JPH0649183A - 新規水溶性導電性重合体及びその製造方法 - Google Patents

新規水溶性導電性重合体及びその製造方法

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JPH0649183A
JPH0649183A JP33667292A JP33667292A JPH0649183A JP H0649183 A JPH0649183 A JP H0649183A JP 33667292 A JP33667292 A JP 33667292A JP 33667292 A JP33667292 A JP 33667292A JP H0649183 A JPH0649183 A JP H0649183A
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    • HELECTRICITY
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    • H01B1/06Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/12Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 安定であって水に対して高い溶解度を有する
新規な水溶性導電性重合体及びその製造方法及びそれを
含有する成形体。 【構成】 一般式(I)等で示される構造を含む重合体 【化1】 (式中、R1 及びR2 はH、またはC1 〜C20のアルキ
ル基またはアルコキシ基、アミン基、トリハロメチル
基、フェニル基を表し、XはS、O、Se、Teまたは
NR3 である。R3 はH、C1 〜C6 のアルキル基、も
しくはアリール基を表す。Mは、H+ もしくはアルカリ
金属イオンあるいは第4級アンモニウム等のカチオンを
表し、mは0.2〜2である。)、イソチアナフテン、
イソベンゾフラン等の誘導体をスルホン化剤を作用させ
て上記重合体を製造する方法および上記重合体を含有す
る成形体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、極めて安定で、水に対
して高い溶解度を有する新規導電性重合体及び該重合体
の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、電
気、電子工業の分野において、加工性要求度の高い電
極、センサー、エレクトロニクス表示素子、非線形光学
素子、光電変換素子、帯電防止剤他、各種導電材料ある
いは光学材料として用いるのに特に適した新規水溶性導
電性重合体及びそれらの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】π電子共役系の発達したポリマーは、導
電性のみならず金属/半導体転移における状態変化など
の特異な物性のために工業的に注目され、多くの用途を
目指した研究がなされてきた。中でも、ブレンステッド
酸基をポリマー主鎖に直接、またはスペーサーを介して
間接的に共有結合させることにより得られる水溶性の自
己ドープ型共役系ポリマーは外来ドーパントの寄与なし
に長期間にわたって安定な導電状態を示す点で特に注目
されてきた。
【0003】具体的な先行例として、例えばF.Wud
lらやE.E.Havingaらのアルカンスルホン酸
基を有するポリチオフェン誘導体(Journal o
fAmerican Chemical Societ
y誌、109巻1858頁1987年、Polymer
Bulletin誌、18巻277頁1987年)、
Aldissiのポリチオフェン誘導体やポリピロール
誘導体(米国特許4880508号)、ポリアニリン芳
香環に置換基としてカルボン酸基を共有結合させた重合
体(特許公表公報平1−500835号)、ピロールの
N位にプロパンスルホン酸基が置換した重合体(Jou
rnal of ChemicalSociety,C
hemical Communication誌、62
1頁1987年)、N位にプロパンスルホン酸基が置換
したポリアニリン重合体(Journal of Ch
emical Society, ChemicalC
ommunication誌、180頁1990年、S
yntheticMetals誌、31巻369頁19
89年)、芳香環に直接スルホン酸基が置換したポリア
ニリン誘導体(Journal of America
n Chemical Society誌,112巻2
800頁1990年)などがこれまで製造法と共に開示
されている。
【0004】一方、二環式系導電性重合体、例えばイソ
チアナフテン構造を有する重合体は、J.Org.Ch
em.,49,3382(1984)等に製造法と共に
開示されており、エネルギーギャップ(Eg)が1.1
eVと小さく、安定な導電状態を示すことが知られてい
る。しかしながら、ポリイソチアナフテンは不溶不融で
あり成形加工性が極めて悪い。そのため、アルキル基あ
るいはアルコキシ基を導入することにより、有機溶媒に
可溶とする方法が特開平2−242816号等に開示さ
れている。
【0005】またイソチアナフテン骨格に電子吸引性基
や電子供与性基を導入すると、半導体としての電子状態
に影響を与えることをBredasらは計算結果によっ
て報告している(J.Chem.Phys.,85
(8),4673(1986))。また関連する例とし
ては、ハロゲンを置換基とする重合体(特開昭63−3
07604号)や、電子吸引性基を置換基とする重合体
を列挙した公報(特開平2−252727号)もある
が、何れも本発明に関する重合体についての特性に関し
なんら記載されておらず、その製造方法についても具体
的な開示はない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】二環系水溶性導電性重
合体、例えばイソチアナフテニレン、イソベンゾフリレ
ン、イソインドリレン、イソベンゾセレニレン、イソベ
ンゾテルリレン構造を繰り返し単位とする水溶性の導電
