JPH0647954A - 光源ユニット - Google Patents
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- JPH0647954A JPH0647954A JP22340392A JP22340392A JPH0647954A JP H0647954 A JPH0647954 A JP H0647954A JP 22340392 A JP22340392 A JP 22340392A JP 22340392 A JP22340392 A JP 22340392A JP H0647954 A JPH0647954 A JP H0647954A
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
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- B41J2/45—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources using light-emitting diode [LED] or laser arrays
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数のビームを発生する光源ユニットに関
し、その寸法の増大を抑え、小型化を図る。 【構成】 光源ユニット10は、基台ブロック5と10
個のステー3とから成る。基台ブロック5の両側には、
それぞれ、10個の位置決めピン6がY′方向に第2間
隔dで、X′方向に第3間隔lで等間隔に設けられてい
る。各ステー3には、8個の孔7が第1ピッチDで等間
隔に設けられており、更にその両端には位置決めピン6
用のピン穴8が設けられている。各孔7内には、半導体
レーザーが配置されている。10個のステー3は、それ
ぞれそのピン穴8に位置決めピン6を通した上で、ボル
ト17で基台ブロック5に固定される。これにより、8
×10個の半導体レーザーがX′Y′座標の2次元平面
に配置される。
し、その寸法の増大を抑え、小型化を図る。 【構成】 光源ユニット10は、基台ブロック5と10
個のステー3とから成る。基台ブロック5の両側には、
それぞれ、10個の位置決めピン6がY′方向に第2間
隔dで、X′方向に第3間隔lで等間隔に設けられてい
る。各ステー3には、8個の孔7が第1ピッチDで等間
隔に設けられており、更にその両端には位置決めピン6
用のピン穴8が設けられている。各孔7内には、半導体
レーザーが配置されている。10個のステー3は、それ
ぞれそのピン穴8に位置決めピン6を通した上で、ボル
ト17で基台ブロック5に固定される。これにより、8
×10個の半導体レーザーがX′Y′座標の2次元平面
に配置される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、複数ビーム走査記録
装置に於いて用いられる光源ユニットの構成に関するも
のである。
装置に於いて用いられる光源ユニットの構成に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】カラースキャナ等の画像走査記録装置に
於いては、記録速度向上を目的として、記録信号により
変調された複数のビームを同時に記録媒体上に走査する
方法が用いられている。その際、複数のビームは、レー
ザーダイオードや発光ダイオード等の発光素子を複数個
一定方向に配列することにより実現されている。
於いては、記録速度向上を目的として、記録信号により
変調された複数のビームを同時に記録媒体上に走査する
方法が用いられている。その際、複数のビームは、レー
ザーダイオードや発光ダイオード等の発光素子を複数個
一定方向に配列することにより実現されている。
【0003】図11は、その様な発光素子の配列方法を
例示した図である。同図中、(a)は、5個の発光素子
を等間隔Aで副走査方向Yに配列した場合に生じるビー
ムb1 〜b5 の配列を表している。当該配列はシンプル
であり、従来より広く行われている方法である。
例示した図である。同図中、(a)は、5個の発光素子
を等間隔Aで副走査方向Yに配列した場合に生じるビー
ムb1 〜b5 の配列を表している。当該配列はシンプル
であり、従来より広く行われている方法である。
【0004】他方、(b)は、ビーム間ピッチを更に小
さくするために、上記(a)を改良した配列を示してい
る。即ち、主走査方向Xに対して角度θだけ傾いた方向
に、5個の発光素子(5個のビームb1 〜b5 )を等ピ
ッチA′(<A)で配列したものである。
さくするために、上記(a)を改良した配列を示してい
る。即ち、主走査方向Xに対して角度θだけ傾いた方向
に、5個の発光素子(5個のビームb1 〜b5 )を等ピ
ッチA′(<A)で配列したものである。
【0005】尚、上記(b)の配列に類似したビーム配
列が、特開昭54−38130号公報に開示されてい
る。即ち、各発光素子が、副走査方向に対して角度θだ
け傾いた直線上に等ピッチで配列されている。しかし、
本従来技術では、主走査方向に各ビームを走査した際に
