | 2001-09-13 | Lg Electronics Inc. | Supplying and exhausting system in plasma polymerizing apparatus |
| US6833120B2 (en) | 2000-03-06 | 2004-12-21 | Lg Electronics Inc. | Supplying and exhausting system in plasma polymerizing apparatus |
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