性重合体はこれまで開示されていない。
【0007】本発明は、公知な化合物からスルホン化剤
を用いることにより実用的で新規な二環系水溶性導電性
重合体、その製造方法及びその成形体を容易に提供する
ことにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は一般式
(I)
【化6】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立にH、または直鎖
状もしくは分岐状のC1〜C20のアルキル基またはアル
コキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロメ
チル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、XはS、
O、Se、TeまたはNR3 である。R3 はH、C1
6 の直鎖または分岐状のアルキル基、もしくは置換、
非置換のアリール基を表す。上記R1 、R2 、R3 のア
ルキル基またはR1 、R2 のアルコキシ基の鎖中には、
カルボニル、エーテル、アミド結合を任意に含む。M
は、H+ もしくはNa+ 、Li+ 、K+ 等のアルカリ金
属イオンあるいは第4級アンモニウム等のカチオンを表
し、mは0.2から2の範囲である。)で表される化学
構造を含むことを特徴とする新規水溶性導電性重合体を
提供する。
【0009】およびこれを電気化学的及び/または化学
的にドーピングすることによって得られる、一般式(I
I)
【化7】 (式中、R1 、R2 、X、R3 、M、mは上記一般式
(I)で定義したものと同一である。kはmよりも小さ
い値である。)及び/または一般式(III)
【化8】 (式中、R1 、R2 、X、R3 、M、mは上記一般式
(I)で定義したものと同一である。δは0.7以下の
値であり、Zは陰イオンを表し、jは陰イオンZの価数
を表し、1または2である。)で表される化学構造を含
む新規水溶性導電性重合体を提供する。
【0010】更に、一般式(IV)
【化9】 (式中、R1 、R2 およびR3 は一般式(I)で定義し
たものと同一である。XはS、O、Se、Te、S=
O、Se=O、Te=OまたはNR3 である。)及び一
般式(V)
【化10】 (式中、R1 、R2 、XおよびR3 は一般式(I)で定
義したものと同一である。)で表される化合物またはこ
れらの化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物に
スルホン化剤を反応させることを特徴とする前記水溶性
導電性重合体の製造方法に関する。
【0011】本発明の一般式(I)に表される化学構造
を含む重合体の置換基R1 及びR2は、スルホン化反応
及びモノマーの重合反応を阻害しない置換基であれば何
でも良く、例えばそれぞれ独立にHまたは直鎖状もしく
は分岐状のC1 〜C20のアルキル基またはアルコキシ
基、脂肪族あるいは芳香族などの1級、2級または3級
アミン基、トリクロロメチル等のトリハロメチル基、フ
ェニル基、置換フェニル基から選ばれる。上記C1 〜C
20のアルキル基またはアルコキシ基の鎖中には、カルボ
ニル、エーテル、アミド結合を任意に含有しても良い。
【0012】ここでR1 及びR2 として特に有用な例と
しては、水素、アルキル基、アルコキシ基が挙げられ
る。これらの置換基を更に詳しく例示すれば、アルキル
基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ドデシル、エ
トキシエチル、メトキシエチル、アセトニル、フェナシ
ルなど、アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、ドデシル
オキシなどが挙げられる。
【0013】またR1 及びR2 として上記以外の置換基
の例としてメチルアミノ、エチルアミノ、ジフェニルア
ミノ、アニリノなどのアミノ基、トリフルオロメチル
基、フェニル基、トリル基、キシリル基、アセトアミド
などのアシルアミド基などが挙げられる。
【0014】またスルホン酸基の置換率を示すmは0.
2から2の範囲を示す。mの範囲としては特に0.4か
ら1.3の範囲が好ましい。
【0015】XはS、O、Se、TeまたはNR3 であ
り、それぞれに化学構造はイソチアナフテニレン、イソ
ベンゾフリレン、イソベンゾセレニレン、イソベンゾテ
ルリレン及びイソインドリレン構造を表す。前記R3
H、C1 〜C6 の直鎖または分岐状アルキル基、あるい
は置換または非置換のアリール基を表わし、前記R3
おけるアルキル基にはカルボニル、エーテル、アミド結
合を含有しても良い。更に詳しくR3 を例示すると、水
素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、ヘキシル、フェニル、トリル、エトキシエチル、メ
トキシエチル、アセトニル、アセチルなどの基が挙げら
れる。
【0016】Mは、H+ またはNa+ 、Li+ 、K+
のアルカリ金属イオンやNH4 +、N(CH34 +、N
(C654 +等のVb属元素のアルキル置換、または
アリール置換型カチオンが用いられる。特定カチオンに
変換するには、通常のイオン交換樹脂によって容易に達
成できる。
【0017】また、この水溶性導電性重合体の分子量は
1000〜500000、好ましくは10000から1
00000の範囲である。
【0018】本発明の水溶性導電性重合体は新規物質で
あり、特に一般式(I)乃至(III)で表される化学構造
を含む重合体の中でXがSのポリイソチアナフテン誘導
体はアルカンスルホン酸基を有するポリチオフェン誘導
体のごとき公知の水溶性導電性重合体と比較すると、半
導体としてのエネルギーギャップが約1.0eVと小さ
く、低いドーピングレベルで高い導電性を示し、その導
電状態が極めて安定に得られるという特徴を持つ。その
ため、特にドーピング時には可視光の吸光度が小さくな
るため、安定性の優れた透明導電体としても期待でき
る。