各ビームスポット間に隙間が生じない様にビーム配列す
ることを目的としているため、次の様な特徴を有してい
る。即ち、隣り合う発光素子ないしはビーム同士が必ず
接する様に、各発光素子を配列する必要があること、
又、副走査方向に対し角度θだけ傾いたビーム配列状態
を最終的に保ったまま、感光フィルムを露光する必要が
ある点である。この様な特徴を有することにより、本従
来技術は、その特有な目的を達している。
列が、特開昭54−38130号公報に開示されてい
る。即ち、各発光素子が、副走査方向に対して角度θだ
け傾いた直線上に等ピッチで配列されている。しかし、
本従来技術では、主走査方向に各ビームを走査した際に
各ビームスポット間に隙間が生じない様にビーム配列す
ることを目的としているため、次の様な特徴を有してい
る。即ち、隣り合う発光素子ないしはビーム同士が必ず
接する様に、各発光素子を配列する必要があること、
又、副走査方向に対し角度θだけ傾いたビーム配列状態
を最終的に保ったまま、感光フィルムを露光する必要が
ある点である。この様な特徴を有することにより、本従
来技術は、その特有な目的を達している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来技術は、
ビームの数が数個程度と比較的少ない場合には、有用な
技術であると言える。しかし、ビームの数が数十個と多
くなった場合(記録速度の一層の向上の要請から、ビー
ムの数が増大する傾向にある。)には、従来技術による
ビーム配列ではビームの数に比例して光源部の寸法が大
きくなり、走査記録装置用の光源としては実用に耐え得
ないという問題点が生じる。何故ならば、走査記録装置
に於いては、光源部から発した複数のビームのビーム間
隔を縮小光学系を介して所定の値にまで縮小した上で、
該縮小ビームを露光フィルム上に走査しており、そのた
め、使用可能な縮小光学系(レンズ類)のサイズに応じ
て光源部のサイズにも自ずから制限が加わるからであ
る。
ビームの数が数個程度と比較的少ない場合には、有用な
技術であると言える。しかし、ビームの数が数十個と多
くなった場合(記録速度の一層の向上の要請から、ビー
ムの数が増大する傾向にある。)には、従来技術による
ビーム配列ではビームの数に比例して光源部の寸法が大
きくなり、走査記録装置用の光源としては実用に耐え得
ないという問題点が生じる。何故ならば、走査記録装置
に於いては、光源部から発した複数のビームのビーム間
隔を縮小光学系を介して所定の値にまで縮小した上で、
該縮小ビームを露光フィルム上に走査しており、そのた
め、使用可能な縮小光学系(レンズ類)のサイズに応じ
て光源部のサイズにも自ずから制限が加わるからであ
る。
【0007】そこで、最今では、例えば使用ビーム数が
80本という様な多チャンネル型の走査記録装置に於い
ても実用可能な光源部(光源ユニットととも言う。)の
実現が強く要望されているところである。
80本という様な多チャンネル型の走査記録装置に於い
ても実用可能な光源部(光源ユニットととも言う。)の
実現が強く要望されているところである。
【0008】本発明は係る要望に応えるべくなされたも
のであり、複数ビーム走査記録装置において用いられ、
しかもビーム数を増大させた場合にもその大きさを小さ
くすることができる構造を備えた光源ユニットを実現し
ようとするものである。しかも簡易な構造で汎用性に富
んだ光源ユニットを提供するものである。
のであり、複数ビーム走査記録装置において用いられ、
しかもビーム数を増大させた場合にもその大きさを小さ
くすることができる構造を備えた光源ユニットを実現し
ようとするものである。しかも簡易な構造で汎用性に富
んだ光源ユニットを提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明に係る光源ユニ
ットは、m×n個(m、nはそれぞれ2以上の整数)の
発光素子を備え、前記発光素子から出射されかつ記録情
報により変調されたm×n個の複数ビームを主走査方向
に走査することにより前記記録情報を記録媒体上に記録
する複数ビーム記録装置に於て用いられるものであり、
次の構成を採るものである。即ち、m×n個の発光素子
は、主走査方向に対して垂直な副走査方向に第1間隔で
n個の発光素子が配列されたラインユニットm個からな
り、前記m個のラインユニットは、主走査方向に等間隔
で並設されかつ副走査方向に第1間隔をmで除した距離
分ずつ順次ずらせて配置している。
ットは、m×n個(m、nはそれぞれ2以上の整数)の
発光素子を備え、前記発光素子から出射されかつ記録情
報により変調されたm×n個の複数ビームを主走査方向
に走査することにより前記記録情報を記録媒体上に記録
する複数ビーム記録装置に於て用いられるものであり、
次の構成を採るものである。即ち、m×n個の発光素子
は、主走査方向に対して垂直な副走査方向に第1間隔で
n個の発光素子が配列されたラインユニットm個からな
り、前記m個のラインユニットは、主走査方向に等間隔
で並設されかつ副走査方向に第1間隔をmで除した距離
分ずつ順次ずらせて配置している。
【0010】
【作用】副走査方向に第1間隔で配列されたn個の発光
素子から構成されるラインユニットをm個準備し、この
