JPH0648080B2 - 処理ガス制御器 - Google Patents

処理ガス制御器

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JPH0648080B2
JPH0648080B2 JP59503430A JP50343084A JPH0648080B2 JP H0648080 B2 JPH0648080 B2 JP H0648080B2 JP 59503430 A JP59503430 A JP 59503430A JP 50343084 A JP50343084 A JP 50343084A JP H0648080 B2 JPH0648080 B2 JP H0648080B2
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 多くの製造工程では、種々の形式の処理ガスを使用装置
に供給することが必要である。処理ガスは、通常、高圧
力シリンダに保存されていて、圧力調整器を通して装置
に供給される。
製造中に処理ガスシリンダ、調整器および処理ガスライ
ンを装置から遮断することがしばしば必要である。これ
は処理ガスシリンダまたは圧力調整器を交換しなければ
ならない場合に必要となる。この必要が生じたとき、種
々のラインは排気され、窒素のごとき清浄ガスで清浄さ
れる。これを行なうため、しばしば清浄ガス源ならびに
処理ガス源、圧力調整器、ベントおよび装置の間に種々
のバルブが施される。しかしながら、多数存在するバル
ブ、ライン、および部品のために操作者が誤ったときに
誤ったバルブを開いたり、閉じたりするという機会が実
際に生じる。そのようなミスは操作者やまわりの者を有
毒または可燃性のガスに曝すことになったり、高価な処
理ガスのシリンダを不純にしたりすることになる。
発明の開示 この発明は、処理ガスシリンダまたは調整器を交換する
ときに操作者が安全に処理ガスシステムを排気したり清
浄したりできるようにした工程ガス制御器を提供する。
処理ガス制御器は、処理ガスを装置に供給するために清
浄ガス源と処理ガス源に連結される。この制御器は、主
ガスラインまたは処理ガスラインに沿って圧力調整器を
有する。主ガスラインは処理ガス源に連結された主入口
と装置に連結した主出口を有する。
清浄ガス源を主入口から選択的に遮断するために清浄ガ
スバルブが使用される。装置のバルブが圧力調整器と主
出口の間の主ガスラインに沿って配置される。主入口と
圧力調整器の間の主ガスラインに沿って遮断バルブが配
置される。圧力調整器と装置バルブの間の主ガスライン
に沿った点と低圧力ベントの間に、低圧力ベントバルブ
が流動体結合している。主入口と遮断バルブの間の主ガ
スラインに沿う点と高圧力ベントとを、高圧力ベントバ
ルブが流動体結合している。
処理ガスを装置に供給したり、バルブ、処理ガス源およ
び装置に連結した種々のラインから処理ガスを排気し、
清浄ガス源からの清浄ガス、典型的には窒素を使って清
浄したりするのに種々のバルブが操作される。排気およ
び清浄は、処理ガス源または圧力調整器を変えたとき、
通常生じる。
これら種々のバルブは手動で操作できるが、使用者によ
って選択された動作位置に応じてすべてのバルブを開成
したり制御するのに新規なバルブ制御器が使用される。
バルブ制御器は処理ガスを装置に対して適当に供給し、
処理ガスを排気し、そして清浄ガスでシステムを清浄す
るのに7つの異なったバルブ作動組合わせを与える。バ
ルブ作動組合わせの1つではすべてのバルブを閉じる
が、これは排気と清浄処理を最適になすため2回行なう
ことができる。したがって、好ましくはバルブ制御器は
全部で8つの動作位置を有するようにする。
前記バルブ制御器は、好ましくは、圧搾空気を選択的に
種々のバルブにそれらを駆動するように与える空気装置
である。バルブ制御器は多数の通路を有するプログラム
部材を備えており、その通路の各々はバルブの1つに連
結している。前記通路はプログラムポートを介してプロ
グラム部材のプログラム面に連結している。
バルブ選択部材がプログラム面に横たわるとともに圧搾
空気源に結合された入口通路を有する。バルブ選択部材
は入口通路がプログラムポートの種々のセットに整列す
るように可動となっている。そのように整列したとき圧
搾空気源は入口通路に整列したプログラムポートを通し
て入口通路、バルブ通路、そして対応するバルブに圧搾
空気を供給し、しかしてバルブは開く。
この発明の第1の特徴は、排気と清浄処理の間、不適当
な順序で続くバルブの危険を除去するバルブ制御器の構