【0019】本発明の製造方法は、一般式(IV)または
一般式(V)で表わされる化合物にスルホン化剤を反応
させることにより、実用的で新規な二環系水溶性導電性
重合体を提供することにあるが、このスルホン化剤を用
いる製造方法はモノマーから一段で重合反応及びスルホ
ン化反応を起こさせ新規な二環系水溶性導電性重合体を
与えるものであり新規な製造法である。
【0020】即ち、本発明の製造方法は、モノマー化合
物から一段の反応で二環系水溶性導電性重合体を与える
のに特に有効な製造方法である。これは、例えばポリイ
ソチアナフテンのような二環系導電性重合体が不融であ
り、有機溶媒や鉱酸のようなブレンステッド酸には不溶
であるために有機溶媒に可溶なポリアニリンのようには
スルホン化が進まないためである。
【0021】一般式(I)で表される化学構造を含む水
溶性導電性重合体は、電気化学的または化学的に酸化す
ることにより、一般式(II)及び/または(III) で表さ
れる化学構造を含む両性イオン性の水溶性導電性重合体
が得られる。
【0022】また同様にして、一般式(II)及び/また
は(III) で表される化学構造を含む重合体は、電気化学
的または化学的に還元することにより一般式(I)で表
される化学構造を含む重合体に変換することができる。
このように一般式(I)と(II)及び/または(III) で
表される化学構造を含む重合体は酸化還元反応により可
逆的にドーピング、脱ドーピングができる。
【0023】ドーピングの方法としては、すでに知られ
ている電気化学的または化学的なドーピング方法であれ
ばどのような方法でも良い。例えば、電気化学的なドー
ピング方法は電極間に水溶性導電性重合体フィルムをは
さみドーパントを含有する溶液中で印加する方法であ
り、化学的ドーピング方法は、水溶性導電性重合体フィ
ルムに気相中よう素等のドーパントを反応させる気相法
等が挙げられる。(「導電性高分子の基礎と応用−合成
・物性・評価・応用技術−」(株)アイピーシー参照)
【0024】その際に用いられるドーパント[一般式(I
II) のZで示される。]としては、PF6 -、SbF6 -
AsF6 -のごときVb属元素のハロゲン化物アニオン、
BF4 -のごときIII b属元素のハロゲン化物アニオン、
- (I3 -)、Br- ,Cl- のごときハロゲンアニオ
ン、ClO4 -のごとき過ハロゲン酸アニオン、ルイス
酸、プロトン酸、電解質アニオン、高分子電解質アニオ
ン等を挙げることができるが、必ずしもこれに限定され
るものではない。また、複数のドーパントを併用して用
いても良い。
【0025】次に本発明の水溶性導電性重合体の製造方
法について説明する。一般式(I)、(II)および/ま
たは(III) で表される化学構造を含む重合体は、一般式
(IV)または(V)で表される化合物を発煙硫酸のよう
なスルホン化剤と反応させることによって製造される。
【0026】具体的には、一般式(IV)または(V)で
表される化合物に対しては、同一反応液中でカチオン重
合反応及びスルホン化反応が起こり、まず一般式(II)
または(III)で表される化学構造を含む重合体が生成
し、これを中和することにより容易に一般式(I)で表
される化学構造を含む重合体に変換できる。従って一般
式(II)または(III)で表される化学構造を含む重合体
の状態のまま利用することもできるが、一般式(II)ま
たは(III)におけるドーピングレベルの制御の容易性か
ら中和反応を完全に行い、一旦一般式(I)で表される
化学構造を含む重合体を製造し、必要に応じ一般式(I
I)または(III)で表される化学構造を含む重合体を製
造することが便利である。
【0027】一般式(IV)で表される化合物のうち、R
1 =R2 =H、X=Sの化合物については、公知の方
法、例えばJ.A.GladyszらによりTetra
hedron,35,2329(1979)等に記載の
方法で容易に製造することができる。
【0028】一般式(V)で表される化合物のうちR1
=R2 =H、X=Sの化合物は一般式(IV)で表される
化合物から公知の方法、例えばR.Meyerらにより
J.Prakt.Chem.,20,244(196
3)等に記載の方法で容易に製造することができる。
【0029】前記スルホン化剤としては、一般に硫酸、
発煙硫酸、三酸化硫黄、クロロ硫酸、フルオロ硫酸、ア
ミド硫酸等が挙げられる。スルホン化剤の使用量は、モ
ノマーやスルホン化剤の種類によって異なるので一概に
は決められないが、一般にはモノマーの1.1倍等量か
ら20倍等量の範囲で用いるのが望ましい。また複数の
スルホン化剤を用いても良い。
【0030】一般式(I)、(II)および/または(II
I) で表される化学構造を含む重合体の製造に用いられ
るモノマーの濃度は、モノマーの種類や反応スケールに
よって異なるが、一般には10-4から10モル/リット
ルの範囲が望ましい。
【0031】また、この時に一般式(I)、(II)およ
び/または(III) で表される化学構造を含む重合体の製
造において、適用される反応温度はそれぞれの反応方法
によって定められるもので、特に限定できるものではな
いが、一般には−80℃から250℃の温度範囲が望ま
しく、特に−30℃〜150℃の温度範囲で行われるこ
とが望ましい。重合時間は重合方法及び重合温度、ある
いはモノマー等によって異なるので一概には規定できな
いが、通常は0.01時間から200時間で重合するの
が望ましい。
【0032】一般式(IV)及び(V)から、一般式
(I)、(II)および/または(III) で表される化学構
造を含む重合物を得るための重合反応に用いられる溶媒
は、重合温度や重合時間と同様に重合反応で用いられる
スルホン化剤やモノマー等によって異なるので一概には
規定できないが、モノマー及びスルホン化剤を溶解し、
かつスルホン化反応や重合反応を阻害しないならば、ど
のような溶媒であっても良い。例えば、具体的には水、
硫酸、発煙硫酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、無水酢