m個のラインユニットを主走査方向に等間隔で並設し、
かつ、副走査方向に第1間隔をmで除した距離分ずつ順
次ずらせて配置することによりm×n個の発光素子を構
成している。
素子から構成されるラインユニットをm個準備し、この
m個のラインユニットを主走査方向に等間隔で並設し、
かつ、副走査方向に第1間隔をmで除した距離分ずつ順
次ずらせて配置することによりm×n個の発光素子を構
成している。
【0011】このm×n個の発光素子の副走査方向の配
置位置は、第1間隔をmで除した距離に相当する間隔で
配列されているので、1回の主走査でm×n個のビーム
走査が可能となる。
置位置は、第1間隔をmで除した距離に相当する間隔で
配列されているので、1回の主走査でm×n個のビーム
走査が可能となる。
【0012】
【実施例】 A.光源ユニットの基本的構成 図1は、本発明に係る複数ビーム記録装置における光源
ユニットの基本的構成を示す説明図である。本図は、光
源ユニットを構成するm×n個の発光素子(半導体レー
ザ、発光ダイオード等)から発せられたm×n個のビー
ムの配置位置(ビーム進行方向から発光素子側を見た場
合)、すなわち、m×n個の発光素子の配置位置を示し
たものである。ここで、m及びnは2以上の整数であ
る。
ユニットの基本的構成を示す説明図である。本図は、光
源ユニットを構成するm×n個の発光素子(半導体レー
ザ、発光ダイオード等)から発せられたm×n個のビー
ムの配置位置(ビーム進行方向から発光素子側を見た場
合)、すなわち、m×n個の発光素子の配置位置を示し
たものである。ここで、m及びnは2以上の整数であ
る。
【0013】m×n個の発光素子は、m×nのマトリッ
クスに類似した配置位置で、主走査方向Xおよび副走査
方向YのXY座標からなる2次元平面上に配置されてい
る。具体的には、次のように配置されている。
クスに類似した配置位置で、主走査方向Xおよび副走査
方向YのXY座標からなる2次元平面上に配置されてい
る。具体的には、次のように配置されている。
【0014】図1に示すように、m×n個の発光素子
は、m個のラインユニットLU1〜LUmから構成され
る。各ラインユニットLU1〜LUmは、それぞれn個
の発光素子が副走査方向Yに第1間隔Dで等間隔に配列
されている。例えば、1行目のラインユニットLU1
は、n個の発光素子b11,b12・・・・,b1nを
第1間隔Dで等間隔に配置されている。他のラインユニ
ットLU2〜LUmもLU1と同じ構成である。このm
個のラインユニットLU1〜LUmは、主走査方向Xに
等間隔(第3間隔l)でかつ副走査方向Yに第2間隔d
ずつ順次ずらして配置されている。ここで第2間隔d
は、記録媒体上に記録される記録密度に関係するもので
あり、第1間隔Dをmで除算した値に相当する、すなわ
ち、D=m・dなる関係を満たすものである。また、第
3間隔lは、第2間隔dを整数k倍した値に相当するも
のである。
は、m個のラインユニットLU1〜LUmから構成され
る。各ラインユニットLU1〜LUmは、それぞれn個
の発光素子が副走査方向Yに第1間隔Dで等間隔に配列
されている。例えば、1行目のラインユニットLU1
は、n個の発光素子b11,b12・・・・,b1nを
第1間隔Dで等間隔に配置されている。他のラインユニ
ットLU2〜LUmもLU1と同じ構成である。このm
個のラインユニットLU1〜LUmは、主走査方向Xに
等間隔(第3間隔l)でかつ副走査方向Yに第2間隔d
ずつ順次ずらして配置されている。ここで第2間隔d
は、記録媒体上に記録される記録密度に関係するもので
あり、第1間隔Dをmで除算した値に相当する、すなわ
ち、D=m・dなる関係を満たすものである。また、第
3間隔lは、第2間隔dを整数k倍した値に相当するも
のである。
【0015】以上のようにして配置した発光素子は、言
い換えれば次のように配置されている。副走査方向Yと
平行でかつ主走査方向Xに第3間隔lで等間隔に引かれ
たm本の直線L1,L2,・・・,Lmと、主走査方向
Xに対して角度α傾斜しかつ副走査方向Yに第1間隔D
で引かれたC1,C2,・・・・,Cnのn本の直線と
のm×n個の交点にそれぞれ発光素子が配置されてい
る。尚、角度αは式tanα=D/(m・l)を満たし
ている。また、各直線Cp(p=1,2,・・・,n)
上に配列される発光素子b1p,b2p,・・・,bm
pは、副走査方向Xに等間隔(第2間隔d)で配列され
ることとなる。
い換えれば次のように配置されている。副走査方向Yと
平行でかつ主走査方向Xに第3間隔lで等間隔に引かれ
たm本の直線L1,L2,・・・,Lmと、主走査方向
Xに対して角度α傾斜しかつ副走査方向Yに第1間隔D
で引かれたC1,C2,・・・・,Cnのn本の直線と
のm×n個の交点にそれぞれ発光素子が配置されてい
る。尚、角度αは式tanα=D/(m・l)を満たし
ている。また、各直線Cp(p=1,2,・・・,n)
上に配列される発光素子b1p,b2p,・・・,bm
pは、副走査方向Xに等間隔(第2間隔d)で配列され
ることとなる。
【0016】図2は、図1に示す2次元的に配列された
発光素子の配置を副走査方向の1次元に投影したもので
あり、ラインユニットLU1に属する発光素子b11か