造である。バルブ制御器は、電気駆動バルブに関係する
危険を除去するため好ましくは空気的駆動のバルブを操
作する空気装置である。
この発明の他の特徴や利点は添付図面に関連して好まし
い実施例を詳細に述べる以下の記載から明らかになろ
う。
図面の簡単な説明 第1図はこの発明に従って構成された処理ガス制御器の
回路図である。
第2図は第1図のバルブ制御器の分解等大図である。
第3図は第2図のベースディスクの第2図に示されない
側の等大図である。
第4図は線4−4に沿って切断した第2図の組合わせバ
ルブ制御器の断面図である。
発明を実施するための最良の形態 第1図を参照すると、処理ガス制御器2はバルブアセン
ブリ6に作動に結合されたバルブ制御器4を含むことが
わかる。アセンブリ6は以下に述べる種々のバルブと、
処理ガス源10から主入口12を通して主または処理ガ
スライン14に沿って主出口16の外で装置18に至る
処理ガスの流れを制御する圧力調整器8を含む。清浄ガ
ス源20が清浄ガス入口22でバルブアセンブリ6に流
動体結合している。
この発明は次の順序で論述することにする。まず、バル
ブアセンブリ6について記述し、それからバルブ制御器
4の構造と動作を論述し、最後に操作者による処理ガス
制御器2の使用を述べる。
第1に、清浄ガスバルブ24が清浄ガス入口22と主入
口12の間の清浄ガスライン26に沿って配置される。
第2に、装置のバルブ28が主ライン14に沿って主出
口16と圧力調整器8の間に配置される。第3に、遮断
バルブ30が圧力調整器8と主入口12の間に取付けら
れる。第4に、低圧力ベント(排気)バルブ32が低圧
力ベントライン34に沿って低圧力ベント36と、主ラ
イン14に沿った圧力調整器8と装置バルブ28間の点
38との間に配置される。第5に、高圧力ベントバルブ
40が高圧力ベント44と、主ライン14に沿った遮断
バルブ30と主入口12間の点46との間に置かれる。
バルブ24,28,30,32,40はすべて通常は閉
じていて空気により作動するバルブであり、以下に一層
詳しく述べるように、バルブアセンブリ6内での工程の
流れや清浄ガスの流れを制御するために使用される。バ
ルブ24,28,30,32,40を作動するバルブ制
御器4はライン50を通して圧搾空気源48に流動体結
合されている。
さて第2図ないし第4図に戻り、バルブ制御器4の物理
的な構成がより詳細に示されている。制御器4は、プロ
グラムディスク52と入口ディスク54を有し、プログ
ラムディスク52は数個のねじ60によって互いに固定
されたベース56とカバー58を有する。ベース56は
外面64に形成された5個の円形で同心状のバルブ通路
62a〜62eを有する。この最外端ないし最内端通路
62a〜62eはそれぞれ第1ないし第5バルブ24,
28,32,32,42駆動ライン66〜70によって
流動体結合している。しかして、最外端の通路62aを
圧搾すると、第1バルブ24がライン66等を通して駆
動される。
入口ディスク54は結合部材76によってプログラム部
材52のプログラム面74に対して回転可能に取付けら
れる内面72を有する。面72,74は双方とも非常に
平坦であり、互いに合致する。部材76はディスク5
2,54内の相補的な穴を通過する中空ボルト78と、
キャップ58の外面82に隣接したナット80と、ディ
スク54の外面86とボルト78のヘッド88との間に
捕獲されたワッシャ84とからなる。一連のベント(排
気)孔90はディスク54の内面72に隣接して形成さ
れた放射方向に延びる入口通路94で中空ボルト78の
内側に流動体結合する。それゆえに、圧搾空気が源48
からライン50を通して内側92に、そしてベント孔9
0を通して入口通路94に供給される。
プログラムディスク52のベース56は種々のプログラ
ム通路62をベース56のプログラム面74に連結する
多くのプログラムポート96を有する。ボール節動アセ
ンブリ100がディスク54内に据付けられており、こ
れは矢印105で表わすように通路94がベース56の
ラベル1〜8で示す8つの回転位置の1つに整列したと
きベース56の表面の窪み102に嵌まる。入口ディス
ク54を部材76で規定される軸98のまわりに回転さ
せることによって通路94内の圧搾空気が1またはそれ
以上のプログラムポート96を通過でき、これらの協働
するバルブ通路62内に入る。余剰の空気漏れはOリン
グ107,109によって制御される。
第2図に見られるように、1,3,4,6,7,8で表
わされる回転位置で1個ないし3個のポート96を有す
る6セットの放射方向に整列したプログラムポート96