酸、あるいはテトラヒドロフラン、シオキサン、ジエチ
ルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、ア
セトニトリル、ベンゾニトリル等の極性溶媒、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類、クロロホルム、塩化メ
チレン等の非芳香族性塩素系溶媒等が用いられる。さら
にはこれらの混合溶媒を用いることもできる。
【0033】また、スルホン化反応の副反応として公知
のスルホンの生成を抑制するため、反応を阻害しない範
囲で公知のスルホン抑制剤、例えば脂肪酸、有機過酸、
酸無水物、ピリジン、酢酸またはケトン等を、0.01
から5%添加しても良い。
【0034】一般式(I)、(II)または(III) で表さ
れる化学構造を含む重合体は、水溶性であり、かつ有機
溶媒に溶解する化合物も含まれるが、水溶液としたとき
は限外濾過、透析及び/またはイオン交換操作によって
単離精製することができる。更に、一般式(I)、(I
I)または(III) で表される化学構造を含む重合体が反
応溶媒から析出物として得られる場合には濾過、再沈殿
及び/または溶媒分別法等によって単離精製を行うこと
ができる。
【0035】本発明の重合体は、他のπ電子共役系を有
する主鎖構造を与えるモノマーとの共重合体であっても
良く、かかるポリマー主鎖の中に例えばイソチアナフテ
ニレン、イソベンゾフリレン、イソベンゾインドリレ
ン、イソベンゾセレニレン、イソベンゾテルリレン、チ
エニレン、ピロリレン、フリレン、セレニレン、テルリ
レン、イミノフェニレン、フェニレン、ビニレン、エチ
ニレン構造等を含有した共重合体でも良く、特にこれら
に制限されない。これらの共重合体は、上記の構造を与
える単量体を重合反応系に共存させることで容易に製造
される。
【0036】例えば上記の複素環式モノマーを上述の方
法より一般式(IV)または(V)で表される化合物と共
重合させると、一般式(I)、(II)および/または(I
II)で表される構造を含む重合体あるいはそれらの化学
構造が共存した重合体として得られる。
【0037】上述の製造方法により得られた一般式
(I)、(II)または(III) で表される化学構造を含む
重合体は水に対して高い溶解性を示す。また、式中Mが
+ の場合、特に高濃度ではゲル状態を示すこともある
など、Mを変えることにより種々の溶媒に対する溶解性
や溶媒親和性を変えることができる。
【0038】このように一般式(I)、(II)または(I
II) で表される化学構造を含む重合体は、水溶性である
利点を生かしてフィルム(例えばスピンキャスト法)、
線状成形物、あるいは棒状、板状、シート状、その他の
固体の成形体を一般の高分子工業で行われる成形、製膜
方法で容易に製造することができる。
【0039】その場合用いられる濃度は、成形状態、重
合体の化学構造や溶媒により異なり一概には限定できな
いが、一般には0.5%〜60%の重量濃度であること
が好ましい。成型工程は不活性ガス雰囲気中または真空
下で行うことが好ましく、重合体溶液を適当な媒体、例
えば硝子基板または臭化ナトリウムディスク上において
フィルムに成形するか、あるいは溶液から直接繊維やそ
の他の固体の成形体に成形することにより所望の形に成
形できる。さらには延伸等を行うことも可能である。
【0040】また、溶液状態において他の樹脂、例えば
ポリビニルアルコール等の樹脂と溶解もしくは混合し、
その溶液から任意組成比を有する成形体を形成すること
もできる。通常使用する樹脂の重量は本導電性重合体に
対し、10〜500%の範囲が好ましい。また、このと
き用いられる溶媒としては水が好ましいが、充分な溶解
性を与えるものであれば他の溶媒との混合系でも良い。
上記の方法により形成した成形体は極めて安定に導電状
態を維持する。
【0041】
【作用】本発明においては、一般式(IV)または(V)
で表される二環複素環式モノマー化合物にスルホン化剤
を作用させて一般式(I)で表される化学構造を含む新
規な水溶性導電性重合体が得られたことに基づくもので
あり、モノマー化合物に直接スルホン化剤を作用させ、
スルホン化と重合反応を一挙に行わせる特殊な反応によ
って初めて得られたものである。
【0042】一般式(I)で表される化学構造を含む重
合体はドーピングすることにより一般式(II)または(I
II) の化学構造を含む新規な水溶性導電性重合体にな
り、導電性を著しく高め、また脱ドープすることにより
元の一般式(I)の化学構造を含む重合体に戻すことが
できる。
【0043】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳しく説
明する。しかし、本発明の技術的範囲をこれらの実施例
によって限定されるものでない。
【0044】(実施例1) 一般式(I)で表される重合体の製造方法 <R1 =R2 =H,X=S,M=Na+ > 発煙硫酸(20% SO3 )2.0gを10℃に保持
し、公知な1,3−ジヒドロイソチアナフテン550m
g(4.0ミリモル)を撹拌しながらゆっくりと加え
た。放置して室温まで戻し1時間撹拌を続けたところ、
反応液は赤紫色を呈した。その後、70℃に加熱すると
反応液は濃紺色に変化し、30分後には固化した。反応
混合物を100mlの0.1N NaOH/MeOH中
に中和、沈降させ、遠心分離機により分離した。固体を
水100mlに溶解し、透析膜により不純物の硫酸ナト
リウムを除去した後、溶媒留去し真空乾燥してNa型の
黒色ポリマー430mgを得た。(収率45%) 得られたポリマーのUVスペクトルを図1に示す。また
GPCにより測定した分子量分布を図2に示す。そのI
Rスペクトルを図3に示す。図4はポリマーフィルムに
対して行ったサイクル電解電量測定の結果を示す(ポリ
マーフィルム/ITOガラス作用極、白金対電極、アセ
トニトリル中銀/銀イオン基準電極、フッ化ホウ酸−ア
セトニトリル電解液、走査速度:50mV/秒)。同図
は得られる重合体が同条件において−0.2Vと+0.