ら順にm×n個の各発光素子が等間隔(第2間隔d)で
配列されていることとなる。以上のように配列されてい
るm×n個の発光素子を用いることにより、一回の主走
査でm×n個のビームを走査することができる。
発光素子の配置を副走査方向の1次元に投影したもので
あり、ラインユニットLU1に属する発光素子b11か
ら順にm×n個の各発光素子が等間隔(第2間隔d)で
配列されていることとなる。以上のように配列されてい
るm×n個の発光素子を用いることにより、一回の主走
査でm×n個のビームを走査することができる。
【0017】ただ、図1に示すように発光素子を配列し
た光源ユニットを用いて、m×n個の複数ビームを感光
フィルム(記録媒体)に走査露光するには、m×n個の
発光素子を感光フィルム上で1直線上に配列する必要が
ある。その方法としては、各ラインユニット間で、発光
素子の駆動タイミングを相対的に遅延させることによっ
て実現できる。このことは、本出願人の出願にかかる特
願平3−321157号に記されている。この点につい
ては後述する。
た光源ユニットを用いて、m×n個の複数ビームを感光
フィルム(記録媒体)に走査露光するには、m×n個の
発光素子を感光フィルム上で1直線上に配列する必要が
ある。その方法としては、各ラインユニット間で、発光
素子の駆動タイミングを相対的に遅延させることによっ
て実現できる。このことは、本出願人の出願にかかる特
願平3−321157号に記されている。この点につい
ては後述する。
【0018】B. 光源ユニットの具体的構成 次に、上述した光源ユニットの基本的構成を実現しうる
具体的な構成について説明する。図3は、その様な光源
ユニットの一実施例を示す斜視図であり、丁度、m=1
0、n=8の場合に該当している。同図に示すように、
本光源ユニット10は、基台ブロック5と10個のステ
ー3より構成される。ステー3は、上記ラインユニット
LUに相当するものである。以下、ステー3及び基台ブ
ロック5の構成について詳細に説明する。
具体的な構成について説明する。図3は、その様な光源
ユニットの一実施例を示す斜視図であり、丁度、m=1
0、n=8の場合に該当している。同図に示すように、
本光源ユニット10は、基台ブロック5と10個のステ
ー3より構成される。ステー3は、上記ラインユニット
LUに相当するものである。以下、ステー3及び基台ブ
ロック5の構成について詳細に説明する。
【0019】 ステー3の構成 図5は、図3における矢印15の方向からステー3を眺
めた場合の当該ステー3の正面図に当たる。図3及び図
5に示されるように、ステー3は次のような構成を有し
ている。
めた場合の当該ステー3の正面図に当たる。図3及び図
5に示されるように、ステー3は次のような構成を有し
ている。
【0020】まず、ステー3の両側には、それぞれピン
穴8とボルト穴16とが形成されている。このピン穴8
は、後述する位置決めピン6を貫通して基台ブロック5
にステー3を位置決めするためのものであり、またボル
ト穴16は、後述するボルト17を貫通して位置決めさ
れたステー3を基台ブロック5に固定するためのもので
ある。また、突出した部分には、8個の孔7がそれぞれ
第1間隔Dで等間隔に形成されている。この各孔7の中
には、後述するように、半導体レーザー等の発光素子等
が配置されている。
穴8とボルト穴16とが形成されている。このピン穴8
は、後述する位置決めピン6を貫通して基台ブロック5
にステー3を位置決めするためのものであり、またボル
ト穴16は、後述するボルト17を貫通して位置決めさ
れたステー3を基台ブロック5に固定するためのもので
ある。また、突出した部分には、8個の孔7がそれぞれ
第1間隔Dで等間隔に形成されている。この各孔7の中
には、後述するように、半導体レーザー等の発光素子等
が配置されている。
【0021】尚、ステー3の突出部分の面上には、孔7
に対応した穴が形成されたアパーチャ4が取り付けられ
ている。
に対応した穴が形成されたアパーチャ4が取り付けられ
ている。
【0022】図4は、図3に示す断線I−Iを含む平面
で、ステー3を切断した際の断面図である。同図に示す
ように、ステー3の各孔7には、半導体レーザー9、コ
リメートレンズ2が配置されている。上記コリメートレ
ンズ2は、半導体レーザー9より出射したレーザービー
ムを整形化するためのレンズである。この様に、各孔7
には、それぞれ半導体レーザー9及びコリメートレンズ
2が配置されている。
で、ステー3を切断した際の断面図である。同図に示す
ように、ステー3の各孔7には、半導体レーザー9、コ
リメートレンズ2が配置されている。上記コリメートレ
ンズ2は、半導体レーザー9より出射したレーザービー
ムを整形化するためのレンズである。この様に、各孔7
には、それぞれ半導体レーザー9及びコリメートレンズ
2が配置されている。
【0023】尚、半導体レーザー9のドライブ回路等
は、後述するように、光源ユニット10の外部に設けら
れている。
は、後述するように、光源ユニット10の外部に設けら
れている。
【0024】 基板ブロック6の構成 図6は、図3に示す矢印15の方向から基台ブロック5