がある。ディスク54の回転方向に依存して圧搾空気が
1もしくはそれ以上のバルブ24,28,30,32,
40に供給される。2個の位置、すなわち第2図の2お
よび5の位置は、プログラムポート96を有しない。デ
ィスク54の通路94がこれらの2個の位置のいずれか
に整列したとき、いずれのバルブにも空気が与えられ
ず、すべてのバルブは閉じたままになる。すべてのバル
ブが閉じた状態となる2位置を有する理由は、この発明
の使用について以下に述べるとき明らかとなるであろ
う。
次の表はバルブ選択ディスク54が8個の回転動作位置
に方位したとき、どのバルブが閉じてどのバルブが開く
かを示す。
この表で「C」はバルブが閉じることを示し、「O」は
バルブが開くことを示す。しかして、バルブは協働する
バルブ通路62に入口通路94からプログラムポート9
6を通して圧搾空気が与えられたときに開く。
使用時に、処理ガスは第2、第3バルブ28,30を開
き、第1、第4、第5バルブ24,32,40を閉じる
ことによって処理ガス源10から装置18に供給され
る。第1の動作位置はこれらの要求を充足するので、操
作者は標準動作の間、ディスク54を位置1にセットす
る。
処理ガス源10は普通、シリンダ104から主入口12
への処理ガスを制御する標準手動バルブ106を有する
高圧シリンダ104である。処理ガス源10を取替えた
い場合には、まず手動バルブ106が閉じられる。それ
から、バルブ選択ディスク54が第1の動作位置から第
2、第3の動作位置で短時間止まって第4の動作位置ま
で動く。第2の動作位置はすべてのバルブを閉じ、第3
の動作位置はガスがバルブアセンブリ6からベント3
6、44を通して逃げるのを許容する。第4の動作位置
は清浄源20からの清浄ガス、典型的には窒素を清浄ガ
ス入口22と第3バルブ30の間の主ガスライン14を
通して導入する。それから、操作者は清浄ガスでシステ
ムの圧搾と低下を許す第3と第4の動作位置間で選択デ
ィスクを前後に操作する。少なくとも、これは10回行
なうのがよい。
それから、入口ディスク54はもう1度すべてのバルブ
を閉じる第2の動作位置に戻される。このとき、新しい
処理ガス源をライン108に取付けることができる。こ
の処置はライン108が開いているときにバルブ106
または入口12を連結するライン108に工程ガスの動
きがないということを確実にする。工程ガス源10を取
替えた後、どのような進入酸素をも除去するために操作
者が第3と第4の動作位置間を前後に循環させる前記清
浄処置が繰返される。その後、選択ディスク54が第1
の動作位置に戻される。これが行なわれた後、シリンダ
104に取付けられた手動バルブ106を開ける。
調整器8を変更するのには操作者は第1位置から第4位
置へ動かし、そして第3、第4位置の間を前後するとい
う上述の処置を行なう。清浄を行なうために操作者はす
べてのバルブが再び閉じる第5位置に進める。その後、
圧力調整器を取替える。次に、調整器8の完全な清浄を
確実にするためにバルブ選択ディスク54は第6と第7
の動作位置間を交互に少なくとも10回動かされる。清
浄の後、入口ディスク54は第5動作位置に再設定され
る。その後、通常の使用を行なうため入口ディスク54
を第1の動作位置に戻すことができる。もし、主ガスラ
イン14とこのラインに沿った種々の部品を清浄したい
場合には、上述した容器の交換や調整器の交換の清浄処
理を最初に行なう。それから、窒素が清浄ガス源20か
ら主ライン14を通って主出口16の外に流れるように
入口ディスク54を第8の動作位置に置く。
動作位置のうち或る位置は次のステップへの手順におい
て入口ディスク54をいずれの方向に回しても問題がな
いようになっていることがわかる。しかしながら、第1
と第8の動作位置間では直接行けないようにするため
に、放射方向杭114が矢印105の近くに設けられて
いて、この杭が第1と第8の動作位置の間のベース56
の表面に設けられた軸方向に延びるストップ116と係
合する。
次の請求の範囲に定められているこの発明の要旨から逸
脱することなしに前記の開示例に修正や変更を行なうこ
とが可能である。たとえば、バルブ制御器4は選択ディ
スク54が回転するディスクフォーマットに示される。
バルブ通路62が真直ぐなものであって、入口通路94
が直線路に沿って動く部材で定められるような形状も採
用可能である。また、プログラム部材や選択部材は円筒
状であってもよい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 米国特許3319531(US,A)