7Vの間でサイクルした時、電気化学的にドーピング・
脱ドーピングが可能であることを示している。 元素分析値(%)[C8323 Na] 理論値 C;41.02%,H;1.29%,S;27.38
%,Na;9.82% 実測値 C;40.57%,H;1.51%,S;27.55
%,Na;9.38%
【0045】(実施例2) 一般式(I)で表される重合体の製造方法 <R1 =R2 =H,X=S,M=H+ > 実施例1と同様の方法で製造した反応混合物380mg
を約1000mlの水に溶解し、塩酸でpHを1.9に
調整し限外濾過によって精製、濃縮した後、溶媒留去、
真空乾燥により黒色ポリマー320mgを得た。得られ
たポリマーのUVスペクトルを図5に示す。次にNaO
Hを加え、pH8付近に調整すると、溶液中のポリマー
は図1に示されるスペクトルに変化した。
【0046】(実施例3) 一般式(I)で表される重合体の製造方法 <R1 =R2 =H,X=S,M=H+ > 実施例1の方法で得られた重合物200mgを水50m
lに溶解し、H型の陽イオン交換樹脂(アンバーライト
IR−120B)でイオン交換処理することにより酸型
の重合物水溶液を得た。水を蒸発させると黒色ポリマー
180mgを得た。得られたポリマーのスペクトルは図
5で示されたものと同様であった。
【0047】(実施例4) 一般式(I)で表される重合体の製造方法 <R1 =R2 =H,X=S,M=H+ > 室温下、発煙硫酸(20% SO3 )2.0mlを入れ
た硫酸4.0ml中に1,3−ジヒドロイソチアナフテ
ン500mgを撹拌しながらゆっくりと加え、1晩撹拌
を続けた。反応液は赤色となった。その後、90℃に加
熱したところ反応液は直ちに濃紺色を呈し3時間後には
濃紺色の均一溶液となった。更に反応混合物を2時間同
温度で加熱撹拌した後、1000ml水に加えた。水溶
液のpHを1.9に調整し限外濾過膜によって精製及び
100mlに濃縮した。そして水を減圧留去及び真空乾
燥して黒色ポリマーを390mg得た。得られたポリマ
ーのUVスペクトル、及びIRスペクトルは実施例2で
得られたものと同様であった。 元素分析値(%)[C841.651.55] 計算値 C;54.54%,H;2.27%,S;28.18% 実測値 C;55.33%,H;2.98%,S;27.45%
【0048】(実施例5) 一般式(I)で表される重合体の製造方法 <R1 =R2 =H,X=S,M=Na+ > 発煙硫酸(20% SO3 )2.0gを10℃に保持し
たところへ、公知な1,3−ジヒドロイソチアナフテン
−2−スルホキサイド500mg(4.0ミリモル)を
撹拌しながらゆっくりと加えた。放置して室温に戻し、
そのまま1時間撹拌を続けた。反応液は赤紫色を示し
た。その後80℃に加熱したところ反応液は濃紺色を呈
し、30分後反応液は固化した。反応混合物を100m
lの0.1N NaOH/MeOHに沈降させ、遠心分
離により分離した。固体を水100mlに溶かし、透析
により過剰な硫酸ナトリウムを除去した後、溶媒留去、
真空乾燥して黒色ポリマー430mgを得た。得られた
ポリマーのUVスペクトル、及びIRスペクトルは実施
例1で得られたものと同様であった。 元素分析値(%)[C82.883.361.12Na1.12] 計算値 C;44.81%,H;1.34%,S;16.73
%,Na;12.02% 実測値 C;44.21%,H;1.13%,S;16.53
%,Na;12.84%
【0049】(実施例6) 一般式(I)で表される重合体の製造方法 <R1 =R2 =H,X=S,M=Na+ > 窒素雰囲気下、発煙硫酸(20% SO3 )2.0gを
いれた硫酸8mlを0℃に保持したところへ、公知なイ
ソチアナフテン400mgを撹拌しながらゆっくりと加
えた。そのまま8時間撹拌を続けると反応液は赤色を示
した。その後室温まで戻し、更に90℃に加熱したとこ
ろ、反応液は濃紺色を呈し、5時間後には黒色均一溶液
となった。反応混合物を100mlの0.1N NaO
H/MeOHに沈降させ、遠心分離により分離した。固
体を水100mlに溶かし、透析により過剰な硫酸ナト
リウムを除去した後、溶媒留去、真空乾燥して黒色ポリ
マー220mgを得た。得られたポリマーのUVスペク
トル、及びIRスペクトルは実施例1で得られたものと
同様であった。
【0050】(実施例7) 一般式(I)から一般式(II)及び/または一般式(II
I )への変換 実施例1で得られた重合体50mgを水2mlに溶解
し、溶液をITOガラス上にスピンキャストし、ポリマ
ーフィルムを作製した。これを作用極として、白金線を
対極に、銀/銀イオン電極を参照極として電気化学的セ
ルを構成し、室温下、0.5モル/リットルのHBF4
/アセトニトリル溶液中(水分6%含有)で電気化学的
に0.5Vに印加したところ青色だったフィルムは灰黒
色に変化した。
【0051】(実施例8) 一般式(I)から一般式(II)及び/または一般式(II
I )への変換 実施例3で得られた重合体50mgを水2mlに溶解
し、溶液を白金箔上にスピンキャストし、ポリマーフィ
ルムを作製した。これを作用極として、白金線を対極
に、銀/銀イオン電極を参照極として電気化学的セルを
構成し、室温下、0.1モル/リットルのテトラブチル
アンモニウムパークロレイト/アセトニトリル溶液中で
電気化学的に走査し、J.Am.Chem.Soc.,
110,2983(1988)で述べられているH+
poppingと同様の挙動を確認した。このように、
+ の放出を検出したことにより、自己ドープ機能をも
つことが確認され、一般式(II)で表される化学構造を
持つ重合体を得た。
【0052】(実施例9) 一般式(I)から一般式(III )への変換 実施例1で得られた重合体100mgを水2mlに溶解
し、溶液をガラス基板上にスピンキャストし、ポリマー
フィルムを作製した。このフィルムを気相中よう素を作
用させたところ、フィルムの色は青色から淡黒灰色に変
色した。室温における電気伝導度(4端子測定系)はσ
=5×10-5S/cmからσ=8×10-1S/cmへと
上昇した。その後、この膜をガラス基板より剥離し、元
素分析を行った。 元素分析値(%)「C8323 NaI0.3 」 理論値 C;35.25%,H;1.10%,S;23.49
%,Na;8.42% I;13.95% 実測値 C;35.47%,H;1.34%,S;23.55