を眺めた場合の正面図である。図6に示すように、基台
ブロック5の両側にはそれぞれ、十段の位置決めピン6
及びタップ18が一直線上に配置されている。しかも、
各位置決めピン6及びタップ18は、Y′方向に第2間
隔dで、X′方向には第3間隔lで配置されている。当
該Y′方向及びX′方向は、それぞれ前述した副走査方
向Y及び主走査方向Xに対応した方向である。従って、
十段の位置決めピッチ6が配列された直線方向は、図1
で示した各直線C1からCnと平行な関係にある。
を眺めた場合の正面図である。図6に示すように、基台
ブロック5の両側にはそれぞれ、十段の位置決めピン6
及びタップ18が一直線上に配置されている。しかも、
各位置決めピン6及びタップ18は、Y′方向に第2間
隔dで、X′方向には第3間隔lで配置されている。当
該Y′方向及びX′方向は、それぞれ前述した副走査方
向Y及び主走査方向Xに対応した方向である。従って、
十段の位置決めピッチ6が配列された直線方向は、図1
で示した各直線C1からCnと平行な関係にある。
【0025】C. 光源ユニットの組立て手順 本光源ユニットの組立て方法は、既述した図3に基づき
理解される。まず、ステー3の8つの孔7に、半導体レ
ーザー9及びコリメートレンズ2を配置し、さらにステ
ー3の所定部分にアパーチャ4を取り付ける。そして、
この様なステー3を10個用意しておく。
理解される。まず、ステー3の8つの孔7に、半導体レ
ーザー9及びコリメートレンズ2を配置し、さらにステ
ー3の所定部分にアパーチャ4を取り付ける。そして、
この様なステー3を10個用意しておく。
【0026】次に、10個のステー3を順に、基台ブロ
ック5に取り付けていく。その取り付けは、ステー3の
両側のピン穴8にそれぞれ位置決めピン6を貫通して位
置決めを行い、その後、ボルト17をボルト穴16に貫
通させてタップ18に固定することによって達成され
る。その際に、ステー3の各孔7の配置は図5に示した
通りであり、また、十段の位置決めピン6の配置も図6
で示した通りであるため、10個のステー3を基台ブロ
ック5に取付けたことによって実現されるビームの配置
(半導体レーザーの配置)は、図1に示した配置と同一
となる。しかも、本光源ユニット10の組立てに際して
は、10個のステー3が全て同じ構成なので基台ブロッ
ク5へのステー3の取り付け作業が簡単であるという利
点がある。
ック5に取り付けていく。その取り付けは、ステー3の
両側のピン穴8にそれぞれ位置決めピン6を貫通して位
置決めを行い、その後、ボルト17をボルト穴16に貫
通させてタップ18に固定することによって達成され
る。その際に、ステー3の各孔7の配置は図5に示した
通りであり、また、十段の位置決めピン6の配置も図6
で示した通りであるため、10個のステー3を基台ブロ
ック5に取付けたことによって実現されるビームの配置
(半導体レーザーの配置)は、図1に示した配置と同一
となる。しかも、本光源ユニット10の組立てに際して
は、10個のステー3が全て同じ構成なので基台ブロッ
ク5へのステー3の取り付け作業が簡単であるという利
点がある。
【0027】ここで、図7は、図3に示す矢印方向15
より眺めた組立後の光源ユニットの正面図である。この
様にステー3を任意に位置決めピン6を介してボルト1
7によって基台ブロック5に取り付けることにより、容
易に図1に示したビーム配列を有する光源ユニットを構
築することができる。
より眺めた組立後の光源ユニットの正面図である。この
様にステー3を任意に位置決めピン6を介してボルト1
7によって基台ブロック5に取り付けることにより、容
易に図1に示したビーム配列を有する光源ユニットを構
築することができる。
【0028】D. 露光ヘッドの(光学的)構成 図8は、本光源ユニット10を組み込んだ露光ヘッド2
0の光学的構成を、模式的に示した図である。当該露光
ヘッド20は、大別して、光源ユニット10、放物面ミ
ラー11及び縮小光学系より構成されている。
0の光学的構成を、模式的に示した図である。当該露光
ヘッド20は、大別して、光源ユニット10、放物面ミ
ラー11及び縮小光学系より構成されている。
【0029】ここで、放物面ミラー11は、光源ユニッ
ト10より出射されたm×n個のビームを反射して、縮
小光学系へ導くためのミラーである。一方、縮小光学系
は、立体射影レンズ12、ミラーM1、ズームレンズ1
3、ミラーM2、光量調整系14および結像レンズ15
より構成されている。この縮小光学系の構成につてい
は、本出願人の出願に係る特願平3−321127号に
詳述されている。縮小光学系は、前述した通り、m×n
個のビームのビーム間ピッチ(第2間隔d)をさらに縮
小して、感光フィルム(記録媒体)31に走査露光を行
うものである。
ト10より出射されたm×n個のビームを反射して、縮
小光学系へ導くためのミラーである。一方、縮小光学系
は、立体射影レンズ12、ミラーM1、ズームレンズ1
3、ミラーM2、光量調整系14および結像レンズ15
より構成されている。この縮小光学系の構成につてい
は、本出願人の出願に係る特願平3−321127号に
詳述されている。縮小光学系は、前述した通り、m×n
個のビームのビーム間ピッチ(第2間隔d)をさらに縮