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】装置に処理ガスを供給する処理ガス源と清
    浄ガス源に連結される形式の処理ガス制御器であって、 前記処理ガス源に流動体結合された主入口と前記装置に
    流動体結合した主出口とを有する主ガスラインと、 前記清浄ガス源と前記主入口との間に配置された第1バ
    ルブと、 前記主ガスラインに沿って配置され前記装置に前記処理
    ガスを調整された圧力で供給する圧力調整器と、 前記主出口と前記調整器との間の前記主ガスラインに沿
    って配置された第2バルブと、 前記調整器と前記主入口との間の前記主ガスラインに沿
    って配置された第3バルブと、 前記調整器と前記第2バルブとの間の前記主ガスライン
    に流動体結合された第4バルブ入口と、第1排気領域に
    流動体結合された第4バルブ出口とを有する第4バルブ
    と、 前記主入口と前記第3バルブとの間の前記主ガスライン
    に流動体結合された第5バルブ入口と、第2排気領域に
    流動体結合された第5バルブ出口とを有する第5バルブ
    と、 複数の使用者選択位置を備えるとともに複数の前記第1
    ないし第5バルブに連結したバルブ制御器とからなり、
    前記第1ないし第5バルブは処理ガスを装置から遮断し
    てガスを前記第1排気領域と第2排気領域に排気すると
    ともに、前記清浄ガス源からのガスで前記主ガスライン
    を清浄するように動作し、前記バルブ制御器は使用者に
    よって選択された動作位置に応じて前記複数のバルブの
    開成と閉成を制御するように整列されかつ適合されてい
    る処理ガス制御器。
  2. 【請求項2】さらに、前記第1バルブが配置される清浄
    ガスラインを有する、請求の範囲第1項に記載の処理ガ
    ス制御器。
  3. 【請求項3】さらに、前記第4、第5バルブがそれぞれ
    配置される第1、第2排気ラインを有する、請求の範囲
    第1項に記載の処理ガス制御器。
  4. 【請求項4】前記バルブ制御器は少なくとも8個の動作
    位置を有し、かつ前記バルブ制御器は前記第1ないし第
    5バルブを次のように制御する、請求の範囲第1項に記
    載の処理ガス制御器。 ここで、Cはバルブが閉じることを、Oはバルブが開く
    ことを示す。
  5. 【請求項5】前記バルブ制御器は流動体圧力デバイスで
    あって、かつ前記複数のバルブに流動体結合した通路を
    有するとともに外面に沿って選択された位置で前記通路
    に流動体結合した流動体通路ポートを有するプログラム
    部材と、 前記プログラム部材の外面に摺動的に噛み合う形状の内
    面を有する入口部材とからなり、前記入口部材は前記内
    面に形成された入口通路を含み、前記入口通路は前記バ
    ルブ制御器が前記動作位置の少なくとも1個に位置した
    とき前記流動体通路ポートの少なくとも1個に流動体的
    に連通するように適合されており、それによって前記入
    口通路を前記複数のバルブの1個またはそれ以上と選択
    的に流動体結合し、前記1個またはそれ以上のバルブを
    駆動する、請求の範囲第1項に記載の処理ガス制御器。
  6. 【請求項6】前記プログラム部材はディスク形状であ
    る、請求の範囲第5項に記載の処理ガス制御器。
  7. 【請求項7】前記通路は同心状である、請求の範囲第6
    項に記載の処理ガス制御器。
  8. 【請求項8】前記外面は平坦であり、また前記通路は前
    記プログラム部材に形成された円形同心状溝であって、
    該溝は共通軸を有する、請求の範囲第6項に記載の処理
    ガス制御器。
  9. 【請求項9】前記プログラム部材はベース部材とカバー
    部材とからなり、前記ベース部材は前記平坦な外面を有
    し、前記ベース部材とカバー部材はそれらの間での相対
    運動を阻止するため互いに固定されている、請求の範囲
    第8項に記載の処理ガス制御器。
  10. 【請求項10】前記プログラム部材と前記入口部材は平
    坦なディスクであり、前記流動体通路ポートは共通軸に
    平行に整列され、前記入口通路は前記共通軸を横切るよ
    うに整列されている、請求の範囲第8項に記載の処理ガ
    ス制御器。
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