%,Na;7.98% I;13.74%
【0053】(実施例10) 一般式(I)で表される重合体の製造方法 <R1 =R2 =H、X=NR3 ,R3 =CH3 ,M=N
+ > 室温下、発煙硫酸(20% SO3 )2.0mlを入れ
た硫酸4.0ml中にAdvan Heterocy
c.Chem.10,113(1969)などに公知の
方法で製造したN−メチルイソインドリン500mgを
撹拌しながらゆっくりと加え、5時間撹拌を続けた。そ
の後、90℃に加熱したところ、3時間後には反応液は
黒色となった。反応混合物を100mlのMeOHに沈
降させ、遠心分離により分離した。固体を0.5Nの水
酸化ナトリウム水溶液100mlに溶かし、透析により
過剰な硫酸ナトリウム及び水酸化ナトリウムを除去した
後、溶媒留去、真空乾燥して黒色ポリマー380mgを
得た。 IR:(KBr disk,cm-1);1803w,1
412w,1314m,1225w,1194s,10
42s,750s
【0054】(実施例11) 一般式(I)で表される重合体の製造方法 <R1 =H,R2 =O(CH29 CH3 、X=S、M
=Na+ > 発煙硫酸(20% SO3 )2.0mlを入れた硫酸
8.0mlを0℃に保持したところへ特開平2−242
816号などに公知の方法で製造した5−デシルオキシ
−1,3−ジヒドロイソチアナフテン500mgを撹拌
しながらゆっくりと加え、1時間撹拌を続けた。その後
90℃に加熱したところ、30分後には反応液は黒色と
なった。反応混合物を100mlの0.5N NaOH
/MeOHに沈降させ、遠心分離により分離した。固体
を水100mlに溶かし、透析により過剰な硫酸ナトリ
ウムを除去した後、溶媒留去、真空乾燥して黒色ポリマ
ー150mgを得た。得られたポリマーのUVスペクト
ルは実施例1で得られたものと同様であった。
【0055】(実施例12)硝子板を支持体として、そ
の表面に実施例2に記載の方法で製造した水溶性導電性
重合体の10重量%水溶液を塗布し乾燥した。更に真空
乾燥した後、硝子板より剥離させ厚さ約20μmの自立
膜を得た。この自立膜の室温における電気伝導度(4端
子測定系)はσ=1.4S/cmであった。この自立膜
を空気中室温で2か月間放置後も電気伝導度の値は安定
に維持されていた。
【0056】(実施例13)硝子板を支持体として、そ
の表面に実施例2に記載の方法で製造した水溶性導電性
重合体の1重量%水溶液をスピンコーター(室温下、回
転数1000rpm)を用いて塗布し、約0.05μm
(触針法で測定)の薄膜を形成した。この薄膜と硝子板
との密着性は良好であり、表面抵抗は約7.8×105
Ω/□であった。また、500nmの可視光の透過率は
96%であり、透明性の高い導電膜であった。さらにス
ピンコーターの回転数を変えて同様の方法で薄膜を形成
し、得られた膜の諸物性を測定した。これらの結果を表
1に示す。
【0057】
【表1】
【0058】(実施例14)硝子板を支持体として、そ
の表面に実施例2に記載の方法で製造した水溶性導電性
重合体とポリビニルアルコール(重合度500)とを各
1重量%含む水溶液を、スピンコーター(室温下、回転
数1000rpm)を用いて塗布し、約1μm(触針法
で測定)の薄膜を形成した。この薄膜と硝子板との密着
性は良好であり、表面抵抗は約1×107 Ω/□であっ
た。また500nmの可視光の透過率は97%であっ
た。
【0059】(実施例15)実施例2と同様の方法で製
造した水溶性導電性重合体は水溶性であるばかりでな
く、ジメチルホルムアミド(DMF)やジメチルスルホ
キサイド(DMSO)、N−メチルピロリドン(NM
P)、メタノールにも可溶であった。
【0060】(実施例16)実施例10に記載の方法で
製造した水溶性導電性重合体5重量%とポリビニルアル
コール(重合度2000)20重量%を含む水溶液を直
径約5cmのシャーレに入れ、水分を揮発させ、更に真
空乾燥した後、底面に形成した厚さ約1mmの薄板状形
成体を取り出した。この形成体の表面抵抗は8×108
Ω/□であった。
【0061】(実施例17)実施例1に記載の方法で製
造した水溶性導電性重合体10重量%とポリビニルアル
コール(重合度2000)12重量%を含む水溶液を、
筒先約1mmの注射器に入れ、エタノール溶媒中にゆっ
くりと押出し、そのまま1日放置した。溶媒から繊維状
成形体を取り出し、乾燥し、黒青色の繊維を得た。この
繊維の室温における電気伝導度(4端子測定法)は、σ
=2×10-6S/cmであった。この繊維を実施例9と
同様の方法で気相中でよう素を作用させたところ、電気
伝導度はσ=5×10-2S/cmへと上昇した。更に、
この繊維は室温下で約1.5倍に延伸できた。延伸後、
この繊維の電気伝導度は0.3S/cmまで上昇した。
【0062】(実施例18)実施例2に記載の方法で製
造した水溶性導電性重合体とポリビニルアルコール(重
合体500)の組成を変え、各々の水溶液をガラス板上
にスピンキャスト(室温下1000rpm)した。その
時の表面抵抗値を表2に表す。
【0063】
【表2】
【0064】
【発明の効果】本発明の導電性重合体は水溶性であって
加工性の優れた高い導電性ある重合体であり、そのため
精密な加工の要求される電極、センサー、エレクトロニ
クス表示素子、非線系光学素子、光学変換素子、帯電防
止材など各種導電材料あるいは光学材料として有用なも
のである。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得た重合体の波長(WAVELEN
GTH)と吸光度(ABSORBANCE)の関係を示
すUVスペクトルである。
【図2】実施例1で得た重合体の分子量(MOLECU
LAR WEIGHT)と流出時間(RETENTIO
N TIME)の関係を示すゲルパーミエーションクロ
マトグラフである。
【図3】実施例1で得た重合体の赤外線吸収スペクトル
である。
【図4】実施例1で得た重合体のフィルムに対して行っ
たサイクル電解電量測定の結果である。
【図5】実施例2で得た重合体の波長(WAVELEN
GTH)と吸光度(ABSORBANCE)を示すUV
スペクトルである。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年1月5日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項2