小して、感光フィルム(記録媒体)31に走査露光を行
うものである。
【0030】E. 画像走査記録装置の概略説明 図9は、実際の露光状態を示すために表した説明図であ
り、そのために露光ヘッド20と感光フィルム31との
位置関係について示している。同図に示すように、感光
フィルム31はドラム30の表面上に貼付されており、
当該ドラム30はその中心軸を回転軸として、主走査方
向Xの方向へ回転する。一方、露光ヘッド20は、図示
しない駆動機構により副走査方向Yへ移動される。従っ
て、露光ヘッド20は、1回の主走査方向への露光を完
了した後、副走査方向Yへ(m−1)・Dの距離分ステ
ップ移動し、再び主走査方向への露光を繰り返し行う。
この際、感光フィルム31上に照写されるm×n個のビ
ームは、前述したように、副走査方向Yに一列に配列さ
れていなければならない。
り、そのために露光ヘッド20と感光フィルム31との
位置関係について示している。同図に示すように、感光
フィルム31はドラム30の表面上に貼付されており、
当該ドラム30はその中心軸を回転軸として、主走査方
向Xの方向へ回転する。一方、露光ヘッド20は、図示
しない駆動機構により副走査方向Yへ移動される。従っ
て、露光ヘッド20は、1回の主走査方向への露光を完
了した後、副走査方向Yへ(m−1)・Dの距離分ステ
ップ移動し、再び主走査方向への露光を繰り返し行う。
この際、感光フィルム31上に照写されるm×n個のビ
ームは、前述したように、副走査方向Yに一列に配列さ
れていなければならない。
【0031】図10は、80個(m=10,n=8)の
半導体レーザー9の駆動部の電気的構成を示したブロッ
ク図である。本駆動部は、各ビームを副走査方向Yに一
列に配列するために、遅延回路41〜50を備えてい
る。ここで用いられている遅延方法は、既述した特願平
3−321127号公報に開示された技術をそのまま適
用したものである。従って、その詳細な説明はここでは
触れないが、以下、簡単にその遅延方法について触れて
おく。
半導体レーザー9の駆動部の電気的構成を示したブロッ
ク図である。本駆動部は、各ビームを副走査方向Yに一
列に配列するために、遅延回路41〜50を備えてい
る。ここで用いられている遅延方法は、既述した特願平
3−321127号公報に開示された技術をそのまま適
用したものである。従って、その詳細な説明はここでは
触れないが、以下、簡単にその遅延方法について触れて
おく。
【0032】今、第1ラインの半導体レーザー(ライン
ユニットLU1に属するもの)を基準として考えること
にする。この時、第2ラインと第1ラインとの間のライ
ン間ピッチは前述の第3間隔lに等しいので、この第3
間隔lに対応する時間をtと定義するならば、第2行に
属する各半導体レーザーの駆動時間を第1行の半導体レ
ーザーの駆動時間に対して、上記時間tだけ遅延させれ
ばよいこととなる。同様に、第3行と第1行との間のピ
ッチは第3間隔lの2倍に等しいので、第3行に属する
各半導体レーザーの駆動時間の遅延量は時間tの2倍に
等しい。以下、この考えに従って、全ての半導体レーザ
ー9の遅延量を決定することができ、それに従って遅延
回路42〜50をそれぞれ構成すればよいこととなる。
ユニットLU1に属するもの)を基準として考えること
にする。この時、第2ラインと第1ラインとの間のライ
ン間ピッチは前述の第3間隔lに等しいので、この第3
間隔lに対応する時間をtと定義するならば、第2行に
属する各半導体レーザーの駆動時間を第1行の半導体レ
ーザーの駆動時間に対して、上記時間tだけ遅延させれ
ばよいこととなる。同様に、第3行と第1行との間のピ
ッチは第3間隔lの2倍に等しいので、第3行に属する
各半導体レーザーの駆動時間の遅延量は時間tの2倍に
等しい。以下、この考えに従って、全ての半導体レーザ
ー9の遅延量を決定することができ、それに従って遅延
回路42〜50をそれぞれ構成すればよいこととなる。
【0033】以上述べたように、本光源ユニットにおい
ては、半導体レーザー80個の配列を、基台ブロック5
上に設けたビーム位置決めピン6の配列と第1ピッチD
を有する孔7を持つ複数個のステー3との組合せにより
実現しているので、次のような利点を兼ね備えるもので
ある。即ち、基台ブロック5へのステーの取付けは自由
であり、そのため各ステーの取り付け作業は容易であっ
て、しかも調整不要である。
ては、半導体レーザー80個の配列を、基台ブロック5
上に設けたビーム位置決めピン6の配列と第1ピッチD
を有する孔7を持つ複数個のステー3との組合せにより
実現しているので、次のような利点を兼ね備えるもので
ある。即ち、基台ブロック5へのステーの取付けは自由
であり、そのため各ステーの取り付け作業は容易であっ
て、しかも調整不要である。
【0034】
【発明の効果】本発明によれば、発光素子数の増加に比
して光源ユニットの寸法の増大を小さくすることができ
る。しかも、本発明に係る光源ユニットは、第1間隔で
等間隔に配列されたm個のラインユニットにより実現さ
れているため、その組立を簡易に行い得る効果を併せ有
している。
して光源ユニットの寸法の増大を小さくすることができ
る。しかも、本発明に係る光源ユニットは、第1間隔で