【補正方法】変更
【補正内容】
【化2】 (式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立にH、または直
鎖状もしくは分岐状のC1 〜C20のアルキル基またはア
ルコキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロ
メチル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、Xは
S、O、Se、TeまたはNR3 である。R3 はH、C
1 〜C6 の直鎖または分岐状アルキル基、もしくは置
換、非置換のアリール基を表す。上記R1 、R2 、R3
のアルキル基またはR1 、R2 のアルコキシ基の鎖中に
はカルボニル、エーテル、アミド結合を任意に含む。M
は、H+ もしくはNa+ 、Li+ 、K+ 等のアルカリ金
属イオンあるいは第4級アンモニウム等のカチオンを表
し、mは0.2から2の範囲である。kはmより小さい
値である。)で表される化学構造を含むことを特徴とす
る新規水溶性導電性重合体。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項3
【補正方法】変更
【補正内容】
【化3】 (式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立にH、または直
鎖状もしくは分岐状のC1 〜C20のアルキル基またはア
ルコキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロ
メチル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、Xは
S、O、Se、TeまたはNR3 である。R3 はH、C
1 〜C6 の直鎖または分岐状アルキル基、あるいは置換
もしくは非置換のアリール基を表す。上記R1 、R2
3 のアルキル基またはR1 、R2 のアルコキシ基の鎖
中にはカルボニル、エーテル、アミド結合を任意に含
む。Mは、H+ もしくはNa+ 、Li+ 、K+ 等のアル
カリ金属イオンあるいは第4級アンモニウム等のカチオ
ンを表し、δは0.7以下の値であり、Zは陰イオンを
表し、mは0.2から2の範囲である。jは陰イオンZ
の価数を表し、1または2である)で表される構造を含
むことを特徴とする新規水溶性導電性重合体。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】およびこれを電気化学的及び/または化学
的にドーピングすることによって得られる、一般式(I
I)
【化7】 (式中、R1 、R2 、X、R3 、M、mは上記一般式
(I)で定義したものと同一である。kはmよりも小さ
い値である。)及び/または一般式(III)
【化8】 (式中、R1 、R2 、X、R3 、M、mは上記一般式
(I)で定義したものと同一である。δは0.7以下の
値であり、Zは陰イオンを表し、jは陰イオンZの価数
を表し、1または2である。)で表される化学構造を含
む新規水溶性導電性重合体を提供する。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年1月26日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項4
【補正方法】追加
【補正内容】
【化4】 (式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立にH、または直
鎖状もしくは分岐状のC1 〜C20のアルキル基またはア
ルコキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロ
メチル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、Xは
S、O、Se、Te、S=O、Se=O,Te=Oまた
はNR3 である。R3 はH、C1 〜C6 の直鎖または分
岐状アルキル基、もしくは置換、非置換のアリール基を
表す。上記R1 、R2 、R3 のアルキル基またはR1
2 のアルコキシ基の鎖中にはカルボニル、エーテル、
アミド結合を任意に含む。)で表される化合物にスルホ
ン化剤を作用させることにより一般式(I)乃至(III)
で表される化学構造を含む請求項1乃至3記載の重合体
の製造方法。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項5
【補正方法】追加
【補正内容】
【化5】 (式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立にH、または直
鎖状もしくは分岐状のC1 〜C20のアルキル基またはア
ルコキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロ
メチル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、Xは
S、O、Se、Te、またはNR3 である。R3 はH、
1 〜C6 の直鎖または分岐状アルキル基、もしくは置
換、非置換のアリール基を表す。上記R1 、R2 、R3
のアルキル基またはR1 、R2 のアルコキシ基の鎖中に
はカルボニル、エーテル、アミド結合を任意に含む。)
で表される化合物にスルホン化剤を作用させることによ
り一般式(I)乃至(III) で表される化学構造を含む請
求項1乃至3記載の重合体の製造方法。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0041
【補正方法】追加
【補正内容】
【0041】
【作用】本発明においては、一般式(IV)または(V)
で表される二環複素環式モノマー化合物にスルホン化剤
を作用させて一般式(I)乃至(III) で表される化学構
造を含む新規な水溶性導電性重合体が得られたことに基
づくものであり、モノマー化合物に直接スルホン化剤を
作用させ、スルホン化と重合反応を一挙に行わせる特殊
な反応によって初めて得られたものである。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立にH、または直鎖