等間隔に配列されたm個のラインユニットにより実現さ
れているため、その組立を簡易に行い得る効果を併せ有
している。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る光源ユニットの基本的構成を示
した説明図である。
した説明図である。
【図2】露光時におけるビーム配列を示した説明図であ
る。
る。
【図3】この発明の一実施例に係る光源ユニットの斜視
図である。
図である。
【図4】光源ユニットに用いられるステー内の半導体レ
ーザーの配置を示す断面図である。
ーザーの配置を示す断面図である。
【図5】ステーの構成を示す正面図である。
【図6】光源ユニットに用いられる基台ブロックの構成
を示す正面図である。
を示す正面図である。
【図7】組立て完了後の光源ユニットを示す正面図であ
る。
る。
【図8】光源ユニットを組込んだ露光ヘッドの構成を模
式的に示した平面図である。
式的に示した平面図である。
【図9】ドラムと露光ヘッドとの関係を模式的に示した
説明図である。
説明図である。
【図10】光源ユニット内の各半導体レーザーを駆動す
るための電気系統を模式的に示したブロック図である。
るための電気系統を模式的に示したブロック図である。
【図11】従来の光源ユニットのビーム配列を示す説明
図である。
図である。
10 光源ユニット 3 ステー 4 アパーチャ 5 基台ブロック 6 位置決めピン 9 半導体レーザー 17 ボルト 31 感光フィルム X 主走査方向 Y 副走査方向 D 第1間隔 d 第2間隔 l 第3間隔 LU1〜LUm ラインユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04N 1/036 A 9070−5C 1/04 104 Z 7251−5C 1/23 103 Z 9186−5C
Claims (1)
- 【請求項1】 m×n個(m、nはそれぞれ2以上の整
数)の発光素子を備え、前記発光素子から出射されかつ
記録情報により変調されたm×n個の複数ビームを主走
査方向に走査することにより前記記録情報を記録媒体上
に記録する複数ビーム走査記録装置に於て用いられる光
源ユニットであって、 前記m×n個の発光素子は、主走査方向に対して垂直な
副走査方向に第1間隔でn個の発光素子が配列されたラ
インユニットm個からなり、 前記m個のラインユニットは、主走査方向に等間隔で並
設されかつ副走査方向に第1間隔をmで除した距離分ず
つ順次ずらせて配置したことを特徴とする光源ユニッ
ト。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22340392A JPH0647954A (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 光源ユニット |
| US08096958 US5477259B1 (en) | 1992-07-29 | 1993-07-26 | Multiple beam scanning apparatus light source unit and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22340392A JPH0647954A (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 光源ユニット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0647954A true JPH0647954A (ja) | 1994-02-22 |
Family
ID=16797604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22340392A Pending JPH0647954A (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 光源ユニット |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5477259B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0647954A (ja) |
Cited By (5)
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| JP2008233278A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Seiko Epson Corp | ラインヘッドおよび画像形成装置 |
| US7436422B2 (en) | 2003-09-12 | 2008-10-14 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Light source module, optical unit array and pattern writing apparatus |
| CN109318184A (zh) * | 2018-11-22 | 2019-02-12 | 沈阳航天新光集团有限公司 | 一种坐标式总装支架 |