    状もしくは分岐状のC1〜C20のアルキル基またはアル
    コキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロメ
    チル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、XはS、
    O、Se、TeまたはNR3 である。R3 はH、C1
    6 の直鎖または分岐状のアルキル基、もしくは置換、
    非置換のアリール基を表す。上記R1 、R2 、R3 のア
    ルキル基またはR1 、R2 のアルコキシ基の鎖中には、
    カルボニル、エーテル、アミド結合を任意に含む。M
    は、H+ もしくはNa+ 、Li+ 、K+ 等のアルカリ金
    属イオンあるいは第4級アンモニウム等のカチオンを表
    し、mは0.2から2の範囲である。)で表される化学
    構造を含むことを特徴とする新規水溶性導電性重合体。
  2. 【請求項2】 一般式(II) 【化2】 (式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立にH、または直
    鎖状もしくは分岐状のC 1 〜C20のアルキル基またはア
    ルコキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロ
    メチル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、Xは
    S、O、Se、TeまたはNR3 である。R3 はH、C
    1 〜C6 の直鎖または分岐状アルキル基、もしくは置
    換、非置換のアリール基を表す。上記R1 、R2 、R3
    のアルキル基またはR1 、R2 のアルコキシ基の鎖中に
    はカルボニル、エーテル、アミド結合を任意に含む。M
    は、H+ もしくはNa+ 、Li+ 、K+ 等のアルカリ金
    属イオンあるいは第4級アンモニウム等のカチオンを表
    し、mは0.2から2の範囲である。kはmより小さい
    値である。)で表される化学構造を含むことを特徴とす
    る新規水溶性導電性重合体。
  3. 【請求項3】 一般式(III) 【化3】 (式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立にH、または直
    鎖状もしくは分岐状のC1 〜C20のアルキル基またはア
    ルコキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロ
    メチル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、Xは
    S、O、Se、TeまたはNR3 である。R3 はH、C
    1 〜C6 の直鎖または分岐状アルキル基、あるいは置換
    もしくは非置換のアリール基を表す。上記R1 、R2
    3 のアルキル基またはR1 、R2 のアルコキシ基の鎖
    中にはカルボニル、エーテル、アミド結合を任意に含
    む。Mは、H+ もしくはNa+ 、Li+ 、K+ 等のアル
    カリ金属イオンあるいは第4級アンモニウム等のカチオ
    ンを表し、δは0.7以下の値であり、Zは陰イオンを
    表し、mは0.2から2の範囲である。jは陰イオンZ
    の価数を表し、1または2である)で表される構造を含
    むことを特徴とする新規水溶性導電性重合体。
  4. 【請求項4】 一般式(IV) 【化4】 (式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立にH、または直
    鎖状もしくは分岐状のC1 〜C20のアルキル基またはア
    ルコキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロ
    メチル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、Xは
    S、O、Se、Te、S=O、Se=O,Te=Oまた
    はNR3 である。R3 はH、C1 〜C6 の直鎖または分
    岐状アルキル基、もしくは置換、非置換のアリール基を
    表す。上記R1 、R2 、R3 のアルキル基またはR1
    2 のアルコキシ基の鎖中にはカルボニル、エーテル、
    アミド結合を任意に含む。)で表される化合物にスルホ
    ン化剤を作用させることにより一般式(I)で表される
    化学構造を含む請求項1乃至3記載の重合体の製造方
    法。
  5. 【請求項5】 一般式(V) 【化5】 (式中、R1 およびR2 はそれぞれ独立にH、または直
    鎖状もしくは分岐状のC1 〜C20のアルキル基またはア
    ルコキシ基、1級、2級または3級アミン基、トリハロ
    メチル基、フェニル基、置換フェニル基を表し、Xは
    S、O、Se、Te、またはNR3 である。R3 はH、
    1 〜C6 の直鎖または分岐状アルキル基、もしくは置
    換、非置換のアリール基を表す。上記R1 、R2 、R3
    のアルキル基またはR1 、R2 のアルコキシ基の鎖中に
    はカルボニル、エーテル、アミド結合を任意に含む。)
    で表される化合物にスルホン化剤を作用させることによ
    り一般式(I)で表される化学構造を含む請求項1乃至
    3記載の重合体の製造方法。
  6. 【請求項6】 一般式(I)で表された化学構造を含む
    水溶性導電性重合体を電気化学的または化学的に酸化す
    ることにより一般式(II)及び/または一般式(III) で
    表される構造を含む水溶性導電性重合体の製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項1乃至3に記載の導電性重合体を
    含む成形体。
JP33667292A 1991-12-04 1992-11-24 新規水溶性導電性重合体及びその製造方法 Expired - Lifetime JP3182239B2 (ja)

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