| US10801725B2 (en) | 2013-12-19 | 2020-10-13 | Hanwha Aerospace Co., Ltd. | Swirler for gas turbine |
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| JPH10278343A (ja) * | 1997-04-09 | 1998-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学系、光学系における点光源配列方法及び画像走査露光装置 |
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| DK2471663T3 (da) | 2010-12-30 | 2012-10-01 | Alltec Angewandte Laserlicht Technologie Gmbh | Fremgangsmåde til påføring af en markering på en genstandog markeringsindretning |
| ES2424245T3 (es) * | 2010-12-30 | 2013-09-30 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Aparato de marcado |
| EP2471662B1 (en) | 2010-12-30 | 2012-10-10 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Monitoring device and method for monitoring marking elements of a marking head |
| EP2472842B1 (en) | 2010-12-30 | 2020-03-04 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Sensor apparatus |
| ES2709507T3 (es) | 2010-12-30 | 2019-04-16 | Alltec Angewandte Laserlicht Tech Gesellschaft Mit Beschraenkter Haftung | Procedimiento de control de un aparato para imprimir y/o escanear un objeto |
| ES2405982T3 (es) | 2010-12-30 | 2013-06-04 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Aparato de marcado o de barrido con un dispositivo de medición para medir la velocidad de un objeto y procedimiento de medición de la velocidad de un objeto con dicho aparato de marcado o de barrido |
| EP2471664B1 (en) | 2010-12-30 | 2013-04-24 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Device for marking and/or scanning an object |
| DK2471666T3 (da) | 2010-12-30 | 2012-10-01 | Alltec Angewandte Laserlicht Technologie Gmbh | Markeringsindretning og fremgangsmåde til drift af en markeringsindretning |
| ES2702701T3 (es) * | 2010-12-30 | 2019-03-05 | Alltec Angewandte Laserlicht Tech Gesellschaft Mit Beschraenkter Haftung | Aparato de marcado |
| EP2865056B1 (en) * | 2012-06-26 | 2025-08-06 | TRUMPF Photonic Components GmbH | Laser module for homogeneous line-shaped intensity profiles |
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1993
- 1993-07-26 US US08096958 patent/US5477259B1/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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